JPH0626034A - 自立パネル山留め工法 - Google Patents
自立パネル山留め工法Info
- Publication number
- JPH0626034A JPH0626034A JP18106692A JP18106692A JPH0626034A JP H0626034 A JPH0626034 A JP H0626034A JP 18106692 A JP18106692 A JP 18106692A JP 18106692 A JP18106692 A JP 18106692A JP H0626034 A JPH0626034 A JP H0626034A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mountain retaining
- panel
- retaining panel
- vertical hole
- mountain
- Prior art date
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- Bulkheads Adapted To Foundation Construction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 地下一階程度の比較的浅い根切り工事を簡易
に行うことができ、かつ、地下躯体を短期間のうちに容
易に構築できるようにした自立パネル山留め工法を提供
する。 【構成】 削孔と同時にセメントミルク５を注入しつ
つ、縦孔６を削孔し、次に、前記縦孔６内に下端部に支
持杭３を突設した山留めパネル１を建て込み、次に、前
記山留めパネル１の内側の地盤を掘削し、この山留めパ
ネル１を地下構造物の本設壁とする。
に行うことができ、かつ、地下躯体を短期間のうちに容
易に構築できるようにした自立パネル山留め工法を提供
する。 【構成】 削孔と同時にセメントミルク５を注入しつ
つ、縦孔６を削孔し、次に、前記縦孔６内に下端部に支
持杭３を突設した山留めパネル１を建て込み、次に、前
記山留めパネル１の内側の地盤を掘削し、この山留めパ
ネル１を地下構造物の本設壁とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、地下一階程度の比較
的浅い根切り工事を簡易にし、かつ、地下躯体を容易に
構築できるようにした自立パネル山留め工法に関する。
的浅い根切り工事を簡易にし、かつ、地下躯体を容易に
構築できるようにした自立パネル山留め工法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、地下一階程度の比較的浅い根切り
工事においても、シートパイル工法やＳＭＷ工法等によ
る山留め壁が構築される。
工事においても、シートパイル工法やＳＭＷ工法等によ
る山留め壁が構築される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの山留
め工法は、いずれの場合においても、山留め壁とは別途
に本設壁が施工されるため、全体の壁厚が相当厚くなっ
てしまい、このため、地下部分の床面積が大幅に制約さ
れてしまうという欠点があった。また、結果的に壁を二
重に施工することとなるため工期の長期化も免れないと
いう欠点もあった。
め工法は、いずれの場合においても、山留め壁とは別途
に本設壁が施工されるため、全体の壁厚が相当厚くなっ
てしまい、このため、地下部分の床面積が大幅に制約さ
れてしまうという欠点があった。また、結果的に壁を二
重に施工することとなるため工期の長期化も免れないと
いう欠点もあった。
【０００４】この発明は、このような前記従来の課題を
解決するために提案されたもので、地下一階程度の比較
的浅い根切り工事を簡易に行うことができ、かつ、地下
躯体を短期間のうちに容易に構築できるようにした自立
パネル山留め工法を提供することを目的とする。
解決するために提案されたもので、地下一階程度の比較
的浅い根切り工事を簡易に行うことができ、かつ、地下
躯体を短期間のうちに容易に構築できるようにした自立
パネル山留め工法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明に係る自立パネ
ル山留め工法においては、削孔と同時にセメントミルク
を注入しつつ、縦孔を削孔し、次に、前記縦孔内に下端
部に支持杭を突設した山留めパネルを建て込み、次に、
前記山留めパネル内側の地盤を掘削し、この山留めパネ
ルを地下構造物の本設壁として利用する。
ル山留め工法においては、削孔と同時にセメントミルク
を注入しつつ、縦孔を削孔し、次に、前記縦孔内に下端
部に支持杭を突設した山留めパネルを建て込み、次に、
前記山留めパネル内側の地盤を掘削し、この山留めパネ
ルを地下構造物の本設壁として利用する。
【０００６】
【実施例】図１(a),(b),(c),(d) は、この発明に係る自
立パネル山留め工法の一実施例を示すものであり、ま
た、図２はこの山留め工法に使用される山留めパネルの
平面図、図３はその正面図、そして、図４はその側面図
をそれぞれ示したものである。図において、符号１は山
留めパネル、２はこの山留めパネル１を補強するための
鉄骨材、３はこの山留めパネル１を地盤中に自立させる
とともに山留め壁の応力材となる支持杭である。
立パネル山留め工法の一実施例を示すものであり、ま
た、図２はこの山留め工法に使用される山留めパネルの
平面図、図３はその正面図、そして、図４はその側面図
をそれぞれ示したものである。図において、符号１は山
留めパネル、２はこの山留めパネル１を補強するための
鉄骨材、３はこの山留めパネル１を地盤中に自立させる
とともに山留め壁の応力材となる支持杭である。
【０００７】山留めパネル１にはプレキャストコンクリ
−ト板（高さ5m程度、幅１〜２m 程度、厚さ30cm程度）
が使用されている。
−ト板（高さ5m程度、幅１〜２m 程度、厚さ30cm程度）
が使用されている。
【０００８】山留めパネル１には土圧等に対する曲げ強
度を高めるために上下方向に連続する柱部分1a,1a が形
成され、柱部分1a,1a には補剛材としてＨ形鋼からなる
鉄骨材２が上下方向に連続して挿通され、かつ、この鉄
骨材２の下端部は山留めパネル１の下端部より所定長さ
突出され、支持杭３の継手部2aを形成している。
度を高めるために上下方向に連続する柱部分1a,1a が形
成され、柱部分1a,1a には補剛材としてＨ形鋼からなる
鉄骨材２が上下方向に連続して挿通され、かつ、この鉄
骨材２の下端部は山留めパネル１の下端部より所定長さ
突出され、支持杭３の継手部2aを形成している。
【０００９】支持杭３にはＨ形鋼が使用され、この支持
杭３は山留めパネル１の建て込みに際し、継手部2aに溶
接若しくはボルト止めすることにより接合される。
杭３は山留めパネル１の建て込みに際し、継手部2aに溶
接若しくはボルト止めすることにより接合される。
【００１０】また、山留めパネル１の左右縁端部にはと
なり合うパネルどうしを接合するための継手部（図省
略）が形成され、内側面には山留めパネル１の内側面を
汚れより保護するためのビニールシート等の養生シート
４が張りつけられている。
なり合うパネルどうしを接合するための継手部（図省
略）が形成され、内側面には山留めパネル１の内側面を
汚れより保護するためのビニールシート等の養生シート
４が張りつけられている。
【００１１】続いて、施工方法を順をおって説明する。
【００１２】 まず、アースオーガー工法等によって
セメントミルク５を注入しつつ、縦孔６を削孔する（図
１（ａ）参照）。
セメントミルク５を注入しつつ、縦孔６を削孔する（図
１（ａ）参照）。
【００１３】この場合、縦孔下部（根入れ部）6aおよび
縦孔上部6bに注入されるセメントミルクは、掘削土と攪
拌されてソイルモルタルを形成するものであるが、根入
れ部6aに注入されるセメントミルクは、硬化後所定の強
度を発現するように調合し、これより浅い縦孔上部6bに
注入されるセメントミルクは、後で容易に削り取れるよ
うに、単に固まる程度の強度に調合する。
縦孔上部6bに注入されるセメントミルクは、掘削土と攪
拌されてソイルモルタルを形成するものであるが、根入
れ部6aに注入されるセメントミルクは、硬化後所定の強
度を発現するように調合し、これより浅い縦孔上部6bに
注入されるセメントミルクは、後で容易に削り取れるよ
うに、単に固まる程度の強度に調合する。
【００１４】 つぎに、縦孔６内のソイルモルタルが
硬化するまえに縦孔６の中に山留めパネル１を建て込む
（図１（ｂ）参照）。この場合、山留めパネル１の下端
部に取り付けられた支持杭３は縦孔下部6a内に奥深く建
て込み、山留めパネル１は縦孔上部6bに建て込む。そし
て、縦孔下部6a内のソイルモルタルが充分な強度を発現
するまで充分に養生する。また、となり合う山留めパネ
ル1,1 を一体的に接合する。
硬化するまえに縦孔６の中に山留めパネル１を建て込む
（図１（ｂ）参照）。この場合、山留めパネル１の下端
部に取り付けられた支持杭３は縦孔下部6a内に奥深く建
て込み、山留めパネル１は縦孔上部6bに建て込む。そし
て、縦孔下部6a内のソイルモルタルが充分な強度を発現
するまで充分に養生する。また、となり合う山留めパネ
ル1,1 を一体的に接合する。
【００１５】 つぎに、山留めパネル１の内側の地盤
を掘削し、根切り底1cまで掘り下げる（図１（ｃ）参
照）。また、縦孔上部6bのソイルモルタルを山留めパネ
ル１の表面が露出するまで削り取り、山留めパネル１の
養生シート４を剥がす。さらに、となり合う山留めパネ
ル１の継手部の防水処理を入念に行う。
を掘削し、根切り底1cまで掘り下げる（図１（ｃ）参
照）。また、縦孔上部6bのソイルモルタルを山留めパネ
ル１の表面が露出するまで削り取り、山留めパネル１の
養生シート４を剥がす。さらに、となり合う山留めパネ
ル１の継手部の防水処理を入念に行う。
【００１６】なお、山留めパネル１の内側の地盤を掘削
したとしても、山留めパネル１は支持杭３によって根入
れ部6bに支持されていることにより、内側に傾いたり、
倒れたりすることはない。
したとしても、山留めパネル１は支持杭３によって根入
れ部6bに支持されていることにより、内側に傾いたり、
倒れたりすることはない。
【００１７】また、縦孔６を斜めに削孔することにより
山留め壁の自重を利用したもたれ自立山留めも可能であ
る（図１（ｄ）参照）。なお、この場合にも山留めパネ
ル１は鉛直に立て込むものとする。
山留め壁の自重を利用したもたれ自立山留めも可能であ
る（図１（ｄ）参照）。なお、この場合にも山留めパネ
ル１は鉛直に立て込むものとする。
【００１８】 根切りが完全に修了したら、山留めパ
ネル１による連続壁を地下構造物の本設壁として、地下
構造物の構築に取り掛かる。
ネル１による連続壁を地下構造物の本設壁として、地下
構造物の構築に取り掛かる。
【００１９】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているため、以下に記載するような効果を有する。
ているため、以下に記載するような効果を有する。
【００２０】 従来の山留め工法には、必ず必要とさ
れた腹起こしや切り梁を一切必要としないため、根切り
工事がし易い。
れた腹起こしや切り梁を一切必要としないため、根切り
工事がし易い。
【００２１】 山留め壁を地下構造物の本設壁として
そのまま利用できるため、本来の本設壁の施工が全く不
要になり、工期の大幅な短縮化が可能である。
そのまま利用できるため、本来の本設壁の施工が全く不
要になり、工期の大幅な短縮化が可能である。
【００２２】また、山留め壁による地下部分の床面積の
ロスが無くなるため、可能な限りの広い地下空間を確保
することができる。
ロスが無くなるため、可能な限りの広い地下空間を確保
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）はこの発明
に係る山留め壁の施工方法を示す縦孔部分の縦断面図で
ある。
に係る山留め壁の施工方法を示す縦孔部分の縦断面図で
ある。
【図２】山留め壁の平面図である。
【図３】図２に示す山留め壁の正面図である。
【図４】図２に示す山留め壁の側面図である。
１…山留めパネル、２…鉄骨材、３…支持杭、４…養生
シート、５…セメントミルク、６…縦孔、6a…縦孔下部
（根入れ部）、6b…縦孔上部。
シート、５…セメントミルク、６…縦孔、6a…縦孔下部
（根入れ部）、6b…縦孔上部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小松 淳 東京都調布市飛田給２丁目19番１号 鹿島 建設株式会社技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 削孔と同時にセメントミルクを注入しつ
つ、縦孔を削孔し、次に、前記縦孔内に下端部に支持杭
を突設した山留めパネルを建て込み、次に、前記山留め
パネル内側の地盤を掘削し、この山留めパネルを地下構
造物の本設壁とすることを特徴とする自立パネル山留め
工法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4181066A JP2555838B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 自立パネル山留め工法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4181066A JP2555838B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 自立パネル山留め工法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0626034A true JPH0626034A (ja) | 1994-02-01 |
| JP2555838B2 JP2555838B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=16094203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4181066A Expired - Lifetime JP2555838B2 (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | 自立パネル山留め工法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2555838B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4810419A (en) * | 1985-05-17 | 1989-03-07 | Ube Industries Ltd. | Shaped electroconductive aromatic imide polymer article and process for producing |
| JP2011122386A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Toda Constr Co Ltd | 地下構造物の構築方法及び地下構造物、並びにそのためのプレキャストコンクリート側壁又は中間壁／柱 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5349817A (en) * | 1976-10-19 | 1978-05-06 | Nippon Pressed Concrete Kk | Underground wall construction method |
| JPS61134422A (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-21 | Fujita Corp | プレキヤストコンクリ−ト地中連続壁の施工方法 |
| JPH02266015A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-30 | Takenaka Komuten Co Ltd | 地中連続壁の構築方法 |
-
1992
- 1992-07-08 JP JP4181066A patent/JP2555838B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5349817A (en) * | 1976-10-19 | 1978-05-06 | Nippon Pressed Concrete Kk | Underground wall construction method |
| JPS61134422A (ja) * | 1984-12-04 | 1986-06-21 | Fujita Corp | プレキヤストコンクリ−ト地中連続壁の施工方法 |
| JPH02266015A (ja) * | 1989-04-03 | 1990-10-30 | Takenaka Komuten Co Ltd | 地中連続壁の構築方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4810419A (en) * | 1985-05-17 | 1989-03-07 | Ube Industries Ltd. | Shaped electroconductive aromatic imide polymer article and process for producing |
| JP2011122386A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Toda Constr Co Ltd | 地下構造物の構築方法及び地下構造物、並びにそのためのプレキャストコンクリート側壁又は中間壁／柱 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2555838B2 (ja) | 1996-11-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960709 |