JPH0422984B2 - - Google Patents
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- JPH0422984B2 JPH0422984B2 JP59182712A JP18271284A JPH0422984B2 JP H0422984 B2 JPH0422984 B2 JP H0422984B2 JP 59182712 A JP59182712 A JP 59182712A JP 18271284 A JP18271284 A JP 18271284A JP H0422984 B2 JPH0422984 B2 JP H0422984B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- base coat
- metal thin
- parts
- top coat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、金属薄膜被覆層を有するプラスチツ
ク成型品の製造方法に関し、更に詳しくは、金属
薄膜被覆層にクラツクが発生せず、高い光輝性表
面を有するプラスチツク成型品の提供を目的とす
る。
ク成型品の製造方法に関し、更に詳しくは、金属
薄膜被覆層にクラツクが発生せず、高い光輝性表
面を有するプラスチツク成型品の提供を目的とす
る。
（従来の技術）
従来、金属薄膜を有するプラスチツク成型品
は、プラスチツク成型品の表面に真空蒸着、ホツ
トスタンプ、メツキ等の方法により金属薄膜を形
成することにより得られているが、例えば、真空
蒸着法では比較的低融点の金属、例えば、アルミ
ニウム、スズ、アンチモン等しか使用出来ない
為、表面性質に優れた製品は得られず、又、ホツ
トスタンプ法やメツキ法等は、工程上煩雑であり
経済的ではなかつた。この様な問題点を解決する
方法として、スパツタリング法が開発されている
が、この方法による金属薄膜は、その基材との関
係でクラツクが生じ易く、又、その表面に設ける
トツプコート層との接着性が劣り、実用化が困難
であつた。
は、プラスチツク成型品の表面に真空蒸着、ホツ
トスタンプ、メツキ等の方法により金属薄膜を形
成することにより得られているが、例えば、真空
蒸着法では比較的低融点の金属、例えば、アルミ
ニウム、スズ、アンチモン等しか使用出来ない
為、表面性質に優れた製品は得られず、又、ホツ
トスタンプ法やメツキ法等は、工程上煩雑であり
経済的ではなかつた。この様な問題点を解決する
方法として、スパツタリング法が開発されている
が、この方法による金属薄膜は、その基材との関
係でクラツクが生じ易く、又、その表面に設ける
トツプコート層との接着性が劣り、実用化が困難
であつた。
（問題点を解決する為の手段）
本発明者は、上述の如き従来技術の欠点を解決
すべく鋭意研究の結果、プラスチツク成型品にス
パツタリングにより金属薄膜を形成するに際し、
特定のベースコートを設け、該ベースコート層上
に特定の条件で、金属をスパツタリングし、次に
形成された金属薄膜上に特定のトツプコート層を
設けることにより、金属薄膜のクラツクが発生せ
ず、しかも金属薄膜とトツプコート層との密着性
が良好で、半永久的に優れた光輝性を保持するプ
ラスチツク成型品が提供出来ることを見出し、本
発明を完成した。
すべく鋭意研究の結果、プラスチツク成型品にス
パツタリングにより金属薄膜を形成するに際し、
特定のベースコートを設け、該ベースコート層上
に特定の条件で、金属をスパツタリングし、次に
形成された金属薄膜上に特定のトツプコート層を
設けることにより、金属薄膜のクラツクが発生せ
ず、しかも金属薄膜とトツプコート層との密着性
が良好で、半永久的に優れた光輝性を保持するプ
ラスチツク成型品が提供出来ることを見出し、本
発明を完成した。
即ち、本発明は、
(a) 金属薄膜被覆層を形成すべきプラスチツク成
型品の表面に、紫外線硬化型アクリル樹脂系ベ
ースコート塗料を塗布し、紫外線により硬化さ
せて、鉛筆硬度がＨ以上のベースコート層を形
成する工程、 (b) 真空度１×10-3〜６×10-5Torr、アルゴン
圧５×10-3〜１×10-4Torr、電圧200〜600V、
電流密度20〜500A／m2の条件下で、スパツタ
リングにより、クロム、ニツケル等の金属、黄
銅、ステンレススチール等の各種合金の300〜
2000Åの厚さの薄膜を上記のベースコート層上
に形成する工程、 (c) 反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸
価が５〜50である紫外線硬化型アクリル樹脂系
トツプコート塗料を上記金属薄膜面に塗布し、
紫外線により硬化させる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜被覆層を有す
るプラスチツク成型品の製造方法である。
型品の表面に、紫外線硬化型アクリル樹脂系ベ
ースコート塗料を塗布し、紫外線により硬化さ
せて、鉛筆硬度がＨ以上のベースコート層を形
成する工程、 (b) 真空度１×10-3〜６×10-5Torr、アルゴン
圧５×10-3〜１×10-4Torr、電圧200〜600V、
電流密度20〜500A／m2の条件下で、スパツタ
リングにより、クロム、ニツケル等の金属、黄
銅、ステンレススチール等の各種合金の300〜
2000Åの厚さの薄膜を上記のベースコート層上
に形成する工程、 (c) 反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸
価が５〜50である紫外線硬化型アクリル樹脂系
トツプコート塗料を上記金属薄膜面に塗布し、
紫外線により硬化させる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜被覆層を有す
るプラスチツク成型品の製造方法である。
本発明を詳細に説明すると、本発明方法におい
て使用するプラスチツク成型品の素材は、熱膨張
係数が大きいと金属薄膜の造膜時或いは使用時、
金属薄膜がクラツクを発生する原因となる。従つ
て熱膨張係数の小さいことが望ましく、実用的に
は20×10-5cm／cm／℃であることが好ましい。
て使用するプラスチツク成型品の素材は、熱膨張
係数が大きいと金属薄膜の造膜時或いは使用時、
金属薄膜がクラツクを発生する原因となる。従つ
て熱膨張係数の小さいことが望ましく、実用的に
は20×10-5cm／cm／℃であることが好ましい。
特に好ましいプラスチツク成型品の素材を具体
的に挙げると、ポリエステル樹脂、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレン共重合物、アクリロ
ニトリル−スチレン、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、PVC等或はこれらのを被覆又は積
層したもの等が挙げられる。
的に挙げると、ポリエステル樹脂、アクリロニト
リル−ブタジエン−スチレン共重合物、アクリロ
ニトリル−スチレン、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、PVC等或はこれらのを被覆又は積
層したもの等が挙げられる。
本発明でベースコートの形成に使用する紫外線
硬化型アクリル樹脂組成物は、既に公知の材料で
あり、紫外線硬化型アクリル樹脂、増感剤及びそ
の他の任意成分からなるものである。
硬化型アクリル樹脂組成物は、既に公知の材料で
あり、紫外線硬化型アクリル樹脂、増感剤及びそ
の他の任意成分からなるものである。
その紫外線硬化型アクリル樹脂の代表例として
は、その分子構造中にラジカル重合可能な不飽和
二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル
（メタ）アクリレート樹脂、ポリエーテル（メタ）
アクリレート樹脂、アクリル（メタ）アクリレー
ト樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ウ
レタン（メタ）アクリレート樹脂、多価アルコー
ル等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等の
オリゴマー又はプレポリマー、及びスチレン、メ
チルスチレン、ジビニルベンゼン、（メタ）アク
リル酸エステル等の付加重合性化合物を包含し、
これらの成分を単独又は混合物として含有するも
のである。
は、その分子構造中にラジカル重合可能な不飽和
二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル
（メタ）アクリレート樹脂、ポリエーテル（メタ）
アクリレート樹脂、アクリル（メタ）アクリレー
ト樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ウ
レタン（メタ）アクリレート樹脂、多価アルコー
ル等の多官能化合物の（メタ）アクリレート等の
オリゴマー又はプレポリマー、及びスチレン、メ
チルスチレン、ジビニルベンゼン、（メタ）アク
リル酸エステル等の付加重合性化合物を包含し、
これらの成分を単独又は混合物として含有するも
のである。
本発明においては、これらの紫外線硬化型アク
リル又はオリゴマー樹脂として、その約５〜100
重量％、好ましくは約30重量％以上が、トリ（メ
タ）アクリレート、ソルビトールトリグリシジル
（メタ）アクリレート等の３官能以上のポリ（メ
タ）アクリレートを使用するのが望ましく、この
様なポリ（メタ）アクリレート等が、５重量％以
下であるときは十分な表面硬度の被膜を形成する
ことが出来ず、金属薄膜のクラツク発生を防止す
ることが出来ない。
リル又はオリゴマー樹脂として、その約５〜100
重量％、好ましくは約30重量％以上が、トリ（メ
タ）アクリレート、ソルビトールトリグリシジル
（メタ）アクリレート等の３官能以上のポリ（メ
タ）アクリレートを使用するのが望ましく、この
様なポリ（メタ）アクリレート等が、５重量％以
下であるときは十分な表面硬度の被膜を形成する
ことが出来ず、金属薄膜のクラツク発生を防止す
ることが出来ない。
又、必要な増感剤とは、紫外線のエネルギーに
よりフリーラジカルを発生する化合物であつて、
ベンゾイン、ベンゾフエノン或はそれらのエステ
ル等のカルボニル化合物、過酸化ベンゾイル等の
有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等の
アゾ化合物、ジフエニルジサルフアイド等のイオ
ウ化合物がある。
よりフリーラジカルを発生する化合物であつて、
ベンゾイン、ベンゾフエノン或はそれらのエステ
ル等のカルボニル化合物、過酸化ベンゾイル等の
有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等の
アゾ化合物、ジフエニルジサルフアイド等のイオ
ウ化合物がある。
その他の任意成分としては少量の有機溶剤、染
料、顔料等の着色剤、ワツクスその他の各種添加
剤がある。
料、顔料等の着色剤、ワツクスその他の各種添加
剤がある。
この様な紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコ
ート塗料は、脱脂処理したプラスチツク成型品表
面に、通常のハケ塗り、スプレー塗装、デイツプ
塗装、カーテンフローコーター、ロール塗装等に
より塗布し、低〜高圧水銀灯、アーク灯、キセノ
ンランプ等により紫外線を照射し硬化させる。
ート塗料は、脱脂処理したプラスチツク成型品表
面に、通常のハケ塗り、スプレー塗装、デイツプ
塗装、カーテンフローコーター、ロール塗装等に
より塗布し、低〜高圧水銀灯、アーク灯、キセノ
ンランプ等により紫外線を照射し硬化させる。
紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコート塗料
の乾燥膜厚は、通常１〜50μｍ、好ましくは３〜
30μｍ程度が適当である。
の乾燥膜厚は、通常１〜50μｍ、好ましくは３〜
30μｍ程度が適当である。
この様にして得られるベースコート層は、金属
膜にクラツクを発生させない様にする為、硬度が
Ｈ以上（JIS KB5400に基づく測定方法による）、
特に好ましくは2H以上であることが必要である。
膜にクラツクを発生させない様にする為、硬度が
Ｈ以上（JIS KB5400に基づく測定方法による）、
特に好ましくは2H以上であることが必要である。
本発明の方法において特に紫外線硬化型アクリ
ル樹脂系ベースコート塗料を使用するのは、冷エ
ネルギー乾燥なのでプラスチツク成型品の劣化損
傷を招かず、プラスチツク成型品の表面を平滑に
し、しかもプラスチツク成型品の金属薄膜間のス
トレスを緩和し、プラスチツク成型品と金属薄膜
との密着性を向上する為である。
ル樹脂系ベースコート塗料を使用するのは、冷エ
ネルギー乾燥なのでプラスチツク成型品の劣化損
傷を招かず、プラスチツク成型品の表面を平滑に
し、しかもプラスチツク成型品の金属薄膜間のス
トレスを緩和し、プラスチツク成型品と金属薄膜
との密着性を向上する為である。
次にベースコート層表面にスパツタリング法に
よりクロム等の金属又はステンレス等の合金の金
属薄膜を形成させる。
よりクロム等の金属又はステンレス等の合金の金
属薄膜を形成させる。
金属薄膜を形成させる方法は、例えば、直流二
極マグネツトロンスパツタリング装置を用い、陰
極ターゲツトをクロム等の金属又はステンレス等
の合金として、１×10-3〜６×10-5Torr真空引
きしたベルジヤーにアルゴンガスを封入し、アル
ゴン圧として、５×10-3〜１×10-4Torrにした
後、直流二極間に電圧200〜600V、電流密度20〜
500Å／m2にて放電を起こさせる。
極マグネツトロンスパツタリング装置を用い、陰
極ターゲツトをクロム等の金属又はステンレス等
の合金として、１×10-3〜６×10-5Torr真空引
きしたベルジヤーにアルゴンガスを封入し、アル
ゴン圧として、５×10-3〜１×10-4Torrにした
後、直流二極間に電圧200〜600V、電流密度20〜
500Å／m2にて放電を起こさせる。
放電により生成したアルゴンイオンは陰極ター
ゲツトのクロム等の金属又はステンレス等の合金
を衝撃してクロム又はステンレス等の金属原子を
放出する。この金属原子はベルジヤー内を直進
し、ベースコート層表面に到達し、凝縮してベー
スコート層表面に薄い金属皮膜を形成する。
ゲツトのクロム等の金属又はステンレス等の合金
を衝撃してクロム又はステンレス等の金属原子を
放出する。この金属原子はベルジヤー内を直進
し、ベースコート層表面に到達し、凝縮してベー
スコート層表面に薄い金属皮膜を形成する。
スパツタリングの条件として、二極間の電圧を
200〜600Vにすることによりスパツタリング現象
を起こす。電圧が200V以下であると放電されて
もスパツタリング現象を起こさず、一方、600V
で以下になると工業的に各種難点が現れる。
200〜600Vにすることによりスパツタリング現象
を起こす。電圧が200V以下であると放電されて
もスパツタリング現象を起こさず、一方、600V
で以下になると工業的に各種難点が現れる。
又、電流密度は20〜500A／m2が適当で、この
範囲以下になるとスパツタリツング現象が起こら
ず、一方、この範囲以上になると温度上昇により
プラスチツク成型品が変形したり、或は金属薄膜
にクラツクが生じ易くなり好ましくない。
範囲以下になるとスパツタリツング現象が起こら
ず、一方、この範囲以上になると温度上昇により
プラスチツク成型品が変形したり、或は金属薄膜
にクラツクが生じ易くなり好ましくない。
又、真空度１×10-3〜６×10-5Torr、アルゴ
ン圧５×10-3〜１×10-4Torrの範囲においてク
ラツクを生じ難い金属薄膜が得られる。
ン圧５×10-3〜１×10-4Torrの範囲においてク
ラツクを生じ難い金属薄膜が得られる。
真空度及びアルゴン圧がこの範囲外になると、
スパツタリング現象を起こさないか或は金属薄膜
を形成してもクラツクが生じ易い。
スパツタリング現象を起こさないか或は金属薄膜
を形成してもクラツクが生じ易い。
本発明においての金属薄膜の膜厚は通常300〜
2000Åが適当である。それ以下になると光沢のあ
る金属膜が得られない。
2000Åが適当である。それ以下になると光沢のあ
る金属膜が得られない。
以上の如く形成された金属薄膜上に、次にトツ
プコート層を形成するが、このトツプコート上塗
塗料の基本的組成は前記のベースコート様塗料と
同様であるが、先ず第１の特徴として、その組成
物としての酸価が、５〜50の範囲にコントロール
されていることが必要である。この様な酸価のコ
ントロールは、（メタ）アクリル酸を用いて、紫
外線硬化型アクリル樹脂を製造する際に容易に行
うことが出来る。この様な範囲の酸価の紫外線硬
化型アクリル樹脂を使用することによつて、金属
薄膜等に対する密着性が非常に優れると共に、機
械的・化学的物性の非常に優れたトツプコート層
が形成出来る。
プコート層を形成するが、このトツプコート上塗
塗料の基本的組成は前記のベースコート様塗料と
同様であるが、先ず第１の特徴として、その組成
物としての酸価が、５〜50の範囲にコントロール
されていることが必要である。この様な酸価のコ
ントロールは、（メタ）アクリル酸を用いて、紫
外線硬化型アクリル樹脂を製造する際に容易に行
うことが出来る。この様な範囲の酸価の紫外線硬
化型アクリル樹脂を使用することによつて、金属
薄膜等に対する密着性が非常に優れると共に、機
械的・化学的物性の非常に優れたトツプコート層
が形成出来る。
更に第２の特徴は、この様なトツプコート剤が
アクリル樹脂に対してその0.1〜５重量％の反応
性アルコキシシラン化合物を含有していることで
ある。
アクリル樹脂に対してその0.1〜５重量％の反応
性アルコキシシラン化合物を含有していることで
ある。
この様な反応性アルコキシシランとして好まし
いものは、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリブトキシシラン等のアミノアルコキシ
シラン類、３−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン等のエポキシアルコキシシラン、３
−クロロプロピルメチルジメトキシシラン等のク
ロルアルコキシシラン類、ビニルトリス（２−メ
トキシエトキシ）シラン、３−メタクリキシプロ
ピルトリメトキシシラン等のビニル基やメタクリ
ロキシ基含有アルコキシシラン類であり、これら
の中で特に好ましいものは紫外線硬化型アクリル
樹脂の酸部分と反応性の高いアミノ、エポキシ、
メルカプト基含有のアルコキシシラン類であり、
又、安定性の面では分子量の大きなものが好まし
い。
いものは、Ｎ−（２−アミノエチル）３−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリブトキシシラン等のアミノアルコキシ
シラン類、３−グリシドキシプロピルメチルジメ
トキシシラン等のエポキシアルコキシシラン、３
−クロロプロピルメチルジメトキシシラン等のク
ロルアルコキシシラン類、ビニルトリス（２−メ
トキシエトキシ）シラン、３−メタクリキシプロ
ピルトリメトキシシラン等のビニル基やメタクリ
ロキシ基含有アルコキシシラン類であり、これら
の中で特に好ましいものは紫外線硬化型アクリル
樹脂の酸部分と反応性の高いアミノ、エポキシ、
メルカプト基含有のアルコキシシラン類であり、
又、安定性の面では分子量の大きなものが好まし
い。
この様な反応性アルコキシシランを上記の範囲
の量で添加することによつて、反応性アルコキシ
シランが金属表面と紫外線硬化型アクリル樹脂と
の双方に作用して、金属表面とトツープコート層
の優れた密着性を与える。
の量で添加することによつて、反応性アルコキシ
シランが金属表面と紫外線硬化型アクリル樹脂と
の双方に作用して、金属表面とトツープコート層
の優れた密着性を与える。
以上の如きトツプコート剤の塗布方法及び乾燥
方法は、前記のベースコート層の形成と同様であ
り、約１〜50μｍ、好ましくは５〜20μｍ程度の
トツプコート層を形成するのが好ましい。
方法は、前記のベースコート層の形成と同様であ
り、約１〜50μｍ、好ましくは５〜20μｍ程度の
トツプコート層を形成するのが好ましい。
（作用・効果）
本発明方法では、上記の如き構成をとることに
よつて、即ち、ベースコート層として、鉛筆硬度
Ｈ以上の層を形成することによつて、プラスチツ
ク成型品の素材の表面に起因する金属薄膜のクラ
ツク発生が減少し、又、特定の条件下でのスパツ
タリングにより、クラツク発生性の低い光輝性層
が形成され、更に、特定のトツプコート剤によ
り、金属層と密着性の良いトツプコート層が形成
されるので前述の如き従来技術の欠点が解決さ
れ、優れた光輝性と長期表面耐久性のプラスチツ
ク成型品が提供される。
よつて、即ち、ベースコート層として、鉛筆硬度
Ｈ以上の層を形成することによつて、プラスチツ
ク成型品の素材の表面に起因する金属薄膜のクラ
ツク発生が減少し、又、特定の条件下でのスパツ
タリングにより、クラツク発生性の低い光輝性層
が形成され、更に、特定のトツプコート剤によ
り、金属層と密着性の良いトツプコート層が形成
されるので前述の如き従来技術の欠点が解決さ
れ、優れた光輝性と長期表面耐久性のプラスチツ
ク成型品が提供される。
（実施例）
次に実施例及び参考例を挙げて本発明を更に具
体的に説明する。尚、文中部又は％とあるのは重
量基準である。
体的に説明する。尚、文中部又は％とあるのは重
量基準である。
実施例 １
コロナ放電処理したポリエステルフイルム（厚
さ50μｍ）に、以下のベースコート塗料を塗布
し、ベースコート層を作成した。
さ50μｍ）に、以下のベースコート塗料を塗布
し、ベースコート層を作成した。
２官能ウレタンアクリレート（分子量1000〜
1500） 50部 平均３官能ポリエステルアクリレート（分子量
500−1600） 40部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10部 酢酸イソブチル 50部 ベンジフエノン ３部 ベンジルジメチルケタノール ２部 この塗料をグラビアケタロールコーターで、約
3μｍに塗布し、溶剤を乾燥後、160W／cm高圧水
銀灯15cmで、コンベア速度20ｍ／minで硬化して
得た被膜の硬度は、鉛筆硬度は3Hであつた。
1500） 50部 平均３官能ポリエステルアクリレート（分子量
500−1600） 40部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート10部 酢酸イソブチル 50部 ベンジフエノン ３部 ベンジルジメチルケタノール ２部 この塗料をグラビアケタロールコーターで、約
3μｍに塗布し、溶剤を乾燥後、160W／cm高圧水
銀灯15cmで、コンベア速度20ｍ／minで硬化して
得た被膜の硬度は、鉛筆硬度は3Hであつた。
次に上記のベースコート上に、徳田真空(株)製の
スパツタリング装置で、真空度１×10-4Torr、
アルゴン圧８×10-4Torr、電圧500V、電流密度
200A／m2の条件でクロムのスパツタ膜（厚さ
1000Å）を形成した。
スパツタリング装置で、真空度１×10-4Torr、
アルゴン圧８×10-4Torr、電圧500V、電流密度
200A／m2の条件でクロムのスパツタ膜（厚さ
1000Å）を形成した。
次いで、上記のスパツタ薄膜上に以下のトツプ
コート塗料を塗布し、トツプコートを作成した。
コート塗料を塗布し、トツプコートを作成した。
２官能ウレタンアクリレート（分子量1000〜
1500） 50部 トリメチロールプロパントリアクリレート 20部 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 10部 ビス（メタアクリロキシエチル）フオスフエート
４部 メチルイソブチルケトン 20部 酢酸エチル 20部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−トリフエニルプロ
パン−１−オン ４部 ３−メルカプトピルピロトリメトキシシラン２部 シリコン系レベリング剤 Byk−300 0.3部 （酸価＝30） この塗料をグラビアロールコーターで約4μｍ
の厚さを塗布し、溶剤を乾燥後、80W／cm高圧水
銀灯下15cmでコンベア速度10ｍ／minで硬化さ
せ、鉛筆硬度3Hで密着性１mm巾クロスカツトセ
ロテープ剥離100/100の耐久性良好な美麗なクロ
ムスパツタリングのフイルムを作成することが出
来た。
1500） 50部 トリメチロールプロパントリアクリレート 20部 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート 10部 ビス（メタアクリロキシエチル）フオスフエート
４部 メチルイソブチルケトン 20部 酢酸エチル 20部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−トリフエニルプロ
パン−１−オン ４部 ３−メルカプトピルピロトリメトキシシラン２部 シリコン系レベリング剤 Byk−300 0.3部 （酸価＝30） この塗料をグラビアロールコーターで約4μｍ
の厚さを塗布し、溶剤を乾燥後、80W／cm高圧水
銀灯下15cmでコンベア速度10ｍ／minで硬化さ
せ、鉛筆硬度3Hで密着性１mm巾クロスカツトセ
ロテープ剥離100/100の耐久性良好な美麗なクロ
ムスパツタリングのフイルムを作成することが出
来た。
参考例 ２
実施例１におけるベースコートの鉛筆硬度を
HBとした場合は、トツプコート硬化後、スパツ
タリング膜に細かいクラツクを多数生じた。
HBとした場合は、トツプコート硬化後、スパツ
タリング膜に細かいクラツクを多数生じた。
実施例１のトツプコートの形状において、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシランを除いた
塗料を用いた場合は、トツプコートは、密着テス
トで20/100であり、密着不良であつた。
メルカプトプロピルトリメトキシシランを除いた
塗料を用いた場合は、トツプコートは、密着テス
トで20/100であり、密着不良であつた。
参考例 ３
実施例１においてトツプコートの形成において
ビス（メタクリロキシグリシジル）フオスフエー
トを除き、酸価を５以下とした時は、密着テスト
でトツプコートは０／100で密着不良であつた。
ビス（メタクリロキシグリシジル）フオスフエー
トを除き、酸価を５以下とした時は、密着テスト
でトツプコートは０／100で密着不良であつた。
実施例 ２
ABS成型物に、以下のベースコート塗料を塗
布し、トツプコート層を作成した。
布し、トツプコート層を作成した。
２官能エポキシアクリレート（分子量600〜1000）
50部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 40部 ベンゾフエノン ２部 １−ハイドロキシシクロヘキシルケトン ３部 ｎ−ヘキサン 30部 イソプロピルアルコール 20部 酢酸エチル 20部 キシレン 30部 メチルセロソルプ 30部 ブチルセロソルプ 30部 この塗料をエアースプレーで約10μｍに塗布
し、溶剤乾燥後、80W／cm高圧水銀灯下、15cmで
回転しながら、５秒間硬化させ、鉛筆硬度Ｈのベ
ースコート層を得た。
50部 ペンタエリスリトールトリアクリレート 40部 ベンゾフエノン ２部 １−ハイドロキシシクロヘキシルケトン ３部 ｎ−ヘキサン 30部 イソプロピルアルコール 20部 酢酸エチル 20部 キシレン 30部 メチルセロソルプ 30部 ブチルセロソルプ 30部 この塗料をエアースプレーで約10μｍに塗布
し、溶剤乾燥後、80W／cm高圧水銀灯下、15cmで
回転しながら、５秒間硬化させ、鉛筆硬度Ｈのベ
ースコート層を得た。
上記ベースコート層上に、徳田真空(株)製のスパ
ツタリング装置で、真空度８×10-5Torr、アル
ゴン圧８×10-4Torr、電圧400V、電流密度
300A／m2の条件でニツケルのスパツタ膜（1500
Å）を形成した。
ツタリング装置で、真空度８×10-5Torr、アル
ゴン圧８×10-4Torr、電圧400V、電流密度
300A／m2の条件でニツケルのスパツタ膜（1500
Å）を形成した。
上記ニツケルスパツタ薄膜上に、以下のトツプ
コート塗料を、塗布してトツプコート層を作成し
た。
コート塗料を、塗布してトツプコート層を作成し
た。
２官能エポキシアクリレート（分子量600〜1000）
30部 ２官能ポリエーテルアクリレート（分子量1000〜
1400） 30部 ヒドロキシバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート 15部 ジエトキシアセトフエノン ３部 ベンゾインイソブチルエーテル １部 アクリルジアクリレート（分子量500、酸価150）
５部 ３−アミノプロピルトリブトキシシラン ２部 酢酸エチル 20部 イソプロピルアルコール 20部 エチルセロソルブ 30部 メトルイソブチルケトン 30部 トルエン 30部 信越シリコンKF−69 0.2部 （酸価12） 上記塗料を、エアスプレーで約8μｍに塗布し、
溶剤を乾燥後、80W／cmの高圧下水銀灯下15cmで
回転させながら６秒間照射して硬化させ、鉛筆硬
度3Hで、密着性１mm巾クロスカツトセロテープ
剥離テストは100/100であり、耐久性良好で美麗
なニツケルスパツタ膜を有するABS成型物が得
られた。
30部 ２官能ポリエーテルアクリレート（分子量1000〜
1400） 30部 ヒドロキシバリン酸ネオペンチルグリコールジア
クリレート 15部 ジエトキシアセトフエノン ３部 ベンゾインイソブチルエーテル １部 アクリルジアクリレート（分子量500、酸価150）
５部 ３−アミノプロピルトリブトキシシラン ２部 酢酸エチル 20部 イソプロピルアルコール 20部 エチルセロソルブ 30部 メトルイソブチルケトン 30部 トルエン 30部 信越シリコンKF−69 0.2部 （酸価12） 上記塗料を、エアスプレーで約8μｍに塗布し、
溶剤を乾燥後、80W／cmの高圧下水銀灯下15cmで
回転させながら６秒間照射して硬化させ、鉛筆硬
度3Hで、密着性１mm巾クロスカツトセロテープ
剥離テストは100/100であり、耐久性良好で美麗
なニツケルスパツタ膜を有するABS成型物が得
られた。
参考例 ４
実施例２のベースコートの硬度をＦとした場合
は、トツプコート形成後に、数本のクラツクが発
生した。
は、トツプコート形成後に、数本のクラツクが発
生した。
参考例 ５
実施例２のトツプコートの形成に際し、シラン
化合物を使用しない場合は、トツプコート層の密
着性は、剥離テストで40/100であり、耐湿テスト
（60℃、95％RH、12時間）では0/100であつた。
化合物を使用しない場合は、トツプコート層の密
着性は、剥離テストで40/100であり、耐湿テスト
（60℃、95％RH、12時間）では0/100であつた。
参考例 ６
実施例２のトツプコートの形成に際し、アクリ
ルジアクリレートを使用しなかつた場合は、密着
性が不十分であつた。
ルジアクリレートを使用しなかつた場合は、密着
性が不十分であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １(a) 金属薄膜被覆層を形成すべきプラスチツ
ク成型品の表面に、紫外線硬化型アクリル樹脂
系ベースコート塗料を塗布し、紫外線により硬
化させて、鉛筆硬度がＨ以上のベースコート層
を形成する工程、 (b) 真空度１×10-3〜６×10-5Torr、アルゴン
圧５×10-3〜１×10-4Torr、電圧200〜600V、
電流密度20〜500A／m2の条件下で、スパツタ
リングにより、クロム、ニツケル等の金属、黄
銅、ステンレススチール等の各種合金の300〜
2000Åの厚さの薄膜を上記のベースコート層上
に形成する工程、 (c) 反応性アルコキシシラン化合物を含有する酸
価が５〜50である紫外線硬化型アクリル樹脂系
トツプコート塗料を上記金属薄膜面に塗布し、
紫外線により硬化させる工程、 からなることを特徴とする金属薄膜被覆層を有す
るプラスチツク成型品の製造方法。 ２ 紫外線硬化型アクリル樹脂系ベースコート用
塗料及びトツプコート塗料が、３官能以上の成分
を５重量％以上含有する特許請求の範囲第１項に
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59182712A JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59182712A JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6160878A JPS6160878A (ja) | 1986-03-28 |
| JPH0422984B2 true JPH0422984B2 (ja) | 1992-04-21 |
Family
ID=16123114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59182712A Granted JPS6160878A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 金属薄膜被覆層を有するプラスチック成型品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6160878A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01212753A (ja) * | 1988-02-19 | 1989-08-25 | Ikuyo:Kk | 合成樹脂成形品の金属外観形成方法 |
| JP2003231207A (ja) * | 2002-11-25 | 2003-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合薄膜 |
| JP5217866B2 (ja) * | 2008-10-03 | 2013-06-19 | 藤倉化成株式会社 | ベースコート塗料組成物、および光輝性複合塗膜 |
| JP5471395B2 (ja) * | 2009-12-14 | 2014-04-16 | 藤倉化成株式会社 | 複合塗膜 |
| JP2012056252A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Kaneka Corp | アクリル系樹脂フィルム |
| MX381784B (es) * | 2013-01-17 | 2025-03-13 | Sun Chemical Corp | Revestimiento de pintura de imprimación ec para papel y cartón. |
| WO2019225465A1 (ja) * | 2018-05-24 | 2019-11-28 | Dic株式会社 | 重合性組成物、その硬化物、フォトスペーサー、表示素子用オーバーコート、表示素子用層間絶縁材料、及び液晶表示素子 |
-
1984
- 1984-09-03 JP JP59182712A patent/JPS6160878A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6160878A (ja) | 1986-03-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |