JPH06250409A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 画像再現性、耐湿性及び耐面強度の改良され
た、特に液体現像剤を用いての高精細な画像の再現性、
低出力のレーザー光を用いたスキャニング露光方式によ
る撮像性の優れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、式（Ｉ）の重合体成分及び
特定の極性基含有重合体成分を含有する高分子鎖を有機
分子中に３個以上結合する低分子量のスター型共重合体
である樹脂〔Ａ〕と、式（Ｉ）の重合体成分含有のＡブ
ロックと特定の極性基含有成分含有を有する一官能性マ
クロモノマー（Ｍ）を含有するＢブロックとからなる中
〜高分子量のＡＢ型及び／又はＡＢＡ型ブロック共重合
体である樹脂〔Ｂ〕を含有する電子写真感光体。〔式
（Ｉ）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ¹¹は炭化水素基
を表す。〕 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは画像再現性、耐湿性及び耐面強度に優れた電子
写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。

【０００３】支持体と少なくとも１つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。

【０００４】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗電荷保持率（Ｄ．Ｒ．
Ｒ．）や光感度が大きく左右される。

【０００５】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量（１０³ 〜１０⁴ 程度）の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭６３−２１７３５４号に
は酸性基含有重合体成分が重合体主鎖にランダムに存在
する樹脂、同６４−７０７６１号には重合体主鎖の片末
端に酸性基を結合して成る樹脂、特開平２−６７５６３
号、同２−２３６５６１号、同２−２３８４５８号、同
２−２３６５６２号及び同２−２４７６５６号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同３−１８１９４８号には酸性基をブロック
で含有するＡＢ型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。

【０００６】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。更に、
これらの低分子量の樹脂のみでは不充分な光導電層の機
械的強度を充分ならしめるために、中〜高分子量の他の
樹脂を併用する技術あるいは硬化性基を含有した樹脂を
併用して成膜後に硬化する技術、あるいは更に、環境の
変化や半導体レーザー光を用いた場合においても比較的
高い性能を維持する技術等が種々検討されている。例え
ば、特開昭６４−５６４号、同６３−２２０１４９号、
同６３−２２０１４８号、特開平１−２８０７６１号、
同１−１１６６４３号、同１−１６９４５５号、同１−
２１１７６６号、同２−３４８５９号、同２−５３０６
４号、同２−５６５５８号、同３−２９９５４号、同３
−７７９５４号、同３−９２８６１号、同３−５３２５
７号、同３−９２８６３号、同３−２０６４６４号、同
３−２２５３４４号、同３−１８１９４８号、同４−３
３０４４８号各公報等に記載されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、実用上の光導電層の機械的強度に問題を生じる場
合のある事がわかった。例えば、感光体がシート状ある
いはロール状で、複写機（あるいは製版機）に供される
場合、これらの感光体は、光導電層表面と感光体の裏面
が常に接触しており、時により激しくコスられることは
避けられない。こうした時、電子写真プロセスを経て、
複写画像を形成して見ると、コスられた部分では画像の
欠落、あるいは非画像部の地汚れを生じてしまうという
問題が現われた。

【０００８】又、環境が高温・高湿から低温・低湿まで
著しく変動した場合でも、オリジナルに対する複写画像
再現性が良好且つ安定に維持されることが望ましい。特
に半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式で
は、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露光
時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持性、光感度に対して、よ
り高い性能が要求される。

【０００９】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ている。従来の感光体で、実際に画像再現性を試験して
みると、複写画像の階調が軟調になったり、あるいは、
原稿の貼り込み跡が生じたりした。あるいは、静電特性
は良好であるが実際の複写画像は連続階調部に濃度ムラ
が生じたりしてしまった。

【００１０】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合、印刷物に、階調部の濃度ムラ、あるい
は低湿条件下で、ベタ画像部に白班ムラ等生じてしまっ
た。従来公知の技術においては、低分子量の樹脂と併用
する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子量の樹脂
で高性能化された実際の画像再現性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像（特に連続階調画像）の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。

【００１１】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、光導電層の耐コスレ性が著しく良好で、複写画像
再現性の優れた鮮明で良質な画像を有する電子写真感光
体を提供することである。本発明の他の目的は、複写画
像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高湿の如く変動
した場合でも、常に安定して良好な静電特性を維持し、
鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体を提供するこ
とである。

【００１２】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、静電特性
（特に暗電荷保持性及び光感度）に優れ、原画（特に高
精細な連続階調画像）に対して忠実な複写画像を再現
し、且つ、印刷物の全面一様な地汚れはもちろん点状の
地汚れをも発生させず、また耐刷性の優れた電子写真式
平版印刷原版を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電材
料、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を各々含有して成る事を
特徴とする電子写真感光体により達成されることが見出
された。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位からなる重合体成
分（イ）と−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は炭化水素基又は−
ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
基を含有する重合体成分（ロ）とを少なくとも含有する
ことから成る高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結
合して成り、該重合体成分（イ）が３０重量％以上及び
該重合体成分（ロ）が１〜２０重量％であるスター型共
重合体。

【００１４】

【化４】

【００１５】〔式（Ｉ）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｒ¹¹は炭化水素を表す。〕 樹脂〔Ｂ〕 ３×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、上記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位から成る重合体成
分を少なくとも含有するＡブロックと、該樹脂〔Ａ〕が
含有する特定の極性基と同様の極性基から選ばれる少な
くとも１種の極性基を含有する重合体成分を少なくとも
１種含有する重合体主鎖の一方の末端のみに重合性二重
結合基を結合して成る重量平均分子量１×１０³ 〜２×
１０⁴ の一官能基マクロモノマー（Ｍ）を少なくとも１
種含有するＢブロックとで構成されるＡＢ型及び／又は
ＡＢＡ型ブロック共重合体。

【００１６】即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式
（Ｉ）で示される重合体成分と上記特定の極性基含有成
分とを含有する高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個
結合して成る低分子量のスター型共重合体（樹脂
〔Ａ〕）と、一般式（Ｉ）で示される重合体成分を少な
くとも含有し、且つ上記特定の極性基成分を含有しない
Ａブロックと、上記特定の極性基成分を重合体成分とし
て含有する一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくとも
共重合体成分として含有するＢブロックとから成る中〜
高分子量のＡＢ型及び／又はＡＢＡ型ブロック共重合体
（樹脂〔Ｂ〕）とから少なくとも構成される。

【００１７】光導電層の結着樹脂は、無機光導電体粒子
を充分に均一に分散し、且つ凝集しない状態を形成し、
且つ、分光増感色素更には化学増感剤が該粒子表面に充
分に吸着することを阻害しない事がまず重要である。本
発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕は、上記の状態を適切
に形成するものである。

【００１８】即ち、本発明の樹脂〔Ａ〕は、低分子量体
で該粒子に吸着する働きをもつ特定の極性基成分を多く
含有することから、樹脂〔Ｂ〕よりも吸着性が強く、選
択的に該粒子に充分に吸着する。それにより該粒子を均
一に分散し、更にその高分子鎖が非常に短いことにより
該樹脂の凝集を抑制する働きも有する。従って、無機光
導電体の化学量論的な欠陥部が多少変動しても充分な吸
着領域をもつ事から、常に安定した無機光導電体と樹脂
〔Ａ〕との相互作用が保たれ、更には分光増感色素、化
学増感剤等の添加剤の吸着疎外を起こさないという重要
な作用を有するものと考えられる。

【００１９】また、低分子量の樹脂〔Ａ〕と併用すべき
中〜高分子量としての本発明の樹脂〔Ｂ〕は、併用する
樹脂〔Ａ〕よりも特定の極性基成分含有量が少なく且つ
下記化５に示す様に、該極性基が該樹脂〔Ｂ〕のブロッ
クポリマーの重合体中において、特定の位置に含有され
ている事を特徴とする。

【００２０】

【化５】

【００２１】従って、本発明の樹脂〔Ｂ〕は、Ｂブロッ
クのマクロモノマー重合体部分が無機光導電体粒子と吸
着し、逆にＡブロックは該粒子表面から離れて存在する
という状態を形成していると考えられる。この事によ
り、樹脂〔Ａ〕及び添加剤の吸着状態を疎外せず、且つ
該樹脂の高分子鎖が長いにも拘わらず、該光導電体粒子
と吸着するブロックと吸着しないブロックになっている
ことで、吸着しないブロックは該粒子間で吸着して、粒
子の凝集を生じることもない。更には、充分に長い鎖長
のＡブロック部分は、高分子鎖間で充分な絡み合いを形
成し易くなっていると推定される。

【００２２】以上の様な事から、本発明の結着樹脂を用
いることにより、環境条件が変動しても、良好で安定し
た複写画像再現性を示し、且つ、膜の機械的強度が飛躍
的に向上し、コスリ等の力に対しても耐久性を有し、い
わゆる圧力カブリの現象が著しく改善されたと考えられ
る。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素とし
て特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシアニン系
顔料で特に顕著な効果を示した。

【００２３】更には本発明において、樹脂〔Ａ〕とし
て、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）で示され
る、特定の置換基をもつメタクリレート成分と極性基成
分とを含有する樹脂〔Ａ〕（以降この樹脂を特に樹脂
〔Ａ′〕と称する）であることが好ましい。

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹ 及びＡ
² は互いに独立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化
水素基、ハロゲン原子、シアノ基、−ＣＯＲ¹⁴又は−Ｃ
ＯＯＲ¹⁴（Ｒ¹⁴は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す）
を表し、Ｂ¹ 及びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を
結合する単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表
す。〕

【００２７】上記特定の樹脂〔Ａ′〕を用いると樹脂
〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特にＶ₁₀、
Ｄ．Ｒ．Ｒ．、Ｅ_1/10）の向上とともに、実際の複写画
像再現性も、著しく良化できる。この事の理由は不明で
あるが、１つの理由として、メタクリレートのエステル
成分である、平面性のベンゼン環又はナフタレン環の効
果により、膜中の光導電体界面でのこれらのポリマー分
子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考えら
れる。

【００２８】一方、光導電体として光導電性酸化亜鉛を
用いた本発明の電子写真感光体を従来公知のダイレクト
刷版として用いた場合には優れた撮像性とともに著しく
良好な保水性を示す。即ち、電子写真プロセスを経て複
写画像を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂
化処理液により非画像部を化学処理により不感脂化し
て、印刷用原版とし、これをオフセット印刷により印刷
した時に優れた印刷用原版としての性能を示すものであ
る。

【００２９】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。これは、上記した酸
化亜鉛粒子が均一に分散されていること及び酸化亜鉛粒
子表面に存在する結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化
処理液との不感脂化反応が疎外されず迅速に且つ効果的
に進行することによるものと考えられる。

【００３０】以下に、本発明の結着樹脂について更に詳
しく説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明
する。樹脂〔Ａ〕は、上記一般式（Ｉ）で示される重合
体成分（イ）と特定の極性基含有の重合体成分（ロ）と
を少なくとも含有する高分子鎖を少なくとも３個同一有
機分子内に結合した、いわゆるスター型共重合体からな
る樹脂である。即ち、該重合体を模式的に示すと例えば
下記のように表される。

【００３１】

【化８】

【００３２】上記において、Ｘは有機分子を表し、〔Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ〕は高分子鎖を表す。ここで、有機分子に
結合した３個以上存在する高分子鎖は、それぞれ構造的
に同一であっても異なっていてもよく、それぞれ少なく
とも一般式（Ｉ）で示される重合体成分と極性基含有成
分とを含有していればよい。またそれぞれの高分子鎖の
長さも同じであっても異なっていてもよい。また、かか
る高分子鎖が有機分子中に含まれる上限は多くても１５
個、通常１０個程度である。

【００３３】樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０³
〜２×１０⁴ 、好ましくは３×１０³ 〜１×１０⁴ であ
り、樹脂〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−４０℃〜
１１０℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃である。樹
脂〔Ａ〕の分子量が１×１０³ より小さくなると、皮膜
形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一方分子量が２
×１０⁴ より大きくなると本発明の樹脂であっても、特
に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、
高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下での電子写真特
性（特に初期電位、暗電荷保持率及び光感度）の変動が
多少大きくなり、安定した複写画像が得られるという本
発明の効果が薄れてしまう。

【００３４】本発明の樹脂〔Ａ〕は、上記の様に枝分れ
したスター型共重合体となっているが、樹脂〔Ａ〕の高
分子鎖中に含有される極性基含有成分（ロ）の存在量
は、樹脂〔Ａ〕１００重量部中に１〜２０重量部である
ことが好ましく、より好ましくは２〜１５重量部であ
る。樹脂〔Ａ〕における極性基成分含有量が１重量％よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない。一方、該極性基成分含有量が２０重量％
よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低
下し更にオフセットマスターとして用いるときに地汚れ
が増大する。かかる特定の極性基を含有する重合体成分
は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。

【００３５】また、樹脂〔Ａ〕の高分子鎖中における一
般式（Ｉ）の繰り返し単位に相当する重合体成分の存在
割合は、樹脂〔Ａ〕１００重量部中３０重量部以上、好
ましくは３０重量部〜９９．５重量部、より好ましくは
５０重量部〜９８重量部である。本発明のスタ−型共重
合体（樹脂〔Ａ〕）の高分子鎖を構成する各重合体成分
は以下の特徴を有する。

【００３６】前記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位
を説明する。ａ¹ 及びａ² は各々水素原子、ハロゲン原
子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シア
ノ基又は炭化水素基（例えば炭素数１〜８の脂肪族基；
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ベンジル基等、炭素数６〜１２
の芳香族基；例えばフェニル基等）を表す。ａ¹ が水素
原子を表し、及びａ² がメチル基を表す場合が好まし
い。

【００３７】Ｒ¹¹は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に、Ｒ¹¹は好ま
しくは炭素数１〜１８の置換されていてもよい炭化水素
基を表わす。置換基としては、例えば、ハロゲン原子
（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、−ＯＺ
¹ 、−ＣＯＯＺ¹ 、−ＯＣＯＺ¹ （Ｚ¹ は炭素数１〜２
２のアルキル基を表わし、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等
である）等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−ク
ロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル
基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエ
チル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の
置換されてもよいアルケニル基（例えば２−メチル−１
−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、
３−メチル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１
−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−
ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよい
アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、
炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シ
クロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シ
クロぺンチルエチル基等）又は炭素数６〜１２の置換さ
れてもよい芳香族基（例えばフェニル基、ナフチル基、
トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフ
ェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカ
ルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等）等が挙げられる。

【００３８】Ｒ¹¹の示す炭化水素基において、Ｒ¹¹が脂
肪族基の場合には好ましくは炭素数１〜５の炭化水素基
を式（Ｉ）で表わされる成分中の６０重量％以上含有す
ることが好ましい。このような置換基Ｒ¹¹を有する成分
である一般式（Ｉ）の繰り返し単位において、より好ま
しくは前記一般式（Ｉａ）及び／又は一般式（Ｉｂ）で
示される繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。

【００３９】式（Ｉａ）において、好ましいＡ¹ 及びＡ
² として、互いに独立に各々水素原子、ハロゲン原子
（例えば、塩素原子、臭素原子等）及びシアノ基の外
に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好ましくは炭
素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラルキル基
（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロ
ピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基（例えば
フェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基）、並びに−ＣＯＯＲ¹⁴及び−ＣＯＲ¹⁴（好
ましいＲ¹⁴としては上記の炭素数１〜１０の好ましい炭
化水素基として記載したものを挙げることができる）を
挙げることができる。

【００４０】式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｂ¹ 及
びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ₂ ）_a −（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂
Ｏ）_b −（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ₂ ＣＨ
₂ Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、好
ましくは単結合又は連結原子数１〜２個の連結基を挙げ
ることができる。

【００４１】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（Ｉ
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の（ａ−１）〜（ａ−２０）
において、ｃは１〜４の整数、ｄは０又は１〜３の整
数、ｅは１〜３の整数、Ｒ²¹はいずれも−Ｃ_c Ｈ_2c+1又
は−（ＣＨ₂ ）_d −Ｃ₆ Ｈ₅ （ただし、ｃ、ｄは上記と
同じ内容を表す）を表し、Ｄ¹ 及びＤ² は同じでも異な
ってもよく、水素原子、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉのいずれ
かを表す。

【００４２】

【化９】

【００４３】

【化１０】

【００４４】高分子鎖中に含有される極性基含有成分に
ついて説明する。該極性基は、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ
₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ 基及び
環状酸無水物含有基のなかから選択される少なくとも１
種の極性基である。ここで、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ
¹ は、下記化１１で表わされる基を示し、ここにおいて
該Ｒ¹ は炭化水素基又は−ＯＲ² 基（Ｒ² は炭化水素基
を表す）を表し、具体的にはＲ¹ は炭素数１〜６の置換
されていてもよい炭化水素基（例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、２−クロロエチル基、２−
ブロムエチル基、２−フロロエチル基、３−クロロプロ
ピル基、３−メトキシプロピル基、２−メトキシブチル
基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシ
メチル基、エトキシメチル基、２−エトキシエチル基）
等であり、Ｒ² はＲ¹ と同一の内容を表す。

【００４５】

【化１１】

【００４６】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロぺンタン−
１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，
２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−
ジカルボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．
２〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これら
の環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、
メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキ
ル基等が置換されていてもよい。

【００４７】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。

【００４８】樹脂〔Ａ〕における極性基を含有する共重
合体成分は、例えば一般式（Ｉ）〔一般式（Ｉａ）、
（Ｉｂ）も含む〕で示される繰り返し単位に相当する単
量体と共重合し得る該極性基を含有するビニル系化合物
であればいずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分
子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館（１９８６
年刊）等に記載されている。具体的には、アクリル酸、
α及び／又はβ置換アクリル酸（例えばα−アセトキシ
体、α−アセトキシメチル体、α−（２−アミノ）メチ
ル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α
−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、
β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α，β−
ジクロロ体等）、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン
酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、
２−アルケニルカルボン酸類（例えば２−ペンテン酸、
２−メチル−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸、４−メ
チル−２−ヘキセン酸、４−エチル−２−オクテン酸
等）、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン
酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベン
ゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン
酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステ
ル誘導体及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエス
テル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有
する化合物等が挙げられる。

【００４９】以下に極性基含有の共重合体成分について
例示する。ここで、ｄ¹ は−Ｈ又は−ＣＨ₃ を示し、ｄ
² は−Ｈ、−ＣＨ₃ 又は−ＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ を示し、
Ｒ²²は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ²³は炭素数
１〜６のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示
し、ｆは１〜３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示
し、ｈは１〜１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示
し、ｊは２〜１０の整数を示す。

【００５０】

【化１２】

【００５１】

【化１３】

【００５２】

【化１４】

【００５３】

【化１５】

【００５４】

【化１６】

【００５５】

【化１７】

【００５６】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該高分子鎖中に２種以上含有されていてもよい。
該高分子鎖中には上記極性基含有成分及び式（Ｉ）で示
される成分以外の重合体成分を含有していてもよく、含
有され得る他の重合体成分としては、例えば下記一般式
（II）で示される成分が挙げられる。

【００５７】

【化１８】

【００５８】〔式（II）中、ｂ¹ 及びｂ² は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。
Ｖ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_m ＯＣＯ
−、−（ＣＨ₂ ）_m ＣＯＯ−（ｍは１〜３の整数を表
す）、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｔ¹ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｔ¹ ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす
（ここで、Ｔ¹ は水素原子又は炭化水素基を表す）。Ｒ
¹²は炭化水素基を表わす。但しＶ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表
わす場合、Ｒ¹²は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕

【００５９】ここで、Ｔ¹ は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数１〜１８の置換されてもよ
いアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デジル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シ
アノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−
メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数
４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２
−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペン
テニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−
メチル−２−ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換
されてもよいアラルキル基（例えば、べンジル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシべンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式
基（例えば、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエ
チル基、２−シクロペンチルエチル基等）又は炭素数６
〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等）があげられる。

【００６０】Ｒ¹²は、炭化水素基を表わす。但し、一般
式（II）中のＶ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、Ｒ¹²は
水素原子又は炭化水素基を表わす。好ましい炭化水素基
としては、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルキル
基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−ブ
ロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカル
ボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモプ
ロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいアル
ケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、２
−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２−ぺ
ンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキセニル基、２
−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基等）、
炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基（例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、クロロ
ベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エ
チルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジ
ル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８の置換
されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル基、２
−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺンチルエチル
基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよい芳香族基
（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリ
ル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチ
ルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙げられる。

【００６１】Ｖ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば、塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキ
シ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等）等が挙げられる。

【００６２】ｂ¹ 及びｂ² は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、炭素数１〜４
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）、−ＣＯＯＺ³ 又は炭化水素を介した
−ＣＯＯＺ³ （Ｚ³ は、水素原子又は炭素数１〜１８の
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基ま
たはアリール基を表わし、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、上記Ｔ¹ について説明したものと同様
の内容を表わす）を表わす。

【００６３】上記炭化水素を介した−ＣＯＯＺ³ におけ
る炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式（II）
において、Ｖ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ Ｏ
ＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−
ＳＯ₂ ＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わし、ｂ¹ 及びｂ²
は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−ＣＯＯＺ³ 又は−ＣＨ₂ ＣＯＯＺ³ ｛Ｚ³ は好ま
しくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等）を表わす｝を表わす。更により好ましくは、ｂ¹
及びｂ² においていずれか一方が水素原子を表わす。

【００６４】また、該高分子鎖中に、更に他の重合体成
分を含有することができ、該含有され得る他の重合体成
分として、該式（II）の重合体成分と共重合しうる他の
繰り返し単位に相当する単量体、例えば一般式（Ｉ）で
説明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加
え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸
エステル類（例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸
等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニル
エーテル類、イタコン酸エステル類（例えばジメチルエ
ステル、ジエチルエステル等）、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類（例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等）、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類（例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら
他の単量体は高分子鎖の全重合体成分１００重量部中２
０重量部を超えない範囲で用いられることが好ましい。

【００６５】一方、本発明に従う、高分子鎖を少なくと
も３個以上結合してなる有機分子としては、該分子の分
子量が１０００以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例を挙げれば、下記化１９等の３価の炭化水
素残基が挙げられる。

【００６６】

【化１９】

【００６７】〔ここで、ｒ¹ 〜ｒ⁴ はそれぞれ水素原子
又は炭化水素基を表す。但し、ｒ¹ 及びｒ² 、又はｒ³
及びｒ⁴ のうちの少なくとも１つは高分子鎖に連結す
る。〕これらの有機残基は、単独又はこれらの任意の組
合せの構成からなり、組合せの場合は、−Ｏ−、−Ｓ
−、−Ｎ（ｒ⁵ ）−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（ｒ⁵ ）
−、−ＳＯ₂ −、−ＳＯ₂ Ｎ（ｒ⁵ ）−｛ここでｒ⁵ は
それぞれ水素原子又は 炭化水素基を表す｝、−ＮＨＣ
ＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、酸素原子、イオウ原子、窒
素原子等のヘテロ原子含有の複素環（例えばチオフェン
環、ピリジン環、ピラン環、イミダゾール環、ベンゾイ
ミダゾール環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、
ピロール環、ピペラジン環等）等の結合単位の組合せを
含んでいてもよい。

【００６８】他の該高分子鎖を結合する有機分子の例と
しては、下記化２０又は化２１と上記結合単位との組合
せから構成されるものが挙げられる。しかしながら、本
発明に従う有機分子の具体例としては、これらに限定さ
れるものではない。

【００６９】

【化２０】

【００７０】

【化２１】

【００７１】本発明のスター型共重合体の樹脂〔Ａ〕
は、従来公知の極性基含有で且つ重合性二重結合基をも
つ単量体のスター型ポリマーの合成法を利用して合成す
ることができる。例えばその一つとしてカルバニオンを
開始剤とする重合反応が挙げられる。具体的には、Ｍ．
Ｍｏｒｔｏｎ、Ｔ．Ｅ．Ｈｅｌｍｉｎｉａｋ ｅｔ ａ
ｌ．、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．、５７、４７１（１９
６２）、Ｂ．ＧｏｒｄｏｎＩＩＩ、Ｍ．Ｂｌｕｍｅｎｔ
ｈａｌ、Ｊ．Ｅ．Ｌｏｆｔｕｓ、ｅｔ ａｌ．、Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｂｕｌｌ．、１１、３４９（１９８４）、Ｒ．
Ｂ．Ｂａｔｅｓ、Ｗ．Ａ．Ｂｅａｖｅｒｓ、ｅｔ ａ
ｌ．、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、４４、３８００（１９
７９）に記載の方法に従って合成できる。

【００７２】但し、本反応を用いる際には、本発明の
「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重合
させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の特
定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
（脱保護反応）については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、岩倉義男、栗田恵輔「反応
性高分子」（株）講談社刊（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇ
ｒｅｅｎｅ「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓｉｎ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．
Ｗ．ＭｃＯｍｉｃ 「ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐ
ｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」、Ｐ
ｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ（１９７３年）等の総説に詳細に
記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。

【００７３】他の方法としては、本発明の特定の極性基
を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント
基を含有する化合物及び／又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行「高分子」３
７、２４８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、
特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東
信行等、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐ
ａｎ、３６（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉｗ
ａ、Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔ ａｌ．、Ｊ．Ｍａｃｒ
ｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７
（１９８７）等に記載の合成方法に従って合成すること
ができる。

【００７４】本発明の樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量の調
整は、重合反応において従来公知の如く、重合に用いる
全単量体総量と各種重合開始剤量との使用割合あるいは
重合温度等によって容易に調整することができる。具体
的には、用いる単量体の種類及び開始剤の種類によって
任意に合成できるものである。

【００７５】次に本発明の樹脂〔Ｂ〕について説明す
る。樹脂〔Ｂ〕は、一般式（Ｉ）で示される重合体成分
を含有し且つ特定の極性基を含有しないＡブロックと特
定の極性基含有の重合体成分を含有する一官能性マクロ
モノマー（Ｍ）を共重合体成分として含有するＢブロッ
クとを含むＡＢ型あるいはＡＢＡ型ブロック共重合体か
ら成る樹脂である（該重合体のパターンは、前記模式図
に示す）。

【００７６】ここで、樹脂〔Ｂ〕がＡＢＡ型ブロック共
重合体である場合には、両端にあるＡブロックは各々構
造的に同じであっても異なっていてもよく、それぞれ少
なくともＢブロック中の極性基成分を含まず且つ一般式
（Ｉ）で示される重合体成分を含んでいればよい。また
それぞれの重合体鎖の長さも同じであっても異なってい
てもよい。

【００７７】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は３×１０⁴
〜１×１０⁶ 、好ましくは５×１０⁴ 〜５×１０⁵ であ
る。樹脂〔Ｂ〕の分子量が３×１０⁴ より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分
子量が１×１０⁶ より大きくなると本発明の樹脂〔Ｂ〕
の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子写
真特性になってしまう。

【００７８】該樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、−１０℃
〜１００℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
０℃〜９０℃である。本発明に供される一官能性マクロ
モノマー（Ｍ）は、Ｂブロック中において、全重合体中
１〜６０重量％であり、好ましくは５〜４０重量％であ
る。一官能性マクロモノマー（Ｍ）の含有量が１重量％
以下になると、Ｂブロックをグラフト構造にした効果が
薄れてしまい、電子写真特性及び保水性が劣化する。ま
た、６０重量％以上になると、他の共重合体成分との共
重合性が低下し好ましくなくなる。

【００７９】ブロック共重合体樹脂〔Ｂ〕における、特
定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体樹脂
〔Ｂ〕中全重合体総量１００重量部当り０．０５〜１０
重量部、好ましくは０．５〜８重量部の割合で含有され
る。樹脂〔Ｂ〕における該極性基含有成分量が０．０５
重量％より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができず、該極性基含有成分量が１０重量％
よりも多いと、光導電体粒子の分散性が低下し、高温高
湿での膜平滑度及び電子写真特性が低下し、更にオフセ
ットマスターとして用いるときに地汚れが増大するた
め、好ましくない。

【００８０】更に、樹脂〔Ｂ〕中に含有される特定の極
性基含有の重合体成分は、樹脂〔Ａ〕中に含有される特
定の極性基含有重合体成分の総量に対して１０重量％〜
５０重量％の範囲で用いられることが好ましい。該量が
１０重量％より少ないと、電子写真特性（特に暗電荷保
持率、光感度）の低下が著しく、膜の強度も低下する。
また、５０重量％を超えると、分散の均一化が不充分と
なり、電子写真特性が低下し、オフセット原版としては
保水性が低下する。

【００８１】次に、樹脂〔Ｂ〕におけるＡブロックの重
合体成分について説明する。Ａブロックの主たる重合体
成分は、一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位であり、
その含有量は、そのＡブロックにおける全重量中、好ま
しくは３０重量％〜１００重量％、より好ましくは５０
重量％〜１００重量％である。一般式（Ｉ）で示される
重合体成分の具体例は、樹脂〔Ａ〕で例示したと同様の
内容のものが挙げられる。

【００８２】また、樹脂〔Ｂ〕のＡブロックにおいて、
上記した重合体成分以外に他の共重合体成分を含有して
もよく、前記樹脂〔Ａ〕で説明した一般式（Ｉ）及び極
性基含有成分以外に含まれてもよい共重合体成分と同様
の内容のものが挙げられる。これら他の共重合体成分は
Ａブロックの全重合体成分１００重量部中３０重量部を
超えない範囲で用いられる。

【００８３】次に樹脂〔Ｂ〕におけるＢブロックの重合
体成分について説明する。Ｂブロックは、特定の極性基
含有の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくとも１種
含有し、又、他の重合体成分としては、該特定の極性基
含有の重合体成分を含有しないことを特徴とする。該一
官能性マクロモノマー（Ｍ）は、重量平均分子量１×１
０³ 〜２×１０⁴であり、好ましくは３×１０³ 〜１×
１０⁴ である。

【００８４】マクロモノマー（Ｍ）の重量平均分子量が
２×１０⁴ を超えると、他の単量体との共重合性が低下
するため好ましくない。他方、重量平均分子量が小さす
ぎると、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなる
ため、１×１０³ 以上であることが好ましい。該マクロ
モノマー（Ｍ）は、重合体主鎖の片末端に重合性二重結
合基を結合して成り、具体的には、一般式(III) で示さ
れる二重結合基が挙げられる。

【００８５】

【化２２】

【００８６】〔式(III) 中、ｂ³ 及びｂ⁴ は各々水素原
子、ハロゲン原子、トリフロロメチル基、シアノ基又は
炭化水素基を表わす。Ｖ² は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、
−（ＣＨ₂ ）_n ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_n ＣＯＯ−（ｎ
は１〜３の整数を表す）、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−Ｃ
Ｏ−、−ＣＯＮ（Ｔ² ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｔ² ）−、−
ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ
₄ −を表わす（ここで、Ｔ² は水素原子又は炭化水素基
を表す）。

【００８７】ここで、Ｔ² は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数１〜１８の置換されてもよ
いアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シ
アノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−
メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数
４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２
−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペ
ンテニル基、３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペン
テニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−
メチル−２−ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換
されてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式
基（例えば、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエ
チル基、２−シクロペンチルエチル基等）又は炭素数６
〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等）あげられる。

【００８８】Ｖ² が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等）等が挙げられる。

【００８９】ｂ³ 及びｂ⁴ は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子等）、トリフロロメチル基、シ
アノ基、炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等）、−ＣＯＯＺ⁴ 又
は炭化水素を介した−ＣＯＯＺ⁴ （Ｚ⁴ は、水素原子又
は炭素数１〜１８のアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、脂環式基またはアリール基を表わし、これらは
置換されていてもよく、具体的には、上記Ｔ²について
説明したものと同様の内容を表わす）を表わす。

【００９０】上記炭化水素を介した−ＣＯＯＺ⁴ におけ
る炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式(III)
において、Ｖ² は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ Ｏ
ＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−
ＳＯ₂ ＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わし、ｂ³ 及びｂ⁴
は互いに同じでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−ＣＯＯＺ⁴ 又は−ＣＨ₂ ＣＯＯＺ⁴ ｛Ｚ⁴ は好ま
しくは水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等）を表わす）を表わす。更により好ましくは、ｂ³
及びｂ² においていずれか一方が水素原子を表わす。

【００９１】本発明において供されるマクロモノマー
（Ｍ）は重合体主鎖の片末端に、一般式(III) で示され
る重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合（単結合又は二重
結合）、炭素−ヘテロ原子結合（ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子
等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意の組
合せで構成されるものである。

【００９２】任意の連結基を具体的に挙げるとすれば、
−Ｃ（ｅ¹ ）（ｅ² ）−〔ｅ¹ 、ｅ² は同じでも異なっ
てもよく、各々水素原子、ハロゲン原子（塩素原子、臭
素原子等）、ＯＨ基、シアノ基、アルキル基、（メチル
基、エチル基、２−クロロエチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等）、アラ
ルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、フェニル基
等を表す〕、−〔Ｃ（ｅ³ ）＝Ｃ（ｅ⁴ ）〕−〔ｅ³ 、
ｅ⁴ はｅ¹ 、ｅ² と同一の内容を表す〕、−Ｃ₆ Ｈ
₁₀−、−Ｃ₆ Ｈ₄ −、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ｅ⁵ ）−
〔ｅ⁵ は、水素原子又は炭化水素基を表す（炭化水素基
として具体的には炭素数１〜１２の炭化水素基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、２−メトキシ
エチル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、
ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニ
ル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル
基、ブチルフェニル基等）が挙げられる）〕、−ＣＯ
−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨ
ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮ（ｅ⁵ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（ｅ⁵ ）
−、−ＳＯ₂ −、−ＮＨＳＯ₂ −、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−、複素環（ヘテロ原子とし
て、Ｏ、Ｓ、Ｎ等を少なくとも１種含有する５〜６員環
又はこれらの縮合環であればいずれでもよい：例えばチ
オフェン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾール環、
ピペリジン環、モルホリン環等が挙げられる）又は−Ｓ
ｉ（ｅ⁶ ）（ｅ⁷）−（ｅ⁶ 、ｅ⁷ は同じでも異なって
もよく、炭化水素基又は−Ｏｅ⁸ （ｅ⁸ は炭化水素基を
表す）を表す。これらの炭化水素基としては、ｅ⁵ で挙
げたものと同一のものを挙げることができる）等の連結
基の単独又は、これらの組合わせにより構成された連結
基等が挙げられる。

【００９３】該マクロモノマー（Ｍ）の重合体成分とし
ては、特定の極性基を含有する重合体成分を少なくとも
１種含有する。これら極性基含有重合体成分の具体的内
容については、樹脂〔Ａ〕で例示した重合体成分と同様
のものが挙げられる。又該極性基含有の重合体成分とと
もに含有される他の共重合体成分としては、前記一般式
（Ｉ）で示す重合体成分が挙げられ、マクロモノマー
（Ｍ）の全重合体成分１００重量部中３０〜９９．５重
量％であり、好ましくは５０〜９９重量％である。

【００９４】更には、その他の重合体成分を含有しても
よく、上記極性基含有重合体成分及び一般式（Ｉ）で示
される重合体成分に各々相当する単量体と共重合する単
量体に相当する重合体成分であればいずれでもよい。こ
れらその他の重合体成分は、好ましくは３０重量％以下
であり、より好ましくは２０重量％以下である。これら
他の重合体成分としては、前記樹脂〔Ａ〕で例示した、
一般式（Ｉ）及び極性基含有成分以外に含有してもよい
共重合体成分と同様のものが挙げられる。

【００９５】又、該特定の極性基を含有する重合体成分
は、マクロモノマー（Ｍ）の重合体主鎖中において、ラ
ンダム共重合又はＡＢ型ブロック共重合のいずれの態様
で含有されてもよい。

【００９６】但し、ブロック共重合で含有される場合に
は、重合性二重結合基の結合したと反対側のブロックに
極性基含有重合体成分が含まれる。更には、極性基含有
成分を含むブロックにおいて、他の重合体成分を含有し
てもよく、具体的には、前記した樹脂〔Ｂ〕のＢブロッ
クの極性基含有重合体成分以外に含まれてもよい他の重
合体成分のいずれでもよい。

【００９７】本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、従来公
知の合成方法によって製造することができる。例えば、
該特定の極性基を含有する重合体成分に相当する単量体
において、極性基を予め保護した官能基としておき、有
機金属化合物（例えばアルキルリチウム類、リチウムジ
イソピルアミド類、アルキルマグネシウムハライド類
等）あるいはヨウ化水素／ヨウ素系等によるイオン重合
反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応、
あるいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビ
ング重合反応で共重合体を合成した後、このリビングポ
リマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合
基を導入する。

【００９８】この後、極性基を保護した官能基を加水分
解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解
反応等によって脱保護反応を行ない、極性基を形成させ
る方法が挙げられる。その１つの例を下記の反応スキー
ム（１）に示した。

【００９９】

【化２３】

【０１００】例えば、Ｐ．Ｌｕｔｚ、Ｐ．Ｍａｓｓｏｎ
ｅｔ ａｌ．、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．、１２、７９
（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ、Ｇ．Ｄ．Ａ
ｎｄｒｅｗｓ ｅｔ ａｌ．、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕ
ｌｅｓ、１４、１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａｔａｄ
ａ、Ｋ．Ｕｔｅ ｅｔ ａｌ．、Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１
７、９７７（１９８５）、１８、１０３７（１９８
６）、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６
（１９８７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４
６、１８９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ、Ｔ．Ａｉ
ｄａ、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０９、４７３７
（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４
３、３００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ、Ｗ．
Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒ ｅｔａｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃ
ｕｌｅｓ、２０、１４７３（１９８７）等に記載の合成
方法に従って容易にリビングポリマーを合成することが
できる。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結
合基を導入する方法としては、従来公知のマクロモノマ
ー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーと
することができる。

【０１０１】具体的には、Ｐ．Ｄｒｅｙｆｕｓｓ ａｎ
ｄ Ｒ．Ｐ．Ｑｕｉｒｋ，Ｅｎｃｙｃｌ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、７，５５１（１９８７）、Ｐ．Ｆ．
Ｒｅｍｐｐ，Ｅ．Ｆｒａｎｔａ，Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．、５８，１（１９８４）、Ｖ．Ｐｅｒｃｅｃ、
Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．、２８５，９５（１９
８４）、Ｒ．Ａｓａｍｉ、Ｍ．Ｔａｋａｒｉ、Ｍａｋｒ
ａｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、１２，１６３（１
９８５）、Ｐ．Ｒｅｍｐｐ ｅｔ ａｌ．、Ｍａｋｒａ
ｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｕｐｐｌ．、８、３（１９８
４）、川上雄資，化学工業、３８、５６（１９８７）、
山下雄也、高分子、３１、９８８（１９８２）、小林四
郎、高分子、３０、６２５（１９８１）、東村敏延，日
本接着協会誌１８、５３６（１９８２）、伊藤浩一、高
分子加工、３５、２６２（１９８６）、東貴四郎、津田
隆、機能材料、１９８７、Ｎｏ．１０、５等の総説及び
それに引例の文献、特許等に記載の方法に従って合成す
ることができる。

【０１０２】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば、前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔「反応性高分子」（株）講談社
刊（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、「Ｐｒｏｔ
ｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ」Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ
Ｓｏｎｓ（１９８１）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ、
「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅ
ｓｓ（１９７３）等の総説に詳細に記載されている方法
を適宜選択して行なうことができる。

【０１０３】他の合成法としては、ジシオカーバメイト
化合物を開始剤とした光イニファーター重合法によって
合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、３
７、２４８（１９８８年）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７、３５０８（１９８８
年）、特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９
号等に記載の合成方法に従って合成され、これを上記し
たマクロモノマー合成法を利用して本発明のマクロモノ
マーを得ることができる。

【０１０４】より具体的な、本発明のマクロモノマーの
合成法としては、米国特許５５５０１７号、同６３８９
２２号等の明細書中により具体的に記載されている。本
発明の樹脂〔Ｂ〕において、Ａブロック／Ｂブロック比
は５０〜９９／５０〜１（重量比）で、好ましくは６０
〜９５／４０〜５（重量比）である。光導電層中に供さ
れる本発明の樹脂〔Ｂ〕としては、ＡＢ型またはＡＢＡ
型共重合体を各々いずれか一種含まれても良いし、ＡＢ
型及びＡＢＡ型共重合体を両方含まれても良い。

【０１０５】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量％を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。

【０１０６】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。

【０１０７】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ．、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。

【０１０８】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。結着樹脂の総
量比が１０重量部以下となると、光導電層の膜強度が維
持できなくなる。又１００重量部以上になると、静電特
性が低下し、実際の撮像性においても複写画像の悪化を
生じてしまう。

【０１０９】本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割
合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜
０．８／０．９５〜０．２０であることが好ましく、よ
り好ましくは０．１０〜０．５０／０．９０〜０．５０
である。本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割合に
おいて樹脂〔Ａ〕の重量比が０．０５以下になると、静
電特性向上の効果が薄れてしまう。一方０．８以上にな
ると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる場合（特
に電子写真式平版印刷用原版として）が生じる。

【０１１０】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等を併用してもよい。本発
明に使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種
の色素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視，
武井英彦、イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１２
頁、Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒｅｖｉｅｗ １
５，４６９（１０５４）、清田航平等、電気通信学会論
文誌Ｊ６３−Ｃ（Ｎｏ．２）、９７（１９８０）、原崎
勇次等、工業科学雑誌６６、７８及び１８８（１９６
３）、谷忠昭、日本写真学会誌３５、２０８（１９７
２）等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメ
タン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素（例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、シチリル色素等）、フタロシアニン色素
（金属を含有してもよい）等が挙げられる。

【０１１１】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。

【０１１２】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｍｅｒ 「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅＤｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄ」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１
０，５９１号、同３，１２１，００８号、同３，１２
５，４４７号、同３，１２８，１７９号、同３，１３
２，９４２号、同３，６２２，３１７各、英国特許第
１，２２６，８９２号、同１，３０９，２７４号、同
１，４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、同５
５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。

【０１１３】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１
２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第４章〜第６章：日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。

【０１１４】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μｍ、特に１０〜５０μｍが好適である。また、電
荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層とし
て光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは０．０
１〜１μｍ、特に０．０５〜０．５μｍが好適である。

【０１１５】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。後者の場合、絶縁層の厚さは、５
〜７０μｍ、特には、１０〜５０μｍに設定される。

【０１１６】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては５〜４０μｍ、特には１０〜３０μ
ｍが好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用
いる樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹
脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル
樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニルー
酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜
用いられる。

【０１１７】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。

【０１１８】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．１）
第２〜１１頁（１９７５）、森賀弘之「入門特殊紙の化
学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏｖｅ
ｒ，Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ−４
（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等に記
載されているもの等を用いる。

【０１１９】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。

【０１２０】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる（例えば、滝
沢九郎「写真工業」３３、３４（１９７５年）、安西正
保「電子通信学会技術研究報告」７７、１７（１９７７
年）等に記載の方法）。

【０１２１】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。

【０１２２】

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 メチルメタクリレート６６ｇ、メチルアクリレート３０
ｇ、アクリル酸４ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ−１〕２
８ｇ及びテトラヒドロフラン１５０ｇの混合溶液を窒素
気流下に温度５０℃に加温した。

【０１２３】

【化２４】

【０１２４】この溶液に４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃ
ｍの距離からガラスフィルターを通して１０時間光照射
し光重合した。得られた反応物をメタノール１リットル
中に再沈し、沈殿物を補集し乾燥して、収量７２ｇで重
量平均分子量（Ｍｗ：樹脂〔Ａ〕にいうＭｗはポリスチ
レン換算によるＧＰＣ法による値）８×１０³ の重合体
を得た。

【０１２５】

【化２５】

【０１２６】樹脂〔Ａ〕の合成例２：〔Ａ−２〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１において、開始剤〔Ｉ−１〕２８
ｇの代わりに、下記構造の開始剤〔Ｉ−２〕３６．３ｇ
を用いた他は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操
作した。得られた重合体の収量は７５ｇでＭｗ７．５×
１０³ であった。

【０１２７】

【化２６】

【０１２８】

【化２７】

【０１２９】樹脂〔Ａ〕の合成例３〜９：〔Ａ−３〕〜
〔Ａ−９〕 ２−クロロフェニルメタクリレート９５ｇ、メタクリル
酸５ｇ、下記表−Ａの開始剤０．１０モル及びテトラヒ
ドロフラン１００ｇの混合溶液とした他は、樹脂〔Ａ〕
の合成例１と同様の条件で操作し、各重合体を得た。得
られた各重合体のＭｗは６×１０³ 〜８×１０³ の範囲
であった。

【０１３０】

【表１】

【０１３１】

【表２】

【０１３２】

【表３】

【０１３３】樹脂〔Ａ〕の合成例１０〜２５：〔Ａ−１
０〕〜〔Ａ−２５〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、表
−Ｂに記載の重合体成分に相当する各単量体を用いた他
は、樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の条件で操作して各重
合体を得た。得られた各重合体のＭｗは６×１０³ 〜９
×１０³ の範囲であった。

【０１３４】

【表４】

【０１３５】

【表５】

【０１３６】

【表６】

【０１３７】樹脂〔Ａ〕の合成例２６〜３０：〔Ａ−２
６〕〜〔Ａ−３０〕 前記開始剤〔Ｉ−２〕３３．９ｇ、及び下記表−Ｃに示
される各重合体成分に相当する単量体の混合物を、窒素
気流下、温度４０℃に加温した。以下の操作を合成例１
と同様にして、光照射し、重合させた後、固形分を取り
出し、テトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解した後、メ
タノール１．５リットル中に再沈し、沈殿物を濾集・乾
燥した。各重合体の収量は６０〜７５ｇでＭｗ６×１０
³ 〜８×１０³ の範囲であった。

【０１３８】

【表７】

【０１３９】

【表８】

【０１４０】〔樹脂〔Ｂ〕の合成〕 〔マクロモノマーの合成〕 マクロモノマー（Ｍ）の合成例１：（ＭＭ−１） トリフェニルメチルメタクリレート１０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム０．
０2 ｇを加え１０時間反応した。更にこの混合溶液に、
エチルメタクリレート９０ｇ及びトルエン１００ｇの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に１
０時間反応した。この混合物を０℃にした後、炭酸ガス
を毎分６０ｍｌの流量で３０分間通気し、重合反応を停
止させた。得られた反応液を、攪拌下に、温度２５℃と
し、２−ヒドロキシエチルメタクリレート６ｇを加え、
更に、ジシクロヘキシルカルボジイミド１０ｇ、４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ及び塩化メチ
レン３０ｇの混合溶液を３０分間で滴下し、そのまま３
時間攪拌した。

【０１４１】析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に
３０重量％塩化水素・エタノール溶液１０ｍｌを加え１
時間攪拌した。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル１リットル
中に再沈した。沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた
重合体は、Ｍｗ６．５×１０³ で収量５６ｇであった。

【０１４２】

【化２８】

【０１４３】マクロモノマー（Ｍ）の合成例２：（ＭＭ
−２） ベンジルメタクリレート５ｇ、（テトラフェニルポルフ
ィナート）アルミニウムメチル０．０１ｇ及び塩化メチ
レン６０ｇの混合溶液を窒素気流下に温度３０℃とし
た。これに３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィル
ターを通して２５ｃｍの距離から光照射し、１８時間反
応した。この混合物に更にブチルメタクリレート４５ｇ
を加え、同様に２０時間光照射した後、この反応混合物
に２−ブロモエチルメタクリレート８ｇを加え３分間攪
拌し反応を停止させた。

【０１４４】次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温
度２５℃で１時間接触還元反応を行なった。不溶物を濾
別した後、石油エーテル５００ｍｌ中に再沈し、沈澱物
を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量３３ｇでＭｗ
７×１０³ であった。

【０１４５】

【化２９】

【０１４６】マクロモノマー（Ｍ）の合成例３：（ＭＭ
−３） メチルメタクリレート６０ｇ、メチルアクリレート２０
ｇ、ベンジル−Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−エチルジチ
オカーバメート６．３ｇ及びテトラヒドロフラン８０ｇ
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度６０℃に
加温した。これに４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃｍの距
離からガラスフィルターを通して１０時間光照射し光重
合した。これにアクリル酸１０ｇ、メチルメタクリレー
ト１０ｇ及びテトラヒドロフラン４０ｇを加えた後、窒
素置換し再び１０時間光照射した。

【０１４７】得られた反応混合物に、２−イソシアナー
トエチルメタクリレート６ｇ及びテトラブトキシチタネ
ート０．０１ｇを温度３０℃で１時間で滴下し更に４時
間攪拌した。得られた反応物をヘキサン１．５リットル
中に再沈し、捕集し乾燥した。得られた重合体は、６８
ｇでＭｗ８．０×１０³ であった。

【０１４８】

【化３０】

【０１４９】マクロモノマー（Ｍ）の合成例４：（ＭＭ
−４） メチルメタクリレート６６．５ｇ、メチルアクリレート
２８．５ｇ、トリメチルシリルメタクリレート６．８
ｇ、チオグリコール酸２．５ｇ及びテトラヒドロフラン
２００ｇの混合溶液を、窒素気流下に温度７５℃とし
た。これに２，２′−アゾビスイソブチロニトリル（略
号Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ）０．８ｇを加え４時間反応し、更に
Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．０．３ｇを加えて４時間反応した。温
度２５℃に冷却後、この反応混合物に２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート７．０ｇを加え、ジシクロヘキシル
カルボジイミド（略号Ｄ．Ｃ．Ｃ．）１０．０ｇ、４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ及び塩化メチ
レン２０ｇの混合溶液を攪拌下に１時間で滴下し、その
まま更に、４時間反応した。

【０１５０】次にこの反応物に８５％ギ酸水溶液１０ｇ
を加え、２時間攪拌した後、析出物を吸引濾過により濾
別した。濾液をメタノール１リットル中に再沈し、デカ
ンテーションで沈澱物を補集した。この沈澱物を、トル
エン３００ｇに溶解し、不溶物を濾別後、濾液を、ｎ−
ヘキサン／エタノール（３／１）比溶液１リットル中に
再び再沈し、沈澱物を補集した。減圧乾燥して得られた
重合体は、７×１０³ で収量５８ｇであった。

【０１５１】

【化３１】

【０１５２】マクロモノマー（Ｍ）の合成例５：（ＭＭ
−５） エチルメタクリレート９６ｇ、３−スルホプロピルメタ
クリレート４ｇ、２−メルカプトエタノール３ｇ、テト
ラヒドロフラン１５０ｇ及びメタノール５０ｇの混合溶
液を窒素気流下に攪拌しながら温度６５℃に加熱した。
これに２，２′−アゾビスイソバレロニトリル（略号
Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ）０．８ｇを加え４時間反応し、更に
Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．０．５ｇを加えて４時間反応した。冷
却後、メタノール１リットル中に再沈した。沈澱物を補
集し減圧乾燥した後、重合体６３ｇを得た。

【０１５３】この重合体５０ｇをテトラヒドロフラン１
００ｇに溶解し、アクリル酸５．５ｇを加え、攪拌下温
度２５℃とした。Ｄ．Ｃ．Ｃ．１５．９ｇ、４−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン０．６ｇ及び塩化メチレ
ン２０ｇの混合溶液を１時間で滴下し、そのまま更に３
時間攪拌した。８５％ギ酸水溶液８ｇを加えて、１時間
攪拌した後、不溶物を吸引濾過にて濾別した。

【０１５４】濾液をヘキサン／エタノール（３／１）溶
液７００ｍｌに再沈し、沈澱物を補集後、減圧乾燥して
得られた重合体は、６×１０³ であった。

【０１５５】

【化３２】

【０１５６】樹脂〔Ｂ〕の合成例１：〔Ｂ−１〕 メチルメタクリレート５４ｇ、メチルアクリレート２６
ｇ、ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメイト
１．７ｇ及びテトラヒドロフラン８０ｇの混合溶液を、
窒素気流下に容器に密閉し、温度５０℃に加温した。こ
れに４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃｍの距離からガラス
フィルターを通して８時間光照射し光重合した。これ
に、メチルアクリレート１０ｇ、マクロモノマー（ＭＭ
−１）１０ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｇを加えた
後、窒素置換し、再び１８時間光照射した。

【０１５７】この反応物を、メタノール１リットル中に
再沈し沈澱物を濾集し減圧乾燥して、Ｍｗ８．５×１０
⁴ の重合体７５ｇを得た。

【０１５８】

【化３３】

【０１５９】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕 メチルメタクリレート７５ｇ、マクロモノマー（ＭＭ−
２）２５ｇ、下記構造の開始剤〔II−１〕５．４ｇ及び
テトラヒドロフラン１０５．４ｇの混合溶液を、窒素気
流下に容器に密閉した。温度５０℃で、合成例１と同様
の光重合反応条件下で１２時間光重合した。

【０１６０】

【化３４】

【０１６１】上記重合体２０ｇ（固形分量１０ｇ）、メ
チルメタノール５８ｇ、メチルアクリレート１９．５
ｇ、Ｎ−ビニルピロリドン２．５ｇ及びテトラヒドロフ
ラン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に容器に密閉し
た。温度５０℃にて、上記光重合反応条件で１０時間光
重合した。次にメタノール、１リットル中に再沈し、沈
澱物を濾集し、減圧乾燥して、Ｍｗ１．２×１０⁵ の重
合体を８０ｇ得た。

【０１６２】

【化３５】

【０１６３】樹脂〔Ｂ〕の合成例３：〔Ｂ−３〕 メチルメタクリレート７０ｇ、マクロモノマー（ＭＭ−
３）３０ｇ、下記構造の開始剤〔II−２〕４．３ｇ及び
テトラヒドロフラン１０４．３ｇの混合溶液を〔Ｂ−
２〕の合成例と同じ条件で、光重合した。

【０１６４】

【化３６】

【０１６５】上記重合体１０ｇ（固形分量５ｇ）、メチ
ルメタノール６０．３ｇ、メチルアクリレート２９．７
ｇ、及びテトラヒドロフラン１００ｇの混合溶液を、上
記〔Ｂ−２〕の合成例と同様にして、更に光重合した。
次にメタノール１リットル中に再沈し、沈澱物を濾集
し、減圧乾燥して、Ｍｗ１×１０⁵ の重合体を７６ｇ得
た。

【０１６６】

【化３７】

【０１６７】樹脂〔Ｂ〕の合成例４：〔Ｂ−４〕 メチルメタクリレート６７ｇ、ブチルメタクリレート３
３ｇ、ベンジル−Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメイト
０．８ｇ及びテトラヒドロフラン１００ｇの混合溶液を
〔Ｂ−１〕の合成例と同様の条件で光重合した。この重
合体溶液に、エチルメタクリレート２４ｇ、マクロモノ
マー（ＭＭ−５）６ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｇの
混合溶液を混合した後、上記と同条件で更に光重合し
た。

【０１６８】この重合体溶液に、メチルメタクリレート
４２ｇ、エチルアクリレート１８ｇ及びテトラヒドロフ
ラン６０ｇの混合溶液を混合した後、更に上記と同条件
で光重合した。得られた反応物を、メタノール１リット
ル中に再沈し、沈澱物を補集・乾燥してＭｗ１．１×１
０⁵ の重合体１５２ｇを得た。

【０１６９】

【化３８】

【０１７０】樹脂〔Ｂ〕の合成例５〜１１：〔Ｂ−５〕
〜〔Ｂ−１１〕 〔Ｂ−１〕の合成例と同様の方法で、下記表−Ｄの各重
合体を合成した。得られた重合体のＭｗは８×１０⁴ 〜
１×１０⁵ の範囲であった。

【０１７１】

【表９】

【０１７２】

【表１０】

【０１７３】樹脂〔Ｂ〕の合成例１２〜３６：〔Ｂ−１
２〕〜〔Ｂ−３６〕 〔Ｂ−３〕の合成例と同様にして、下記表−Ｅ及び表−
Ｆの樹脂〔Ｂ〕を合成した。各樹脂〔Ｂ〕のＭｗは９×
１０⁴ 〜２×１０⁵ の範囲であった。

【０１７４】

【表１１】

【０１７５】

【表１２】

【０１７６】

【表１３】

【０１７７】

【表１４】

【０１７８】

【表１５】

【０１７９】

【表１６】

【０１８０】

【表１７】

【０１８１】

【表１８】

【０１８２】実施例１並びに比較例１及び比較例２ 樹脂〔Ａ−１２〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造の色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、無水フタル
酸０．１５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモジナ
イザー（日本精機（株）製）中、回転数７×１０³ ｒｐ
ｍで５分間分散して、感光層形成物を調製し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が２５ｇ／ｍ² となる様に
ワイヤーバーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾燥し、つ
いで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２４時間放置
することにより、電子写真感光材料を作製した。

【０１８３】

【化３９】

【０１８４】比較例１ 実施例１において、樹脂〔Ｂ−２〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−１〕３４ｇを用いた他は、実施例１
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１８５】

【化４０】

【０１８６】比較例２ 実施例１において、樹脂〔Ｂ−２〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−２〕とした他は、実施例１と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１８７】

【化４１】

【０１８８】これらの感光材料について、光導電層の平
滑性、耐コスレ性、印刷性並びに環境条件（２０℃、６
５％ＲＨ）、（３０℃、８０％ＲＨ）及び（１５℃、３
０％ＲＨ）とした時の撮像性を調べた。以上の結果を表
−Ｇに示す。

【０１８９】

【表１９】

【０１９０】表−Ｇに記した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注１） 表面層の平滑性： 感光材料は、ベック平滑度試験機（熊谷理工（株）製）
を用い、空気容量１ｃｃの条件にて、その平滑度（ｓｅ
ｃ／ｃｃ）を測定した。 注２） 撮像性： 感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、感光材
料を−６ｋＶで帯電し、光源として２．８ｍＷ出力のガ
リウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長
７８０ｎｍ）を用いて、感光材料表面上で６４ｅｒｇ／
ｃｍ² の照射量下、ピッチ２５μｍ及びスキャニング速
度３００ｍ／ｓｅｃのスピード露光後液体現像剤とし
て、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フィルム（株）製）を用いて
現像し、イソパラフィンアイソパーＧ（エッソ化学
（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定着することで得ら
れた複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。

【０１９１】撮像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨ
（Ｉ）、３０℃８０％ＲＨ（ＩＩ）及び１５℃３０％Ｒ
Ｈ（ＩＩＩ）で実施した。

【０１９２】注３） 耐コスレ性 感光材料の表面上に、同じ感光材料を裏面と重なる様に
して置き、更にその上に重量７５ｇの分銅を置いて、上
の感光層を、ゆっくり水平方向に引く、その後光導電層
がコスられた感材を用いて注２）と同様の操作で製版
（即ち、複写画像の形成）を行ない、分銅でコスられた
部分の画像及び非画像部の画像を目視評価した。

【０１９３】撮像時の環境条件は（２０℃６５％ＲＨ）
（Ｉ）で行なった。

【０１９４】注４） 印刷性 注３）と同様にして、感光体表面にコスレ操作を行なっ
た後、前記注２）の撮像性と同条件にして製版して、ト
ナー画像を形成した後、ＥＬＰ−ＥＸを用いてエッチン
グプロセッサーに２回通して不感脂化処理し、これをオ
フセット平版印刷用原版として、オフセット印刷機（桜
井製作所（株）製オリバー５２型）にかけ、印刷物の非
画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印
刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い程、印刷性が良好
なことを表わす）。

【０１９５】表−Ｇに示す様に、本発明の感光材料は、
環境条件が変動しても静電特性が良好で、実際の複写画
像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。一方、比
較例１及び２は、環境条件が変動すると、高精細な複写
画像である複写原稿の連続階調部分に、中間濃度でのム
ラの発生を生じた。又、光導電層表面に荷重をかけての
コスリテストでは、本発明の感材は、コスリの有無にか
かわらず、良好な画像を示した。しかし、比較例１及び
２の感材は、コスリテストをしたものではコスられた部
分の画像部はカスレが、又非画像部は地汚れが各々著し
く発生し実用に供しえない複写画像のものとなってしま
った。

【０１９６】更に、これらの製版後の感材を不感脂化処
理して、オフセット平版印刷用原版として印刷機で印刷
してみた所、本発明の印刷版は、鮮明な画像で地汚れの
ない印刷物が１万枚得られた。他方、比較例１及び２
は、画像部のカスレがそのまま印刷物の画像に現われ且
つ、非画像部の汚れも、不感脂化処理しても除去され
ず、印刷物の非画像部の地汚れとして、刷り出しから発
生してしまった。

【０１９７】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ、耐コスレに優れた撮像性（特に高精細な画
像）を設定する電子写真感光体が得られ、特に半導体レ
ーザー光スキャンニング露光方式の感光体システムに優
位になること及び、電子写真式平版印刷原版として用い
ても、極めて良好な印刷版の性能を示すことが明らかと
なった。 実施例２及び実施例３ 樹脂〔Ａ−３０〕５ｇ（固形分量として）（実施例２）
又は樹脂〔Ａ−１〕５ｇ（固形分量として）（実施例
３）、樹脂〔Ｂ−３〕３５ｇ（固形分量として）、光導
電性酸化亜鉛２００ｇ、下記構造の色素〔ＩＩ〕０．０
２０ｇ、Ｎ−ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及び
トルエン３００ｇの混合物を、実施例１と同様に操作し
て、電子写真感光材料を作製した。

【０１９８】

【化４２】

【０１９９】各感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、耐
コスレ性、印刷性及び環境条件を２０℃、６５％ＲＨ、
３０℃、８０％ＲＨ及び１５℃、３０％ＲＨとした時の
撮像性を実施例１と同様にして調べた。更に、電子写真
式平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。そ
の結果を表−Ｈに示す。

【０２００】

【表２０】

【０２０１】各感光材料とも、実施例１と同様に各性能
を調べた所、いずれの性能とも良好であった。特に、特
定の置換基を含有する樹脂〔Ａ〕を用いた実施例２は、
より優れた撮像性を示した。 実施例４〜６ 実施例１において用いた色素〔Ｉ〕の代わりに下記表−
Ｉの色素に代えた他は実施例１と同様の条件で電子写真
感光体材料を作製した。

【０２０２】

【表２１】

【０２０３】本発明の各感光材料は、いずれの複写画像
も高温・高湿（３０℃、８０％ＲＨ）及び低温低湿（１
５℃、３０％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリ
の発生のない、鮮明な画像を与えた。又耐コスレ性も、
極めて良好で、更にオフセット印刷版として印刷した
所、１万枚印刷しても、良好な印刷物を得ることができ
た。 実施例７〜２６ 実施例１において、樹脂〔Ａ−１２〕６ｇ及び樹脂〔Ｂ
−２〕３４ｇの代わりに、下記表−Ｊの各樹脂〔Ａ〕４
ｇ及び各樹脂〔Ｂ〕３６ｇを各々用いた他は実施例１と
同様にして各感光材料を作成した。

【０２０４】

【表２２】

【０２０５】各感光材料の撮像性を実施例１と同様にし
て測定した。いづれの感光材料も実際の撮像性は、細線
・文字の再現性良好で中間調のムラの発生もなく、地カ
ブリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。耐コ
スレ性も、極めて良好であった。また、オフセット平版
印刷用原版として用いて、実施例２と同様にして印刷し
たところ、いづれも少なくとも１万枚以上良好に印刷す
ることができた。

【０２０６】以上のことから、本発明の各感光材料は光
導電層の平滑性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての
点において良好なものであった。 実施例２７及び比較例３ 樹脂〔Ａ−１０〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−３４〕３５ｇ、光
導電性酸化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズ
ベンガル０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３
ｇ、無水フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混
合物を、ホモジナイザー中で回転数６×１０³ ｒｐｍで
６分間分散して感光層形成物を調整し、これを導電処理
した紙に、乾燥付着量が２５ｇ／ｍ² となる様にワイヤ
ーバーで塗布し、１１０℃で２０秒間乾燥した。次いで
暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２４時間放置する
ことにより、電子写真感光材料を作製した。 比較例３ 実施例２７において、樹脂〔Ｂ−３４〕の代わりに、前
記した樹脂〔Ｒ−２〕とした他は、実施例２７と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。

【０２０７】各感光材料の平滑性、撮像性、耐コスレ性
及び印刷性を実施例１と同様にして測定した。その結果
を表−Ｋに示した。

【０２０８】

【表２３】

【０２０９】表−Ｋ中、撮像性及び耐コスレ性は、下記
の操作に従い、その他は実施例１と同様に行なった。 注５） 撮像性： 感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自動
製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フィルム（株）製）
でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られた複
写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮像時
の環境条件は２０℃６５％ＲＨ（Ｉ）、３０℃８０％Ｒ
Ｈ（ＩＩ）及び１５℃３０％ＲＨ（ＩＩＩ）で実施し
た。但し、複写用の原稿（即ち、版下原稿）には、ほか
の原稿を切り抜いて、貼り込みを行なって作成したもの
を用いた。 注６） 耐コスレ性 注３）の耐コスレテストにおいて、撮像方法を注５）に
代えた他は、注３）と同様にして行なった。

【０２１０】本発明の感光材料及び比較例３ともに、光
導電層の平滑性は良好であった。実際の撮像性を調べて
見ると、比較例３は、複写画像として原稿以外に、切り
抜いて貼り込んだ部分の枠（即ち、貼り込み跡）が非画
像部の地汚れとして認められた。更に、撮像時の環境条
件が高温高湿（ＩＩ）、低温低湿（ＩＩＩ）下で複写画
像の連続階調部の中間調域にムラの発生、ベタ画像部の
白ヌケの微小のムラの発生等がみられた。しかし、本発
明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮明な画像のも
のが得られた。

【０２１１】耐コスレ性は、本発明のものは、極めて良
好であったが、比較例３は、コスられた所は、画像部分
では画像のカスレ、他方非画像部では地汚れが各々顕著
に認められた。更に、これらをオフセット平版印刷用原
版として不感脂化処理して印刷した所、本発明のものは
いずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が１万枚得ら
れた。しかし、比較例３は、上記の貼り込み跡が、不感
脂化処理でも除去されず、更に、コスられた部分の非画
像部の地汚れ・画像部のカスレが刷り出しの印刷物から
発生してしまった。

【０２１２】以上の事から、本発明の感光材料は、撮像
性、耐コスレ性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。 実施例２８〜５１ 実施例２７において、樹脂〔Ａ−１０〕５ｇ及び樹脂
〔Ｂ−３４〕３５ｇの代わりに、下記表−Ｌに記載の各
樹脂〔Ａ〕６ｇ及び樹脂〔Ｂ〕３４ｇを用いた他は、実
施例２７と同様にして各感光材料を作製した。

【０２１３】

【表２４】

【０２１４】本発明の各感光材料は、いずれも、撮像
性、耐コスレ性及び印刷性ともに実施例２７と同様に良
好な性能を示した。

【０２１５】

【発明の効果】本発明によれば、鮮明で良質な画像を有
し、更に優れた画像再現性、耐湿性及び耐面強度を有す
る電子写真感光体を得ることができる。特に、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式に有効である。
式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定のメタクリレー
ト成分を含有する繰り返し単位を本発明に用いることに
より、更に画像再現性が向上する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
   樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
   光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
   とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を各々含
   有して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、下記
   一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位からなる重合体成
   分（イ）と−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ
   基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は炭化水素基又は−
   ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を表す）基を表す〕基及び環
   状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の極性
   基を含有する重合体成分（ロ）とを少なくとも含有する
   ことから成る高分子鎖を有機分子中に少なくとも３個結
   合して成り、該重合体成分（イ）が３０重量％以上及び
   該重合体成分（ロ）が１〜２０重量％であるスター型共
   重合体。 【化１】 〔式（Ｉ）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原子、ハロゲン
   原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。Ｒ¹¹は炭化水
   素基を表わす。〕 樹脂〔Ｂ〕 ３×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、上記
   一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位から成る重合体成
   分を少なくとも含有するＡブロックと、該樹脂〔Ａ〕が
   含有する特定の極性基と同様の極性基から選ばれる少な
   くとも１種の極性基を含有する重合体成分を少なくとも
   １種含有する重合体主鎖の一方の末端のみに重合性二重
   結合基を結合して成る重量平均分子量１×１０³ 〜２×
   １０⁴ の一官能性マクロモノマー（Ｍ）を少なくとも１
   種含有するＢブロックとで構成されるＡＢ型及び／又は
   ＡＢＡ型ブロック共重合体。
2. 【請求項２】 上記樹脂〔Ａ〕が、一般式（Ｉ）で示さ
   れる重合体成分として下記一般式（Ｉａ）及び下記一般
   式（Ｉｂ）で示されるアリール基含有のメタクリレート
   成分のうちの少なくとも１つを含有することを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真感光体。 【化２】 【化３】 〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹ 及びＡ² は互いに独
   立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロ
   ゲン原子、シアノ基、−ＣＯＲ¹⁴又は−ＣＯＯＲ¹⁴（Ｒ
   ¹⁴は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ¹
   及びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結
   合又は連結原子数１〜４個の連結基を表す。〕
3. 【請求項３】 上記樹脂〔Ｂ〕において、全共重合体中
   に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
   記樹脂〔Ａ〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
   分の総量に対し１０重量％〜５０重量％であることを特
   徴とする請求項１又は２のいずれかに記載の電子写真感
   光体。