JPH06243523A - 光磁気ディスクおよび光磁気ディスクシステム - Google Patents
光磁気ディスクおよび光磁気ディスクシステムInfo
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- JPH06243523A JPH06243523A JP5026932A JP2693293A JPH06243523A JP H06243523 A JPH06243523 A JP H06243523A JP 5026932 A JP5026932 A JP 5026932A JP 2693293 A JP2693293 A JP 2693293A JP H06243523 A JPH06243523 A JP H06243523A
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- optical
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
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- G11B11/10593—Details for improving read-out properties, e.g. polarisation of light
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
Abstract
(57)【要約】
【目的】 使用回転数で回転させる時に、ディスクのト
ータルの位相差がほぼゼロレベルとなり、光磁気信号振
幅が大きい光磁気ディスクを提供する。 【構成】 ディスク回転時の遠心力に起因し、ドライブ
光学系の直線偏光の偏光面における方向によって符号
（変化方向）の決まる複屈折および光磁気膜の位相差を
合計した、使用回転数回転時における複屈折を打ち消す
だけの静止時複屈折分布を光磁気ディスク基板に持たせ
ることにより、ディスク回転時の光磁気信号振幅を最大
とすることができる。
ータルの位相差がほぼゼロレベルとなり、光磁気信号振
幅が大きい光磁気ディスクを提供する。 【構成】 ディスク回転時の遠心力に起因し、ドライブ
光学系の直線偏光の偏光面における方向によって符号
（変化方向）の決まる複屈折および光磁気膜の位相差を
合計した、使用回転数回転時における複屈折を打ち消す
だけの静止時複屈折分布を光磁気ディスク基板に持たせ
ることにより、ディスク回転時の光磁気信号振幅を最大
とすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大容量情報記録媒体で
ある光磁気ディスクに関する。
ある光磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気ディスクは、透明基板の上に磁気
カー効果を有する光磁気膜を成膜し、その基板を通して
直線偏光のレーザー光を照射して、光磁気膜の微細なカ
ー回転角を読み取ることによって情報を記録、再生する
大容量情報記録媒体である。この種のディスクは基板が
板面に沿って複屈折の分布を持っているため、ディスク
使用時に複屈折の影響によって反射レーザー光に位相差
が生じ楕円偏光となり、光磁気信号振幅が小さくなって
信号レベルが低下するという問題がある。そこで、複屈
折がゼロに近い透明基板が望ましいとされている。
カー効果を有する光磁気膜を成膜し、その基板を通して
直線偏光のレーザー光を照射して、光磁気膜の微細なカ
ー回転角を読み取ることによって情報を記録、再生する
大容量情報記録媒体である。この種のディスクは基板が
板面に沿って複屈折の分布を持っているため、ディスク
使用時に複屈折の影響によって反射レーザー光に位相差
が生じ楕円偏光となり、光磁気信号振幅が小さくなって
信号レベルが低下するという問題がある。そこで、複屈
折がゼロに近い透明基板が望ましいとされている。
【０００３】一般に、透明基板の材質としてはガラス、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂が
用いられる。基板加工法として、現在最も一般的に用い
られているのは生産性の最も高い射出成形法である。樹
脂としては耐熱性、吸水性その他機械特性が最も安定し
ているポリカーボネート樹脂が用いられている。ポリカ
ーボネート樹脂はその分子構造からくる配向性によって
一般的には複屈折の発生しやすい材料とされている。し
かしながら現在までの数々の技術的進歩によってポリカ
ーボネート樹脂基板の複屈折はほぼゼロレベルに達して
いる。例えばポリカーボネート樹脂の改良により、汎用
グレードに比べ流れ性が数倍改善され、それによって複
屈折が飛躍的に低減した。また射出成形機において、高
速かつ高応答の射出能力をもつディスク成形機が開発さ
れた事によって、安定した成形ができるようになった。
またディスク金型においては金型温調を均一に出来るよ
うにし、ゲート断面形状やディスクゲート切断などを改
良することにより、ポリカーボネート樹脂を用いた基板
でも複屈折はほぼゼロレベルに近いものが得られるよう
になった。
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂が
用いられる。基板加工法として、現在最も一般的に用い
られているのは生産性の最も高い射出成形法である。樹
脂としては耐熱性、吸水性その他機械特性が最も安定し
ているポリカーボネート樹脂が用いられている。ポリカ
ーボネート樹脂はその分子構造からくる配向性によって
一般的には複屈折の発生しやすい材料とされている。し
かしながら現在までの数々の技術的進歩によってポリカ
ーボネート樹脂基板の複屈折はほぼゼロレベルに達して
いる。例えばポリカーボネート樹脂の改良により、汎用
グレードに比べ流れ性が数倍改善され、それによって複
屈折が飛躍的に低減した。また射出成形機において、高
速かつ高応答の射出能力をもつディスク成形機が開発さ
れた事によって、安定した成形ができるようになった。
またディスク金型においては金型温調を均一に出来るよ
うにし、ゲート断面形状やディスクゲート切断などを改
良することにより、ポリカーボネート樹脂を用いた基板
でも複屈折はほぼゼロレベルに近いものが得られるよう
になった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
技術を用いて複屈折の小さなポリカーボネート製光磁気
ディスク基板を作成し、その上に光磁気記録膜をのせて
信号特性を調べたところ、ガラスディスクに比べ光磁気
信号振幅がやや低い事が分った。
技術を用いて複屈折の小さなポリカーボネート製光磁気
ディスク基板を作成し、その上に光磁気記録膜をのせて
信号特性を調べたところ、ガラスディスクに比べ光磁気
信号振幅がやや低い事が分った。
【０００５】この傾向はディスクの回転数が大きくなる
につれて大きくなっており、高速回転で使用する場合は
ポリカーボネート樹脂は適さないものとされてきた。
につれて大きくなっており、高速回転で使用する場合は
ポリカーボネート樹脂は適さないものとされてきた。
【０００６】本発明者らの研究によれば、このような高
速回転における信号レベルの低下は、高速回転によって
生じる遠心力によって、基板内部に複屈折が発生してお
り、それが使用するドライブの光学系の直線偏光の偏光
面に対して不利な方向に働くことが原因であることがわ
かった。
速回転における信号レベルの低下は、高速回転によって
生じる遠心力によって、基板内部に複屈折が発生してお
り、それが使用するドライブの光学系の直線偏光の偏光
面に対して不利な方向に働くことが原因であることがわ
かった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光磁気ディス
ク基板および光磁気膜から成る光磁気ディスクにおい
て、光磁気ディスク基板の静止時の複屈折分布が、ディ
スク使用時のディスク位相差をゼロレベルとするよう設
定されていることを特徴とする光磁気ディスクを提供す
る。
ク基板および光磁気膜から成る光磁気ディスクにおい
て、光磁気ディスク基板の静止時の複屈折分布が、ディ
スク使用時のディスク位相差をゼロレベルとするよう設
定されていることを特徴とする光磁気ディスクを提供す
る。
【０００８】本発明では、上記課題を解決するために、
回転数に応じた遠心力を計算しそれによって生じる複屈
折を応力と光弾性の式によって予想し、回転時にその複
屈折を打ち消す分だけの複屈折分布を基板にあらかじめ
持たせておき、所望の回転数に達した時に基板の複屈折
（位相差）がゼロとなるようにする。また光磁気膜に位
相差がある場合は、膜の位相差および回転によって発生
する複屈折（位相差）を合わせて打ち消す複屈折分布を
基板にあらかじめ持たせておくことにより、得られる光
磁気信号レベルを向上させる。
回転数に応じた遠心力を計算しそれによって生じる複屈
折を応力と光弾性の式によって予想し、回転時にその複
屈折を打ち消す分だけの複屈折分布を基板にあらかじめ
持たせておき、所望の回転数に達した時に基板の複屈折
（位相差）がゼロとなるようにする。また光磁気膜に位
相差がある場合は、膜の位相差および回転によって発生
する複屈折（位相差）を合わせて打ち消す複屈折分布を
基板にあらかじめ持たせておくことにより、得られる光
磁気信号レベルを向上させる。
【０００９】さらに測定の結果、基板の回転数に応じて
発生する遠心力による複屈折は、使用するドライブの直
線偏光の偏光面によって方向（符号）が異なることがわ
かった。そこで、ディスク基板成形時に、回転時に遠心
力によって生じるこのような複屈折の符号と量を打ち消
すようだけの複屈折を基板に持たせるようにして、ディ
スク回転中に得られる光磁気信号振幅が最大となるよう
にする。
発生する遠心力による複屈折は、使用するドライブの直
線偏光の偏光面によって方向（符号）が異なることがわ
かった。そこで、ディスク基板成形時に、回転時に遠心
力によって生じるこのような複屈折の符号と量を打ち消
すようだけの複屈折を基板に持たせるようにして、ディ
スク回転中に得られる光磁気信号振幅が最大となるよう
にする。
【００１０】光弾性定数の大きな材料を高速で回転する
と、遠心力によって基板内部に径方向と周方向に主応力
が生じ、その主応力の差によって複屈折が発生する。一
般的な材料力学の知見により、遠心力によってドーナツ
状円板の内部に発生する径方向および周方向の主応力は
次式（１）および（２）で表わされる。
と、遠心力によって基板内部に径方向と周方向に主応力
が生じ、その主応力の差によって複屈折が発生する。一
般的な材料力学の知見により、遠心力によってドーナツ
状円板の内部に発生する径方向および周方向の主応力は
次式（１）および（２）で表わされる。
【００１１】
【数１】
【００１２】
【数２】 ここでＲ1 ：円板の内半径 Ｒ2 ：円板の外半
径 ω ：回転角速度 ν ：ポアソン比 γ ：比重 ｇ ：重力加速度 σt ：半径ｒにおける円周方向主応力 σr ：半径ｒにおける半径方向主応力 さらに、応力によって発生する複屈折は、式（３）で表
わされる。
径 ω ：回転角速度 ν ：ポアソン比 γ ：比重 ｇ ：重力加速度 σt ：半径ｒにおける円周方向主応力 σr ：半径ｒにおける半径方向主応力 さらに、応力によって発生する複屈折は、式（３）で表
わされる。
【００１３】
【数３】 ここでΔｎ：応力によって発生する複屈折 Ｃ ：光弾性定数 Δσ：主応力差 各種プラスチック材料の光弾性定数は次の表１の通りで
ある。
ある。
【００１４】
【表１】 以上の式を内半径７．５ｍｍ、外半径６５ｍｍ、厚さ
１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂製のディスクに適用
し、回転数１８００ｒｐｍから５０００ｒｐｍの範囲で
変えた場合に、いくつかの半径位置に発生する複屈折の
計算値を表２に示す。
１．２ｍｍのポリカーボネート樹脂製のディスクに適用
し、回転数１８００ｒｐｍから５０００ｒｐｍの範囲で
変えた場合に、いくつかの半径位置に発生する複屈折の
計算値を表２に示す。
【００１５】
【表２】 さらに基板を表２の各回転数で回転させ、半径２９ｍｍ
と半径６１ｍｍの位置での複屈折を計測し、その実測値
と表２の計算値を比較した。その結果を、それぞれグラ
フ１及びグラフ２（図１および２）に示す。グラフ２よ
り、半径６１ｍｍの位置では実測値と計算値がよく一致
しており、上記理論式が正しいことがうかがえる。しか
しながらグラフ１から、半径２９ｍｍの位置では３００
０ｒｐｍまでは実測値と計算値はよく一致しているが、
さらに高速領域においては実際の複屈折発生は計算値よ
りやや低いレベルとなった。
と半径６１ｍｍの位置での複屈折を計測し、その実測値
と表２の計算値を比較した。その結果を、それぞれグラ
フ１及びグラフ２（図１および２）に示す。グラフ２よ
り、半径６１ｍｍの位置では実測値と計算値がよく一致
しており、上記理論式が正しいことがうかがえる。しか
しながらグラフ１から、半径２９ｍｍの位置では３００
０ｒｐｍまでは実測値と計算値はよく一致しているが、
さらに高速領域においては実際の複屈折発生は計算値よ
りやや低いレベルとなった。
【００１６】ドライブの使用回転数が２４００ｒｐｍの
場合を挙げて以下に本発明を詳細に説明する。
場合を挙げて以下に本発明を詳細に説明する。
【００１７】既に述べたように、現在ではポリカーボネ
ート樹脂のような分子配向の大きな材料を用いた場合で
も、成形材料の改善や成形機、金型の改良によって成形
条件を適宜に合わせることによって成形基板の複屈折分
布をある程度自由にコントロールできるようになった。
そこでまず複屈折分布がほぼゼロレベルに近い基板を成
形し、その上に位相差がほぼゼロレベルに近い記録膜を
作製し、回転数と直線偏光の偏光面を任意に変えること
のできるドライブでディスクを回転させ、ディスクの位
相差を測定した。位相差は一般的にはｄｅｇ、ｒａｄ、
あるいはｎｍとして表現されるが、ここではｎｍで表現
する。一方、複屈折は光学的異方性のある物体に直線偏
光を入れた場合に２つの直交する偏光面をもつ偏光に分
かれる現象を言い、一般的にその２つの偏光の屈折率の
差でΔｎ＝｜ｎ1 −ｎ2 ｜として表わされる。複屈折を
もつ板厚ｄ（ｎｍ）の基板に光を入れた場合に出てきた
２つの光の位相差はΔｎｄ（ｎｍ）として表わすことが
できる。ここでは位相差と複屈折を同義的に扱うために
複屈折はΔｎｄ（ｎｍ）で表現する。
ート樹脂のような分子配向の大きな材料を用いた場合で
も、成形材料の改善や成形機、金型の改良によって成形
条件を適宜に合わせることによって成形基板の複屈折分
布をある程度自由にコントロールできるようになった。
そこでまず複屈折分布がほぼゼロレベルに近い基板を成
形し、その上に位相差がほぼゼロレベルに近い記録膜を
作製し、回転数と直線偏光の偏光面を任意に変えること
のできるドライブでディスクを回転させ、ディスクの位
相差を測定した。位相差は一般的にはｄｅｇ、ｒａｄ、
あるいはｎｍとして表現されるが、ここではｎｍで表現
する。一方、複屈折は光学的異方性のある物体に直線偏
光を入れた場合に２つの直交する偏光面をもつ偏光に分
かれる現象を言い、一般的にその２つの偏光の屈折率の
差でΔｎ＝｜ｎ1 −ｎ2 ｜として表わされる。複屈折を
もつ板厚ｄ（ｎｍ）の基板に光を入れた場合に出てきた
２つの光の位相差はΔｎｄ（ｎｍ）として表わすことが
できる。ここでは位相差と複屈折を同義的に扱うために
複屈折はΔｎｄ（ｎｍ）で表現する。
【００１８】ディスクを２４００ｒｐｍで回転した場合
の位相差（複屈折）をグラフ３（図３）に示す。図６の
測定光学系を持つドライブでλ／２波長板を入れない場
合はドライブの直線偏光の偏光面の向きは基板の半径方
向に向いており、この状態で測定した場合はグラフ３の
ａのようなプロファイルになった。次に、図６の測定光
学系を持つドライブでλ／２波長板を入れた場合はドラ
イブの偏光面の向きは基板の周方向に向き、この状態で
測定した場合はグラフ３のｂのようになった。本来なら
基板の複屈折がゼロで、膜の位相差もゼロに近いディス
クであれば、ドライブで測定した場合の位相差もゼロに
近いものになるはずである。しかしグラフ３の実測デー
タはドライブの偏光面の向きにかかわらず、位相差の絶
対値はいずれも１０ｎｍ近くシフトした値となってい
る。記録膜の位相差は膜厚と膜の屈折率によって決定さ
れるものであることから、膜に外力が加わっても位相差
は全く変化しない。そこで、ドライブで測定したときの
１０ｎｍの変化は基板の回転による遠心力によって生じ
た複屈折であると推定された。２４００ｒｐｍで回転さ
せたときに基板に発生する複屈折の計算値は表２から約
１０ｎｍであり、ドライブで実測した値とよく一致して
いる事が分かる。従ってドライブで回転した場合には、
静的な状態での複屈折分布に前記の応力と光弾性の式か
ら得られる表２の値を加味した複屈折分布となることが
わかる。しかもその変化の方向はドライブの光学系の直
線偏光の偏光面の向きによって異なる。即ち、図６のド
ライブの偏光面が基板の半径方向に向いている場合はマ
イナス側へ位相がずれ、基板の周方向に向いている場合
にはプラス側へずれる。以上の条件を考慮すると、回転
中のディスクの位相差をゼロレベルにするためには使用
するドライブにおけるディスクへの入射レーザー光の偏
光面の向きによって変化する方向（符号）と回転数に応
じた複屈折の量を打ち消す複屈折分布を持つ基板を成形
する必要がある。すなわち偏光面が基板の半径方向に向
いているドライブを用いる場合には基板としては静止状
態での複屈折が＋１０ｎｍ近くに分布しているものを用
いるのがよいことがわかる。
の位相差（複屈折）をグラフ３（図３）に示す。図６の
測定光学系を持つドライブでλ／２波長板を入れない場
合はドライブの直線偏光の偏光面の向きは基板の半径方
向に向いており、この状態で測定した場合はグラフ３の
ａのようなプロファイルになった。次に、図６の測定光
学系を持つドライブでλ／２波長板を入れた場合はドラ
イブの偏光面の向きは基板の周方向に向き、この状態で
測定した場合はグラフ３のｂのようになった。本来なら
基板の複屈折がゼロで、膜の位相差もゼロに近いディス
クであれば、ドライブで測定した場合の位相差もゼロに
近いものになるはずである。しかしグラフ３の実測デー
タはドライブの偏光面の向きにかかわらず、位相差の絶
対値はいずれも１０ｎｍ近くシフトした値となってい
る。記録膜の位相差は膜厚と膜の屈折率によって決定さ
れるものであることから、膜に外力が加わっても位相差
は全く変化しない。そこで、ドライブで測定したときの
１０ｎｍの変化は基板の回転による遠心力によって生じ
た複屈折であると推定された。２４００ｒｐｍで回転さ
せたときに基板に発生する複屈折の計算値は表２から約
１０ｎｍであり、ドライブで実測した値とよく一致して
いる事が分かる。従ってドライブで回転した場合には、
静的な状態での複屈折分布に前記の応力と光弾性の式か
ら得られる表２の値を加味した複屈折分布となることが
わかる。しかもその変化の方向はドライブの光学系の直
線偏光の偏光面の向きによって異なる。即ち、図６のド
ライブの偏光面が基板の半径方向に向いている場合はマ
イナス側へ位相がずれ、基板の周方向に向いている場合
にはプラス側へずれる。以上の条件を考慮すると、回転
中のディスクの位相差をゼロレベルにするためには使用
するドライブにおけるディスクへの入射レーザー光の偏
光面の向きによって変化する方向（符号）と回転数に応
じた複屈折の量を打ち消す複屈折分布を持つ基板を成形
する必要がある。すなわち偏光面が基板の半径方向に向
いているドライブを用いる場合には基板としては静止状
態での複屈折が＋１０ｎｍ近くに分布しているものを用
いるのがよいことがわかる。
【００１９】
【実施例】以下、実施例によって、本発明を具体的に説
明する。
明する。
【００２０】ここではドライブの光学的の直線偏光の偏
光面の向きが基板半径方向に向いている場合に適してい
るディスク基板の成形について述べる。
光面の向きが基板半径方向に向いている場合に適してい
るディスク基板の成形について述べる。
【００２１】成形基板の複屈折分布を決定する要因とし
ては樹脂温度、金型温度、射出速度、型締力等がある
が、ここでは金型温度によって複屈折分布をコントロー
ルする方法を示す。 （実施例１）金型温度と複屈折の関係を測定し、その結
果をグラフ４（図４）に示す。このグラフから、金型温
度を上げると複屈折は内周で＋側へ、外周で−側へシフ
トしており、２４００ｒｐｍで回転する光磁気ディスク
に適したグラフ３のｂのような複屈折分布をもつ基板を
得るには、金型温度を１１０℃にして成形すればよい事
が分かった。
ては樹脂温度、金型温度、射出速度、型締力等がある
が、ここでは金型温度によって複屈折分布をコントロー
ルする方法を示す。 （実施例１）金型温度と複屈折の関係を測定し、その結
果をグラフ４（図４）に示す。このグラフから、金型温
度を上げると複屈折は内周で＋側へ、外周で−側へシフ
トしており、２４００ｒｐｍで回転する光磁気ディスク
に適したグラフ３のｂのような複屈折分布をもつ基板を
得るには、金型温度を１１０℃にして成形すればよい事
が分かった。
【００２２】そこで実際に、金型温度を変えて成形した
基板に光磁気記録膜を形成し、その光磁気信号振幅を測
定した。結果は表３に示した。この結果は、グラフ４か
らの予想と一致し、金型温度１１０℃で成形した基板
（Ｎｏ．３）の光磁気信号振幅が最大であった。
基板に光磁気記録膜を形成し、その光磁気信号振幅を測
定した。結果は表３に示した。この結果は、グラフ４か
らの予想と一致し、金型温度１１０℃で成形した基板
（Ｎｏ．３）の光磁気信号振幅が最大であった。
【００２３】
【表３】 以上の結果から、２４００ｒｐｍで光磁気ディスクを使
用する場合、回転によって生じる複屈折−１０ｎｍを打
ち消すように、静止状態で＋１０ｎｍの複屈折分布を持
つ基板を用いることによって、最大の光磁気信号振幅が
得られるという予測が裏付けられた。
用する場合、回転によって生じる複屈折−１０ｎｍを打
ち消すように、静止状態で＋１０ｎｍの複屈折分布を持
つ基板を用いることによって、最大の光磁気信号振幅が
得られるという予測が裏付けられた。
【００２４】実施例１では光磁気膜の位相差をゼロに近
づけたもので実施したが、膜の諸特性をバランスよく高
めるために膜の屈折率と厚さを位相差ゼロの状態から少
しずれた所で用いなければならない場合がある。その場
合、基板に対して、遠心力による複屈折増加分と膜の位
相差を同時に打ち消し合う分に見合う複屈折の分布をつ
けることによって、光磁気信号振幅を最大とする。例え
ば膜の位相差−１０ｎｍとした場合、φ１３０のディス
クを２４００ｒｐｍで回転したときに発生する複屈折は
−１０ｎｍであるから、回転時には、合わせて−２０ｎ
ｍの位相差が生じることになる。従って基板としては＋
２０ｎｍの静止時複屈折をもったものを用いればよいこ
とになる。 （実施例２）上記のように基板の複屈折分布は樹脂温
度、金型温度、射出速度、型締力によって制御できる
が、ここでは射出速度と金型温度を調節して、所望の複
屈折分布をもつ基板を成形する。
づけたもので実施したが、膜の諸特性をバランスよく高
めるために膜の屈折率と厚さを位相差ゼロの状態から少
しずれた所で用いなければならない場合がある。その場
合、基板に対して、遠心力による複屈折増加分と膜の位
相差を同時に打ち消し合う分に見合う複屈折の分布をつ
けることによって、光磁気信号振幅を最大とする。例え
ば膜の位相差−１０ｎｍとした場合、φ１３０のディス
クを２４００ｒｐｍで回転したときに発生する複屈折は
−１０ｎｍであるから、回転時には、合わせて−２０ｎ
ｍの位相差が生じることになる。従って基板としては＋
２０ｎｍの静止時複屈折をもったものを用いればよいこ
とになる。 （実施例２）上記のように基板の複屈折分布は樹脂温
度、金型温度、射出速度、型締力によって制御できる
が、ここでは射出速度と金型温度を調節して、所望の複
屈折分布をもつ基板を成形する。
【００２５】静止時の複屈折＋２０ｎｍを、ディスク基
板の全域においてほぼ安定的に得るための射出速度およ
び金型温度の条件を検討し、射出速度１８０ｍｍ／ｓｅ
ｃで、金型温度を変化させて複屈折を測定した。その結
果をグラフ５（図５）に示す。このグラフから、金型温
度１２０℃で成形することによって＋２０ｎｍの複屈折
分布を有する基板を作製すれば、−１０ｎｍの位相差を
有する光磁気膜を成膜した光磁気ディスクの２４００ｒ
ｐｍでの光磁気信号は最大となると予想された。
板の全域においてほぼ安定的に得るための射出速度およ
び金型温度の条件を検討し、射出速度１８０ｍｍ／ｓｅ
ｃで、金型温度を変化させて複屈折を測定した。その結
果をグラフ５（図５）に示す。このグラフから、金型温
度１２０℃で成形することによって＋２０ｎｍの複屈折
分布を有する基板を作製すれば、−１０ｎｍの位相差を
有する光磁気膜を成膜した光磁気ディスクの２４００ｒ
ｐｍでの光磁気信号は最大となると予想された。
【００２６】そこで実際に、射出速度１８０ｍｍ／ｓｅ
ｃで金型温度を変えて基板を成形し、その上に光磁気膜
を形成して、得られた光磁気ディスクの回転数２４００
ｒｐｍにおける光磁気信号振幅を測定した。その結果は
表４に示した。
ｃで金型温度を変えて基板を成形し、その上に光磁気膜
を形成して、得られた光磁気ディスクの回転数２４００
ｒｐｍにおける光磁気信号振幅を測定した。その結果は
表４に示した。
【００２７】
【表４】 本表より、金型温度１２０℃で成形した基板を用いた場
合（基板Ｎｏ．７）の光磁気信号振幅が最大であり、上
記の予想が正しいことが裏付けられた。
合（基板Ｎｏ．７）の光磁気信号振幅が最大であり、上
記の予想が正しいことが裏付けられた。
【００２８】なお、上記実施例では使用回転数を２４０
０ｒｐｍとした例をあげたが、さらに５０００ｒｐｍの
高速回転領域では回転による複屈折の発生分布が半径２
９ｍｍで５８．１ｎｍ、半径６１ｍｍで４４．９ｎｍと
内周側で数ｎｍ大きくなる（表２）。このため、実際の
使用回転領域がこの領域近傍であるならば、内周側で−
５８．１ｎｍ、外周で−４４．９ｎｍと、やや複屈折に
勾配を持たせるとよいことがわかる。
０ｒｐｍとした例をあげたが、さらに５０００ｒｐｍの
高速回転領域では回転による複屈折の発生分布が半径２
９ｍｍで５８．１ｎｍ、半径６１ｍｍで４４．９ｎｍと
内周側で数ｎｍ大きくなる（表２）。このため、実際の
使用回転領域がこの領域近傍であるならば、内周側で−
５８．１ｎｍ、外周で−４４．９ｎｍと、やや複屈折に
勾配を持たせるとよいことがわかる。
【００２９】
【発明の効果】以上の結果から分かるように、使用する
回転数に応じた遠心力によって生ずる複屈折を使用する
ドライブの偏光面の向きに対してあらかじめ打ち消すよ
うな複屈折分布をもった基板を用いることによって、高
い光磁気信号振幅を得ることができる。
回転数に応じた遠心力によって生ずる複屈折を使用する
ドライブの偏光面の向きに対してあらかじめ打ち消すよ
うな複屈折分布をもった基板を用いることによって、高
い光磁気信号振幅を得ることができる。
【００３０】さらに、光磁気記録膜が位相差を持つ場合
は、膜の位相差と回転によって生ずる複屈折増加分を同
時に打ち消すような静止状態での複屈折分布をもった基
板を用いることで、高い光磁気信号振幅を得ることがで
きる。
は、膜の位相差と回転によって生ずる複屈折増加分を同
時に打ち消すような静止状態での複屈折分布をもった基
板を用いることで、高い光磁気信号振幅を得ることがで
きる。
【００３１】なお、実施例ではポリカーボネート樹脂を
用いた場合について述べたが、光学的異方性をもつ他の
材料からなる基板、たとえばポリオレフィン基板やポリ
スチレン基板などを用いても、本発明を実施することが
できる。
用いた場合について述べたが、光学的異方性をもつ他の
材料からなる基板、たとえばポリオレフィン基板やポリ
スチレン基板などを用いても、本発明を実施することが
できる。
【図１】半径２９ｍｍにおける、回転による基板複屈折
のグラフである。
のグラフである。
【図２】半径６１ｍｍにおける、回転による基板複屈折
のグラフである。
のグラフである。
【図３】回転数２４００ｒｐｍにおける、基板の複屈折
分布である。
分布である。
【図４】射出速度１５０ｍｍ／ｓｅｃで金型温度を変え
た場合の複屈折分布である。
た場合の複屈折分布である。
【図５】射出速度１８０ｍｍ／ｓｅｃで金型温度を変え
た場合の複屈折分布である。
た場合の複屈折分布である。
【図６】測定光学系の模式的断面図である。
Claims (5)
- 【請求項１】 樹脂基板および光磁気膜から成る光磁気
ディスクにおいて、該基板の静止時の複屈折分布が、デ
ィスク使用時のディスク位相差を実質ゼロレベルとする
よう設定されていることを特徴とする光磁気ディスク。 - 【請求項２】 樹脂基板が、該基板の成形時の樹脂温
度、金型温度、射出速度および／または型締力の制御に
よって複屈折分布が設定された樹脂基板である、請求項
１記載の光磁気ディスク。 - 【請求項３】 基板の静止時複屈折分布が、使用時の遠
心力に起因しドライブの光学系の直線偏光の偏光面の向
きによって符号の異なる複屈折を打ち消すよう設定され
ている、請求項１または２記載の光磁気ディスク。 - 【請求項４】 基板の静止時複屈折分布が、使用時の遠
心力に起因しドライブの光学系の直線偏光の偏光面の向
きによって符号の異なる複屈折および光磁気膜の位相差
を打ち消すよう設定されている、請求項１または２記載
の光磁気ディスク。 - 【請求項５】 請求項１，２，３または４記載の光磁気
ディスクを用いる光磁気ディスクシステム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5026932A JPH06243523A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 光磁気ディスクおよび光磁気ディスクシステム |
| US08/192,749 US5589244A (en) | 1993-02-16 | 1994-02-07 | Magneto-optical disc |
| EP19940300874 EP0612069A3 (en) | 1993-02-16 | 1994-02-07 | Magneto-optical disk. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5026932A JPH06243523A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 光磁気ディスクおよび光磁気ディスクシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06243523A true JPH06243523A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12206940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5026932A Pending JPH06243523A (ja) | 1993-02-16 | 1993-02-16 | 光磁気ディスクおよび光磁気ディスクシステム |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5589244A (ja) |
| EP (1) | EP0612069A3 (ja) |
| JP (1) | JPH06243523A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008133204A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nec Corporation | 光ディスク装置、及び、複屈折補正方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3370487B2 (ja) * | 1995-07-25 | 2003-01-27 | ペンタックス株式会社 | 情報読取装置 |
| US6335080B1 (en) | 1999-01-04 | 2002-01-01 | Seagate Technology Llc | Magnetic disk media and disk drives utilizing polymeric disk substrates |
| EP1394595B1 (en) * | 2001-06-01 | 2013-05-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Plastic molded product having photochromic characteristics and/or polarizing characteristics |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62204451A (ja) * | 1986-03-03 | 1987-09-09 | Daicel Chem Ind Ltd | 光デイスク用プラスチツク基板とその製法 |
| US4877666A (en) * | 1987-08-11 | 1989-10-31 | Kerdix, Inc. | Magneto-optic substrates |
| JPH078514B2 (ja) * | 1988-04-18 | 1995-02-01 | ダイセル化学工業株式会社 | 光ディスク用プラスチック基板の射出成形法 |
| JPH02122443A (ja) * | 1988-11-01 | 1990-05-10 | Canon Inc | 光記録媒体用基板 |
| JPH0386946A (ja) * | 1989-08-30 | 1991-04-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ディスク基板およびその製造方法 |
-
1993
- 1993-02-16 JP JP5026932A patent/JPH06243523A/ja active Pending
-
1994
- 1994-02-07 EP EP19940300874 patent/EP0612069A3/en not_active Withdrawn
- 1994-02-07 US US08/192,749 patent/US5589244A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008133204A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Nec Corporation | 光ディスク装置、及び、複屈折補正方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0612069A2 (en) | 1994-08-24 |
| US5589244A (en) | 1996-12-31 |
| EP0612069A3 (en) | 1994-11-17 |
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