JPS6231010A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6231010A JPS6231010A JP17063385A JP17063385A JPS6231010A JP S6231010 A JPS6231010 A JP S6231010A JP 17063385 A JP17063385 A JP 17063385A JP 17063385 A JP17063385 A JP 17063385A JP S6231010 A JPS6231010 A JP S6231010A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えば薄膜磁気再生ヘッドや垂直磁気記録再
生ヘッドなどのように基板上に薄膜状の感磁層を形成し
た磁気ヘッドに係り、特にそれの基板に関する。
生ヘッドなどのように基板上に薄膜状の感磁層を形成し
た磁気ヘッドに係り、特にそれの基板に関する。
この種磁気ヘッドは使用の際、磁気テープや磁気ディス
クなどの磁気記録媒体が磁気ヘッドの基板端面に摺接す
るため、基板に耐摩耗性が要求される。この種磁気ヘッ
ドの基板として、従来は合成樹脂板やガラス板などが用
いられていたが耐摩耗性が十分でなく、基板の摩耗にと
もなって感磁層が損耗する欠点がありた。
クなどの磁気記録媒体が磁気ヘッドの基板端面に摺接す
るため、基板に耐摩耗性が要求される。この種磁気ヘッ
ドの基板として、従来は合成樹脂板やガラス板などが用
いられていたが耐摩耗性が十分でなく、基板の摩耗にと
もなって感磁層が損耗する欠点がありた。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
耐用寿命の長い、性能の安定した磁気ヘッドを提供する
にある。
耐用寿命の長い、性能の安定した磁気ヘッドを提供する
にある。
この目的を達成するため、本発明は、例えば合成樹脂、
ガラスあるいはセラミックなどからなる基板の表面に、
例えば磁気抵抗効果素子あるいは軟磁性材料などからな
る薄膜状の感磁層を形成してなる磁気ヘッドにおいて、
前記基板の少なくとも磁気テープあるいは磁気ディスク
などの磁気記録媒体が摺接する表面に、ポロンナイトラ
イド（ＢＮ）膜が形成されていることを特徴とするもの
である。
ガラスあるいはセラミックなどからなる基板の表面に、
例えば磁気抵抗効果素子あるいは軟磁性材料などからな
る薄膜状の感磁層を形成してなる磁気ヘッドにおいて、
前記基板の少なくとも磁気テープあるいは磁気ディスク
などの磁気記録媒体が摺接する表面に、ポロンナイトラ
イド（ＢＮ）膜が形成されていることを特徴とするもの
である。
前記ＢＮ膜は、水素希釈による低濃度のＢｔＨａ、ＮＨ
，を使用し、減圧下において高周波電界を加えてプラズ
マ分解させて、基板表面に析出させることによって形成
することができる。
，を使用し、減圧下において高周波電界を加えてプラズ
マ分解させて、基板表面に析出させることによって形成
することができる。
次に本発明の実施例を図とともに説明する。第１図ない
し第３図は、第１実施例に係る薄膜磁気再生ヘッドを説
明するための図である。薄膜磁気再生ヘッドは、ホルダ
１と磁気抵抗効果素子組立体２とから主に構成されてい
る。第１図に示すようにホルダ１の磁気テープ３と接触
する側には窓４を有し、それの裏側は開口凹部５となっ
ている。
し第３図は、第１実施例に係る薄膜磁気再生ヘッドを説
明するための図である。薄膜磁気再生ヘッドは、ホルダ
１と磁気抵抗効果素子組立体２とから主に構成されてい
る。第１図に示すようにホルダ１の磁気テープ３と接触
する側には窓４を有し、それの裏側は開口凹部５となっ
ている。
この開口凹部５から窓４の方向に向けて磁気抵抗効果素
子組立体２が挿入され、隙間に充填した接着剤６で固着
される。
子組立体２が挿入され、隙間に充填した接着剤６で固着
される。
磁気抵抗効果素子組立体２は第２図および第３図に示す
ように、基板７と、その基板７の表面でかつ磁気テープ
３と接触するように端部に形成された磁気抵抗効果素子
８き、基板７の表面に形成され一端が磁気抵抗効果素子
８の端部にそれぞれ接続されて他端が基板７の後方まで
砥びた２つのリード部９と、前記磁気抵抗効果素子８な
らびにリード部９を覆う保護膜１０（第３図参照）とか
ら構成されている。・ 前記基板７は例えば合成樹脂、ガラスあるいはセラミッ
クなどからなり、それの磁気テープ３と接触する側の端
面には磁気抵抗効果素子８およびリード部９を形成する
前に、ＢＮＮｉ２Ｏ全面にわたって形成されている。こ
のＢＮＮｉ２Ｏ次のように１して設けられる。
ように、基板７と、その基板７の表面でかつ磁気テープ
３と接触するように端部に形成された磁気抵抗効果素子
８き、基板７の表面に形成され一端が磁気抵抗効果素子
８の端部にそれぞれ接続されて他端が基板７の後方まで
砥びた２つのリード部９と、前記磁気抵抗効果素子８な
らびにリード部９を覆う保護膜１０（第３図参照）とか
ら構成されている。・ 前記基板７は例えば合成樹脂、ガラスあるいはセラミッ
クなどからなり、それの磁気テープ３と接触する側の端
面には磁気抵抗効果素子８およびリード部９を形成する
前に、ＢＮＮｉ２Ｏ全面にわたって形成されている。こ
のＢＮＮｉ２Ｏ次のように１して設けられる。
すなわち、誘導結合型のプラズマ分解析出装置（プラズ
マ（４Ｄ装置）内に所定の大きさの基板７を入れ、Ｈ２
で０．０５％ｌこ希釈したＢ、ルと同じく搗で０．０５
％に希釈したＮＨ，とを導入し、周波数１３、５６ Ｍ
ｌｌｚ、電力１００Ｗで高周波電界を印加し１１、Ｆグ
ロー放電をさせることにより、基板７の表面にＢＮＮｉ
２Ｏ形成される。
マ（４Ｄ装置）内に所定の大きさの基板７を入れ、Ｈ２
で０．０５％ｌこ希釈したＢ、ルと同じく搗で０．０５
％に希釈したＮＨ，とを導入し、周波数１３、５６ Ｍ
ｌｌｚ、電力１００Ｗで高周波電界を印加し１１、Ｆグ
ロー放電をさせることにより、基板７の表面にＢＮＮｉ
２Ｏ形成される。
ＢＮＮｉ２Ｏ堆積速度は約０．７〜０．９ Ａ ／ｍｉ
ｎである。またこのＢＮＮｉ２Ｏ赤外線スペクトルをと
ってみたところ１４００ｃｎｔ−’付近にＢＮの伸縮撮
動８００ｃｍ ’付近にＮ−Ｂ−Ｎの変角振動が見られ
る。
ｎである。またこのＢＮＮｉ２Ｏ赤外線スペクトルをと
ってみたところ１４００ｃｎｔ−’付近にＢＮの伸縮撮
動８００ｃｍ ’付近にＮ−Ｂ−Ｎの変角振動が見られ
る。
これはヘキサゴナルＢＮの特徴を示している。透過型電
子顕微鏡による観察でも電子線回折ではヘキサゴナルＢ
Ｈの多結晶であることを確認し、明視野像でも３００〜
４００久程度の粒界が見られた。
子顕微鏡による観察でも電子線回折ではヘキサゴナルＢ
Ｈの多結晶であることを確認し、明視野像でも３００〜
４００久程度の粒界が見られた。
このＢＮＮｉ２Ｏマイクロビッカース硬度計を用いて硬
度測定をしたところ、ダイヤモンド圧子の圧痕は見られ
ず測定不可能であった。このこさから析出形成されたＢ
ＮＮｉ２Ｏ、極めて高硬度であるこさが分から。
度測定をしたところ、ダイヤモンド圧子の圧痕は見られ
ず測定不可能であった。このこさから析出形成されたＢ
ＮＮｉ２Ｏ、極めて高硬度であるこさが分から。
このようにしてＢＮＮｉ２Ｏ形成したのち、公知の方法
ｌこよって磁気抵抗効果素子８、リード部９．９ならび
に二酸化ケイ素からなる保護膜１０が順次形成されて磁
気抵抗効果素子組立体が得られる。この組立体のリード
部９．９に第１図に示す如くリード線１２．１２が半田
付けされ、その後ホルダ１に組込まれて薄膜磁気再生ヘ
ッドとなる。この再生ヘッドの使用時には、第２図に示
すように磁気抵抗効果素子８の端面とＢＮＮｉ２Ｏが走
行する磁気テープ３と接触して、信号の読取りがなされ
る。
ｌこよって磁気抵抗効果素子８、リード部９．９ならび
に二酸化ケイ素からなる保護膜１０が順次形成されて磁
気抵抗効果素子組立体が得られる。この組立体のリード
部９．９に第１図に示す如くリード線１２．１２が半田
付けされ、その後ホルダ１に組込まれて薄膜磁気再生ヘ
ッドとなる。この再生ヘッドの使用時には、第２図に示
すように磁気抵抗効果素子８の端面とＢＮＮｉ２Ｏが走
行する磁気テープ３と接触して、信号の読取りがなされ
る。
第４図は、本発明の第２実施例に係る垂直磁気記録再生
ヘッドを説明するための図である。このヘッドは、軟磁
性材からなる主磁極こと補助磁極２２とから主に構成さ
れる。主磁極２１は、ガラスやポリイミドなどの基板ｎ
の片面にスパッタリングによって約１声厚に形成される
訳であるが、この主磁極２１を形成する前に基板２３の
磁気ディスク２４と対向する側の端面にＢＮ膜２５が形
成される。このＢＮ［２５の形成方法は第１実施例で説
明した方法と同様であるので、ここではその説明を省略
する。前記補助磁極乙には、励磁コイル２６が所定ター
ン数巻回される。
ヘッドを説明するための図である。このヘッドは、軟磁
性材からなる主磁極こと補助磁極２２とから主に構成さ
れる。主磁極２１は、ガラスやポリイミドなどの基板ｎ
の片面にスパッタリングによって約１声厚に形成される
訳であるが、この主磁極２１を形成する前に基板２３の
磁気ディスク２４と対向する側の端面にＢＮ膜２５が形
成される。このＢＮ［２５の形成方法は第１実施例で説
明した方法と同様であるので、ここではその説明を省略
する。前記補助磁極乙には、励磁コイル２６が所定ター
ン数巻回される。
主磁ｆｆ１２１と補助磁極２２との間に配置される磁気
ディスク２４はベースフィルム２７と磁性層２８とから
構成され、この磁性層２７が主磁極２１の端面ならびに
ＢＮ膜２５と摺接するようになっている。
ディスク２４はベースフィルム２７と磁性層２８とから
構成され、この磁性層２７が主磁極２１の端面ならびに
ＢＮ膜２５と摺接するようになっている。
前記励磁コイル２６に記録されるべき信号電流を流して
主磁啄２１を補助磁極４側から励磁すると、主磁極２１
の先端付近に強い垂直磁界が発生する。
主磁啄２１を補助磁極４側から励磁すると、主磁極２１
の先端付近に強い垂直磁界が発生する。
これによって磁性層２８がそれの厚さ方向ｔこ磁化され
て、所望の磁気記録がなされる。
て、所望の磁気記録がなされる。
前述したＢＮ膜はダイヤモンドとほぼ同等の硬度、耐摩
耗性を有しているから、このＢＮ膜でヘッド基板の少な
くとも磁気記録媒体と摺接する表面を覆っておけば、基
板の耐摩耗性が向上し、結局、磁気ヘッドの長寿命化が
図れる。また、ＢＮ膜の形成によって耐摩耗性が向上す
るから、基板の材質は特に限定されず選択範囲が拡張さ
れ、コストの低減が図れる。
耗性を有しているから、このＢＮ膜でヘッド基板の少な
くとも磁気記録媒体と摺接する表面を覆っておけば、基
板の耐摩耗性が向上し、結局、磁気ヘッドの長寿命化が
図れる。また、ＢＮ膜の形成によって耐摩耗性が向上す
るから、基板の材質は特に限定されず選択範囲が拡張さ
れ、コストの低減が図れる。
第１図ないし第３図は本発明の第１実施例に係る薄膜磁
気再生ヘッドを説明するための図で、第１図はその再生
ヘッドの縦断面図、第２図はそのヘッドに用いられる磁
気抵抗効果素子組立体の保護膜形成前の平面図、第３図
はその組立体の保護膜形成後の正面図、第４図は本発明
の第２実施例に係る垂直磁気記録再生ヘッドの使用態様
を示す断面図である。 ３・・・磁気テープ ７・・・基板 ８・・・磁気抵抗効果素子 １１・・・ＢＮ膜 ■・・・主磁極 田・・・基板 冴・・・磁気ディスク ５・・・ＢＮ膜 特許出願人 アルプス電気株式会社 （〕 ４ン
気再生ヘッドを説明するための図で、第１図はその再生
ヘッドの縦断面図、第２図はそのヘッドに用いられる磁
気抵抗効果素子組立体の保護膜形成前の平面図、第３図
はその組立体の保護膜形成後の正面図、第４図は本発明
の第２実施例に係る垂直磁気記録再生ヘッドの使用態様
を示す断面図である。 ３・・・磁気テープ ７・・・基板 ８・・・磁気抵抗効果素子 １１・・・ＢＮ膜 ■・・・主磁極 田・・・基板 冴・・・磁気ディスク ５・・・ＢＮ膜 特許出願人 アルプス電気株式会社 （〕 ４ン
Claims (5)
- （１）基板上に薄膜状の感磁層を形成してなる磁気ヘッ
ドにおいて、前記基板の少なくとも磁気記録媒体が摺接
する表面にポロンナイトライド膜が形成されていること
を特徴とする磁気ヘッド。 - （２）特許請求の範囲第１項記載において、前記ポロン
ナイトライド膜が、減圧下において水素希釈による低濃
度のＢ＿２Ｈ＿６、ＮＨ＿３に高周波電界を加えてプラ
ズマ分解させて析出したポロンナイトライド膜であるこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - （３）特許請求の範囲第１項記載において、前記ポロン
ナイトライド膜が基板の端面に形成されていることを特
徴とする磁気ヘッド。 - （４）特許請求の範囲第１項記載において、前記感磁層
が磁気抵抗効果素子で構成されていることを特徴とする
磁気ヘッド。 - （５）特許請求の範囲第１項記載において、前記感磁層
が軟磁性材料で構成されていることを特徴とする磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17063385A JPS6231010A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17063385A JPS6231010A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231010A true JPS6231010A (ja) | 1987-02-10 |
| JPH047007B2 JPH047007B2 (ja) | 1992-02-07 |
Family
ID=15908491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17063385A Granted JPS6231010A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6231010A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5475552A (en) * | 1992-07-31 | 1995-12-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having a chromium nitride protective film for use in a magnetic recording and/or reproducing apparatus and a method of manufacturing the same |
| US5636092A (en) * | 1992-07-31 | 1997-06-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having chromium nitride protective film for use in magnetic recording and/or reproducing apparatus and method of manufacturing the same |
-
1985
- 1985-08-01 JP JP17063385A patent/JPS6231010A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5475552A (en) * | 1992-07-31 | 1995-12-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having a chromium nitride protective film for use in a magnetic recording and/or reproducing apparatus and a method of manufacturing the same |
| US5636092A (en) * | 1992-07-31 | 1997-06-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head having chromium nitride protective film for use in magnetic recording and/or reproducing apparatus and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH047007B2 (ja) | 1992-02-07 |
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