JPH06246624A - 両面研磨装置 - Google Patents
両面研磨装置Info
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- JPH06246624A JPH06246624A JP3768193A JP3768193A JPH06246624A JP H06246624 A JPH06246624 A JP H06246624A JP 3768193 A JP3768193 A JP 3768193A JP 3768193 A JP3768193 A JP 3768193A JP H06246624 A JPH06246624 A JP H06246624A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ディスク状のワークの外周縁を保持する保持
ローラ14,19 を支持体11に３箇所でかつ水平軸心回りで
回転自在に支持し、各保持ローラ14,19 により回転自在
に保持されたワークの両側位置に、ワークの表裏面を研
磨する研磨具34を取り付け、かつワークの研磨箇所に、
遊離砥粒を含む研磨液を供給する研磨液供給装置61を設
けたものである。 【効果】 ワークを一個づつ保持して研磨するようにし
たので、複数個のワークを一度にバッチ処理するものに
比べて、バッチ毎に管理をする必要がなく、またワーク
の供給および取出し位置の位置決めを行う必要がなく、
さらに研磨箇所には、研磨液が供給されているため、研
磨具だけの研磨に比べて、加工精度を向上させることが
できる。
ローラ14,19 を支持体11に３箇所でかつ水平軸心回りで
回転自在に支持し、各保持ローラ14,19 により回転自在
に保持されたワークの両側位置に、ワークの表裏面を研
磨する研磨具34を取り付け、かつワークの研磨箇所に、
遊離砥粒を含む研磨液を供給する研磨液供給装置61を設
けたものである。 【効果】 ワークを一個づつ保持して研磨するようにし
たので、複数個のワークを一度にバッチ処理するものに
比べて、バッチ毎に管理をする必要がなく、またワーク
の供給および取出し位置の位置決めを行う必要がなく、
さらに研磨箇所には、研磨液が供給されているため、研
磨具だけの研磨に比べて、加工精度を向上させることが
できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばハードディスク
用基板などの薄い円板状のワークの両面を研磨する両面
研磨装置に関するものである。
用基板などの薄い円板状のワークの両面を研磨する両面
研磨装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の円板状のワークの両面を
研磨する研磨装置としては、大きいキャリアに複数個の
ワークを保持するとともに、このキャリアの上下に大き
い径の研磨具を配置して、研磨具およびキャリアを所定
方向に回転させて、複数個のワークの表裏面を同時に研
磨するものであった。
研磨する研磨装置としては、大きいキャリアに複数個の
ワークを保持するとともに、このキャリアの上下に大き
い径の研磨具を配置して、研磨具およびキャリアを所定
方向に回転させて、複数個のワークの表裏面を同時に研
磨するものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
研磨装置によると、一度に複数個のワークを研磨するた
め、すなわちバッチ式処理であるため、バッチ毎に研磨
状態の管理をする必要が生じ、面倒であるという問題が
あった。
研磨装置によると、一度に複数個のワークを研磨するた
め、すなわちバッチ式処理であるため、バッチ毎に研磨
状態の管理をする必要が生じ、面倒であるという問題が
あった。
【０００４】例えば、バッチ式研磨を行う場合には、粗
加工と、仕上げ加工など各工程に渡って常に同一のバツ
チ毎に処理を行う必要がある。すなわち、バッチ式では
同一バッチ内でのワークの厚みの差は小さく問題はない
が、異なるバッチ間では厚み差があるため、バッチ毎の
厚み管理を行わないと、ある工程において、加工される
ワークと加工されないワークとが発生し、加工面粗さや
加工面平坦度に影響を与え、不良品を増加させてしま
う。
加工と、仕上げ加工など各工程に渡って常に同一のバツ
チ毎に処理を行う必要がある。すなわち、バッチ式では
同一バッチ内でのワークの厚みの差は小さく問題はない
が、異なるバッチ間では厚み差があるため、バッチ毎の
厚み管理を行わないと、ある工程において、加工される
ワークと加工されないワークとが発生し、加工面粗さや
加工面平坦度に影響を与え、不良品を増加させてしま
う。
【０００５】また、上記のバッチ式研磨においては、ワ
ークの供給位置および加工終了後のワークの位置を検出
するのが困難であり、またワークと研磨具は加工液によ
りリンギング（密着）するが、リンギング状態のワーク
を研磨具から引き離すのも面倒であった。
ークの供給位置および加工終了後のワークの位置を検出
するのが困難であり、またワークと研磨具は加工液によ
りリンギング（密着）するが、リンギング状態のワーク
を研磨具から引き離すのも面倒であった。
【０００６】そこで、本発明は上記問題を解消し得る両
面研磨装置を提供することを目的とする。
面研磨装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の両面研磨装置は、ディスク状の被研磨材の
外周部において、このディスク状の被研磨材の外周縁を
保持する保持ローラを、支持体に少なくとも３箇所でか
つ水平軸心回りで回転自在に支持し、上記各保持ローラ
により回転自在に保持されたディスク状の被研磨材の両
側位置に、保持体を介して、被研磨材に対して接近離間
自在な回転軸体を配置し、この回転軸体の先端部に、被
研磨材の表裏面を研磨する研磨具を取り付け、上記回転
軸体を回転させる回転駆動装置を設けるとともに、回転
軸体を介して上記両研磨具を、被研磨材の表裏面に所定
の付勢力で以て押し付けるための押圧装置を設け、かつ
上記被研磨材の研磨箇所に、遊離砥粒を含む研磨液を供
給する研磨液供給装置を設けたものである。
め、本発明の両面研磨装置は、ディスク状の被研磨材の
外周部において、このディスク状の被研磨材の外周縁を
保持する保持ローラを、支持体に少なくとも３箇所でか
つ水平軸心回りで回転自在に支持し、上記各保持ローラ
により回転自在に保持されたディスク状の被研磨材の両
側位置に、保持体を介して、被研磨材に対して接近離間
自在な回転軸体を配置し、この回転軸体の先端部に、被
研磨材の表裏面を研磨する研磨具を取り付け、上記回転
軸体を回転させる回転駆動装置を設けるとともに、回転
軸体を介して上記両研磨具を、被研磨材の表裏面に所定
の付勢力で以て押し付けるための押圧装置を設け、かつ
上記被研磨材の研磨箇所に、遊離砥粒を含む研磨液を供
給する研磨液供給装置を設けたものである。
【０００８】
【作用】上記の構成によると、保持ローラにより被研磨
材を一個だけ保持し、そして回転駆動装置により研磨具
を回転させるとともに押圧装置により被研磨材に押圧す
ることにより、被研磨材の両面を研磨具により同時に研
磨することができる。したがって、複数個の被研磨材を
一度にバッチ処理するものに比べて、バッチ毎に管理を
する必要がなく、また被研磨材の供給および取出し位置
の位置決めを行う必要がなく、また被研磨材は保持ロー
ラにより保持されているので、研磨具とのリンギングの
心配がない。
材を一個だけ保持し、そして回転駆動装置により研磨具
を回転させるとともに押圧装置により被研磨材に押圧す
ることにより、被研磨材の両面を研磨具により同時に研
磨することができる。したがって、複数個の被研磨材を
一度にバッチ処理するものに比べて、バッチ毎に管理を
する必要がなく、また被研磨材の供給および取出し位置
の位置決めを行う必要がなく、また被研磨材は保持ロー
ラにより保持されているので、研磨具とのリンギングの
心配がない。
【０００９】さらに、被研磨材の研磨箇所に、遊離砥粒
を含む研磨液を供給するようにしたので、研磨具だけの
研磨すなわち固定砥粒だけによる研磨に比べて、被研磨
材表面の平坦度の向上を図ることができる。
を含む研磨液を供給するようにしたので、研磨具だけの
研磨すなわち固定砥粒だけによる研磨に比べて、被研磨
材表面の平坦度の向上を図ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１〜図３に基づ
き説明する。図１および図２において、１は例えばハー
ドディスク用の薄い円形基板（以下、単にワークとい
う）Ｗの両面すなわち表裏面を研磨するための両面研磨
装置で、大きく分けて、水平支持台２と、この水平支持
台２の中央部に配置されたワークＷの保持部３と、この
保持部３の両側位置の水平支持台２上に配置された研磨
部４とから構成されている。
き説明する。図１および図２において、１は例えばハー
ドディスク用の薄い円形基板（以下、単にワークとい
う）Ｗの両面すなわち表裏面を研磨するための両面研磨
装置で、大きく分けて、水平支持台２と、この水平支持
台２の中央部に配置されたワークＷの保持部３と、この
保持部３の両側位置の水平支持台２上に配置された研磨
部４とから構成されている。
【００１１】上記保持部３は、水平支持台２の中央に立
設された板状の支持体１１と、この支持体１１からそれ
ぞれ軸受１２を介して回転自在に突出された２本の支持
軸体１３と、これら各支持軸体１３の先端部にそれぞれ
取り付けられるとともにそれぞれ外周部にワークＷの外
周縁を保持可能な溝部１４ａが形成された下側保持ロー
ラ１４と、同じく支持体１１に、図１の矢印ａにて示す
ように、取付ピンを介して鉛直面内で揺動自在に支持さ
れるとともに支持体１１側に支持ブラケット１６を介し
て支持された揺動用シリンダー装置１７により揺動自在
にされた支持アーム１８と、この支持アーム１８の一端
部に軸受（図示せず）を介して回転自在に取り付けられ
るとともに外周部にワークＷの外周縁を保持可能な溝部
１９ａが形成されたた上側保持ローラ１９とから構成さ
れており、また上記各保持ローラ１４，１９は、図３に
示すように、同一鉛直面内で所定間隔でもってそれぞれ
配置されている。
設された板状の支持体１１と、この支持体１１からそれ
ぞれ軸受１２を介して回転自在に突出された２本の支持
軸体１３と、これら各支持軸体１３の先端部にそれぞれ
取り付けられるとともにそれぞれ外周部にワークＷの外
周縁を保持可能な溝部１４ａが形成された下側保持ロー
ラ１４と、同じく支持体１１に、図１の矢印ａにて示す
ように、取付ピンを介して鉛直面内で揺動自在に支持さ
れるとともに支持体１１側に支持ブラケット１６を介し
て支持された揺動用シリンダー装置１７により揺動自在
にされた支持アーム１８と、この支持アーム１８の一端
部に軸受（図示せず）を介して回転自在に取り付けられ
るとともに外周部にワークＷの外周縁を保持可能な溝部
１９ａが形成されたた上側保持ローラ１９とから構成さ
れており、また上記各保持ローラ１４，１９は、図３に
示すように、同一鉛直面内で所定間隔でもってそれぞれ
配置されている。
【００１２】そして、上記各保持ローラ１４，１９は合
成樹脂により構成され、また２個の下側保持ローラ１４
については、回転駆動されるようにしている。すなわ
ち、各下側保持ローラ１４の支持軸体１３の他端部に
は、従動用プーリー２１が取り付けられるとともに、こ
れら両従動用プーリー２１同士が連結ベルト（図示せ
ず）により連動連結され、さらに一方の従動用プーリー
２１に駆動ベルト２３を介して連動連結された駆動用プ
ーリー２４を回転させる第１電動機２５が水平支持台２
上の所定箇所に配置されている。
成樹脂により構成され、また２個の下側保持ローラ１４
については、回転駆動されるようにしている。すなわ
ち、各下側保持ローラ１４の支持軸体１３の他端部に
は、従動用プーリー２１が取り付けられるとともに、こ
れら両従動用プーリー２１同士が連結ベルト（図示せ
ず）により連動連結され、さらに一方の従動用プーリー
２１に駆動ベルト２３を介して連動連結された駆動用プ
ーリー２４を回転させる第１電動機２５が水平支持台２
上の所定箇所に配置されている。
【００１３】したがって、第１電動機２５を駆動するこ
とにより、両下側保持ローラ１４を所定速度でもって回
転させることができる。次に、左右の研磨部４について
説明するが、その主要構成については、左右とも同一構
成であり、異なるのはその回転駆動源が一つであるとい
うことであり、したがって本実施例においては、左側の
研磨部４Ａに着目して説明する。
とにより、両下側保持ローラ１４を所定速度でもって回
転させることができる。次に、左右の研磨部４について
説明するが、その主要構成については、左右とも同一構
成であり、異なるのはその回転駆動源が一つであるとい
うことであり、したがって本実施例においては、左側の
研磨部４Ａに着目して説明する。
【００１４】すなわち、この研磨部４Ａは、支持体１１
の左側の水平支持台２上に支持ブラケット３１を介して
支持された保持体３２と、この保持体３２内に回転自在
に配置された回転筒体（図示せず）と、この回転筒体内
にセレーション部を介して挿通された、すなわち摺動可
能にかつ回転をも伝達可能に挿通された回転軸体３３
と、この回転軸体３３の支持体１１寄りの一端部に取り
付けられた研磨具３４と、上記水平支持台２に支持ブラ
ケット３５を介して支持されて上記回転軸体３３の他端
部を連結部材３６を介して押圧して研磨具３４をワーク
Ｗの表面に押圧するための押圧用シリンダー装置（押圧
装置）３７と、上記回転筒体を回転させる回転駆動部と
から構成されている。
の左側の水平支持台２上に支持ブラケット３１を介して
支持された保持体３２と、この保持体３２内に回転自在
に配置された回転筒体（図示せず）と、この回転筒体内
にセレーション部を介して挿通された、すなわち摺動可
能にかつ回転をも伝達可能に挿通された回転軸体３３
と、この回転軸体３３の支持体１１寄りの一端部に取り
付けられた研磨具３４と、上記水平支持台２に支持ブラ
ケット３５を介して支持されて上記回転軸体３３の他端
部を連結部材３６を介して押圧して研磨具３４をワーク
Ｗの表面に押圧するための押圧用シリンダー装置（押圧
装置）３７と、上記回転筒体を回転させる回転駆動部と
から構成されている。
【００１５】また、上記回転駆動部は、上述したよう
に、両側研磨部４Ａ，４Ｂの駆動を同時に行うようにし
ている。すなわち、水平支持台２上には、研磨具３４の
回転軸心と平行に伝導軸体４１が回転自在に支持される
とともに、その両端部には、各回転筒体の端部に取り付
けられた従動用プーリー４２に連結ベルト４３を介して
連動連結された従動用中間プーリー４４が取り付けら
れ、また上記伝導軸体４１の一方の端部寄り途中には、
駆動用中間プーリー４５が取り付けられるとともに、こ
の駆動用中間プーリー４５に駆動ベルト４６を介して連
動連結された駆動用プーリー４７を回転させる第２電動
機（回転駆動装置）４８が水平支持台２上に配置されて
いる。
に、両側研磨部４Ａ，４Ｂの駆動を同時に行うようにし
ている。すなわち、水平支持台２上には、研磨具３４の
回転軸心と平行に伝導軸体４１が回転自在に支持される
とともに、その両端部には、各回転筒体の端部に取り付
けられた従動用プーリー４２に連結ベルト４３を介して
連動連結された従動用中間プーリー４４が取り付けら
れ、また上記伝導軸体４１の一方の端部寄り途中には、
駆動用中間プーリー４５が取り付けられるとともに、こ
の駆動用中間プーリー４５に駆動ベルト４６を介して連
動連結された駆動用プーリー４７を回転させる第２電動
機（回転駆動装置）４８が水平支持台２上に配置されて
いる。
【００１６】また、この研磨部４には、回転軸体３３の
移動量を制御するための制御装置５１が設けられてい
る。すなわち、この制御装置５１は、図１に示すよう
に、回転軸体３３と押圧用シリンダー装置３７とを連結
する連結部材３６に取り付けられた位置決め部材５２
と、保持体３２側に取り付けられて、上記位置決め部材
５２の先端に当接可能にされた出退用ロッド部５３ａを
有する位置決め用シリンダー装置（ノックシリンダーと
もいう）５３とから構成されている。
移動量を制御するための制御装置５１が設けられてい
る。すなわち、この制御装置５１は、図１に示すよう
に、回転軸体３３と押圧用シリンダー装置３７とを連結
する連結部材３６に取り付けられた位置決め部材５２
と、保持体３２側に取り付けられて、上記位置決め部材
５２の先端に当接可能にされた出退用ロッド部５３ａを
有する位置決め用シリンダー装置（ノックシリンダーと
もいう）５３とから構成されている。
【００１７】そして、さらに研磨中のワークＷに対し
て、研磨液（加工液ともいい、微細な遊離砥粒を水に溶
かした液体である）を供給する研磨液供給装置６１が具
備されている。
て、研磨液（加工液ともいい、微細な遊離砥粒を水に溶
かした液体である）を供給する研磨液供給装置６１が具
備されている。
【００１８】すなわち、この研磨液供給装置６１は、例
えば一方の保持体３２を支持する支持ブラケット３１の
上部に取り付けられた研磨液の吹付ノズル６２と、一方
の研磨部４Ｂ側の回転軸体３３内を貫通して設けられた
研磨液供給管路（具体的には供給穴部）６３と、上記水
平支持台２上の所定箇所に配置された研磨液用タンク６
４と、途中に供給ポンプ６５を有してこの研磨液用タン
ク６４内の研磨液Ｃを上記吹付ノズル６２および研磨液
供給管路６３内に供給する研磨液配管６６とから構成さ
れている。
えば一方の保持体３２を支持する支持ブラケット３１の
上部に取り付けられた研磨液の吹付ノズル６２と、一方
の研磨部４Ｂ側の回転軸体３３内を貫通して設けられた
研磨液供給管路（具体的には供給穴部）６３と、上記水
平支持台２上の所定箇所に配置された研磨液用タンク６
４と、途中に供給ポンプ６５を有してこの研磨液用タン
ク６４内の研磨液Ｃを上記吹付ノズル６２および研磨液
供給管路６３内に供給する研磨液配管６６とから構成さ
れている。
【００１９】次に、ワークＷの研磨作業について説明す
る。まず、揺動用シリンダー装置１７により、上側保持
ローラ１９を上方に揺動させて、ワークＷを下側保持ロ
ーラ１４により支持させた後、上側保持ローラ１９を下
降させて、３個の保持ローラ１４，１９により、正確に
は各ローラ１４，１９の溝部１４ａ，１９ａに案内させ
て保持させる。
る。まず、揺動用シリンダー装置１７により、上側保持
ローラ１９を上方に揺動させて、ワークＷを下側保持ロ
ーラ１４により支持させた後、上側保持ローラ１９を下
降させて、３個の保持ローラ１４，１９により、正確に
は各ローラ１４，１９の溝部１４ａ，１９ａに案内させ
て保持させる。
【００２０】次に、押圧用シリンダー装置３７により、
両側の回転軸体３３をワークＷ側に移動させる。この移
動時においては、位置決め部材５２が位置決め用シリン
ダー装置５３の出退用ロッド部５３ａに当接するまで回
転軸体３３が前進する。
両側の回転軸体３３をワークＷ側に移動させる。この移
動時においては、位置決め部材５２が位置決め用シリン
ダー装置５３の出退用ロッド部５３ａに当接するまで回
転軸体３３が前進する。
【００２１】そして、位置決め部材５２が出退用ロッド
部５３ａに当接して、回転軸体３３の前進が停止し、こ
の状態では、研磨具３４がワークＷの両面に対して所定
のクリアランスが保持されている。
部５３ａに当接して、回転軸体３３の前進が停止し、こ
の状態では、研磨具３４がワークＷの両面に対して所定
のクリアランスが保持されている。
【００２２】この状態で、供給ポンプ６５を駆動して、
研磨液用タンク６４内の研磨液Ｃを、吹付ノズル６２お
よび回転軸体３３内に形成された研磨液供給管路６３を
介して、ワークＷの研磨面に供給するとともに、各電動
機２５，４８を駆動して、下側保持ローラ１４および回
転軸体３３を介して両側の研磨具３４を同一方向に回転
させながら、位置決め用シリンダー装置５３の出退用ロ
ッド部５３ａを少しづつ引き込み、そして研磨具３４を
ワークＷの両面に等しい押圧力でもって押圧することに
より、ワークＷの両面がソフトに研磨される。
研磨液用タンク６４内の研磨液Ｃを、吹付ノズル６２お
よび回転軸体３３内に形成された研磨液供給管路６３を
介して、ワークＷの研磨面に供給するとともに、各電動
機２５，４８を駆動して、下側保持ローラ１４および回
転軸体３３を介して両側の研磨具３４を同一方向に回転
させながら、位置決め用シリンダー装置５３の出退用ロ
ッド部５３ａを少しづつ引き込み、そして研磨具３４を
ワークＷの両面に等しい押圧力でもって押圧することに
より、ワークＷの両面がソフトに研磨される。
【００２３】なお、回転軸体３３側から供給される研磨
液Ｃは、例えば研磨具３４の研磨材（固定砥粒が表面に
付着されたもの）３４ａの中央部に形成された穴部３４
ｂから、ワークＷの研磨面に供給されることになる。
液Ｃは、例えば研磨具３４の研磨材（固定砥粒が表面に
付着されたもの）３４ａの中央部に形成された穴部３４
ｂから、ワークＷの研磨面に供給されることになる。
【００２４】また、上記出退用ロッド部５３ａの引き込
み制御は、シリンダー本体内のエアーを抜くことにより
行われ、またこの抜くエアーの流量を緻密に制御すれ
は、ワークＷの両面への研磨具３４の押付力を常に等し
くすることができる。
み制御は、シリンダー本体内のエアーを抜くことにより
行われ、またこの抜くエアーの流量を緻密に制御すれ
は、ワークＷの両面への研磨具３４の押付力を常に等し
くすることができる。
【００２５】このように、研磨するワークＷを一枚づつ
保持して、その両面を研磨具により研磨するようにした
ので、従来のように、複数枚のワークを一度にバッチ処
理するものに比べて、バッチ毎のワークの管理をする必
要がなく、またワークの供給および取出し位置の位置決
めを行う必要がなく、さらにワークは保持ローラにより
保持されているので、研磨具とのリンギングの心配がな
い。
保持して、その両面を研磨具により研磨するようにした
ので、従来のように、複数枚のワークを一度にバッチ処
理するものに比べて、バッチ毎のワークの管理をする必
要がなく、またワークの供給および取出し位置の位置決
めを行う必要がなく、さらにワークは保持ローラにより
保持されているので、研磨具とのリンギングの心配がな
い。
【００２６】さらに、吹付ノズルおよび研磨具自体か
ら、遊離砥粒が含まれた研磨液がワークの研磨箇所に供
給されているため、ワーク表面の微小な突起が除去さ
れ、加工精度すなわち加工表面の平坦度が向上する。
ら、遊離砥粒が含まれた研磨液がワークの研磨箇所に供
給されているため、ワーク表面の微小な突起が除去さ
れ、加工精度すなわち加工表面の平坦度が向上する。
【００２７】ところで、上記実施例においては、研磨液
供給装置として、吹付ノズルおよび研磨具の回転軸体内
に形成された研磨液供給管路の両者を設けた構成として
説明したが、勿論、どちらか一方だけ設けるようにして
もよい。
供給装置として、吹付ノズルおよび研磨具の回転軸体内
に形成された研磨液供給管路の両者を設けた構成として
説明したが、勿論、どちらか一方だけ設けるようにして
もよい。
【００２８】また、上記各実施例においては、ワークを
保持する保持ローラを３個設けたが、３個に限定される
ものではなく、例えば４個設けてもよい。また、上記各
実施例においては、下側保持ローラを第１電動機により
回転させるようにしたが、例えばこの下側保持ローラも
上側保持ローラと同様に、単に軸受を介して回転自在に
支持させるようにしてもよい。なお、この場合には、図
３に示すように、ワークＷの回転中心に対して研磨具３
４が偏心した位置に設けられているため、ワークＷにお
ける接触面での内周側と外周側との相対速度差により、
ワークＷ自身が自然に回転される。
保持する保持ローラを３個設けたが、３個に限定される
ものではなく、例えば４個設けてもよい。また、上記各
実施例においては、下側保持ローラを第１電動機により
回転させるようにしたが、例えばこの下側保持ローラも
上側保持ローラと同様に、単に軸受を介して回転自在に
支持させるようにしてもよい。なお、この場合には、図
３に示すように、ワークＷの回転中心に対して研磨具３
４が偏心した位置に設けられているため、ワークＷにお
ける接触面での内周側と外周側との相対速度差により、
ワークＷ自身が自然に回転される。
【００２９】さらに、上記実施例において、保持ローラ
を支持する支持体を上下に昇降させるか、または保持ロ
ーラ若しくは研磨具の各中心軸心とその回転軸心を偏心
させることにより、その加工軌跡をランダムにして、よ
りワークの加工平面度を良好にすることもできる。
を支持する支持体を上下に昇降させるか、または保持ロ
ーラ若しくは研磨具の各中心軸心とその回転軸心を偏心
させることにより、その加工軌跡をランダムにして、よ
りワークの加工平面度を良好にすることもできる。
【００３０】
【発明の効果】以上のように本発明の構成によると、被
研磨材を一個づつ保持して、その両面を研磨具により研
磨するようにしたので、従来のように、複数個の被研磨
材を一度にバッチ処理するものに比べて、バッチ毎に管
理をする必要がなく、また被研磨材の供給および取出し
位置の位置決めを行う必要がなく、また被研磨材は保持
ローラにより保持されているので、研磨具とのリンギン
グの心配がない。
研磨材を一個づつ保持して、その両面を研磨具により研
磨するようにしたので、従来のように、複数個の被研磨
材を一度にバッチ処理するものに比べて、バッチ毎に管
理をする必要がなく、また被研磨材の供給および取出し
位置の位置決めを行う必要がなく、また被研磨材は保持
ローラにより保持されているので、研磨具とのリンギン
グの心配がない。
【００３１】さらに、被研磨材の研磨箇所に、遊離砥粒
を含む研磨液を供給するようにしたので、研磨具だけの
研磨すなわち固定砥粒だけによる研磨に比べて、加工精
度すなわち平坦度を向上させることができる。
を含む研磨液を供給するようにしたので、研磨具だけの
研磨すなわち固定砥粒だけによる研磨に比べて、加工精
度すなわち平坦度を向上させることができる。
【図１】本発明の一実施例における両面研磨装置の全体
側面図である。
側面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視図である。
【図３】同実施例における研磨作業を説明する要部正面
図である。
図である。
Ｗ ワーク １ 両面研磨装置 ２ 水平支持台 ３ 保持部 ４ 研磨部 １１ 支持体 １３ 支持軸体 １４ 下側保持ローラ １８ 支持アーム １９ 上側保持ローラ ３２ 保持体 ３３ 回転軸体 ３４ 研磨具 ３７ 押圧用シリンダー装置 ４８ 第２電動機 ６１ 研磨液供給装置 ６２ 吹付ノズル ６３ 研磨液供給管路 ６４ 研磨液用タンク
Claims (1)
- 【請求項１】ディスク状の被研磨材の外周部において、
このディスク状の被研磨材の外周縁を保持する保持ロー
ラを、支持体に少なくとも３箇所でかつ水平軸心回りで
回転自在に支持し、上記各保持ローラにより回転自在に
保持されたディスク状の被研磨材の両側位置に、保持体
を介して、被研磨材に対して接近離間自在な回転軸体を
配置し、この回転軸体の先端部に、被研磨材の表裏面を
研磨する研磨具を取り付け、上記回転軸体を回転させる
回転駆動装置を設けるとともに、回転軸体を介して上記
両研磨具を、被研磨材の表裏面に所定の付勢力で以て押
し付けるための押圧装置を設け、かつ上記被研磨材の研
磨箇所に、遊離砥粒を含む研磨液を供給する研磨液供給
装置を設けたことを特徴とする両面研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3768193A JPH06246624A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 両面研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3768193A JPH06246624A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 両面研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06246624A true JPH06246624A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12504354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3768193A Pending JPH06246624A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 両面研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06246624A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112846979A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-05-28 | 东莞市信恒智能装备科技有限公司 | 一种具有双向打磨结构的电脑机箱加工用磨边装置 |
| CN114083394A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-02-25 | 江苏智远智能驱动技术研究院有限公司 | 一种电机加工用打磨装置 |
| CN114918765A (zh) * | 2022-06-01 | 2022-08-19 | 江西旭联新材料有限责任公司 | 一种pe板表面打磨平整装置 |
| CN117001507A (zh) * | 2023-08-28 | 2023-11-07 | 东莞市鼎力自动化科技有限公司 | 一种晶托表面抛光设备 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57144654A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-07 | Nec Corp | Polishing method for high density magnetic disk substrate |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP3768193A patent/JPH06246624A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57144654A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-07 | Nec Corp | Polishing method for high density magnetic disk substrate |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112846979A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-05-28 | 东莞市信恒智能装备科技有限公司 | 一种具有双向打磨结构的电脑机箱加工用磨边装置 |
| CN114083394A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-02-25 | 江苏智远智能驱动技术研究院有限公司 | 一种电机加工用打磨装置 |
| CN114918765A (zh) * | 2022-06-01 | 2022-08-19 | 江西旭联新材料有限责任公司 | 一种pe板表面打磨平整装置 |
| CN114918765B (zh) * | 2022-06-01 | 2023-10-17 | 江西旭联新材料有限责任公司 | 一种pe板表面打磨平整装置 |
| CN117001507A (zh) * | 2023-08-28 | 2023-11-07 | 东莞市鼎力自动化科技有限公司 | 一种晶托表面抛光设备 |
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