JPH06255279A

JPH06255279A - ブランケット、およびそのブランケットを用いたカラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JPH06255279A
Application number: JP4266693A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Mizuno; 克彦水野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1993-03-03
Filing date: 1993-03-03
Publication date: 1994-09-13

Abstract

(57)【要約】【目的】高いインキ転移率と細線再現性を兼ね備えた
ブランケットおよびそのブランケットを用いたカラーフ
ィルターの製造方法を提供する。【構成】ブランケットを構成する表面ゴム層の表面に
低分子量シロキサン薄膜を設けることにより、版からブ
ランケットへのインキ受理率およびブランケットから被
印刷物へのインキ転移率が共に良好なブランケットとな
し、このブランケットを装着したブランケット胴を用い
て凹版に保持されたインキを被印刷物上に転移させてカ
ラーフィルターを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はインキの受理性および転
移性に優れたブランケット、およびそのブランケットを
用いたカラーフィルタの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にブランケットは版からインキを受
理し、そのインキを被印刷物に転移するという役割を担
っており、ブランケットの特性は印刷画素形状の再現性
や連続印刷時の安定性に大きな影響を与える。すなわ
ち、版からブランケットへのインキ受理率およびブラン
ケットから被印刷物へのインキ転移率は連続印刷適性を
略支配するため、特に重要である。

【０００３】また、ブランケットゴムの臨界表面張力
は、印刷画素形状にも大きな影響を及ぼす。すなわち、
極端に臨界表面張力が低いブランケットにおいては、版
から転移したインキがブランケット上ではじかれ、この
ため線幅が計画線幅より細くなったり、著しい場合には
線が切れ切れになってしまう。また、逆に極端に臨界表
面張力が大きいブランケットにおいては、ブランケット
から被印刷物へのインキ転移率が大幅に低下してしま
い、ブランケット上に残ったインキにより、連続印刷時
の膜厚コントロールが著しく困難になる。

【０００４】例えば、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤ
Ｍ）、ニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）等を用いて液
晶カラーフィルターの着色層（線幅約１００μｍ）を平
版オフセットにより印刷する場合、最小解像度は３０〜
４０μｍと悪く、また、ＥＰＤＭおよびＮＢＲは臨界表
面張力が高くインキぬれ性が高いため、ブランケットか
ら被印刷物であるガラス板へのインキ転移率が低く（５
０％以下）、ブランケットでのインキのパイリングを生
じる。このため、連続印刷を行った場合、線幅や印刷膜
厚の増大、分光透過率の低下傾向がみられ、使用に供し
得ないものであった。

【０００５】このような問題を解決するために、シリコ
ーンゴムのブランケットを使用して液晶カラーフィルタ
ー用の着色層（線幅約１００〜３００μｍ）を凹版オフ
セットにより印刷する例が報告されている（特開昭６２
−８５２０２号）。シリコーンのブランケットは、臨界
表面張力が低くインキに対するぬれ性が低いため、ブラ
ンケットからガラス板へのインキ転移率が高く、連続印
刷における安定性が増大すことになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
シリコーンゴムのブランケットは、ブランケットからガ
ラス板へのインキ転移率が高い反面、インキに対するぬ
れ性が低くブランケット上でインキがはじかれる傾向に
あり、ブラックマトリックス層のような線幅の細い（２
０μｍ程度）パターンを鮮明に再現するのに必要な解像
力を得ることは困難であった。また、１００μｍ程度の
着色層の線幅再現性も細る傾向にあった。は場るという
問題があった。

【０００７】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、高いインキ転移率と細線再現性を兼ね備
えたブランケットおよびそのブランケットを用いたカラ
ーフィルターの製造方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は最表面に表面ゴム層を備え、該表面
ゴム層の表面に低分子量シロキサン薄膜が存在するよう
な構成とした。

【０００９】さらに、本発明はカラーフィルターの所望
のパターンが形成された凹版に保持されたインキを、上
記のブランケットを用いたブランケット胴の表面ゴム層
に転移させ、その後、該ブランケット胴上から基板上に
インキを転移させるような構成とした。

【００１０】

【作用】ブランケットの最表面を構成する表面ゴム層
は、その表面に低分子量シロキサン薄膜を備えるため、
ブランケットの臨界表面張力は、版からブランケットへ
のインキ受理率およびブランケットから被印刷物へのイ
ンキ転移率が共に良好であるような範囲となり、高いイ
ンキ転移率を有するとともにインキのはじきが極めて少
ないブランケットである。そして、このようなブランケ
ットを装着しているブランケット胴を用いた凹版オフセ
ット印刷により線幅１００μｍ程度の着色層と線幅２０
μｍ程度のブラックマトリックス層とが鮮明に再現でき
るとともに、極めて安定した連続印刷が可能である。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図１は本発明のブランケットの一例を示す
断面図である。図１においてブランケット１は基布２
と、この基布２上に圧縮層３を介して形成された表面ゴ
ム層４とを備えている。

【００１２】基布２はブランケット１を印刷機のブラン
ケット胴に装着する際に、ブランケット１が張力を受け
て伸びるのを防止する役目をもち、従来のブランケット
に使用されている公知の基布を使用することができる。

【００１３】圧縮層３はスポンジ状の構造を有してお
り、外部から表面ゴム層４に圧力が加わった時に、この
圧縮層３が圧縮され応力を吸収して表面ゴム層４の変形
（バルジ現象）の発生を防止し、印刷パターンの寸法精
度の低下を防ぐ役目をもっている。

【００１４】表面ゴム層４は、凹版に保持されているイ
ンキを受理し、その後、受理したインキを被印刷物に転
移する機能を有している。そして、本発明のブランケッ
ト１は、この表面ゴム層４の表面に低分子量シロキサン
薄膜が存在するような構成であることを特徴としてい
る。これにより、表面ゴム層４の臨界表面張力は１０〜
２３ｄｙｎｅ／ｃｍ、好ましくは１５〜２３ｄｙｎｅ／
ｃｍとなる。臨界表張力が２３ｄｙｎｅ／ｃｍより大き
くなると、表面ゴム層４のインキに対するぬれ性が高す
ぎてブランケットから被印刷物へのインキ転移率が低く
なりパイリングの原因となる。また、臨界表面張力が１
０ｄｙｎｅ／ｃｍより小さくなると、版からブランケッ
トへのインキ受理性が低下し、細線再現性、線幅再現性
が低下して好ましくない。

【００１５】ここで、表面に低分子量シロキサン薄膜が
存在するような表面ゴム層４は、ジメチルシロキサン、
メチルビニルシロキサン、メチルフルオロビニルシロキ
サン、メチルフェニルビニルシロキサン等や、上記ポリ
マーとＮＢＲ、ＥＰＤＭ、スチレンブタジエンゴム（Ｓ
ＢＲ）とのブレンド及び共重合系、フッ素ゴム、及びＮ
ＢＲ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲ等にシリコーンオイル等を混り
込んだもの及びＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲをシロキサン
の滞留雰囲気中で１００〜２００℃で１〜４時間程度ベ
ーキングすることにより形成することができる。このよ
うに滞留雰囲気中でベーキングすることにより、気散し
たゴム中の低分子量シロキサンがゴム表面に再付着し、
温度、時間等の条件を変えることでブランケット表面の
臨界表面張力を制御することができる。

【００１６】尚、上記のような表面ゴム層４は、基布２
および圧縮層３上に表面ゴムを塗布した後、表面が平滑
なフィルムを表面ゴム塗布面に圧着させた状態で加硫を
行い、その後、フィルムを剥離して作成してもよい。ま
た、表面が平滑なフィルムを圧着させた状態で加硫を行
い作製されたゴムシートを、表面が平滑なフィルムが剥
離された面が最表面となるように圧縮層３上にラミネー
トして作成してもよい。表面が平滑なフィルムとして
は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、
ポリエチレン（ＰＥ）フィルム等が好ましい。

【００１７】また、表面ゴム層４は、アンカー層を介し
て圧縮層３上に形成してもよい。この場合、アンカー層
は一層だけの綿布層、シランカップラー剤等の材料によ
り形成することができる。このアンカー層の厚さは０〜
５００μｍ程度が好ましい。

【００１８】また、上述の例においては、ブランケット
１はいわゆるコンプレッシブル型のブランケットである
が、本発明はこれに限定されるものではなく、圧縮層を
備えいないソリッド型のブランケットであってもよい。

【００１９】そして、上述のような本発明のブランケッ
ト１を装着したブランケット胴を用いて凹版オフセット
印刷により解像度に高いカラーフィルターを連続して印
刷することができる。図２は本発明のブランケットを用
いたカラーフィルター製造における微細パターン形成を
説明する図である。図２において、まず、凹版１０に所
定のパターンで形成された凹部１１にインキ１２を充填
する（図２（ａ））。次に、本発明のブランケット１を
装着したブランケット胴１５を凹版１１上に回転移動さ
せながら圧着させて凹部１１内のインキ１２をブランケ
ット胴１５上に転写する（図２（ｂ））。そして、この
ブランケット胴１５を被印刷物である透明ガラス基板２
０に圧着することにより、ブランケット胴１５上のイン
キ１２を透明ガラス基板２０に転移させて微細パターン
を形成する（図２（ｃ））。

【００２０】このような凹版オフセット印刷における凹
版の版深は、好ましくは８μｍ以下であり、より好まし
くは３〜８μｍの範囲である。次に、実験例を示して本
発明を更に詳細に説明する。（実験例１）基布と圧縮層からなる基材上に表面ゴムを
塗布した後、ＰＥＴフィルムを表面ゴム塗布綿に圧着さ
せた状態で加硫を行い、その後、フィルムを剥離して表
面ゴム層（厚さ約１００μｍ）を形成してブランケット
（試料１〜５）を作成した。各ブランケット（試料１〜
５）の作成に使用した表面ゴム層形成用の組成物および
加硫条件は、以下に示す通りとした。

【００２１】試料１：（組成物）信越シリコーン（株）製 KE765-U …１００重量部架橋剤 2,5- ジ−メチル-2,5- ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン … ５重量部（加硫条件）１次加硫１７０℃，２０分間試料２：（組成物）信越シリコーン（株）製 KE765-U …１００重量部架橋剤 2,5- ジ−メチル−2,5-ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン … ５重量部（加硫条件）１次加硫１７０℃，２０分間２次加硫２００℃，１時間、真空オーブン中試料３：（組成物）信越シリコーン（株）製 KE765-U …１００重量部架橋剤 2,5- ジ−メチル−2,5-ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン … ５重量部（加硫条件）１次加硫１７０℃，２０分間２次加硫２００℃，４時間、真空オーブン中試料４：（組成物）信越シリコーン（株）製 KE765-U …１００重量部架橋剤 2,5- ジ−メチル−2,5-ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン … ５重量部（加硫条件）１次加硫１７０℃，２０分間２次加硫２００℃，４時間＊２次加硫の雰囲気は滞留とした。さらにジメチル系シ
リコーンオイルを２次加硫に使用したチャンバー内で加
熱し、ゴム表面に強制的に低分子量シロキサンの再付着
被膜を形成した。

【００２２】試料５：（組成物）信越シリコーン（株）製 KE5570-U …１００重量部日本合成ゴム（株）製 JSR N220SH … １０重量部架橋剤 2,5- ジ−メチル−2,5-ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン … ５重量部硫黄 … ０．３重量部チラウム … ０．１重量部（加硫条件）１次加硫１７０℃，２０分間２次加硫２００℃，２４時間、真空オーブン中
上記のように作成した各ブランケット（試料１〜５）の
表面組成を下記の方法で分析し、ブランケット表面に存
在する低分子量シロキサン薄膜の量を測定し、結果を下
記の表１に示した。（分析方法）作成したサンプルを印刷機に装着し、洗浄
直後のガラス基板上に印圧をかけながら接触（空刷り）
させた。

【００２３】空刷り条件、ガラス洗浄条件を以下に示
す。ａ．空刷り条件印圧（押し込み量）１００μｍスピード１０ｍｍ／ｓｅｃｂ．ガラス洗浄条件界面活性剤ブラシ洗浄ＲＢＳ−２５１０％溶液純水超音波洗浄２０分間トルエン超音波洗浄２０分間ＣＣｌ₄超音波洗浄２０分間上記操作により、各試料ブランケット表面のシロキサン
が転移したガラス基板をＣＣｌ₄溶液に２４時間浸し、
ガラス表面のシロキサンをＣＣｌ₄中に抽出した。

【００２４】ガラス基板条件、ＣＣｌ₄量を以下に示
す。ｃ．ガラス基板条件サイズ３００×３００×１．１ｍｍ表面積９００ｃｍ² 材質バリウムホウケイ酸ガラスｄ．ＣＣｌ₄量３００ｇ上記の方法で得たＣＣｌ₄溶液を下記の条件でガスクロ
マトグラフにて分析した。

【００２５】ｅ．ＧＣ分析条件装置島津製作所（株）ＧＣ−１４
ＡカラムＵＬＢＯＮＨＲ−１７０１キャリアーガスＮ₂ 尚、低分子量シロキサンの転移量は、Ｓi Ｏ_xの繰り返
し単位Ｄ₄（繰り返し４回）〜Ｄ₁₀（繰り返し１０回）
毎に求めた。

【００２６】

【表１】また、上記のように作成した各ブランケット（試料１〜
５）の臨界表面張力を下記の溶剤を使用し、協和界面科
学（株）、接触角計ＣＡ−Ｄ型にて測定し、Zismanプロ
ットより算出した。

【００２７】溶剤名表面張力（dyne/cm ）・エタノール２０．０５・ジエチレングリコールモノエチルエーテル３１．９・トリメチロールプロパントリアクリレート３５．５・ジアリルフタレート３６．８この臨界表面張力の測定結果を下記の表２に示した。

【００２８】

【表２】上記のようにして作成したブランケット試料１〜５を使
い、異なるライン＆スペース（Ｌ＆Ｓ）のパターンを持
つ凹版（版深６μｍ）のパターンをガラス基板上に印刷
し、Ｌ＆Ｓでの解像力を測定した。また、ブランケット
からガラス基板へのインキ転移率を測定した。測定に使
用したインキの組成を以下に示す。

【００２９】（インキ組成）顔料アントラキノン系レット１６重量％ジスアゾ系イエロー４重量％樹脂オリゴエステルアクリレート４２重量％ジアリルフタレートプレポリマー１８重量％モノマージアリルフタレートモノマー１５重量％溶剤ジエチレングリコールモノエチルエーテル５重量％尚、インキ転移率の測定は以下のようにして行った。先
ず、版からブランケットへのインキ転移膜についてブラ
ンケット上で干渉膜厚計 Sin 20X （ユニオン光学
（株））を使用して顕微鏡写真を撮影し、その写真より
インキ膜厚を測定した。これを版からブランケットへの転移膜厚＝ａ（μｍ）とする。

【００３０】次に、同一条件でガラスへの印刷を行い、
ガラス上のインキ膜厚を同様に測定する。これをブランケットからガラスへ転移したインキ膜厚＝ｂ（μ
ｍ）とする。

【００３１】上記のａ、ｂにより、インキ転移率＝ｂ／ａ×１００（％）を求める。

【００３２】表１、表２に示されるように、試料１〜３
は表面に低分子量シロキサンの薄膜が適度に存在するた
め、ブランケット胴からガラス基板へのインキ転移率が
高く（１００％）、かつＬ＆Ｓでの解像度は２０μｍが
確保され良好な結果が得られた。

【００３３】これに対して、試料４は表面に存在する低
分子量シロキサン量が多過ぎ、極端に臨界表面張力が低
くなり、版から転移したインキがブランケット上ではじ
かれ、このため線幅再現性の劣化、エッジ精度の劣化が
生じた。

【００３４】また、試料５は表面に低分子量シロキサン
薄膜がほとんど存在しないため、臨界表面張力が大きく
なり、ブランケットから被印刷物へのインキ転移率が大
幅に低下し、解像力の低いブランケットであった。（実験例２）上記の実験例１の試料２のブランケットを
用い１２０μｍのストライプパターンの凹版（版深５μ
ｍ）を使用してガラス基板への凹版オフセット印刷を連
続して行った。その結果、図３に示されるように、本発
明のブランケットである試料２を用いた場合、ブランケ
ットからガラス基板へのインキ転移率が高い（１００
％）ため、線幅が僅かに（３μｍ程度）細くなったが、
安定した線幅で連続印刷が可能であった。しかし、試料
５を用いた場合では、インキ転移率が低い（８０％）た
め、線幅が急激に増加し、カラーフィルタ用の用途とし
ての使用範囲を越えてしまった。

【００３５】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればブ
ランケットを構成する表面ゴム層の表面に低分子量シロ
キサン薄膜を設けることにより、版からブランケットへ
のインキ受理率およびブランケットから被印刷物へのイ
ンキ転移率が共に良好で高解像力を兼ね備えたブランケ
ットが可能となり、また、このブランケットを使用して
印刷法により細線精度の高いカラーフィルターの製造が
可能となり、さらに連続印刷時の線幅、インキ膜厚が安
定しているという効果が奏される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブランケットの一例を示す断面図であ
る。

【図２】本発明のブランケットを用いたカラーフィルタ
ー製造における微細パターン形成を説明する図である。

【図３】凹版オフセット印刷を連続して行った場合の線
幅の変化を示す図である。

【符号の説明】

１…ブランケット２…基布３…圧縮層４…表面ゴム層１０…凹版１５…ブランケット胴２０…ガラス基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】最表面に表面ゴム層を備え、該表面ゴム
層の表面に低分子量シロキサン薄膜が存在することを特
徴とするブランケット。
【請求項２】前記表面ゴム層は基布上に圧縮層を介し
て形成されていることを特徴とする請求項１記載のブラ
ンケット。
【請求項３】カラーフィルターの所望のパターンが形
成された凹版に保持されたインキを、請求項１または２
に記載のブランケットを用いたブランケット胴の表面ゴ
ム層に転移させ、その後、該ブランケット胴上から基板
上にインキを転移させることを特徴とするカラーフィル
ターの製造方法。
【請求項４】前記凹版の版深が８μｍ以下であること
を特徴とする請求項３記載のカラーフィルターの製造方
法。