JPH06244120A - ウエハ処理装置におけるガス供給装置 - Google Patents
ウエハ処理装置におけるガス供給装置Info
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- JPH06244120A JPH06244120A JP5055136A JP5513693A JPH06244120A JP H06244120 A JPH06244120 A JP H06244120A JP 5055136 A JP5055136 A JP 5055136A JP 5513693 A JP5513693 A JP 5513693A JP H06244120 A JPH06244120 A JP H06244120A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 配管内の残留ガスを確実に除去することがで
きるウエハ処理装置におけるガス供給装置を提供する。 【構成】 液体ソースＬを貯溜するための液体ソースタ
ンク１と、液体ソースタンク１に接続された不活性ガス
供給管２と、液体ソースタンク１からウエハ処理装置へ
と導出された反応ガス供給管３と、一端が不活性ガス供
給管２に接続され、他端が反応ガス供給管３に接続され
た第１の連結管４と、第１の連結管４よりも液体ソース
タンク１から離反した位置で、一端が不活性ガス供給管
２に接続され、他端が反応ガス供給管３に接続された第
２の連結管５と、第２の連結管５の途中に接続された排
気ガス管６と、排気ガス管６に並列状態で接続された分
岐管７と、分岐管７の途中に設けられた真空ポンプ８
と、ガスの流れ方向を規制するため配管途中に設けられ
た複数のバルブＶ１〜Ｖ１１とを具備している。
きるウエハ処理装置におけるガス供給装置を提供する。 【構成】 液体ソースＬを貯溜するための液体ソースタ
ンク１と、液体ソースタンク１に接続された不活性ガス
供給管２と、液体ソースタンク１からウエハ処理装置へ
と導出された反応ガス供給管３と、一端が不活性ガス供
給管２に接続され、他端が反応ガス供給管３に接続され
た第１の連結管４と、第１の連結管４よりも液体ソース
タンク１から離反した位置で、一端が不活性ガス供給管
２に接続され、他端が反応ガス供給管３に接続された第
２の連結管５と、第２の連結管５の途中に接続された排
気ガス管６と、排気ガス管６に並列状態で接続された分
岐管７と、分岐管７の途中に設けられた真空ポンプ８
と、ガスの流れ方向を規制するため配管途中に設けられ
た複数のバルブＶ１〜Ｖ１１とを具備している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ処理装置におけ
るガス供給装置に関するものである。
るガス供給装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のガス供給装置を説明するた
めの概略図である。図において、５１は液体ソースタン
クであり、この液体ソースタンク５１の中には液体ソー
スＬが貯溜されている。まず、液体ソースタンク５１に
は不活性ガス供給管５２が接続されており、この不活性
ガス供給管５２を通して不活性ガス（一般には窒素：Ｎ
2 ）が液体ソースタンク５１に供給されるようになって
いる。また、液体ソースタンク５１からは反応ガス供給
管５３が引き出されており、この反応ガス供給管５３は
バブラー等を介して図示せぬウエハ処理装置（例えばＣ
ＶＤ装置など）へと導出されている。
めの概略図である。図において、５１は液体ソースタン
クであり、この液体ソースタンク５１の中には液体ソー
スＬが貯溜されている。まず、液体ソースタンク５１に
は不活性ガス供給管５２が接続されており、この不活性
ガス供給管５２を通して不活性ガス（一般には窒素：Ｎ
2 ）が液体ソースタンク５１に供給されるようになって
いる。また、液体ソースタンク５１からは反応ガス供給
管５３が引き出されており、この反応ガス供給管５３は
バブラー等を介して図示せぬウエハ処理装置（例えばＣ
ＶＤ装置など）へと導出されている。
【０００３】加えて、不活性ガス供給管５２と反応ガス
供給管５３とには第１の連結管５４と第２の連結管５５
とが接続されており、さらに第２の連結管５５の途中に
は排気ガス管５６が接続されている。また、各配管の途
中には複数のバルブＶ１〜Ｖ７が設けられており、これ
らのバルブＶ１〜Ｖ７によってガスの流れ方向が規制さ
れるようになっている。
供給管５３とには第１の連結管５４と第２の連結管５５
とが接続されており、さらに第２の連結管５５の途中に
は排気ガス管５６が接続されている。また、各配管の途
中には複数のバルブＶ１〜Ｖ７が設けられており、これ
らのバルブＶ１〜Ｖ７によってガスの流れ方向が規制さ
れるようになっている。
【０００４】続いて、上記従来のガス供給装置の動作機
能について説明する。まず、ウエハ処理装置に反応ガス
を供給する場合は、バルブＶ１、Ｖ２、Ｖ４、Ｖ７を開
いた状態とし、それ以外のバルブＶ３、Ｖ５、Ｖ６は閉
じた状態とする。この状態から不活性ガス供給管５２を
通して不活性ガス（Ｎ2 ）を液体ソースタンク５１に供
給すると、液体ソースタンク５１内の液体ソースＬの液
面に圧力が加えられ、これにより反応ガスが反応ガス供
給管５３を通してウエハ処理装置に供給される。
能について説明する。まず、ウエハ処理装置に反応ガス
を供給する場合は、バルブＶ１、Ｖ２、Ｖ４、Ｖ７を開
いた状態とし、それ以外のバルブＶ３、Ｖ５、Ｖ６は閉
じた状態とする。この状態から不活性ガス供給管５２を
通して不活性ガス（Ｎ2 ）を液体ソースタンク５１に供
給すると、液体ソースタンク５１内の液体ソースＬの液
面に圧力が加えられ、これにより反応ガスが反応ガス供
給管５３を通してウエハ処理装置に供給される。
【０００５】一方、液体ソースＬの補充等に伴って液体
ソースタンク５１を交換する場合は、以下のようにして
配管内の残留ガスが除去される。すなわち、バルブＶ
３、Ｖ４、Ｖ６を開いた状態とし、それ以外のバルブＶ
１、Ｖ２、Ｖ５、Ｖ７は閉じた状態とする。この状態か
ら不活性ガス（Ｎ2 ）を供給すると、図中矢印で示すよ
うに不活性ガス（Ｎ2 ）は不活性ガス供給管５２→第１
の連結管５４→反応ガス供給管５３→排気ガス管５６の
順に流れて、反応ガス供給管５３や第１の連結管５４に
残留したガスを装置外部に除去する。
ソースタンク５１を交換する場合は、以下のようにして
配管内の残留ガスが除去される。すなわち、バルブＶ
３、Ｖ４、Ｖ６を開いた状態とし、それ以外のバルブＶ
１、Ｖ２、Ｖ５、Ｖ７は閉じた状態とする。この状態か
ら不活性ガス（Ｎ2 ）を供給すると、図中矢印で示すよ
うに不活性ガス（Ｎ2 ）は不活性ガス供給管５２→第１
の連結管５４→反応ガス供給管５３→排気ガス管５６の
順に流れて、反応ガス供給管５３や第１の連結管５４に
残留したガスを装置外部に除去する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のガス供給装置においては、不活性ガス（Ｎ2 ）を用い
て残留ガスを除去しても、不活性ガス（Ｎ2 ）が通過す
る部分は除去できるが、不活性ガス（Ｎ2 ）が入り込め
ない部分、すなわち図中Ｐ１、Ｐ２部分の残留ガスは十
分に除去しきれないという問題があった。
のガス供給装置においては、不活性ガス（Ｎ2 ）を用い
て残留ガスを除去しても、不活性ガス（Ｎ2 ）が通過す
る部分は除去できるが、不活性ガス（Ｎ2 ）が入り込め
ない部分、すなわち図中Ｐ１、Ｐ２部分の残留ガスは十
分に除去しきれないという問題があった。
【０００７】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、配管内の残留ガスを確実に除去することが
できるウエハ処理装置におけるガス供給装置を提供する
ことを目的とする。
れたもので、配管内の残留ガスを確実に除去することが
できるウエハ処理装置におけるガス供給装置を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、液体ソースを貯溜するた
めの液体ソースタンクと、この液体ソースタンクに接続
された不活性ガス供給管と、液体ソースタンクからウエ
ハ処理装置へと導出された反応ガス供給管と、一端が不
活性ガス供給管に接続され、他端が反応ガス供給管に接
続された第１の連結管と、この第１の連結管よりも液体
ソースタンクから離反した位置で、一端が不活性ガス供
給管に接続され、他端が反応ガス供給管に接続された第
２の連結管と、この第２の連結管の途中に接続された排
気ガス管と、この排気ガス管に並列状態で接続された分
岐管と、この分岐管の途中に設けられた真空ポンプと、
ガスの流れ方向を規制するため配管途中に設けられた複
数のバルブとを具備したウエハ処理装置におけるガス供
給装置である。
成するためになされたもので、液体ソースを貯溜するた
めの液体ソースタンクと、この液体ソースタンクに接続
された不活性ガス供給管と、液体ソースタンクからウエ
ハ処理装置へと導出された反応ガス供給管と、一端が不
活性ガス供給管に接続され、他端が反応ガス供給管に接
続された第１の連結管と、この第１の連結管よりも液体
ソースタンクから離反した位置で、一端が不活性ガス供
給管に接続され、他端が反応ガス供給管に接続された第
２の連結管と、この第２の連結管の途中に接続された排
気ガス管と、この排気ガス管に並列状態で接続された分
岐管と、この分岐管の途中に設けられた真空ポンプと、
ガスの流れ方向を規制するため配管途中に設けられた複
数のバルブとを具備したウエハ処理装置におけるガス供
給装置である。
【０００９】
【作用】本発明のガス供給装置においては、排気ガス管
に並列状態で分岐管が接続され、その分岐管の途中に真
空ポンプが設けられているため、不活性ガスによる残留
ガスの除去作用に加えて、真空ポンプの吸引作用によっ
ても配管内の残留ガスを除去できるようになる。
に並列状態で分岐管が接続され、その分岐管の途中に真
空ポンプが設けられているため、不活性ガスによる残留
ガスの除去作用に加えて、真空ポンプの吸引作用によっ
ても配管内の残留ガスを除去できるようになる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を基に詳
細に説明する。図１は本発明に係わるガス供給装置の一
実施例を説明する概略図である。図において、１は液体
ソースタンクであり、この液体ソースタンク１の中には
液体ソースＬが貯溜されている。まず、液体ソースタン
ク１には不活性ガス供給管２が接続されており、この不
活性ガス供給管２を通して不活性ガス（一般には窒素：
Ｎ2 ）が液体ソースタンク１に供給されるようになって
いる。また、液体ソースタンク１からは反応ガス供給管
３が引き出されており、この反応ガス供給管３はバブラ
ー等を介して図示せぬウエハ処理装置（例えばＣＶＤ装
置など）へと導出されている。
細に説明する。図１は本発明に係わるガス供給装置の一
実施例を説明する概略図である。図において、１は液体
ソースタンクであり、この液体ソースタンク１の中には
液体ソースＬが貯溜されている。まず、液体ソースタン
ク１には不活性ガス供給管２が接続されており、この不
活性ガス供給管２を通して不活性ガス（一般には窒素：
Ｎ2 ）が液体ソースタンク１に供給されるようになって
いる。また、液体ソースタンク１からは反応ガス供給管
３が引き出されており、この反応ガス供給管３はバブラ
ー等を介して図示せぬウエハ処理装置（例えばＣＶＤ装
置など）へと導出されている。
【００１１】加えて、不活性ガス供給管２と反応ガス供
給管３とには、第１の連結管４と第２の連結管５の両端
がそれぞれ接続されている。このうち、第２の連結管５
は第１の連結管４よりも液体ソースタンク１から離反し
た位置に設けられている。さらに第２の連結管５の途中
には排気ガス管６が接続されており、この排気ガス管６
の一端側は図示せぬ排ガス除外装置へと接続されてい
る。ここで、排気ガス管６の途中には分岐管７が並列状
態で接続されており、しかもこの分岐管７の途中には真
空ポンプ８が設けられている。また、各配管の途中には
複数のバルブＶ１〜Ｖ１１が設けられており、これら複
数のバルブＶ１〜Ｖ１１によってガスの流れ方向が規制
されるようになっている。
給管３とには、第１の連結管４と第２の連結管５の両端
がそれぞれ接続されている。このうち、第２の連結管５
は第１の連結管４よりも液体ソースタンク１から離反し
た位置に設けられている。さらに第２の連結管５の途中
には排気ガス管６が接続されており、この排気ガス管６
の一端側は図示せぬ排ガス除外装置へと接続されてい
る。ここで、排気ガス管６の途中には分岐管７が並列状
態で接続されており、しかもこの分岐管７の途中には真
空ポンプ８が設けられている。また、各配管の途中には
複数のバルブＶ１〜Ｖ１１が設けられており、これら複
数のバルブＶ１〜Ｖ１１によってガスの流れ方向が規制
されるようになっている。
【００１２】続いて、上記構成からなる本実施例のガス
供給装置の動作機能について説明する。まず、ウエハ処
理装置に反応ガスを供給する場合は、バルブＶ１、Ｖ
２、Ｖ４、Ｖ５、Ｖ８を開いた状態とし、それ以外のバ
ルブＶ３、Ｖ６、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１０、Ｖ１１は閉じた
状態とする。この状態から不活性ガス供給管２を通して
不活性ガス（Ｎ2 ）を液体ソースタンク１に供給する
と、液体ソースタンク１内の液体ソースＬの液面に圧力
が加えられ、これにより反応ガスが反応ガス供給管３を
通してウエハ処理装置に供給される。
供給装置の動作機能について説明する。まず、ウエハ処
理装置に反応ガスを供給する場合は、バルブＶ１、Ｖ
２、Ｖ４、Ｖ５、Ｖ８を開いた状態とし、それ以外のバ
ルブＶ３、Ｖ６、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１０、Ｖ１１は閉じた
状態とする。この状態から不活性ガス供給管２を通して
不活性ガス（Ｎ2 ）を液体ソースタンク１に供給する
と、液体ソースタンク１内の液体ソースＬの液面に圧力
が加えられ、これにより反応ガスが反応ガス供給管３を
通してウエハ処理装置に供給される。
【００１３】一方、液体ソースＬの補充等に伴って液体
ソースタンク１を交換する場合は、以下のようにして配
管内の残留ガスが除去される。すなわち、バルブＶ３〜
Ｖ５、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１０を開いた状態とし、それ以外
のバルブＶ１、Ｖ２、Ｖ６、Ｖ８、Ｖ１１は閉じた状態
とする。この状態から不活性ガス（Ｎ2 ）を供給する
と、図中矢印で示すように不活性ガス（Ｎ2 ）は不活性
ガス供給管２→第１の連結管４→反応ガス供給管３→第
２の連結管５→排気ガス管６の順に流れて、反応ガス供
給管３や第１の連結管４に残留したガスを装置外部に除
去する。
ソースタンク１を交換する場合は、以下のようにして配
管内の残留ガスが除去される。すなわち、バルブＶ３〜
Ｖ５、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１０を開いた状態とし、それ以外
のバルブＶ１、Ｖ２、Ｖ６、Ｖ８、Ｖ１１は閉じた状態
とする。この状態から不活性ガス（Ｎ2 ）を供給する
と、図中矢印で示すように不活性ガス（Ｎ2 ）は不活性
ガス供給管２→第１の連結管４→反応ガス供給管３→第
２の連結管５→排気ガス管６の順に流れて、反応ガス供
給管３や第１の連結管４に残留したガスを装置外部に除
去する。
【００１４】さらに、本実施例のガス供給装置では、以
下のようにして配管内の残留ガスを除去することもでき
る。すなわち、バルブＶ７、Ｖ９、Ｖ１１を開いた状態
とし、それ以外のバルブＶ１〜Ｖ６、Ｖ８、Ｖ１０を閉
じた状態とする。そして、この状態から真空ポンプ８を
作動させる。そうすると、従来装置では十分に除去しき
れなかった図中Ｐ１、Ｐ２部分の残留ガスについても、
本実施例では配管内の残留ガスがバルブＶ７を通して排
気ガス管６に引き込まれ、さらにバルブＶ９、Ｖ１１を
通して分岐管７に引き込まれて、そのままび排気ガス管
６を通して装置外部に除去されるようになる。
下のようにして配管内の残留ガスを除去することもでき
る。すなわち、バルブＶ７、Ｖ９、Ｖ１１を開いた状態
とし、それ以外のバルブＶ１〜Ｖ６、Ｖ８、Ｖ１０を閉
じた状態とする。そして、この状態から真空ポンプ８を
作動させる。そうすると、従来装置では十分に除去しき
れなかった図中Ｐ１、Ｐ２部分の残留ガスについても、
本実施例では配管内の残留ガスがバルブＶ７を通して排
気ガス管６に引き込まれ、さらにバルブＶ９、Ｖ１１を
通して分岐管７に引き込まれて、そのままび排気ガス管
６を通して装置外部に除去されるようになる。
【００１５】また、本実施例のガス供給装置において
は、不活性ガス（Ｎ2 ）を供給しながら真空ポンプ８を
作動させて、配管内の残留ガスを除去することもでき
る。すなわち、バルブＶ３〜Ｖ５、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１１
を開いた状態とし、それ以外のバルブＶ１、Ｖ２、Ｖ
６、Ｖ８、Ｖ１０は閉じた状態とする。この状態から不
活性ガス（Ｎ2 ）を供給し且つ真空ポンプ８を作動させ
ると、不活性ガス（Ｎ2 ）は配管内の残留ガスとともに
図中矢印方向に従って排気ガス管６に引き込まれ、さら
に排気ガス管６の途中から分岐管７を経由してそのまま
装置外部に除去される。
は、不活性ガス（Ｎ2 ）を供給しながら真空ポンプ８を
作動させて、配管内の残留ガスを除去することもでき
る。すなわち、バルブＶ３〜Ｖ５、Ｖ７、Ｖ９、Ｖ１１
を開いた状態とし、それ以外のバルブＶ１、Ｖ２、Ｖ
６、Ｖ８、Ｖ１０は閉じた状態とする。この状態から不
活性ガス（Ｎ2 ）を供給し且つ真空ポンプ８を作動させ
ると、不活性ガス（Ｎ2 ）は配管内の残留ガスとともに
図中矢印方向に従って排気ガス管６に引き込まれ、さら
に排気ガス管６の途中から分岐管７を経由してそのまま
装置外部に除去される。
【００１６】このように本実施例のガス供給装置におい
ては、不活性ガス（Ｎ2 ）による残留ガスの除去作用に
加えて、真空ポンプ８の吸引作用によっても配管内の残
留ガスが除去されるようになるため、従来装置では十分
に除去しきれなかった配管部分Ｐ１、Ｐ２についても確
実に残留ガスを除去できるようになる。
ては、不活性ガス（Ｎ2 ）による残留ガスの除去作用に
加えて、真空ポンプ８の吸引作用によっても配管内の残
留ガスが除去されるようになるため、従来装置では十分
に除去しきれなかった配管部分Ｐ１、Ｐ２についても確
実に残留ガスを除去できるようになる。
【００１７】
【発明の効果】以上、説明したように本発明のガス供給
装置によれば、排気ガス管に並列状態で分岐管が接続さ
れ、その分岐管の途中に真空ポンプが設けられているた
め、不活性ガスによる残留ガスの除去作用に加えて、真
空ポンプの吸引作用によっても配管内の残留ガスを除去
できるようになり、従来装置では十分に除去しきれなか
った配管部分の残留ガスについても、上記真空ポンプの
吸引作用によって確実に除去できるようになる。
装置によれば、排気ガス管に並列状態で分岐管が接続さ
れ、その分岐管の途中に真空ポンプが設けられているた
め、不活性ガスによる残留ガスの除去作用に加えて、真
空ポンプの吸引作用によっても配管内の残留ガスを除去
できるようになり、従来装置では十分に除去しきれなか
った配管部分の残留ガスについても、上記真空ポンプの
吸引作用によって確実に除去できるようになる。
【００１８】その結果、配管内の残留ガスに起因した反
応生成物の発生が抑えられるようになるため、反応生成
物の付着による配管の詰まりが防止される。されに、ウ
エハ処理装置側では上記反応生成物によるパーティクル
の発生が防止されるため、製品の歩留り向上が期待でき
る。
応生成物の発生が抑えられるようになるため、反応生成
物の付着による配管の詰まりが防止される。されに、ウ
エハ処理装置側では上記反応生成物によるパーティクル
の発生が防止されるため、製品の歩留り向上が期待でき
る。
【００１９】また、本発明のガス供給装置によれば、液
体ソースタンク交換時の残留ガスの除去作業が短時間で
済むようになるとともに、配管内の残留ガスが人体に与
える悪影響なども確実に防止することが可能となる。
体ソースタンク交換時の残留ガスの除去作業が短時間で
済むようになるとともに、配管内の残留ガスが人体に与
える悪影響なども確実に防止することが可能となる。
【図１】本発明に係わるガス供給装置の一実施例を説明
する概略図である。
する概略図である。
【図２】従来のガス供給装置を説明する概略図である。
１ 液体ソースタンク ２ 不活性ガス供給管 ３ 反応ガス供給管 ４ 第１の連結管 ５ 第２の連結管 ６ 排気ガス管 ７ 分岐管 ８ 真空ポンプ Ｖ１〜Ｖ１１ バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 液体ソースを貯溜するための液体ソース
タンクと、 前記液体ソースタンクに接続された不活性ガス供給管
と、 前記液体ソースタンクからウエハ処理装置へと導出され
た反応ガス供給管と、 一端が前記不活性ガス供給管に接続され、他端が前記反
応ガス供給管に接続された第１の連結管と、 前記第１の連結管よりも前記液体ソースタンクから離反
した位置で、一端が前記不活性ガス供給管に接続され、
他端が前記反応ガス供給管に接続された第２の連結管
と、 前記第２の連結管の途中に接続された排気ガス管と、 前記排気ガス管に並列状態で接続された分岐管と、 前記分岐管の途中に設けられた真空ポンプと、 ガスの流れ方向を規制するため配管途中に設けられた複
数のバルブとを具備したことを特徴とするウエハ処理装
置におけるガス供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5055136A JPH06244120A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | ウエハ処理装置におけるガス供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5055136A JPH06244120A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | ウエハ処理装置におけるガス供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06244120A true JPH06244120A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12990373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5055136A Pending JPH06244120A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | ウエハ処理装置におけるガス供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06244120A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100358406B1 (ko) * | 2000-07-10 | 2002-10-25 | 주식회사 아펙스 | 압력조절수단을 구비한 액체소스 보관용기 |
| KR20030088252A (ko) * | 2002-05-14 | 2003-11-19 | 삼성전자주식회사 | 가스 공급 시스템 및 이의 가스 배출 방법 |
| US7237565B2 (en) | 2003-10-08 | 2007-07-03 | Adeka Engineering & Construction Co., Ltd | Fluid feeding apparatus |
| WO2016152342A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | 株式会社トクヤマ | 液状化学物質のためのタンク |
Citations (3)
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| JPH0357930U (ja) * | 1989-10-11 | 1991-06-05 | ||
| JPH03235324A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Fujitsu Ltd | 半導体成長装置 |
-
1993
- 1993-02-19 JP JP5055136A patent/JPH06244120A/ja active Pending
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| TWI676762B (zh) * | 2015-03-25 | 2019-11-11 | 日商德山股份有限公司 | 液狀化學物質用之貯槽 |
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