JPH06251333A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH06251333A JPH06251333A JP5061175A JP6117593A JPH06251333A JP H06251333 A JPH06251333 A JP H06251333A JP 5061175 A JP5061175 A JP 5061175A JP 6117593 A JP6117593 A JP 6117593A JP H06251333 A JPH06251333 A JP H06251333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic head
- protective plate
- substrate
- film magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜磁気ヘッドの加工性を向上し、使用時の
偏摩耗の発生を抑え、良好な記録特性を付与する。 【構成】 薄膜素子基板1と保護板5がガラス接合され
ている薄膜磁気ヘッドの薄膜素子基板1と保護板5の摩
耗特性を略同一とする。または、薄膜素子基板1と保護
板5を同一材料で構成する。
偏摩耗の発生を抑え、良好な記録特性を付与する。 【構成】 薄膜素子基板1と保護板5がガラス接合され
ている薄膜磁気ヘッドの薄膜素子基板1と保護板5の摩
耗特性を略同一とする。または、薄膜素子基板1と保護
板5を同一材料で構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気回路部を構成する
磁性薄膜や導体コイルが真空薄膜形成技術により形成さ
れる薄膜磁気ヘッドに関するものである。
磁性薄膜や導体コイルが真空薄膜形成技術により形成さ
れる薄膜磁気ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、薄膜磁気ヘッドは、磁気回路部
を構成する磁性薄膜や導体コイルが真空薄膜形成技術に
より形成されるため、狭トラック化や狭ギャップ化等の
微細寸法化が容易で高分解能記録が可能であるという特
徴を有しており、高密度記録化に対応した磁気ヘッドと
して注目されている。
を構成する磁性薄膜や導体コイルが真空薄膜形成技術に
より形成されるため、狭トラック化や狭ギャップ化等の
微細寸法化が容易で高分解能記録が可能であるという特
徴を有しており、高密度記録化に対応した磁気ヘッドと
して注目されている。
【0003】このような薄膜磁気ヘッドは、薄膜素子の
形成される薄膜素子基板と保護板がガラス接合されたも
のである。上記薄膜素子基板は、上部及び下部磁気コ
ア,導体コイルよりなる磁気回路が、フェライト等より
なる基板上に形成されたものであり、多チャンネル形成
されていても良い。また、保護板は上記磁気回路を保護
するように、基板の磁気回路形成面にガラス接合されて
いる。
形成される薄膜素子基板と保護板がガラス接合されたも
のである。上記薄膜素子基板は、上部及び下部磁気コ
ア,導体コイルよりなる磁気回路が、フェライト等より
なる基板上に形成されたものであり、多チャンネル形成
されていても良い。また、保護板は上記磁気回路を保護
するように、基板の磁気回路形成面にガラス接合されて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な薄膜磁気ヘッドにおいては、薄膜素子基板と保護板の
摩耗特性の差によって偏摩耗が生じ、薄膜磁気ヘッドの
記録特性を低下させるという問題が発生している。すな
わち、図2に示すような基板1上に磁気回路2の形成さ
れる薄膜素子基板3に保護板5が融着ガラス4によって
ガラス接合されている薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気テ
ープ6が薄膜素子基板3の摺動面3a,融着ガラス4の
摺動面4a,保護板5の摺動面5a上を順次走行する場
合、薄膜素子基板3及び融着ガラス4と保護板5の摩耗
特性の違いから、図7に示すように融着ガラス4と保護
板5間に段差部7が発生し、該薄膜磁気ヘッドの記録特
性が低下してしまう。
な薄膜磁気ヘッドにおいては、薄膜素子基板と保護板の
摩耗特性の差によって偏摩耗が生じ、薄膜磁気ヘッドの
記録特性を低下させるという問題が発生している。すな
わち、図2に示すような基板1上に磁気回路2の形成さ
れる薄膜素子基板3に保護板5が融着ガラス4によって
ガラス接合されている薄膜磁気ヘッドにおいて、磁気テ
ープ6が薄膜素子基板3の摺動面3a,融着ガラス4の
摺動面4a,保護板5の摺動面5a上を順次走行する場
合、薄膜素子基板3及び融着ガラス4と保護板5の摩耗
特性の違いから、図7に示すように融着ガラス4と保護
板5間に段差部7が発生し、該薄膜磁気ヘッドの記録特
性が低下してしまう。
【0005】また、上記のような段差部7が発生してい
る状態で、更に薄膜磁気ヘッドを使用していると、図8
に示すように磁気テープ6より剥離した磁性粉塵8が段
差部7と磁気テープ6の間に滞留し、これによって瞬時
クロッグが発生し、記録を妨害し、エラーを引き起こ
す。なお、この状態で偏摩耗が進行すると、瞬時クロッ
グのエラーレートはさらに大きくなっていく。
る状態で、更に薄膜磁気ヘッドを使用していると、図8
に示すように磁気テープ6より剥離した磁性粉塵8が段
差部7と磁気テープ6の間に滞留し、これによって瞬時
クロッグが発生し、記録を妨害し、エラーを引き起こ
す。なお、この状態で偏摩耗が進行すると、瞬時クロッ
グのエラーレートはさらに大きくなっていく。
【0006】これよりもさらに偏摩耗が進むと、図9に
示されるように薄膜素子基板3の磁気回路2まで摩耗
し、磁気テープ6との間に不必要な空間が生じ、スペー
シングロスが発生し、記録特性を著しく低下させる。す
なわち、薄膜素子基板と保護板の摩耗特性の差によって
発生する偏摩耗により、薄膜磁気ヘッドの記録特性は著
しく低下することとなる。
示されるように薄膜素子基板3の磁気回路2まで摩耗
し、磁気テープ6との間に不必要な空間が生じ、スペー
シングロスが発生し、記録特性を著しく低下させる。す
なわち、薄膜素子基板と保護板の摩耗特性の差によって
発生する偏摩耗により、薄膜磁気ヘッドの記録特性は著
しく低下することとなる。
【0007】ところで、上記薄膜磁気ヘッドは、上述の
ように薄膜素子基板と保護板がガラス接合されたもので
あるが、これを製造する際には、ブロック状の薄膜素子
基板と保護板をガラス接合した後に媒体摺動面に円筒研
磨を施している。しかしながら、薄膜素子基板と保護板
の摩耗特性の差から、両者を均一に研磨することは不可
能であり、摩耗特性の差を考慮して加工条件等を決定し
なくてはならず、その加工性はあまり良好ではない。
ように薄膜素子基板と保護板がガラス接合されたもので
あるが、これを製造する際には、ブロック状の薄膜素子
基板と保護板をガラス接合した後に媒体摺動面に円筒研
磨を施している。しかしながら、薄膜素子基板と保護板
の摩耗特性の差から、両者を均一に研磨することは不可
能であり、摩耗特性の差を考慮して加工条件等を決定し
なくてはならず、その加工性はあまり良好ではない。
【0008】そこで本発明は、従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、加工性が良好で、使用時の偏摩耗が
発生しにくく、良好な記録特性を有する薄膜磁気ヘッド
を提供することを目的とする。
されたものであり、加工性が良好で、使用時の偏摩耗が
発生しにくく、良好な記録特性を有する薄膜磁気ヘッド
を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、薄膜素子基板と保護板がガラス接合され
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材料と
保護板を構成する材料の摩耗特性が略同一であることを
特徴とするものである。
めに本発明は、薄膜素子基板と保護板がガラス接合され
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材料と
保護板を構成する材料の摩耗特性が略同一であることを
特徴とするものである。
【0010】また、本発明は薄膜素子基板と保護板がガ
ラス接合されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構
成する材料と保護板を構成する材料が同一材料であるこ
とを特徴とするものである。
ラス接合されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構
成する材料と保護板を構成する材料が同一材料であるこ
とを特徴とするものである。
【0011】
【作用】本発明は、薄膜素子基板と保護板がガラス接合
されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材
料と保護板を構成する材料の摩耗特性が略同一であるた
め、該薄膜磁気ヘッドの使用時に偏摩耗が発生しにく
く、製造時には薄膜素子基板と保護板を均一に研磨する
ことが可能である。また、基板と保護板を同一材料にて
構成することにより、更に大きな効果を得ることができ
る。
されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材
料と保護板を構成する材料の摩耗特性が略同一であるた
め、該薄膜磁気ヘッドの使用時に偏摩耗が発生しにく
く、製造時には薄膜素子基板と保護板を均一に研磨する
ことが可能である。また、基板と保護板を同一材料にて
構成することにより、更に大きな効果を得ることができ
る。
【0012】
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。最初に、薄膜磁気
ヘッドの一例について説明する。上記薄膜磁気ヘッド
は、図1に示すように、下部磁気コアである基板1の一
主面1aに導体コイル,上部磁気コアよりなる磁気回路
2が形成されてなる薄膜素子基板3と、上記磁気回路2
を覆うように一主面1aに接合される保護板5よりな
る。上記薄膜磁気ヘッドの断面図を図2に示すが、保護
板5は薄膜素子基板3に融着ガラス4によってガラス接
合されている。
いて、図面を参照しながら説明する。最初に、薄膜磁気
ヘッドの一例について説明する。上記薄膜磁気ヘッド
は、図1に示すように、下部磁気コアである基板1の一
主面1aに導体コイル,上部磁気コアよりなる磁気回路
2が形成されてなる薄膜素子基板3と、上記磁気回路2
を覆うように一主面1aに接合される保護板5よりな
る。上記薄膜磁気ヘッドの断面図を図2に示すが、保護
板5は薄膜素子基板3に融着ガラス4によってガラス接
合されている。
【0013】先ず、上記のような薄膜磁気ヘッドにおい
て、従来のように基板を構成する材料としてMn−Zn
系単結晶フェライトを用い、保護板を構成する材料とし
てZr系セラミックスを用いた薄膜磁気ヘッドの使用時
の摩耗の様子を測定した。薄膜磁気ヘッドの摩耗の様子
は、図3に示すような薄膜素子基板3と保護板5が図示
しない融着ガラスによって接合されてなる薄膜磁気ヘッ
ドの摺動面、すなわち、薄膜素子基板3の摺動面3a,
図示しない融着ガラスの摺動面,保護板5の摺動面5a
上を磁気テープが摺動した際の摺動面の形状の変化によ
って表した。なお、摺動面の形状の変化は図3中に示す
ような、支持体9bの先端に被測定面に接触するように
配置されてなる針部9aが設けられた段差測定装置9に
よって行い、針部9aの針圧の変化によって被測定面の
形状を検出した。なお、被測定面の形状の検出手段の他
の例としては、干渉縞顕微鏡,非接触表面粗度計等が挙
げられる。結果を図4に示す。図4Aは未使用の薄膜磁
気ヘッドの摺動面を示し、図4Bは550時間摺動させ
た後の摺動面の形状を示し、図4Cは更に摺動させた後
の摺動面の形状を示す。上記薄膜磁気ヘッドにおいて
は、図4B,Cに示されるように、基板と保護板の摩耗
特性の違いから偏摩耗が生じている。従って、このよう
な薄膜磁気ヘッドにおいては、瞬時クロッグ,スペーシ
ングロスが発生する。
て、従来のように基板を構成する材料としてMn−Zn
系単結晶フェライトを用い、保護板を構成する材料とし
てZr系セラミックスを用いた薄膜磁気ヘッドの使用時
の摩耗の様子を測定した。薄膜磁気ヘッドの摩耗の様子
は、図3に示すような薄膜素子基板3と保護板5が図示
しない融着ガラスによって接合されてなる薄膜磁気ヘッ
ドの摺動面、すなわち、薄膜素子基板3の摺動面3a,
図示しない融着ガラスの摺動面,保護板5の摺動面5a
上を磁気テープが摺動した際の摺動面の形状の変化によ
って表した。なお、摺動面の形状の変化は図3中に示す
ような、支持体9bの先端に被測定面に接触するように
配置されてなる針部9aが設けられた段差測定装置9に
よって行い、針部9aの針圧の変化によって被測定面の
形状を検出した。なお、被測定面の形状の検出手段の他
の例としては、干渉縞顕微鏡,非接触表面粗度計等が挙
げられる。結果を図4に示す。図4Aは未使用の薄膜磁
気ヘッドの摺動面を示し、図4Bは550時間摺動させ
た後の摺動面の形状を示し、図4Cは更に摺動させた後
の摺動面の形状を示す。上記薄膜磁気ヘッドにおいて
は、図4B,Cに示されるように、基板と保護板の摩耗
特性の違いから偏摩耗が生じている。従って、このよう
な薄膜磁気ヘッドにおいては、瞬時クロッグ,スペーシ
ングロスが発生する。
【0014】そこで、本実施例の薄膜磁気ヘッドは、上
記のような構造の薄膜磁気ヘッドにおいて基板と保護板
の摩耗特性を略同一とし、使用時の偏摩耗の発生を起こ
りにくくする。すなわち、本実施例の薄膜磁気ヘッドに
おいては、図2に示すように磁気テープ6を薄膜素子基
板3の摺動面3a,融着ガラス4の摺動面4a,保護板
5の摺動面5a上を順次走行させた場合、図5に示すよ
うに曲面状の摺動面の頂点にあたる融着ガラス4の摺動
面4a及び磁気回路2の摺動面2aが平坦に摩耗し、基
板1と保護板5の摩耗特性が同一であることから基板1
の摺動面1a及び保護板5の摺動面5aが均一に摩耗す
る。さらに磁気テープ6を走行させると、図6に示すよ
うに基板1及び保護板5の摩耗はある程度進むが、両者
の摩耗特性が同一であることから均一に摩耗し、段差部
を形成することがない。従って、本実施例の薄膜磁気ヘ
ッドにおいては、従来の薄膜磁気ヘッドのように瞬時ク
ロッグやスペーシングロスが生じることもない。
記のような構造の薄膜磁気ヘッドにおいて基板と保護板
の摩耗特性を略同一とし、使用時の偏摩耗の発生を起こ
りにくくする。すなわち、本実施例の薄膜磁気ヘッドに
おいては、図2に示すように磁気テープ6を薄膜素子基
板3の摺動面3a,融着ガラス4の摺動面4a,保護板
5の摺動面5a上を順次走行させた場合、図5に示すよ
うに曲面状の摺動面の頂点にあたる融着ガラス4の摺動
面4a及び磁気回路2の摺動面2aが平坦に摩耗し、基
板1と保護板5の摩耗特性が同一であることから基板1
の摺動面1a及び保護板5の摺動面5aが均一に摩耗す
る。さらに磁気テープ6を走行させると、図6に示すよ
うに基板1及び保護板5の摩耗はある程度進むが、両者
の摩耗特性が同一であることから均一に摩耗し、段差部
を形成することがない。従って、本実施例の薄膜磁気ヘ
ッドにおいては、従来の薄膜磁気ヘッドのように瞬時ク
ロッグやスペーシングロスが生じることもない。
【0015】また、基板と保護板の摩耗特性が略同一で
ある本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と保護
板の接合後の摺動面の円筒研磨においても、両者を均一
に研磨することができ、加工性を向上させることが可能
である。
ある本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と保護
板の接合後の摺動面の円筒研磨においても、両者を均一
に研磨することができ、加工性を向上させることが可能
である。
【0016】なお、一般に、材料の摩耗特性はその材料
のビッカース硬度HV と相関性があると言われており、
本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と保護板の
ビッカース硬度HV を略同一とすることによって、その
摩耗特性を略同一とすることができると思われる。そこ
で、基板及び保護板を構成する材料として一般的なもの
について、摩耗特性とビッカース硬度HV の関係を調査
した。先ず、摩耗特性は、それぞれの材料をビデオヘッ
ドの形状に加工したものを回転ドラムに搭載し、各材料
上に磁気テープを70時間走行させ、走行前後の各材料
の突出し量を測定して評価した。用いた材料としては、
Mn−Zn系フェライト2種、Zn系フェライト、チタ
ンカルシウム材、Mg−TiO2 、MnO−NiO、N
iO−Ca−TiO2 、ZrO2 、Zn−Al2 O3 ・
SiO2 が挙げられ、各材料をサンプル1〜9とした。
結果を表1に示す。なお、摩耗特性は、Mn−Zn系フ
ェライトであるサンプル1を基準材料とし、サンプル2
〜9の突出し量の変化をサンプル1の突出し量の変化に
対する比として表した。
のビッカース硬度HV と相関性があると言われており、
本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と保護板の
ビッカース硬度HV を略同一とすることによって、その
摩耗特性を略同一とすることができると思われる。そこ
で、基板及び保護板を構成する材料として一般的なもの
について、摩耗特性とビッカース硬度HV の関係を調査
した。先ず、摩耗特性は、それぞれの材料をビデオヘッ
ドの形状に加工したものを回転ドラムに搭載し、各材料
上に磁気テープを70時間走行させ、走行前後の各材料
の突出し量を測定して評価した。用いた材料としては、
Mn−Zn系フェライト2種、Zn系フェライト、チタ
ンカルシウム材、Mg−TiO2 、MnO−NiO、N
iO−Ca−TiO2 、ZrO2 、Zn−Al2 O3 ・
SiO2 が挙げられ、各材料をサンプル1〜9とした。
結果を表1に示す。なお、摩耗特性は、Mn−Zn系フ
ェライトであるサンプル1を基準材料とし、サンプル2
〜9の突出し量の変化をサンプル1の突出し量の変化に
対する比として表した。
【0017】
【表1】
【0018】表1の結果から、サンプル1とサンプル3
は略同一の摩耗特性を有し、且つそのビッカース硬度H
V も略同一であることがわかった。従って、材料のビッ
カース硬度HV を略同一とすることによって、その摩耗
特性を略同一とすることができることが確認された。す
なわち、本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と
保護板のビッカース硬度HV を略同じとすることによっ
て、両者の摩耗特性を略同一とすれば良い。
は略同一の摩耗特性を有し、且つそのビッカース硬度H
V も略同一であることがわかった。従って、材料のビッ
カース硬度HV を略同一とすることによって、その摩耗
特性を略同一とすることができることが確認された。す
なわち、本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいては、基板と
保護板のビッカース硬度HV を略同じとすることによっ
て、両者の摩耗特性を略同一とすれば良い。
【0019】また、本実施例の薄膜磁気ヘッドにおいて
は、基板と保護板の材料を同一材料としても良く、該薄
膜磁気ヘッドにおいては、加工特性を更に向上させ、偏
摩耗の発生を更に抑えることが可能である。
は、基板と保護板の材料を同一材料としても良く、該薄
膜磁気ヘッドにおいては、加工特性を更に向上させ、偏
摩耗の発生を更に抑えることが可能である。
【0020】なお、基板と保護板の材料を同一材料とす
ることにより、これらの熱膨張係数も同一となるため、
ガラス接合後の材料の反り等が発生しにくくなり、アジ
マスロス等の発生がなく、記録再生特性を更に向上させ
ることができる。
ることにより、これらの熱膨張係数も同一となるため、
ガラス接合後の材料の反り等が発生しにくくなり、アジ
マスロス等の発生がなく、記録再生特性を更に向上させ
ることができる。
【0021】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明は、薄膜素子基板と保護板がガラス接合されてなる薄
膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材料と保護板を
構成する材料の摩耗特性が略同一であるため、該薄膜磁
気ヘッドの使用時に偏摩耗が発生しにくく、良好な記録
特性を得ることが可能であり、製造時には薄膜素子基板
と保護板を均一に研磨することができるため、良好な加
工性を得ることができる。
明は、薄膜素子基板と保護板がガラス接合されてなる薄
膜磁気ヘッドにおいて、基板を構成する材料と保護板を
構成する材料の摩耗特性が略同一であるため、該薄膜磁
気ヘッドの使用時に偏摩耗が発生しにくく、良好な記録
特性を得ることが可能であり、製造時には薄膜素子基板
と保護板を均一に研磨することができるため、良好な加
工性を得ることができる。
【0022】また、本発明は薄膜素子基板と保護板がガ
ラス接合されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構
成する材料と保護板を構成する材料が同一材料とするこ
とによって、更に良好な記録特性及び加工性を得ること
ができる。
ラス接合されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、基板を構
成する材料と保護板を構成する材料が同一材料とするこ
とによって、更に良好な記録特性及び加工性を得ること
ができる。
【図1】薄膜磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図2】薄膜磁気ヘッドの一例を示す断面図である。
【図3】薄膜磁気ヘッドの摺動面の形状を測定する段差
測定装置を示す斜視図である。
測定装置を示す斜視図である。
【図4】従来の薄膜磁気ヘッドの摩耗の様子を段差測定
装置によって測定した結果を示すチャート図である。
装置によって測定した結果を示すチャート図である。
【図5】本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの実施例上に
磁気テープを走行させた際の摩耗の様子の一例を示す要
部概略模式断面図である。
磁気テープを走行させた際の摩耗の様子の一例を示す要
部概略模式断面図である。
【図6】本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの実施例上に
磁気テープを走行させた際の摩耗の様子の他の例を示す
要部概略模式断面図である。
磁気テープを走行させた際の摩耗の様子の他の例を示す
要部概略模式断面図である。
【図7】従来の薄膜磁気ヘッドに磁気テープを走行させ
た際の摩耗の様子の一例を示す要部概略模式断面図であ
る。
た際の摩耗の様子の一例を示す要部概略模式断面図であ
る。
【図8】従来の薄膜磁気ヘッドに磁気テープを走行させ
た際の摩耗の様子の他の例を示す要部概略模式断面図で
ある。
た際の摩耗の様子の他の例を示す要部概略模式断面図で
ある。
【図9】従来の薄膜磁気ヘッドに磁気テープを走行させ
た際の摩耗の様子のさらに他の例を示す要部概略模式断
面図である。
た際の摩耗の様子のさらに他の例を示す要部概略模式断
面図である。
1・・・・基板 2・・・・磁気回路 3・・・・薄膜素子基板 4・・・・融着ガラス 5・・・・保護板 6・・・・磁気テープ 7・・・・段差部 8・・・・磁性粉塵
Claims (2)
- 【請求項1】 薄膜素子基板と保護板がガラス接合され
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、 基板を構成する材料と保護板を構成する材料の摩耗特性
が略同一であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項2】 薄膜素子基板と保護板がガラス接合され
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、 基板を構成する材料と保護板を構成する材料が同一材料
であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5061175A JPH06251333A (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5061175A JPH06251333A (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06251333A true JPH06251333A (ja) | 1994-09-09 |
Family
ID=13163559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5061175A Withdrawn JPH06251333A (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06251333A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5117296U (ja) * | 1974-07-26 | 1976-02-07 | ||
| JPS61110386U (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-12 | ||
| JPS62192368U (ja) * | 1986-05-29 | 1987-12-07 |
-
1993
- 1993-02-25 JP JP5061175A patent/JPH06251333A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5117296U (ja) * | 1974-07-26 | 1976-02-07 | ||
| JPS61110386U (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-12 | ||
| JPS62192368U (ja) * | 1986-05-29 | 1987-12-07 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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