JPH0625108B2

JPH0625108B2 - Ｎ‐ピペリジル‐ラクタム及び有機材料の安定化方法

Info

Publication number: JPH0625108B2
Application number: JP59136439A
Authority: JP
Inventors: フランソアマルエルベロジエ
Original assignee: Ciba Geigy AG
Current assignee: Novartis AG
Priority date: 1983-06-30
Filing date: 1984-06-30
Publication date: 1994-04-06
Anticipated expiration: 2009-04-06
Also published as: CA1209135A; US4472547A; EP0130945B1; BR8403245A; JPS6036460A; DE3481058D1; EP0130945A2; EP0130945A3

Description

【発明の詳細な説明】本発明は分子中に、ラクタム基ならびに立体障害ピペリ
ジン基を含み、そして光及び熱安定剤として有用な化合
物及び該化合物を含有する安定化組成物に関する。

2,2,6,6-テトラアルキルピペリジン構造を有する立体障
害アミン化合物は有機材料のための有効な光安定剤とし
て以前から知られており、かくしてかなりの商業的意味
をもつている。

このような立体障害アミン光安定剤についてはピユア
アンドアプライドケミストリ（Pure and Applied Che
mistry）第３６巻第141-161頁（1973）にエツチ・ジ
エー・ヘラー（Ｈ・Ｊ・Heller）及びエツチ・アール・
ブラツトマン（Ｈ・Ｒ・Blattman）の一般的な記述があ
る。

米国特許第3,850,877号明細書及び第4,033,928号明細書
からは置換2,2,6,6-テトラメチルピペリジンのエステル
及びアミドがポリマー基質、特にポリオレフィン及びエ
ポキシ樹脂のための良い光安定剤であることが知られて
いる。

米国特許第4,309,546号明細書には次式：（式中、ｎは１ないし４を表わし、Ｒ₂はヒドロキシル
基、アルコキシ基、アミノ基または置換アミノ基を表わ
し、Ｘは直接結合または結合基を表わし、Pipは所望に
より置換された2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン−
４−イル基を表わす。）で表わされる置換Ｎ−ピペリジ
ン−４′−イル−２−ピロリドン−４−カルボン酸及び
その誘導体についての記載があり、これらの化合物も光
安定剤として使用できる。

本発明は上記の公知の構造に極めて近いが、さらによい
溶解性とより高い加水分解安定性とを有する化合物に関
するものである。従つて本発明は立体障害ピペリジン基
が４位においてラクタムと結合し、有機ポリマーのため
の光安定剤として使用することのできる化合物に関する
ものである。

本発明は次式ＩまたはII：（式中、ｎは0,1,2または３を表わし、ｇは１または２を表わ
し、ｈは１ないし４の整数を表わし、Ｒ¹は水素原子を意味し、ｇが１のときはＥは、Ｈ，Ｏ^・，ＯＨ，炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケ
ニル基、プロパルギル基、ベンジル基、ＣＮ、炭素原子
数２ないし４のヒドロキシアルキル基，またはベンゾイ
ルオキシ基を意味し、そしてｇが２のときはＥは炭素原
子数８ないし１５のフエニレンジアルキレン基を意味
し、Ｇは-CH₂-CH(R²)-O-または-CH₂-COO-で表わされる残基
を表わし、式中のメチレン基はピペリジン窒素原子と結
合し、式中の酸素原子はＱに結合し、そして式中のR²は
水素原子を意味し、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ^２）−Ｏ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱはは次式III：（式中、Ｒ³は炭素原子数１ないし８のアルキル基、そ
してＲ⁴は分岐した炭素原子数３ないし８のアルキル基
を意味する。）で表わされる基を意味し、ｈが２の場合には、炭素原子数３ないし１２のアルカン
ジカルボニル基を意味し、ｈが３の場合には炭素原子数６ないし１０のアルカント
リカルボニル基を意味し、そしてｈが４の場合には炭素原子数８ないし１２のアルカンテ
トラカルボニル基を意味し、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＯＯ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱは次式IV：で表わされる基を意味し、ｈが２の場合には炭素原子数２ないし１２のアルキレン
基、または次式Ｖ：で表わされる基を意味し、ｈが３の場合には炭素原子数３ないし８のアルカントリ
イル基を意味し、そしてｈが４の場合には炭素原子数４ないし１０のアルカンテ
トライル基を意味する。

本発明の化合物はまた少くとも１個のラクタム基を有し
ている。

これらのラクタム基においてｎが０のときはピロリドン
基を表わす。ｎが１のときはデルターバレロラクタム基
を表わし、ｎが２のときはイプシロン−カプロラクタム
基を表わし、そしてｎが３のときはツエータ−エナント
ラクタム基を表わす。ｎが２または３、特に２の化合物
が好ましい。

式Ｉにおいてｇが１のとき、Ｅは直鎖または分岐鎖の炭
素原子数１ないし１２のアルキル基、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、第二−ブチル基、ｎ−アミル基、イソアミル基、ｎ
−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル
基、ｎ−デシル基またはｎ−ドデシル基を表わし、特に
炭素原子数２ないし４のアルキル基を表わす。炭素原子
数３ないし８のアルケニル基としてのＥは、例えばアリ
ル基、メタリル基、２−ブテニル（クロチル）基、ヘキ
セニル基またはオクテニル基を表わすことができるがな
かんずくアリル基が好ましい。

ヒドロキシアルキル基としてのＥは、例えば２−ヒドロ
キシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基または２−ヒ
ドロキシブチル基を表わすことができるが、なかんずく
２−ヒドロキシエチル基が好ましい。

ｇが１の場合に限り、Ｅで好ましいのは水素原子、
Ｏ^・，ＯＨ，炭素原子数２ないし４のアルキル基、アリ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、アセチル基、プロパル
ギル基、ベンジル基、ＣＮ、ベンゾイル基またはベンゾ
イルオキシ基である。

式Ｉにおいてｇが２のとき、フエニレンジアルキレン基
としてのＥは例えばｍ−もしくはｐ−キシリレン基また
はｐ−フエニレン−ジエチレン基を表わすことができ
る。

ｇが２の場合のＥで好ましいのはｐ−キシリレン基であ
る。

式IIにおいてＧが１個の残基-CH₂-CH(R²)-O-を表わし、
ｈが１を表わすとき、Ｑは式IIIで表わされる基を表わ
し、式中のＲ³は炭素原子数１ないし８のアルキル基を
表わし、そしてＲ⁴は分岐鎖の炭素原子数３ないし８の
アルキル基、例えばイソプロピル基、第三ブチル基、第
三アミル基または第四オクチル基を表わし、Ｒ³及びＲ⁴
で好ましいのは第三ブチル基である。

ｈが２を表わすとき、Ｑは炭素原子数３ないし１２のア
ルカンジカルボニル基例えばマロニル基、サクシニル
基、アジポイル基、スベロイル基、セバコイル基または
デカン−１，１０−ジカルボニル基を表わすことができ
る。これらの場合、Ｑの意味するもので好ましいのは炭
素原子数６ないし１０のアルカンジカルボニル基であ
る。

ｈが３を表わすとき、Ｑは炭素原子数６ないし１０のア
ルカントリカルボニル基、例えばトリカルブアリル基ま
たはブタン−１，２，４−トリカルボン酸基を意味する
ことができる。ｈが４を表わすとき、Ｑは炭素原子数８
ないし１２のアルカンテトラカルボニル基例えばブタン
−1,2,3,4-テトラカルボニル基を意味することができ
る。

式IIで表わされる化合物のなかで好ましいものは、Ｇが
式-CH₂-CH₂-O-で表わされる基を表わし、ｈが１を表わ
しそしてＱが式IIIで表わされる基を表わし、式中のＲ³
及びＲ⁴が第三ブチル基を表わすものか、あるいはｈが
２を表わし、そしてＱが炭素原子数６ないし１０のアル
カンジカルボニル基を表わすものである。

式IIにおいてＧが基-CH₂-COO-を表わし、そしてｈが１
を表わすときは、Ｑは、前述の式IVの基を表わすか、あ
るいはｈが２の場合にはＱは炭素原子数２ないし１２の
アルキレン基、例えば１，２−エチレン基、トリ−、テ
トラ−、ペンタ−、ヘキサ−、オクタ−、デカ−または
ドデカメチレン基を表わすかまたは前述の式Ｖの基を表
わすことができる。ｈが３を表わすとき、Ｑは炭素原子
数３ないし８のアルカントリイル基、例えばプロパン−
1,2,3−トリイル基、ブタン−1,2,4−トリイル基または
次式VI：（式中、Ｒ⁵はメチル基、エチル基またはプロピル基を
表わす。）で表わされる基を表わす。

ｈが４を表わすとき、Ｑはアルカンテトライル基例えば
式VIで表わされ、式中のＲ⁵が-CH₂-を表わす基を表わ
す。

式IIで表わされる化合物で好ましいのは、Ｇが式-CH₂-C
OO-で表わされる基を表わし、ｈが１を表わし、そして
Ｑが式IVで表わされる基を表わすもの、またはｈが２を
表わし、そしてＱが炭素原子数２ないし８のアルキレン
基または式Ｖで表わされる基を表わすものである。

式Ｉ及びIIで表わされる化合物は米国特許第3000800号
明細書の方法に従つて、カプロラクタムと、相反する４
−アミノ-2,2,6,6-テトラアルキルピペリジンとの反応
によつて製造される。だがこの方法では高圧と高温を要
する。

４−ケトピペリジンVIIから出発し、該化合物がアミノ
カルボン酸VIIIの存在下で水素化される次の反応順序が
より適当である。触媒としては通常の貴金属からの水素
化触媒、特に白金触媒が適している。次に生成したピペ
リジン−４−イルアミノカルボン酸IXを250ないし300
℃、特に260ないし270℃で窒素雰囲気下に加熱すると式
Iaのラクタムに環化する。

式Iaで表わされる化合物から、相応するＮ−置換によつ
て式Ｉで表わされる化合物が製造される。この場合、第
二アミンのＮ置換のための通常の方法を使用することが
できる。そのためにはなかんずくで表わされ、式中、Halが塩素原子、臭素原子またま沃
素原子を表わすハロゲン化合物との置換が挙げられる。
Ｎ−ヒドロキシアルキル誘導体はアルキレンオキシドと
の置換によつて製造することができる。Ｎ−オキシレン
（Ｅ＝Ｏ^・）は過酸化物によるNH−化合物の酸化によつ
て製造することができ、そしてＮ−オキシレンから還元
によつてＮ−ヒドロキシ化合物（Ｅ＝OH）を製造するこ
とができる。このものはカルボン酸塩化物またはカルボ
ン酸無水物との置換によつてＮ−アルカノイルオキシ
−、Ｎ−アルケノイルオキシ−及びＮ−ベンゾイルオキ
シ化合物に導かれる。Ｎ−ヒドロキシアルキル化合物
（式Ｉ、ｇ＝１、Ｅ＝-CH₂-CH(R²)-OH)からはモノ−ま
たはポリカルボン酸との反応によつて式IIで表わされ、
Ｇ＝-CH₂-CH(R²)-O-を有する化合物を製造できる。

式IIで表わされ、式中のＧが-CH₂COO-を意味する化合物
は式Iaで表わされる化合物から式で表わされる塩化酢酸エステルとの置換により製造する
ことができる。これらの化合物はまた、置換によつて式
IIで表わされる他の化合物に転化することができる。

式Ｉ及びIIで表わされる化合物は感光性有機物質を、光
特に短波長の光による劣化から保護するための有効な安
定剤である。それらはまた一定の範囲で熱劣化に対する
安定化効果をも示す。安定化される有機物質の例は油脂
及び他の化粧品用基材、写真感光膜または感光紙のよう
な感光材料であるが特に有機ポリマーである。

光に感じやすくて式Ｉ及びIIで表わされる化合物により
安定化されるポリマーには下記のものが包含される。

1. モノオレフイン及びジオレフインのポリマー、例え
ば所望により架橋結合できるポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメチル
ペンテン−１、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、
ならびにシクロオレフイン例えばシクロペンテンもしく
はノルボルネンのポリマー。

2. 1)で述べたポリマーの混合物、例えばポリプロピレ
ンとポリエチレンまたはポリイソブチレンとの混合物。

3. モノオレフインとジオレフイン相互または他のビニ
ルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレ
ンコポリマー、プロピレン／ブテン-1コポリマー、プロ
ピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテン−
１コポリマー、プロピレンン／ブタジエンコポリマー、
イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／エチ
ルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタア
クリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコ
ポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマー及びそ
れらの塩類（アイオノマー）のようなものそしてエチレ
ンとプロピレン及びジエン例えばヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンとのター
ポリマー。

4. ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5. スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタ
ジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／アル
キルメタアクリレート、スチレン／無水マレイン酸スチ
レン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレ
ンコポリマーと他のポリマー例えばポリアクリレート、
ジエンポリマー、またはエチレン／プロピレン／ジエン
ターポリマーのようなものとからの高耐衝撃性混合物；
及びスチレンのブロックコポリマー例えばスチレン／ブ
タジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはス
チレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなも
の。

6. スチレンのグラフトコポリマー、例えばスチレンと
ポリブタジエン、スチレン及びアクリロニトリルとポリ
ブタジエン、スチレン及びマレイン酸無水物とポリブタ
ジエン、スチレン及びアクリル酸アルキルまたはメタク
リル酸アルキルとポリブタジエン、スチレン及びアクリ
ロニトリルとエチレン−プロピレン−ジエンタ−ポリマ
ー、スチレン及びアクリロニトリルとポリアルキルアク
リレートまたはポリアルキルメタクリレート、スチレン
及びアクリロニトリルとアクリレート−ブタジエンコポ
リマーのようなグラフトコポリマー、及びこれらと5)に
列挙したコポリマーとの混合物、例えばABS,MBS,ASAま
たはAESポリマーとして知られている混合物。

7. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、塩素化若しくはクロロスルホン化ポリエチ
レンエピクロルヒドリンモマ−及び−コポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニル、ポ
リ弗化ビニリデン及びこれらのコポリマー、例えば塩化
ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまた
は塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

8. β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマ
ー、例えばポリアクリレート及びポリメタクリレート、
ポリアクリルアミド及びポリアクリロニトリル。

9. 前記8)に挙げたモノマー相互のまたは他の不飽和モ
ノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタ
ジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レートコポリマー、アクリロニトリル／塩化ビニルコポ
リマーまたはアクリロニトリル／アルキルメタクリレー
ト／ブタジエンターポリマー。

10. 不飽和アルコール及びアミンまたはそのアシル誘
導体またはアセタールから誘導されたポリマー、例えば
ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルス
テアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルメラミン。

11. 環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例
えばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、
ポリプロピレンオキシドまたはこれらとビス−グリシジ
ルエーテルとのコポリマー。

12. ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン、及
びコモノマー、例えばエチレンオキシドを含むポリオキ
シメチレン。

13. ポリフエニレンオキシド及びスルフイド。

14. 一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエ
ーテル、ポリエステル及びポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイツシアネートとから誘
導されたポリウレタン及びその前駆物質（ポリイソシア
ネート、ポリオール及びプレポリマー）。

15. ジアミン及びジカルボン酸及び／またはアミノカ
ルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリア
ミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミ
ド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミド１
１、ポリアミド１２、ポリ−2,4,4−トリメチルヘキサ
メチレンテレフタルアミド、ポリ−ｍ−フエニレンイソ
フタルアミド、及びこれらとポリエーテル、例えばポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたは
ポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。

16. ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド／イミド。

17. ジカルボ酸及びジオール及び／またはヒドロキシ
カルボン酸または相当するラクトンから誘導されたポリ
エステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート及びポリ−１，４−ジメチロ−ル
シクロヘキサンテレフタレート、ポリ〔２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフエニル）プロパン〕テレフタレー
ト、ポリヒドロキシベンゾエート及び更にヒドロキシ末
端基を有するポリエーテル、ジアルコール及びジカルボ
ン酸から誘導されたブロツクコポリエーテルエステル。

18. ポリカーボネート及びポリエステルカーボネー
ト。

19. ポリスルホン及びポリエーテルスルホン及びポリ
エーテルケトン。

20. 一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分とし
てフエノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポ
リマー、例えばフエノール−ホルムアルデヒド樹脂、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂。

21. 乾性及び不乾性アルキド樹脂。

22. 飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及
び架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性の低い
ハロゲン含有変性物。

23. 置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリ
レート、ウレタン／アクリレートまたはポリエステル／
アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。

24. メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートま
たはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド樹脂、ポリエス
テル樹脂及びアクリレート樹脂。

25. ポリエポキシド、例えばビス−グリシジルエーテ
ル、または脂環式ジエポキシドから誘導された架橋エポ
キシ樹脂。

26. 天然ポリマー、例えばセルローズ、天然ゴム及び
ゼラチン、並びにこれらの化学的に変性された重合同族
体誘導体、例えば酢酸セルローズ、プロピオン酸セルロ
ーズ及び酪酸セルローズ、及びセルローズエーテル、例
えばメチルセルローズ。

27. 前述したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例
えばPP/EPDM、ポリアミド6/EPDM、またはABS、PVC/EV
A、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS。

特に重要なのはポリオレフイン、スチレンポリマー、ポ
リアミド及びポリウレタンの安定化で、本発明の式Ｉ及
びIIで表わされる安定剤はとくにこれらに適している。
このようなポリマーの例は高密度及び低密度のポリエチ
レン、ポリプロピレン、エチレン／プロピレンコポリマ
ー、ポリスチレン、スチレン／ブタジエン／アクリロニ
トリルターポリマー、ポリオレフインまたはスチレンポ
リマーの混合物ならびにポリエーテル−またはポリエス
テルベースの、ラツカー、フイラメント、フイルム、シ
ート、エラストマーまたは発泡体の形のポリウレタンで
ある。

式Ｉ及びIIで表わされる安定剤は安定化される物質を基
準にして0.05ないし５重量％、特に0.１ないし2.５重量
％の濃度でポリマー中に配合する。配合はポリマーの製
造中または製造後に例えば所望により他の添加物ととも
に成形中または成形後の混合により、あるいはまたポリ
マー顆粒上に溶液として付与し続いて溶媒を蒸発するこ
とにより行なわれる。

安定剤の化合物を約2.５ないし２５％濃度で含有するマ
スタバツチの形でポリマーに加えることもできる。式Ｉ
及びIIで表わされる化合物は単独ですぐれた光安定作用
を示すことができるがさらに他安定剤、そしてまた他の
光安定剤と組合せることができる。こようにして、例え
ば安定剤をフエノール性酸化防止剤、顔料染料、金属不
活性化剤、紫外線吸収剤または他の安定剤と組合せるこ
とができる。このような共安定剤も同様に0.05ないし５
重量％、好ましくは0.１ないし2.５重量％の量で添加さ
れる。

共用される安定剤の例を以下に示す。

1. 酸化防止剤 1.1. アルキル化モノフエノール２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフエノール、２−
第三ブチル−４，６−ジメチルフエノール、２，６−ジ
−第三ブチル−４−エチルフエノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフエノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−ｉ−ブチルフエノール、２，６−ジ−シ
クロペンチル−４−メチルフエノール、２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフエノール、
２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフエノール、2,
4,6-トリ−シクロヘキシルフエノールおよび２，６−ジ
−第三ブチル−４−メトキシメチルフエノール。

1.2. アルキル化ヒドロキノン２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフエノール、
２，５−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第
三アミルヒドロキノンおよび２，６−ジフエニル−４−
オクタデシルオキシフエノール。

1.3. ヒドロキシル化チオジフエニルエーテル２，２′−チオ−ビス−（６−第三ブチル−４−メチル
フエノール）、２，２′−チオ−ビス−（４−オクチル
フエノール）、４，４′−チオ−ビス−（６−第三ブチ
ル−３−メチルフエノール）および４，４′−チオ−ビ
ス−（６−第三ブチル−２−メチルフエノール）。

1.4. アルキリデン−ビスフエノール２，２′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−４−メ
チルフエノール）、２，２′−メチレン−ビス−（６−
第三ブチル−４−エチルフエノール）、２，２′−メチ
レン−ビス−〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘ
キシル）−フエノール〕、２，２′−メチレン−ビス−
（４−メチル−６−シクロヘキシルフエノール）、２，
２′−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−メチルフエ
ノール）、２，２′−メチレン−ビス−〔６−（α−メ
チルベンジル）−４−ノニルフエノール〕、２，２′−
メチレン−ビス−〔６−（α，α−ジメチルベンジル）
−４−ノニルフエノール〕、２，２′−メチレン−ビス
−（４，６−ジ−第三ブチルフエノール）、２，２′−
エチリデン−ビス−（４，６−ジ−第三ブチルフエノー
ル）、２，２′−エチリデン−ビス−（６−第三ブチル
−４−イソブチルフエノール）、４，４′−メチレン−
ビス−（２，６−ジ−第三ブチルフエノール）、４，
４′−メチレン−ビス−（６−第三ブチル−２−メチル
フエノール）、１，１−ビス−（５−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフエニル）−ブタン、２，６−
ジ−（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベ
ンジル）−４−メチルフエノール、１，１，３−トリス
−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフエ
ニル）−ブタン、１，１−ビス−（５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−２−メチルフエニル）−３−ｎ−ドデシ
ルメルカプトプタン、エチレングリコールビス−〔３，
３−ビス−（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフエ
ニル）−ブチレート〕、ジ−（３−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフエニル）−ジシクロペンタジエ
ンおよびジ−〔２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロ
キシ−５′−メチルペンジル）−６−第三ブチル−４−
メチルフエニル〕テレフタレート。

1.5 ベンジル化合物１，３，５−トリ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン
−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）スルフイド、イソオクチル３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビ
ス−（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメ
チルベンジル）−ジチオールテレフタレート、１，３，
５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−
（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチル
ベンジル）イソシアヌレート、ジオクタデシル３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネー
ト、およびモノエチル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル−ホスホネートのカルシウム塩。

1.6. アシルアミノフエノール４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシス
テアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプ
ト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシア
ニリノ）−ｓ−トリアジンおよびＮ−（３，５−ジ−第
三ブチル−ヒドロキシフエニル）−カルバミン酸オクチ
ルエステル。

1.7. 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフエニル）
−プロピオン酸とのエステルアルコールの例：メタノール、オクタデカノール、１，
６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートおよびジ−ヒドロキシ
エチルオキサルアミド。

1.8 以下のような一価または多価アルコールとβ−
（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフエニ
ル）−プロピオン酸とのエステルアルコールの例：メタノール、オクタデカノール、１，
６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス−ヒ
ドロキシエチルイソシアヌレートおよびジ−ヒドロキシ
エチルオキサル酸ジアミド。

1.9. β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フエニル）−プロピィオン酸のアミド例えばN,N′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフエニルプロピオニル）−ヘキサメチレンジア
ミン、N,N′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフエニルプロピオニル）−トリメチレンジアミ
ンおよびN,N′−ジ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフエニルプロピオニル）−ヒドラジン。

2. ＵＶ吸収剤および光安定剤 2.1. ２−（２′−ヒドロキシフエニル）−ベンゾトリ
アゾール例えば５′−メチル、３′，５′−ジ−第三ブチル、
５′−第三ブチル、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブ
チル）、５−クロル−３′，５′−ジ−第三ブチル、５
−クロル−３′−第三ブチル−５′−メチル、３′−第
二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシおよび
３′，５′−ジ−第三アミル誘導体。

2.2. ２−ヒドロキシベンゾフエノン例えば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキ
シ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベン
ジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシおよび
２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

2.3 場合により置換された安息香酸のエステル例えば４−第三ブチルフエニルサリチレート、フエニル
サリチレート、オクチルフエニルサリチレート、ジベン
ゾイルレゾルシノール、ビス−（４−第三ブチルベンゾ
イル）−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノールお
よび２，４−ジ−第三ブチルフエニル３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

2.4. アクリレート例えばエチルまたはイソオクチルα−シアノ−β，β−
ジフエニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシ
シンナメート、メチルまたはブチルα−シアノ−β−メ
チル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメ
トキシ−ｐ−メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインド
リン。

2.5. ニツケル化合物例えば2,２′−チオ−ビス−〔４−（1,1,3,3−テトラ
メチルブチル）−フエノール〕のニツケル錯体、例とし
て１：１または１：２錯体（所望により付加配位子例え
ばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−
シクロヘキシルジエタノールアミンを有してよい）、４
−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホ
ン酸モノアルキルエステル例えばメチルまたはエチルエ
ステルのニツケル塩、ケトオキシム例えば２−ヒドロキ
シ−４−メチルフエニルウンデシルケトンオキシムのニ
ツケル錯体および所望により付加配位子を含んでよい１
−フエニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾー
ルのニツケル錯体。

2.6. 立体障害アミンビス−（2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジル）−セバ
ケート、ビス−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル）−セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル−マロン酸−ビス（1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル）−エステル、１−ヒド
ロキシエチル-2,2,6,6-テトラメチル−４−ヒドロキシ
ピペリジンとコハク酸との縮合物、N,N′−（2,2,6,6-
テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジア
ミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロル−1,
3,5-s-トリアジンとの縮合物、トリス−（2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−ニトリロトリアセテー
ト、テトラキス−（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペ
リジル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、１，
１′−（１，２−エタンジイル）−ビス−（3,3,5,5-テ
トラメチル−ピペラジノン）。

2.7. シユウ酸ジアミド例えば4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、2,2′
−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオキサニリ
ド、2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチ
ルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニ
リド、N,N′−ビス−（３−ジメチルアミノプロピル）
−オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−
エチルオキサニリドおよびこれと２−エトキシ−２′−
エチル−５，４′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの
混合物、ならびにオルト−メトキシおよびパラ−メトキ
シ二置換オキサニリドの混合物およびｏ−エトキシおよ
びｐ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。

3. 金属不活性化剤例えばN,N′−ジフエニルオキサミド、Ｎ−サリチラー
ル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、N,N′−ビスサリ
チロイルヒドラジン、N,N′−ビス（３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシフエニルプロピオニル）−ヒド
ラジン、３−サリチロイルアミノ−1,2,4-トリアゾール
およびビス−ベンジリデンシユウ酸ジヒドラジド。

4. ホスフイツトおよびホスホニイツト例えばトリフエニルホスフイツト、ジフエニルアルキル
ホスフイツト、フエニルジアルキルホスフイツト、トリ
−（ノニルフエニル）ホスフイツト、トリラウリルホス
フイツト、トリオクタデシルホスフイツト、ジステアリ
ル−ペンタエリトリトールジホスフイツト、トリス−
（２，４−ジ−第三ブチルフエニル）ホスフイツト、ジ
イソデシル−ペンタエリトリトールジホスフイツト、ジ
−（２，４−ジ−第三ブチルフエニル）−ペンタエリト
リトールジホスフイツト、トリステアリル−ソルビトー
ルトリホスフイツトおよびテトラキス−（２，４−ジ−
第三ブチルフエニル）４，４′−ビフエニレン−ジホス
ホニイツト。

5. 過酸化物を分解する化合物例えばβ−チオ−ジプロピオン酸のエステル、例として
ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリシルエス
テルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミ
ダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシル
ジスルフイドおよびペンタエリトリトールテトラキス−
（β−ドデシルメルカプト）−プロピオネート。

6. ポリアミド安定剤例えばヨウ化物および／またはリン化合物と結合にした
銅塩および二価のマンガンの塩。

7. 塩基性補助安定剤例えばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジア
ミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジ
ン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタンならびに
高級脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩例
えばCaステアレート、Znステアレート、Mgステアレー
ト、Naリシノレート、Ｋパルミテート、アンチモンピロ
カテコレートまたはスズピロカテコレート。

8. 核剤例えば４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸またはジフ
エニル酢酸。

9. 充填剤及び強化剤例えば炭酸カルシウム、珪酸、ガラス繊維、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化
物及び金属水酸化物、カーボンブラツク、黒鉛。

10. その他の添加物例えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃
剤、静電防止剤または発泡剤。

共用することのできるさらに他の添加物は、例えばチオ
ジプロピオン酸エステルのようなチオ相乗剤、ステアリ
ルアルコールのような潤滑剤、充填剤、アスベスト、カ
オリン、タルク、ガラス繊維、顔料、光沢剤、難燃剤ま
たは静電防止剤である。

本発明を次の実施例によりさらに詳細に説明するがこれ
らに制限さられるものではない。実施例中の温度は℃で
表わす。

実施例１Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）
−イプシロン−カプロラクタム a) 水６００ml中トリアセトンアミン（2,2,6,6−テト
ラメチル−４−ピペリドン）212ｇ（1.34モル）及び６
−アミノカプロン酸175ｇ（1.34モル）の溶液を撹拌
後、水素導入口及び温度計を備えたジヤケツト付きの１
オートクレーブ中に入れる。次に酸化白金水素化触媒
1.25ｇを溶液に加え、そして理論量の水素が吸収される
まで水素圧３気圧、２５℃接触水素化を行なう。

次に過によつて触媒を除去し、真空蒸発により液を
濃縮して中間体のＮ−（2,2,6,6-テトラメチルピペリジ
ン−４−イル）−６−アミノカプロイン酸を、融点221-
223℃の白色結晶体として285ｇの収量で得る。

b) 撹拌後、加熱用マントル及び窒素導入管を備えた50
0mlフラスコにa)で製造したＮ−（2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）−６−アミノカプロン酸100
ｇ（0.34モル）を加える。窒素気流を流して上記の酸を
265℃で２時間、水の溜出がとまるまで窒素雰囲気下に
加熱する。次に反応フラスコを110℃に冷却し、そして
ヘプタン300mlを加える。粗製物の大部分が溶解するま
で混合物を撹拌する。不溶物を熱いうちに別する。
液から冷却によつて113-117゜で融解するＮ−（2,2,6,6
-テトラメチルピペリジン−４−イル）−イプシロン−
カプロラクタムの白色結晶が分離する。

この化合物は赤外線スペクトルで1626/cmにおける強い
カルボニル吸収を示す。

元素分析（C₁₅H₂₈N₂O）計算値 C71.38 H11.18 N11.10% 実測値 C71.59 H11.28 N11.14% 実施例２Ｎ−（2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−４−イル）−
ツエーターエナントラクタム a) 実施例1a)の方法に従い７−アミノヘプタン酸を用
いて162ないし165゜までに溶融するＮ−（2,2,6,6-テト
ラメチルピペリジン−４−イル）−７−アミノヘプタン
酸を得る。

b) 実施例1b)に従い上記の酸５０ｇをｐ−トルエンス
ルホン酸0.１ｇの存在下に300℃に加熱する。粗製物を
先づ155-160゜/1Paで真空蒸溜し、そして次にヘプタン
から再結晶する。このようにして得たＮ−（2,2,6,6-テ
トラメチルピペリジン−４−イル）−ツエーターエナン
トラクタムは８７ないし８９゜で融解する。

元素分析（C₁₆H₃₀N₂O）計算値 C72.13 H11.35 N10.51% 実測値 C71.7 H11.1 N10.5% 実施例３Ｎ−（1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジン−４−イル）
−イプシロン−カプロラクタム実施例１で得たＮ−（2,2,6,6-テトラメチルピペリジン
−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム６３ｇ（0.
25モル）のトルエン150ml中の溶液にトルエン100ml中
ジメチルサルフエート28.5ml（0.30モル）の溶液を撹拌
しつゝ加える。混合物を８０゜で１時間還流冷却器の下
で加熱し、次に濃厚アンモニア水５０mlを加える。相分
離し、トルエン相をK₂CO₃上で乾燥し、真空蒸溜すると
表記の化合物が融点76-79゜の白色粉末として残る。

実施例４Ｎ−（１−アリル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−
４−イル）−イプシロン−カプロラクタムジメチルホルムアミド７５ml中Ｎ−（2,2,6,6-テトラメ
チルピペリジン−４−イル）−イプシロン−カプロラク
タム12.1ｇ（0.05モル）の溶液に炭酸ナトリウム16.6ｇ
（0.1モル）を懸濁させる。そこにアリルブロミド14.6
ｇ（0.05モル）を加え、反応混合物を撹拌下に８０゜で
２時間加熱する。過後、溶液を真空蒸溜し、残留物を
171-176゜/100Pa.で真空蒸溜すると表記の化合物7.６ｇ
を得る。

実施例５Ｎ−（１−プロパルギル-2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタムアリルブロミドの代りに当量のプロパルギルブロミドを
用い実施例４の手順をふむと、沸点153-160゜/0.04mm、
融点105-109゜の表記の化合物を得る。

元素分析（C₁₈H₃₂N₂O）計算値 C74.4 H10.4 N9.6% 実測値 C74.3 H10.2 N9.7% 実施例６Ｎ−（１−ベンジル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン
−４−イル）−イプシロン−カプロラクタムアリルブロミドの代りに当量のベンジルクロリドを用い
実施例４の手順をふむと、メタノール／水（４：１）か
らの再結晶後融点126-127゜の表記の化合物を得る。

元素分析（C₂₂H₃₄N₂O）計算値 C77.2 H10.0 N8.2% 実測値 C77.4 H10.1 N8.0% 実施例７ N,N′−ｐ−キシレン−ビス〔４−（２−オキソ−１−
ヘキサヒドロアゼピニル）-2,2,6,6-テトラメチルピペ
リジンアリルブロミドの代りに相応量のｐ−キシリレンジクロ
リドを用い、実施例４の手順をふむ。粗製物をヘプタン
／メチレンクロリドから再結晶すると融点280-283゜の
表記の化合物を得る。

元素分析（C₃₈H₆₂N₄O₂）計算値 C75.2 H10.3 N9.2% 実測値 C75.0 H9.9 N9.1% 実施例８Ｎ−（１−シアノ−2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−
４−イル）−イプシロン−カプロラクタムアリルブロミドの代りに等量のクロルシアンを用いて実
施例４で記したように行なう。

表記の化合物はアセトン／水から再結晶後168-169゜で
融解する。

元素分析（C₁₆H₂₇N₃O）計算値 C69.3 H9.8 N15.1% 実測値 C69.1 H9.7 N15.0% 実施例９Ｎ−（１−アセチル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン
−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム無水酢酸102ｇ中、Ｎ−（2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム（実施
例１により製造）50.5ｇ（0.２モル）の溶液にH₂SO₄0.
２ｇを加えて120゜で４時間加熱する。その後過剰の無
水酢酸を真空蒸溜する。残留物をメチレンクロリド200m
lに溶解し、各100mlの水で３回そしてNaHCO₃１０％水溶
液で１回洗浄し、そしてNa₂SO₄上で乾燥する。溶媒を溜
去した後に残つた生成物をトルエン／ヘキサン（１：
３）から再結晶すると融点104-108゜の表記の化合物38.
4ｇを得る。

実施例１０Ｎ−〔１−（２−ヒドロキシエチル）-2,2,6,6-テトラ
メチルピペリジン−４−イル〕−イプシロン−カプロラ
クタムジメチルホルムアミド100ml中、エチレンオキシド6.６
ｇ（0.15モル）及びＮ−（2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム（実
施例１により製造）の25.2ｇ（0.1モル）の溶液をオー
トクレーブに仕込む。オートクレーブを閉じた後190゜
で４時間加熱すると当初の７気圧（700kPa）の圧力が4.
９気圧（490kPa）に低下する。反応混合物から真空（50
゜／２mm）中で溶媒を分離する。残留物をヘプタン／ト
ルエン（２：１）300mlから晶出させ融点141-142゜の表
記の化合物13.7ｇを得る。

元素分析（C₁₇H₃₂N₂O₂）計算値 C68.9 H10.9 N9.4% 実測値 C68.8 H11.0 N9.2% 実施例１１ジ−〔２−〔４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼ
ピニル）-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−４−イ
ル〕−エチル〕−アジペートキシレン５０ml中、実施例１０の生成物７ｇ（0.236モ
ル）とジメチルアジペート２ｇ（0.115モル）の溶液に
エステル化触媒としてLiNH₂５０mgを加える。絶えずキ
シレンを溜出させながら反応混合物を140゜で６時間加
熱する。残留物をヘプタン／トルエン（２：１）から晶
出させて融点159-160゜の表記の化合物を4.９ｇの収量
で得る。

元素分析（C₄₀H₇₀N₄O₆）計算値 C68.3 H10.0 N8.0% 実測値 C67.3 H10.2 N7.7% 実施例１２ジ−〔２−〔４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼ
ピニル）-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−４−イ
ル〕−エチル〕−セバケートジメチルアジペートの代りにジメチルセバケートを用
い、実施例１１と同様にして表記の化合物を得る。この
ものはヘプタンからの再結晶後、104-111゜で融解す
る。

元素分析（C₄₄H₇₈N₄O₆）計算値 C69.6 H10.4 N7.4% 実測値 C69.7 H10.0 N7.2% 実施例１３２−〔４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼピニ
ル）−2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−４−イル〕−
エチル〕−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルヒ
ドロシンナメートジメチルアジペートの代りにメチル−４−ヒドロキシ−
３，５−ジ−第三ブチルヒドロシンナメートを用い、実
施例１１と同様にして表記の化合物を得る。キシレン／
ヘプタン（２：１）から再結晶後の生成物は159-161゜
で融解する。

元素分析（C₃₄H₅₆N₂O₄）計算値 C73.3 H10.1 N5.0% 実測値 C73.1 H10.2 N5.1% 実施例１４Ｎ−（１−オキシル-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン
−４−イル）−イプシロン−カプロラクタムクロロホルム200ml中、実施例１からのラクタム25.4ｇ
（0.１モル）の溶液にｍ−クロロペル安息香酸３８ｇ
（0.22モル）を１時間かけて少量ずつ加える。反応混合
物を室温で１８時間撹拌して次に生成したｍ−クロロ安
息香酸を別する。液を1nH₂SO₄、水及びNaHCO₃１０
％水溶液の順で洗浄し、そしてNa₂SO₄上で乾燥する。溶
液を真空蒸溜して残留物をトルエン／ヘプタンから再結
晶して融点158-164゜のオレンジ−赤色結晶状の表記化
合物を得る。NMRスペクトルは正磁性化合物（遊離基）
の存在を立証している。

実施例１５Ｎ−（１−ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジ
ン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム実施例１６で得たオキシル26.7ｇ（0.１モル）をジオキ
サン250mlに溶解した溶液に活性炭上のパラジウム0.８
ｇ（５％Pd）を加え、室温のオートクレーブ中、３気圧
の水素分圧下で理論量のＨ₂が吸収される迄水素化す
る。そして溶液を100゜に加熱し、熱いうちに溶媒を
別する。液を冷却して融点212-215゜の生成物を晶出
させる。収量18.7ｇ元素分析（C₁₅H₂₈N₂O₂）計算値 C67.12 H10.52 N10.44% 実測値 C67.1 H10.0 N10.4% 実施例１６Ｎ−（１−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6-テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタムテトラヒドロフラン１０ml中ベゾイルクロリド1.17ml
(0.01モル）の溶液を、テトラヒドロフラン７５mlに実
施例１５の生成物2.７ｇ（0.012モル）とトリエチルア
ミン1.４mlを溶解した溶液に緩やかに撹拌しつゝ加え
る。さらに反応混合物を25℃で３時間撹拌して、次に１
０分間加熱還流する。生成したトリエチルアミン−塩酸
基を別して溶液を蒸発し、残留物をエタノール／水か
ら再結晶すると融点154-156゜の表記の化合物2.４ｇを
得る。

ＩＲスペクトル（CH₂Cl₂溶液）は1730及び1621/cmにお
ける２つのカルボニル吸収帯を示す。

元素分析（C₂₂H₃₂N₂O₃）計算値 C70.93 H8.66 N7.52% 実測値 C71.0 H8.7 N7.7% 実施例１７４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼピニル）-2,
2,6,6-テトラメチルピペリジン−１−イル−酢酸の1,2,
6,6-ペンタメチルピペリジン−４−イル−エステル a) 実施例１で得たラクタム50.5ｇ（0.２モル）、クロ
ル酢酸−エチルエステル49.0ｇ（0.4モル）、炭酸ナト
リウム42.4ｇ（0.４モル）及びジメチルホルムアミド10
0mlの混合物を130゜で７時間加熱する。過剰のクロル酢
酸エチルエステルが４０mlのDMFとともに真空蒸溜によ
り除去される。次に反応混合物を氷水500mlにて稀釈す
る。生成した沈澱物を別し、水洗し、そして乾燥す
る。ヘキサンにより再結晶すると融点130-134゜の４−
（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼピニル）-2,2,6,6
-テトラメチルピペリジン−４−イル−酢酸エチルエス
テル47.5ｇを得る。

上記化合物のNMRスペクトルは想定された構造に一致す
る。

b) a)で得たエチルエステル7.５ｇ（２２ミリモル）と
1,2,2,6,6-ペンタメチルペリジン−４−オール4.２ｇ
（２４ミリモル）をキシレン５０mlに溶解した溶液にリ
チウムアミド0.１ｇを加えた後120゜で１時間加熱す
る。反応容器を溶液とともに150゜に保たれた油浴上で
加熱すると、エタノールとキシレンの混合物が徐々に溜
出する。５時間後に４滴の酢酸を加え、そして残りのキ
シレンを溜去させる。蒸溜残渣をヘプタンから再結晶
し、融点166-168゜の表記化合物6.１ｇを得る。

化合物の構造をNMRスペクトルによつて確認する。

元素分析（C₂₇H₄₉N₃O₃）計算値 C69.9 H10.7 N9.1% 実測値 C69.9 H10.4 N9.0% 実施例１８４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼピニル）-2,
2,6,6-テトラメチルピペリジン−１−イル−酢酸の１，
６−ヘキサメチレングリコールジエステル実施例17b)の方法に従つて、モル比２：１の実施例17a)
のエチルエステルと1,6-ヘキサンジオールとから融点14
7-149゜の表記化合物を得る。

元素分析（C₄₀H₇₀N₄O₆）計算値 C68.3 H10.0 N8.0% 実測値 C68.6 H 9.8 N8.1% 実施例１９１−（２−ヒドロキシエチル）-2,2,6,6-テトラメチル
ピペリジン−４−オールのビス−〔４−（２−オキソ−
１−ヘキサヒドロアゼピニル）-2,2,6,6-テトラメチル
ピペリジン−１−イル−アセテートこの化合物は実施例17b)と同様に１当量の１−（２−ヒ
ドロキシエチル）-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン−
４−オールと、２当量の実施例17a)からのエチルエステ
ルとの反応によつて製造される。トルエンから再結晶さ
れた生成物は228-229゜で融解する。

元素分析（C₄₅H₇₉N₅O₆）計算値 C68.8 H10.1 N8.9% 実測値 C68.9 H 9.9 N8.7% 実施例２０ポリプロピレンの光安定化 0.１％のステアリン酸カルシウムを含むが酸化防止剤を
含まないポリプロピレン〔プロフアツクス（Profax）
6501、ハーキユレス社（Hercules Corp）〕を表１に示
した各々0.１％の本発明化合物と混合する。混合物を粒
状にし232゜の押出機温度で10.2cmの幅と0.127mmの厚み
をもつたテープに押出成形する。テープを長手方向に6.
4mmの幅テープ片にカツトし、107゜の熱いゴデツト（Go
det）−ロール上で１：６の比率に圧延して厚さ0.05mm
の延伸フイルム片を得る。フイルム片を炭素アーク燈耐
候試験機中で露光する。時折露光したフイルム片の引張
強度を測定する。引張強度が５０％に低下する迄の露光
時間を表１に示す。

実施例２１アクリル樹脂ラツカーの安定化自動車用塗料として慣用されるような熱硬化性アクリル
樹脂をベースとする焼付けラツカーに表２に示した安定
剤を加える。プライマーにより下塗り塗装された金属パ
ネルの上にラツカーを噴霧する。試料を120゜で３０分
間硬化する。ラツカーフイルムの厚みは0.038mmであ
る。

試料をQUV装置中での加速耐候試験に付し60゜で４時間
の紫外線照射と50゜で４時間の潅水を繰返す。全体とし
て試料を3540時間耐候させる。

耐候の試験前後に、ASTM D-523により20゜の角度におけ
る表面光沢を反射角度計を用いて測定し、さらにASTM D
-16に従い、スペクトルホトメータを用いて画像の鮮明
度(DJ)を測定する。光沢と画像の鮮明度の保存百分比を
表２に示す。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０８Ｋ 5/3435 ＫＢＨ 7242−4Ｊ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次式ＩまたはII：（式中、ｎは０，１，２または３を表わし、ｇは１または２を表
わし、ｈは１ないし４の整数を表わし、Ｒ^１は水素原子を表わし、ｇが１のときはＥは、Ｈ、Ｏ^・、ＯＨ、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケ
ニル基、プロパルギル基、ベンジル基、ＣＮ、炭素原子
数２ないし４のヒドロキシアルキル基またはベンゾイル
オキシ基を表わし、そしてｇが２のときはＥは炭素原子
数８ないし１５のフェニレンジアルキレン基を表わし、Ｇは−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ^２）−Ｏ−または−ＣＨ_２−Ｃ
ＯＯ−で表わされる残基を表わし、式中のメチレン基は
ピペリジン窒素原子と結合し、式中の酸素原子はＱに結
合し、そして式中のＲ^２は水素原子を表わし、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ^２）−Ｏ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱは次式III：（式中、Ｒ^３は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
わし、そしてＲ^４は分岐した炭素原子数３ないし８のア
ルキル基を表わす。）で表わされる基を表わし、ｈが２の場合にはＱは炭素原子数３ないし１２のアルカ
ンジカルボニル基を表わし、ｈが３の場合には、Ｑは炭素原子数６ないし１０のアル
カントリカルボニル基を表わし、そしてｈが４の場合にはＱは炭素原子数８ないし１２のアルカ
ンテトラカルボニル基を表わし、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＯＯ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱは次式IV：で表わされる基を表わしｈが２の場合にはＱは炭素原子数２ないし１２のアルキ
レン基または次式Ｖ：で表わされる基を表わし、ｈが３の場合にはＱは炭素原子数３ないし８のアルカン
トリイル基を表わし、そしてｈが４の場合にはＱは炭素原子数４ないし１０のアルカ
ンテトライル基を表わす。）で表わされることを特徴と
する化合物。
【請求項２】式ＩまたはIIにおいて、ｎが２または３を
表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
【請求項３】式ＩまたはIIにおいて、ｎが２を表わす特
許請求の範囲第２項記載の化合物。
【請求項４】式Ｉにおいて、ｇが１を表わし、Ｅが水素
原子、Ｏ^・、ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル
基、アリル基、２−ヒドロキシエチル基、プロパルギル
基、ベンジル基、シアノ基またはベンゾイルオキシ基を
表わし、あるいはｇが２を表わし、そしてＥがｐ−キシ
リレン基を表わす特許請求の範囲第１項記載の化合物。
【請求項５】式IIにおいて、Ｇが式−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ
−で表わされる残基を表わし、ｈが１を表わし、そして
Ｑがまたは式IIIで表わされ、式中のＲ^３及びＲ^４が第
三ブチル基を表わし、またはｈが２を表わし、Ｑが炭素
原子数６ないし１０のアルカンジカルボニル基を表わす
特許請求の範囲第１項記載の化合物。
【請求項６】式IIにおいて、Ｇが式−ＣＨ_２−ＣＯＯ−
で表わされる残基を表わし、ｈが１を表わし、そしてＱ
が式IVで表わされる基を表わし、あるいはｈが２を表わ
し、そしてＱが炭素原子数２ないし８のアルキレン基ま
たは式Ｖで表わされる基を表わす特許請求の範囲第１項
記載の化合物。
【請求項７】Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム、Ｎ
−（１−アリル−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム、ジ−
〔２−〔４−（２−オキソ−１−ヘキサヒドロアゼピニ
ル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−
イル〕−エチル〕−セバケート、（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジン−４−イル）−４−（２−オ
キソ−１−ヘキサヒドロアゼピニル）−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン−１−イルアセテート、Ｎ−
（１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタムまたは
Ｎ−（１−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）−イプシロン−カプロラクタム
である特許請求の範囲第１項記載の化合物。
【請求項８】次式ＩまたはII：（式中、ｎは０，１，２または３を表わし、ｇは１または２を表
わし、ｈは１ないし４の整数を表わし、Ｒ^１は水素原子を表わし、ｇが１のときはＥは、Ｈ，Ｏ^・，ＯＨ，炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケ
ニル基、プロパルギル基、ベンジル基、ＣＮ、炭素原子
数２ないし４のヒドロキシアルキル基またはベンゾイル
オキシ基を表わし、そしてｇが２のときはＥは炭素原子
数８ないし１５のフェニレンジアルキレン基を表わし、Ｇは−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ^２）−Ｏ−または−ＣＨ_２−Ｃ
ＯＯ−で表わされる残基を表わし、式中のメチレン基は
ピペリジン窒素原子と結合し、式中の酸素原子はＱに結
合し、そして式中のＲ^２は水素原子を表わし、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ^２）−Ｏ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱは次式III：（式中、Ｒ^３は炭素原子数１ないし８のアルキル基を表
わし、そしてＲ^４は分岐した炭素原子数３ないし８のア
ルキル基を表わす。）で表わされる基を表わし、ｈが２の場合には、炭素原子数３ないし１２のアルカン
ジカルボニル基を表わし、ｈが３の場合には炭素原子数６ないし１０のアルカント
リカルボニル基を表わし、そしてｈが４の場合には炭素原子数８ないし１２のアルカンテ
トラカルボニル基を表わし、そしてＧが−ＣＨ_２−ＣＯＯ−を表わすとき、ｈが１の場合にＱは次式IV：で表わされる基を表わしｈが２の場合には炭素原子数２ないし１２のアルキレン
基または次式Ｖ：で表わされる基を表わし、ｈが３の場合には炭素原子数３ないし８のアルカントリ
イル基を表わし、そしてｈが４の場合には炭素原子数４ないし１０のアルカンテ
トライル基を表わす。）で表わされる化合物を有機ポリ
マーの安定化に使用する方法。
【請求項９】式ＩまたはIIで表わされる化合物を有機ポ
リマーに０．０５ないし５重量％添加する特許請求の範
囲第８項記載の方法。
【請求項１０】有機ポリマーが特にポリオレフィンであ
る特許請求の範囲第９項記載の方法。