JPH06264221A - 表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体 - Google Patents
表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体Info
- Publication number
- JPH06264221A JPH06264221A JP5575893A JP5575893A JPH06264221A JP H06264221 A JPH06264221 A JP H06264221A JP 5575893 A JP5575893 A JP 5575893A JP 5575893 A JP5575893 A JP 5575893A JP H06264221 A JPH06264221 A JP H06264221A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体で
あって、金属被膜の剥離強度が高いものを提供する。 【構成】セメント、水、ポリビニルアルコール、保水
剤、および細骨材を混練してセメント硬化体1を板状
(5mm厚)に成形した。このセメント硬化体1の一方
の面にアクリル系樹脂を塗布して10μmの被膜2を形
成し、その表面にスパッタリングと電解メッキとによ
り、銅薄膜3a,3bを重ねて形成した(銅薄膜全体3
で20μm)。
あって、金属被膜の剥離強度が高いものを提供する。 【構成】セメント、水、ポリビニルアルコール、保水
剤、および細骨材を混練してセメント硬化体1を板状
(5mm厚)に成形した。このセメント硬化体1の一方
の面にアクリル系樹脂を塗布して10μmの被膜2を形
成し、その表面にスパッタリングと電解メッキとによ
り、銅薄膜3a,3bを重ねて形成した(銅薄膜全体3
で20μm)。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面に金属薄膜が被覆
されたセメント硬化体に関し、装飾性に優れたセメント
硬化体として建築材料に有効に使用されるものである。
されたセメント硬化体に関し、装飾性に優れたセメント
硬化体として建築材料に有効に使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】製品の表面に装飾性を与える方法とし
て、蒸着やメッキ等の金属薄膜形成技術は、その品質や
資源の節約に寄与するという点からも有効な方法であ
る。近年、建築材料であるセメント硬化体の表面に、表
面硬度の改善と装飾性とを兼ねて金属薄膜を形成するこ
とが検討されているが、通常のセメント硬化体の表面に
は500μm以上のマクロな凹凸が存在するため、セメ
ント硬化体の表面に蒸着やメッキ等を施すことは困難で
あった。
て、蒸着やメッキ等の金属薄膜形成技術は、その品質や
資源の節約に寄与するという点からも有効な方法であ
る。近年、建築材料であるセメント硬化体の表面に、表
面硬度の改善と装飾性とを兼ねて金属薄膜を形成するこ
とが検討されているが、通常のセメント硬化体の表面に
は500μm以上のマクロな凹凸が存在するため、セメ
ント硬化体の表面に蒸着やメッキ等を施すことは困難で
あった。
【0003】また、セメント硬化体の表面に蒸着によっ
て金属薄膜を形成することができても、剥離強度が弱い
ため、例えば、銅の薄膜が被覆されたセメント硬化体を
炭酸アンモニウム水溶液に浸すことにより銅の表面に緑
青を形成するような二次加工を施すと薄膜が剥離し易
く、建築材料として実用的に用いられるものではなかっ
た。
て金属薄膜を形成することができても、剥離強度が弱い
ため、例えば、銅の薄膜が被覆されたセメント硬化体を
炭酸アンモニウム水溶液に浸すことにより銅の表面に緑
青を形成するような二次加工を施すと薄膜が剥離し易
く、建築材料として実用的に用いられるものではなかっ
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の問題点に着目してなされたものであり、表面
に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体であって、金属
被膜の剥離強度が高いものを提供することを目的とす
る。
従来技術の問題点に着目してなされたものであり、表面
に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体であって、金属
被膜の剥離強度が高いものを提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、少なくともセメント、水、水溶性高分
子、保水剤、およびフィラーを混練して成形されたセメ
ント硬化体と、このセメント硬化体の表面に形成された
合成樹脂の被膜と、この被膜の表面に形成された金属薄
膜とからなることを特徴とする表面に金属薄膜が被覆さ
れたセメント硬化体を提供する。
に、本発明は、少なくともセメント、水、水溶性高分
子、保水剤、およびフィラーを混練して成形されたセメ
ント硬化体と、このセメント硬化体の表面に形成された
合成樹脂の被膜と、この被膜の表面に形成された金属薄
膜とからなることを特徴とする表面に金属薄膜が被覆さ
れたセメント硬化体を提供する。
【0006】本発明を構成するセメント硬化体は、少な
くともセメント、水、水溶性高分子、保水剤、およびフ
ィラーを混練して成形されたものであり、セメントに対
して水溶性高分子を0.1〜10重量%含有することが
好ましい。水溶性高分子としては、ポリビニルアルコー
ル、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、
ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸塩、ポリメタ
クリル酸塩、ユリア樹脂、変性メラミン樹脂、ポリスチ
レンスルホン酸塩、アルギン酸塩等の合成高分子または
天然高分子が有効に用いられる。
くともセメント、水、水溶性高分子、保水剤、およびフ
ィラーを混練して成形されたものであり、セメントに対
して水溶性高分子を0.1〜10重量%含有することが
好ましい。水溶性高分子としては、ポリビニルアルコー
ル、部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、
ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸塩、ポリメタ
クリル酸塩、ユリア樹脂、変性メラミン樹脂、ポリスチ
レンスルホン酸塩、アルギン酸塩等の合成高分子または
天然高分子が有効に用いられる。
【0007】保水剤やフィラーの材質や混練、成形方法
は特に限定されず、従来より周知のセメント硬化体に使
用される材質および方法を採用することができる。本発
明における被膜をなす合成樹脂としては、ガラス転移温
度が60℃以上である耐熱性樹脂が好ましい。ガラス転
移温度が60℃未満の樹脂であると、金属薄膜を例えば
蒸着により形成する場合には、蒸着される原子や分子、
および蒸着雰囲気に存在するその他の高エネルギー粒子
が被膜表面に衝突するとともに、ヒーターからの輻射熱
により加熱されるため、被膜そのものが変形または軟化
することから、蒸着された金属薄膜の剥離強度が低下す
ると考えられる。
は特に限定されず、従来より周知のセメント硬化体に使
用される材質および方法を採用することができる。本発
明における被膜をなす合成樹脂としては、ガラス転移温
度が60℃以上である耐熱性樹脂が好ましい。ガラス転
移温度が60℃未満の樹脂であると、金属薄膜を例えば
蒸着により形成する場合には、蒸着される原子や分子、
および蒸着雰囲気に存在するその他の高エネルギー粒子
が被膜表面に衝突するとともに、ヒーターからの輻射熱
により加熱されるため、被膜そのものが変形または軟化
することから、蒸着された金属薄膜の剥離強度が低下す
ると考えられる。
【0008】ガラス転移温度が60℃未満の樹脂として
は、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹
脂、メタクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、およびウレタ
ン系樹脂等が挙げられる。この被膜をなす樹脂が、前述
のセメント硬化体に含まれる水溶性高分子と分子構造が
類似する樹脂や化学的性質が類似する樹脂であると、セ
メント硬化体との接着性が一層改善されるためより好ま
しい。
は、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹
脂、メタクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、およびウレタ
ン系樹脂等が挙げられる。この被膜をなす樹脂が、前述
のセメント硬化体に含まれる水溶性高分子と分子構造が
類似する樹脂や化学的性質が類似する樹脂であると、セ
メント硬化体との接着性が一層改善されるためより好ま
しい。
【0009】このような被膜の形成方法としては、樹脂
を溶媒に溶かした溶液や、樹脂を加熱して溶融した状態
のものを、バーコート、スピンコート、ロールコート、
スプレーコート等の方法により、セメント硬化体表面に
塗布する湿式の方法が挙げられる。塗布方法は、塗布さ
れるセメント硬化体の形状等により適宜選択され、塗布
された後の樹脂被膜は周知の方法により乾燥、固化され
る。また、このような被膜は、真空蒸着、スパッタリン
グ、プラズマ重合、プラズマCVD(化学的蒸着法)等
の乾式の方法により形成することもできる。
を溶媒に溶かした溶液や、樹脂を加熱して溶融した状態
のものを、バーコート、スピンコート、ロールコート、
スプレーコート等の方法により、セメント硬化体表面に
塗布する湿式の方法が挙げられる。塗布方法は、塗布さ
れるセメント硬化体の形状等により適宜選択され、塗布
された後の樹脂被膜は周知の方法により乾燥、固化され
る。また、このような被膜は、真空蒸着、スパッタリン
グ、プラズマ重合、プラズマCVD(化学的蒸着法)等
の乾式の方法により形成することもできる。
【0010】被膜の膜厚は、例えば50nm〜10μm
とし、好ましくは100nm〜10μmとする。膜厚が
50nm未満であると後述のような被膜の作用が発揮さ
れず、10μmを超えると、被膜形成時に塗布回数や乾
燥時間、樹脂の使用量が増加してコストが嵩むため実用
的でない。本発明における金属薄膜としては、使用目的
に合わせて、銅、金、銀、白金、チタン、ニッケル、お
よびクロム、またはこれらの合金が使用される。また、
これらの金属の炭化物や窒化物などもセメント硬化体の
表面硬度の改善と装飾性の付与との点から有効である。
本発明において、金属薄膜は一層のみの被覆でもよい
し、必要に応じて二層以上重ねて被覆してもよい。
とし、好ましくは100nm〜10μmとする。膜厚が
50nm未満であると後述のような被膜の作用が発揮さ
れず、10μmを超えると、被膜形成時に塗布回数や乾
燥時間、樹脂の使用量が増加してコストが嵩むため実用
的でない。本発明における金属薄膜としては、使用目的
に合わせて、銅、金、銀、白金、チタン、ニッケル、お
よびクロム、またはこれらの合金が使用される。また、
これらの金属の炭化物や窒化物などもセメント硬化体の
表面硬度の改善と装飾性の付与との点から有効である。
本発明において、金属薄膜は一層のみの被覆でもよい
し、必要に応じて二層以上重ねて被覆してもよい。
【0011】このような金属薄膜の形成方法は被覆され
る薄膜の厚みによって選択される。例えば膜厚が1μm
以下の薄い場合には、スパッタリング法、真空蒸着法、
イオンプレーティング法等の乾式法が採用される。特
に、スパッタリング法は被覆プロセスの制御が容易であ
り、剥離強度の大きい金属薄膜を形成できるため、実用
的に有効な方法である。スパッタリング法には、DCマ
グネトロンスパッタリング、高周波マグネトロンスパッ
タリング、イオンビームスパッタリング等があるが、い
ずれの方法でも構わない。
る薄膜の厚みによって選択される。例えば膜厚が1μm
以下の薄い場合には、スパッタリング法、真空蒸着法、
イオンプレーティング法等の乾式法が採用される。特
に、スパッタリング法は被覆プロセスの制御が容易であ
り、剥離強度の大きい金属薄膜を形成できるため、実用
的に有効な方法である。スパッタリング法には、DCマ
グネトロンスパッタリング、高周波マグネトロンスパッ
タリング、イオンビームスパッタリング等があるが、い
ずれの方法でも構わない。
【0012】膜厚が1μmを超える場合には、無電解メ
ッキ、電解メッキ等の湿式法が好適であるが、導電性塗
料(導電性金属を含有する塗料)を塗布して乾燥させる
方法も採用できる。また、上記の湿式法と前述の乾式法
とを組み合わせてもよい。例えば、乾式の薄膜形成方法
で形成した1μm以下の金属薄膜の上に、無電解メッキ
や電解メッキ等で金属薄膜を重ねて形成し、膜厚を厚く
することもできる。
ッキ、電解メッキ等の湿式法が好適であるが、導電性塗
料(導電性金属を含有する塗料)を塗布して乾燥させる
方法も採用できる。また、上記の湿式法と前述の乾式法
とを組み合わせてもよい。例えば、乾式の薄膜形成方法
で形成した1μm以下の金属薄膜の上に、無電解メッキ
や電解メッキ等で金属薄膜を重ねて形成し、膜厚を厚く
することもできる。
【0013】
【作用】本発明によれば、セメント硬化体が、少なくと
もセメント、水、水溶性高分子、保水剤、およびフィラ
ーを混練して成形されたものであるため、従来のセメン
ト硬化体のように表面に500μm以上のマクロな凹凸
が存在しない。また、セメント硬化体に含まれる水溶性
高分子と、セメント硬化体の表面に被膜状に形成された
合成樹脂との親和力により、セメント硬化体と合成樹脂
の被膜との接着力が高くなる。さらに、合成樹脂被膜の
表面はセメント硬化体の表面と比較して平坦であるた
め、金属薄膜が被覆されやすいものである。したがっ
て、合成樹脂の被膜の存在により、セメント硬化体と金
属薄膜との剥離強度が高くなる。
もセメント、水、水溶性高分子、保水剤、およびフィラ
ーを混練して成形されたものであるため、従来のセメン
ト硬化体のように表面に500μm以上のマクロな凹凸
が存在しない。また、セメント硬化体に含まれる水溶性
高分子と、セメント硬化体の表面に被膜状に形成された
合成樹脂との親和力により、セメント硬化体と合成樹脂
の被膜との接着力が高くなる。さらに、合成樹脂被膜の
表面はセメント硬化体の表面と比較して平坦であるた
め、金属薄膜が被覆されやすいものである。したがっ
て、合成樹脂の被膜の存在により、セメント硬化体と金
属薄膜との剥離強度が高くなる。
【0014】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。以下の実施例においては、建築材料として性能なら
びにコスト面から実用性に富む金属材料である銅の薄膜
をセメント硬化体表面に被覆した。また、最表面に緑青
を生じさせることによりにより、セメント硬化体表面の
装飾性をより一層高めることができる。
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。以下の実施例においては、建築材料として性能なら
びにコスト面から実用性に富む金属材料である銅の薄膜
をセメント硬化体表面に被覆した。また、最表面に緑青
を生じさせることによりにより、セメント硬化体表面の
装飾性をより一層高めることができる。
【0015】セメント100重量部、水24重量部、水
溶性高分子としてポリビニルアルコール0.5重量部、
保水剤としてメチルセルロース0.5重量部、およびフ
ィラーとして細骨材200重量部を混練して型枠内に流
し込み、セメント硬化体を5mm厚の板状に成形した。
図1に示すように、このセメント硬化体1の一方の面
に、バーコーターによりアクリル系樹脂として三井東圧
化学(株)製の「アルマテックス」を塗布した後、14
0℃で乾燥して膜厚10μmの被膜2を形成した。
溶性高分子としてポリビニルアルコール0.5重量部、
保水剤としてメチルセルロース0.5重量部、およびフ
ィラーとして細骨材200重量部を混練して型枠内に流
し込み、セメント硬化体を5mm厚の板状に成形した。
図1に示すように、このセメント硬化体1の一方の面
に、バーコーターによりアクリル系樹脂として三井東圧
化学(株)製の「アルマテックス」を塗布した後、14
0℃で乾燥して膜厚10μmの被膜2を形成した。
【0016】次いで、この被膜2が付いたセメント硬化
体1を、スパッタリング装置の薄膜形成室に入れ、グロ
ー放電による酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲッ
トにして、DCスパッタリングにより平均膜厚が約25
0nmの銅薄膜3aを被膜2表面に積層した。これを銅
の電解メッキ槽に入れて銅薄膜3aの上にさらに銅薄膜
3bを重て形成し、全体(銅薄膜3)の厚みを20μm
とした。
体1を、スパッタリング装置の薄膜形成室に入れ、グロ
ー放電による酸素プラズマに暴露した後、銅をターゲッ
トにして、DCスパッタリングにより平均膜厚が約25
0nmの銅薄膜3aを被膜2表面に積層した。これを銅
の電解メッキ槽に入れて銅薄膜3aの上にさらに銅薄膜
3bを重て形成し、全体(銅薄膜3)の厚みを20μm
とした。
【0017】この銅薄膜3の剥離強度は、ANSI/A
STM B571−84に基づくピーリング試験の結果
1.4kg/cmであり、建築材料の表面を装飾する材
料として十分な強度を有していた。さらに、これを10
重量%の炭酸アンモニウム水溶液に10分間浸してから
取出し、空気中で24時間放置することにより、図2に
示すように、銅薄膜3の表面全体に緑青3cを生じさせ
た。この時の銅薄膜3の剥離強度は、前記と同様の試験
の結果0.9kg/cmであった。
STM B571−84に基づくピーリング試験の結果
1.4kg/cmであり、建築材料の表面を装飾する材
料として十分な強度を有していた。さらに、これを10
重量%の炭酸アンモニウム水溶液に10分間浸してから
取出し、空気中で24時間放置することにより、図2に
示すように、銅薄膜3の表面全体に緑青3cを生じさせ
た。この時の銅薄膜3の剥離強度は、前記と同様の試験
の結果0.9kg/cmであった。
【0018】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、特殊な構成のセメント硬化体と、このセメント硬化
体の表面に形成された合成樹脂の被膜と、この被膜の表
面に形成された金属薄膜とからなるため、前記被膜の存
在により、セメント硬化体と金属薄膜との剥離強度を高
くすることができる。その結果、本発明の表面に金属薄
膜が形成されたセメント硬化体は、装飾性に優れた建築
材料として実用的なものとなる。
ば、特殊な構成のセメント硬化体と、このセメント硬化
体の表面に形成された合成樹脂の被膜と、この被膜の表
面に形成された金属薄膜とからなるため、前記被膜の存
在により、セメント硬化体と金属薄膜との剥離強度を高
くすることができる。その結果、本発明の表面に金属薄
膜が形成されたセメント硬化体は、装飾性に優れた建築
材料として実用的なものとなる。
【図1】本発明の一実施例を示す断面図である。
【図2】本発明の別の実施例を示す断面図である。
1 セメント硬化体 2 合成樹脂の被膜 3 銅薄膜(金属薄膜)
フロントページの続き (72)発明者 福田 信弘 東京都千代田区霞が関3丁目2番5号 三 井東圧化学株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくともセメント、水、水溶性高分
子、保水剤、およびフィラーを混練して成形されたセメ
ント硬化体と、このセメント硬化体の表面に形成された
合成樹脂の被膜と、この被膜の表面に形成された金属薄
膜とからなることを特徴とする表面に金属薄膜が被覆さ
れたセメント硬化体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5575893A JPH06264221A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5575893A JPH06264221A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06264221A true JPH06264221A (ja) | 1994-09-20 |
Family
ID=13007750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5575893A Pending JPH06264221A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | 表面に金属薄膜が被覆されたセメント硬化体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06264221A (ja) |
-
1993
- 1993-03-16 JP JP5575893A patent/JPH06264221A/ja active Pending
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