JPH06243786A

JPH06243786A - プラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JPH06243786A
Application number: JP5028311A
Authority: JP
Inventors: Kenji Horio; 研二堀尾; Tetsuya Ogawa; 哲也小川; Masashi Amatsu; 正史天津; Teruo Kurai; 輝夫倉井
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1993-02-18
Filing date: 1993-02-18
Publication date: 1994-09-02

Abstract

(57)【要約】【目的】プラズマディスプレイパネルに関し、特に面
放電のための電極対（表示電極対）を構成する第１の電
極と第２の電極間の絶縁耐圧を向上させた面放電方式の
プラズマディスプレイパネルの提供を目的とする。【構成】放電空間Ｓを介して対向した第一基板11と第
二基板13とを有するプラズマディスプレイパネルにおい
て、第二基板13を、面放電のための電極対を構成する互
いに平行な表示電極対12b を複数配列した基板12a と、
表示電極対12b を被覆し、この表示電極対12b と放電空
間Ｓとを絶縁する誘電体層12c と、誘電体層12c の表面
に形成され、それぞれの表示電極対12b を単位放電領域
ごとに仕切る隔壁12d と、誘電体層12c の露出した表面
に形成され、表示電極対12b を構成する第１の電極12b-
1 と第２の電極12b-2 間の絶縁耐圧を向上する絶縁耐圧
向上膜13a とを含ませて構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板の表面に並列状態
で形成したペアとなる第１の電極と第２の電極とに極性
の異なる電圧を交互に印加し、第１の電極と第２の電極
が誘電体層を介して接する放電空間の放電ガスを発光さ
せる面放電方式のプラズマディスプレイパネル、特に動
作時に第１の電極と第２の電極間の絶縁耐圧を向上させ
たプラズマディスプレイパネルに関する。

【０００２】

【従来の技術】次に、従来の面放電方式のプラズマディ
スプレイパネル（以降、単にプラズマディスプレイパネ
ルと呼ぶ）について図３を参照しながら説明する。図３
は、従来のプラズマディスプレイパネルの説明図であ
る。

【０００３】従来のプラズマディスプレイパネルは、図
３で示すように、放電空間Ｓを介して互いに対向させた
第一基板11と第二基板12とを基板周辺部で封止材（図示
せず）により封止（封着）し、かつ密閉された放電空間
Ｓに、たとえばネオンガスとキセノンガスとの混合ガス
よりなる放電ガスＧを充填している。

【０００４】視覚側と反対側に配列される第二基板12
は、面放電のための電極対 (表示電極対) を構成する第
１の電極12b-1 と第２の電極12b-2 を複数対配列したガ
ラス基板12a と、これら表示電極対12b を被覆し、この
電極対12b と放電空間Ｓとを電気的に絶縁する誘電体層
12c と、表示電極対12b 間に沿って、又は直交して誘電
体層12c の表面に形成されて、単位放電空間を画定する
隔壁12d と、誘電体層12c の表面に形成され、プラズマ
ディスプレイパネルの動作電圧( 第１の電極12b-1 と第
２の電極12b-2 間に印加される電圧の波高値) を低下さ
せる保護膜、たとえば MgO膜12e とで構成されていた。

【０００５】また視覚側に配置される第一基板11は、前
記各表示電極対12b と交差するように配列され片側の表
示電極との交差部でアドレス放電点を構成するアドレス
電極（図示せず）と、このアドレス電極と直交する方向
に配列され前記隔壁12d と平行状態で密着する隔壁11b
を形成したガラス基板11a と、隔壁11b 間のガラス基板
11a の表面にアドレス電極を覆うように被着し、紫外線
を吸収して赤の光を発生する第１蛍光体11c-1 と、同様
に緑の光を発生する第２の蛍光体11c-2 及び青い光を発
生する第３の蛍光体11c-3 とでなる蛍光体11c で構成さ
れている。

【０００６】次に、前述した第二基板12の構成方法につ
いて図４を参照しながら詳しく説明する。図４は、第二
基板の製造工程順要部側断面図である。この第二基板12
を構成するには、まず第１の電極12b-1 と第２の電極12
b-2 とでなる複数の表示電極対12b を並列形成したガラ
ス基板12a の表面に、鉛ガラスの微粉末を主成分とする
第１のペースト（図示せず）を印刷した後に、この第１
のペーストを６００度Ｃ前後の温度で焼成（溶融）して
膜厚が３０μｍ程度の誘電体層12c を形成する（図４
(b) 参照) 。

【０００７】次に、この誘電体層12c の表面に、鉛ガラ
スの微粉末を主成分とするものの第１のペーストよりは
融点の低い第２のペーストを印刷した後に、この第２の
ペーストを５５０度Ｃ前後の温度で焼成（溶融）して膜
厚が８０μｍ程度の絶縁層12d'を形成する（図４(c) 参
照) 。

【０００８】この後、ホトリソグラフィー技術により絶
縁層12d'の表面にレジストパターン21を形成し、このレ
ジストパターン21を被着している絶縁層12d'に硝酸等の
エッチング液をスプレーすれば、レジストパターン21か
ら露出した絶縁層12d'だけがエッチングされて前述の隔
壁12d が形成される (図４(d),(e) 参照) 。

【０００９】そして、剥離液（図示せず）によりレジス
トパターン21を隔壁12d の表面から除去してから、プラ
ズマディスプレイパネルの動作電圧を低下させる保護
膜、たとえばMgO を基板12a の表面側に蒸着し、誘電体
層12c の表面に膜厚が３０００〜５０００Å程度のMgO
膜12e を形成すれば如上の第二基板12が完成することと
なる（図４(f),(g) 参照) 。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、第二基板12
の隔壁12d は、前述したように鉛ガラス系の絶縁層12d'
の不要領域を、硝酸等のエッチング液によりエッチング
して形成していた。

【００１１】しかしながら、この絶縁層12d'の下層であ
る誘電体層12c も鉛ガラスの微粉末を主成分とする第１
のペーストを溶融して形成されているために、隔壁12d
を形成する際に誘電体層12c の表層部が硝酸等のエッチ
ング液により表面の膜質が変質したり、又はエッチング
されて膜厚が減少することが間々発生する。

【００１２】このために第１の電極12b-1 と第２の電極
12b-2 間に存在する誘電体層12c とMgO膜12e との電気
的な絶縁耐圧が不足することにより、プラズマディスプ
レイパネルを動作させた際に誘電体層12c と MgO膜12e
とが絶縁破壊する危険性があった。

【００１３】本発明は、このような問題を解消するため
になされたものであって、その目的は動作時に第１の電
極と第２の電極間の絶縁耐圧を向上させたプラズマディ
スプレイパネルを提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】図１で示すように前記目
的は、放電空間Ｓを介して対向した第一基板11と第二基
板13とを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
第二基板13が、面放電のための電極対を構成する互いに
平行な表示電極対12bを複数配列した基板12a と、表示
電極対12b を被覆し、この表示電極対12b と放電空間Ｓ
とを絶縁する誘電体層12c と、誘電体層12c の表面に形
成され、それぞれの表示電極対12b を単位放電領域ごと
に仕切る隔壁12d と、誘電体層12c の露出した表面に形
成され、表示電極対12b を構成する第１の電極12b-1 と
第２の電極12b-2 間の絶縁耐圧を向上する絶縁耐圧向上
膜13a とを含んでなることを特徴とするプラズマディス
プレイパネルにより達成される。

【００１５】

【作用】本発明のプラズマディスプレイパネルにおいて
は、その第二基板13は誘電体層12c の表面に絶縁耐圧向
上膜13a を被着している。

【００１６】したがって、第二基板13の表面に形成され
ている表示電極対12b の第１の電極12b-1 と第２の電極
12b-2 間の絶縁耐圧が向上するために、動作時 (プラズ
マディスプレイパネルの動作時) において第１の電極12
b-1 と第２の電極12b-2 間で絶縁破壊が発生することは
ない。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の一実施例のプラズマディスプ
レイパネルについて図１〜図３を参照して説明する。

【００１８】図１は、本発明の一実施例のプラズマディ
スプレイパネルの構成を示す要部側断面図、図２(a) 〜
(c) は該パネルの第二基板の製造工程を順に示す要部側
断面図である。

【００１９】なお、本明細書においては、同一部品、同
一材料等に対しては全図をとおして同じ符号を付与して
ある。図１で示すように本発明の一実施例のプラズマデ
ィスプレイパネルは、図３を参照して説明した従来のプ
ラズマディスプレイパネルと概略同じであるが、表示電
極対12b を形成している第二基板13の誘電体層12c の上
に絶縁耐圧向上膜13aを設けている点が異なる。

【００２０】この第二基板13は、図４で示す工程順によ
り隔壁12d の形成が終了したガラス基板12a (図１及び
図４(a) 〜図４(f) 参照) の表面側に、絶縁耐圧の高い
酸化物、たとえばSiO₂を蒸着若しくはスパッタリング法
により、膜厚約５０００Å被着させて絶縁耐圧向上膜13
a(SiO₂膜) を形成し、さらにこのガラス基板12a の表面
側に MgOを蒸着法により被着させて膜厚が５０００Å程
度の保護膜13b を形成して構成される。

【００２１】したがって、この第二基板13においては、
誘電体層12c の表面に絶縁耐圧の高い絶縁耐圧向上膜13
a 及び保護膜13b とを形成しているために、動作時 (本
発明の一実施例のプラズマディスプレイパネルの動作
時) に表示電極対12b の第１の電極12b-1 と第２の電極
12b-2 との間で絶縁破壊が発生することはない。

【００２２】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、動作時に
１対の表示電極を構成する第１の電極と第２の電極間で
絶縁破壊が発生することのないプラズマディスプレイパ
ネルの提供を可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明のプラズマディスプレイパネルの１
例構成を示す要部側断面図

【図２】は、図１のパネルの第二基板の製造工程を順に
示す要部側断面図

【図３】は、従来のプラズマディスプレイパネルの説明
図

【図４】は、図３のパネルの第二基板の製造工程順要部
側断面図

【符号の説明】

11は、第一基板 11a は、ガラス基板 (基板) 11b は、隔壁 11c は、蛍光体 12,13 は、第二基板 12a は、ガラス基板 (基板) 12b は、表示電極対 12b-1 は、第１の電極 12b-2 は、第２の電極 12c は、誘電体層 12d'は、絶縁層 12d は、隔壁 12e,13b は、保護膜（MgO 膜) 13a は、絶縁耐圧向上膜 21は、レジストパターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者倉井輝夫神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地富士通株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】放電空間(S) を介して対向した第一基板
(11)と第二基板(13)とを有するプラズマディスプレイパ
ネルにおいて、前記第二基板(13)が、面放電のための電極対を構成する
互いに平行な表示電極対(12b) を複数配列した基板(12
a) と、前記表示電極対(12b) を被覆し、この表示電極対(12b)
と前記放電空間(S) とを絶縁する誘電体層(12c) と、前記誘電体層(12c) の表面に形成され、それぞれの前記
表示電極対(12b) を単位放電領域ごとに仕切る隔壁(12
d) と、前記誘電体層(12c) の露出した表面に形成され、前記表
示電極対(12b) を構成する第１の電極(12b-1) と第２の
電極(12b-2) 間の絶縁耐圧を向上する絶縁耐圧向上膜(1
3a) とを含んでなることを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。