JPH06264241A - 工作物を移送するチャンバ、チャンバ組合せ体、及び真空処理装置、並びに工作物の移送方法 - Google Patents

工作物を移送するチャンバ、チャンバ組合せ体、及び真空処理装置、並びに工作物の移送方法

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JPH06264241A
JPH06264241A JP5250294A JP25029493A JPH06264241A JP H06264241 A JPH06264241 A JP H06264241A JP 5250294 A JP5250294 A JP 5250294A JP 25029493 A JP25029493 A JP 25029493A JP H06264241 A JPH06264241 A JP H06264241A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 工作物を３次元空間で自由に移送できる工作
物真空処理用のチャンバ、チャンバ組合せ体、及び真空
処理装置、並びに工作物移送方法を提供する。 【構成】 ディスク状の工作物を、その製造の間に一次
的に真空雰囲気内で移送するためのチャンバ１は、工作
物２２と、軸を中心に回転可能な多数の工作物収容部２
０とを通過させる少なくとも２つの開口部４，６を備え
る。チャンバ１内には、開口部４に整合され、回転可能
な工作物収容部２０から独立して軸承される移送機構３
０ｂが配置される。移送機構３０ｂは、径方向に制御さ
れて引出し又は引き戻し可能であり、開口部領域におい
て工作物に作用する。チャンバ２は、少なくとも１つの
工作物収容部５２を備える。工作物収容部５２は、移送
機構４６に配置される。移送機構４６は全体として軸Ａ
44を中心に回転駆動され、かつ直線状に引出し又は引き
戻される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は請求項１の前提部分に記
載のチャンバ、請求項１０の前提部分に記載のチャンバ
組合せ体、請求項２４の前提部分に記載の真空処理装置
及び請求項２６の前提部分に記載の移送方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例えば
エッチング方法、グロー放電の補助を伴う若しくは伴わ
ない物理的又は化学的コーティング方法による反応性又
は非反応性の真空プロセスによって工作物処理を行う目
的で、工作物、特にＣＤなどのメモリプレート、磁気的
又は磁気光学的メモリプレートを、真空処理装置のチャ
ンバ内で移送するために、従来、チャンバに設けられて
いる外側開口部に対して整合して１つの軸を中心に共通
に回転可能な多数の工作物収容部を設けることが知られ
ている。その開示文献としては、例えば米国特許第３８
５６６５４号、又はドイツ特許公報第２４５４５４４号
が挙げられる。
【０００３】米国特許第３８５６６５４号によれば、チ
ャンバ内でフレーム状の工作物収容部を１つの軸を中心
にメリーゴーランド式、すなわちタレット式に回転させ
ることが知られている。工作物を有するフレームが、作
業ステーションを取着したチャンバの外側開口部と整合
する位置に達すると、回転軸に平行に作用する昇降機構
によって、工作物が加工位置へ移動される。工作物に関
して３次元の移動路、すなわちタレット回転平面に基づ
く２つの次元とタレット回転軸に対して平行にチャンバ
から出る第３の次元とにおける移動路が生じる。
【０００４】ドイツ特許公報第２４５４５４４号は、コ
ンパクトな装置構造を得るために、第３の次元における
移動路を著しく減少させる構成を提案している。そのた
めに工作物は、工作物収容部を回転タレットに軸方向に
移動可能に軸承しているばねのフレーム内で、わずかに
軸平行に作業位置へ移動される。そのために加工ステー
ションに整合してそれぞれの外側開口部に取り付けられ
ているタペットが、加工チャンバと対向している工作物
保持フレーム上に作用する。それにより、チャンバの外
側開口部に取り付けられている処理ステーションの壁
は、タレットと共に回転される部分によって補われる。
この原理は、ドイツ特許公報第３９１２２９５号、同第
４００９６０３号、同第３７１６４９８号、及び欧州特
許公報第０３８９８２０号に示す装置においても、構造
的に一部変形されてさらに開示されている。
【０００５】しかし、特に上述の円形ディスク状の工作
物の製造方法においては常に、多数の個別処理ステップ
をそれに応じた多数の処理ステーションにおいて行うと
いう必要性が生じる。その場合には、工作物を処理位置
において工作物保持タレットの移動平面上でわずかしか
持ち上げない方法は、条件付きでしか役に立たない。そ
れは、チャンバを使用できるスペースはタレットによっ
て制限されているからである。第１の視点における本発
明の目的は、請求項１の前提部分に記載の種類のタレッ
ト式コンベヤを有するチャンバにおいて、この問題を解
決することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び作用】この目的のため
に、本発明は請求項１の特徴部分の構成を有するチャン
バを提供する。すなわち、１つの軸を中心に一体回転可
能に軸承された多数の工作物収容部（タレット）に加え
て、少なくとも１つの運動要素において上述の軸に対し
て径方向に制御されて引出し又は引き戻し可能な移動機
構が設けられ、その移送機構がチャンバ内でタレットに
関して独立して軸承される。それにより、所定の回転位
置において、タレットに設けた１つの収容部がチャンバ
の操作すべき開口部の１つに整合された場合に、条件に
応じて選択可能なストロークで工作物を特に径方向に往
復移動することが可能になる。したがって、タレットか
ら工作物を開口部を通して移送でき、かつそれにも拘ら
ず、径方向のみに移動する場合には移送路の２次元性が
完全に維持され、移送機構が部分的にのみ径方向に移動
する場合には、所望により第３次元における移送運動の
程度を自由に選択できる。タレットの直径は工作物収容
部の大きさと特にその数によって与えられ、チャンバの
軸方向の広がりはこの可能な数に影響を与えないので、
本発明によれば移送機構の直線状のストロークもチャン
バの１つの平面内へ向けられ、それは数に従って大き
い。それにより、チャンバを拡大せずに長い移送ストロ
ーク用のスペースが得られる。
【０００７】本発明の第２の視点において、公知のタレ
ット移動技術には、部分的にわずかであっても、工作物
をタレットの移送平面からそれぞれの処理ステーション
へ向けて移送するために、チャンバに付加的な機構が設
けられるという他の欠点がある。この種の付加的な機構
を設けることは、タレットと付加的な機構との相互作用
が特別に設けられた外側開口部を有するそれぞれのチャ
ンバ構成に合わせられることによって、特に装置を必要
に応じてフレキシブルに異なる構成にするというコンセ
プトに反する。
【０００８】しかしながら、例えばこの種の装置構成に
おいて設けられる外側開口部のいずれかに処理ステーシ
ョンを装備するのではなく、天井部で閉鎖する場合に
は、この開口部に付加的な移送機構が設けられ、それに
よって同一のチャンバを他の装置構成で使用することが
可能になる。この上述の公知のチャンバに基づいて、こ
こでは少なくとも１つの工作物収容部の回転中心となる
回転軸に関して外側開口部の互いの空間的な配置を広い
限界内で自由に選択することができ、それによって大き
な経済性で装置全体を最もコンパクトに構成することが
できるチャンバを提供するという課題がある。
【０００９】この課題は、対応出願の欧州特許出願第９
２１０８７７１．４号、米国特許出願第０７／８８８１
１１号、日本国特許出願第４−１４０３５７号を有する
ドイツ出願第４１１７９６９．２号において解決されて
いる。そこに記載されているチャンバにおいては、工作
物収容部は移送機構に配置されており、移送機構は全体
として軸を中心に駆動されて回転移動できるように軸承
されており、かつさらにこの軸を中心に直線状に引出し
又は引き戻し可能である。それによって、本発明の第２
の視点において、請求項１に記載のように行われる場合
には、この種の処理装置のコンパクト性を著しく増大さ
せることができ、その場合に構造的な自由度も著しく向
上する。
【００１０】請求項１０に記載の好ましいチャンバ組合
せ体においては、他のチャンバとして請求項１に記載の
チャンバ、すなわち工作物収容タレットと、それから独
立して軸承された径方向に操作可能な移送機構とを有す
るチャンバが設けられる。上述の組合せ体における「タ
レットチャンバ」である上述のチャンバにおいて、請求
項２の記載によれば、好ましくは回転可能な多数の工作
物収容部に関して独立して軸承された移送機構がチャン
バ内に回転しないように軸承されることが提案される。
しかし、この移送機構もタレットの軸に関し、タレット
とは独立して回転可能に配置することも全く可能であっ
て、それにより、例えばこの種の移送機構を用いて多数
の外側開口部を操作することができる。それに対し、請
求項２及び請求項１２に記載の好ましい実施例において
は、それによって操作すべき外側開口部のそれぞれに対
応して回転しないように軸承された移送機構が設けられ
る。
【００１１】タレットを有するチャンバの場合、又はこ
のチャンバとのチャンバ組合せ体の場合に、チャンバに
おいて、又は移動機構が回転移動可能かつ直線状に移動
可能に形成されているチャンバとのチャンバ組合せ体に
おいて、請求項３及び請求項１３の記載によれば、チャ
ンバを通過して処理にまわされ、処理後にチャンバを通
して戻される工作物は、往路においては復路よりチャン
バ内にずっと長く滞留することが可能になる。それによ
り、このチャンバ内で工作物をその処理前に条件調節す
ること、例えばガス抜きを行うことが可能になる。さら
に例えば上述のチャンバは、加熱等の前処理を容易に実
施できる。
【００１２】そのためには、特にタレットを有するチャ
ンバが適している。それは、ここではタレットに、移送
機構が回転移動可能かつ線形移動可能に軸承されるチャ
ンバにおけるよりもずっと多数の工作物収容部を設ける
ことができるからである。しかも、タレットを拡大する
ことはチャンバを広げる要因でしかないが、回転及び線
形移動する移送機構を多数倍することは、チャンバの複
雑さを著しく増大させることを考えると、ずっとコスト
が少ない。
【００１３】タレットを有するチャンバにおいても、回
転及び線形移動可能な移送機構を有するチャンバにおい
ても、従ってまたチャンバ組合せ体においても、請求項
４及び請求項１４の記載によれば、少なくとも１つの移
送機構が該当する回転軸に対して直角に引出し又は引き
戻し可能に形成される。それにより、それがタレットを
有する２次元の移送路に付加したもの、又は移送機構の
回転運動とそれに伴う２次元の運動に付加したものであ
っても、移送路の２次元性が一貫して維持される。
【００１４】さらに、上記すべてのチャンバ及びチャン
バ組合せ体において、ディスク状の工作物のディスク面
をそれぞれの回転平面に配置すること、従ってそれに応
じて工作物収容面を配置することが可能である。請求項
５及び請求項１５の記載によれば、好ましくはこの種の
ディスク状工作物のために、それがタレットの回転であ
ろうと移送機構の回転であろうと、工作物収容部が回転
する場合にその収容面が円筒面を描くように配置され
る。
【００１５】タレットを有するチャンバ及びこのタレッ
トチャンバとのチャンバ組合せ体はさらに、好ましくは
請求項６及び請求項１６の記載に従って形成される。そ
れによって構造的に容易に、タレット駆動装置と他の移
送機構の駆動装置を、それが回転及び径方向駆動装置で
あろうと、又は単に径方向駆動装置であろうと、チャン
バ内にスペースをとらずに分離して配置できる。
【００１６】タレットを有する上述のチャンバ及び上述
のチャンバ組合せ体は、さらに好ましくは請求項７及び
請求項１７の記載に従って形成される。すなわち収容部
が径方向に弾性的に軸承されることにより、収容部は操
作すべき外側開口部上へ整合された場合に、移送機構に
よって開口部周縁に当接して、真空密に閉鎖できる。そ
れにより、チャンバの内部から見て、工作物収容部はチ
ャンバの外側で上述の開口部に当接し、開口部が密に閉
鎖されている場合、従って工作物を挿入又は取り出すこ
とによって上記の工作物収容部をチャンバ外部から操作
することができ、該当するチャンバ内の雰囲気を望まし
くない程度に損なうことはない。
【００１７】さらに、特にタレットを有するチャンバの
工作物収容部に、請求項８及び請求項１８に記載するよ
うに、制御される保持機構が設けられる。その場合にし
かし、この種の保持機構は、回転可能かつ線形移動可能
な移送機構の工作物収容部にも設けることができる。請
求項９及び請求項１９に記載の他の好ましい実施例にお
いては、タレットを有するチャンバ、又はチャンバ組合
せ体の直線状かつ径方向に移動可能な移送機構を有する
チャンバにおいて、外側開口部の少なくとも一部が少な
くとも１つの移送機構の作用によって気密に、好ましく
は真空密に閉鎖可能である。
【００１８】タレットを有するチャンバにおいては、こ
れは少なくとも１つの径方向に引出し又は引き戻し可能
な移送機構によって実現され、チャンバ組合せ体におい
ては、回転可能かつ線形に移動可能な移送機構によって
行われる。上述の組合せ体において、タレットを有する
チャンバと線形移動及び回転移動する移送機構を有する
チャンバとが組合せられる場合には、チャンバの考察さ
れる共通の開口部は、一方のチャンバの移送機構によっ
ても、他方のチャンバの移送機構によっても気密に、好
ましくは真空密に閉鎖される。それぞれ２つのチャンバ
の雰囲気的な減結合に対する要求に従い、シールはギャ
ップシールによって圧力段階を設けるだけで充分であ
り、又は２つのチャンバが真空密に分離される。
【００１９】タレットを備えたチャンバ、及び上述のチ
ャンバ組合せ体を有する本発明による真空処理装置は、
請求項２４及び請求項２５の記載に示す特徴を有する。
本発明による移送方法は、請求項２６及び請求項２８の
記載に示すような特徴を有る。
【００２０】
【実施例】以下、添付図面に示す実施例を参照して、本
発明を説明する。まず、図１及び図２を参照して、本発
明による方法を実現する装置の好ましい実施例を説明す
る。説明のため、図１は図２よりかなり概略化されてい
る。図１及び図２では、同一の参照符号を使用する。こ
の装置には、第１チャンバ１と第２チャンバ２とが設け
られ、両者は接続開口部４を介して互いに連通される。
緩衝（バッファ）チャンバとして形成された第１チャン
バは、供給又は取出し開口部６（エアロック開口部）を
備える（図２（ａ））。この開口部は、駆動操作される
供給／閉鎖操作部材（皿部）８によって密封閉鎖でき
る。第１チャンバ１のハウジングの中央に軸承されて、
回転駆動装置１０が設けられる。回転駆動装置は、駆動
軸１２を介してタレット１４を駆動する。タレットは引
渡しプレート１６を有し、引渡しプレート１６には、板
ばね１８（図２（ｂ）参照）を介してディスク状の工作
物２２用の収容部２０が配置される。板ばねの懸架によ
って収容部２０は、図１に符号Ｓ1 で示すように、径方
向に弾性的に撓むことができる。
【００２１】タレット１４に設けられた８つの収容部２
０は、特に図２（ｂ）から明かなように、実質的フレー
ム体として形成される。収容部には、工作物２２の延長
面に対して垂直に見て、差込み開口部２４と、差込み開
口部２４を介して工作物２２を保持する舌片状に作用す
る固定機構２６（説明のため図２（ｂ）のみに示す）が
設けられる。板ばね１８を端縁側に配置したことにより
（図２（ｂ））、差込み開口部２４は露出される。工作
物（ここではメモリプレート）は中央開口２８を有す
る。タレットの歩進的な回転によって、収容部２０はチ
ャンバ１の開口部４及び開口部６に順次回動される。
【００２２】特に図２（ａ）から明らかなように、チャ
ンバ１内のタレット１４の軸Ａ14に関して、上部支持体
１６に対向して軸受台（ブロック）２９がチャンバ１の
ハウジングに固定される。軸受台２９には、図示の２つ
の開口部４，６に整合かつ対応して、２つの互いに独立
して径方向に進入及び退出可能な皿部３０ａ及び皿部３
０ｂが配置される。皿部３０ａ，３０ｂの駆動機構は、
真空技術的に蛇腹３２ａ，３２ｂを介して密封ないし封
入される。空気式の制御パイプ３４ａ，３４ｂが、図１
に概略図示するように、ブロック２９内に導入されてい
る。図１にさらに概略図示するように、チャンバ１には
条件を調節するためのポンプスリーブ３６と、所望によ
りガススリーブとが設けられる。
【００２３】チャンバ１において実現される、工作物用
の多数の収容部２０と径方向に作用する皿部３０とを有
するタレットの原理によって、図から明らかなように、
設置された開口部を通してその時に取り扱われる工作物
よりも多い数の工作物をチャンバ内に保持できる。それ
により、上述の開口部に関してその時に取り扱われない
工作物をこのチャンバ内で条件調節（特にガス抜き）で
きるという大きな利点がもたらされる。これは、加熱又
は他の周知の前処理によって補助することができる。
【００２４】さらに、後述するような開口部を介した工
作物の取扱が、タレットによって工作物がチャンバ１内
で回動されるのと同一の平面において行われることに利
点が見られる。それにより、チャンバ１とその開口部に
配置された他のチャンバ（移送ないし分配チャンバ、加
工チャンバ、又はエアロックチャンバ）とを有する装置
全体を、モジュラーとして径方向にもコンパクトにで
き、所望により平坦に形成することが可能となる。
【００２５】もちろん、チャンバ１自体に２つ以上の開
口部を設け、それに対応して配置された皿部３０によっ
て径方向に操作することができる。その場合、タレット
がきわめて容易に駆動可能であり、また、固定的な中心
から径方向の取扱移動を駆動できるのでこの駆動も回転
運動と軸方向運動とを組み合わせた場合よりもずっと容
易であることによって、構造の単純性が維持される。し
かし原則的には、この簡単な構造を維持しつつ、皿部３
０を有する軸受台２９を軸Ａ14を中心に、かつタレット
１４からは独立して回転させることが可能である。それ
により、少ない皿部３０で多数の開口部を操作すること
が可能になる。このことは特に、開口部を気密に閉鎖す
る必要がない場合、例えば考察される使用目的にとって
拡散ギャップシールによるシールで充分である場合に有
効である。
【００２６】図示実施例において、開口部６の開口領域
は工作物を出入りさせる本来のエアロック挿入排出部と
して作用し、チャンバ１自体が周辺から挿入された工作
物の条件調節に用いられ、その後、工作物は開口部４を
通して後述するように処理ステーションへ移送される。
【００２７】次に、図示実施例によるチャンバ１におい
て、本来のエアロックとして形成された開口部６を通し
ての工作物の供給及び排出機能について説明する。タレ
ット１４を図２（ａ）に符号Ｓ2 で示す方向に回転させ
ることによって、皿部３０ａとシール３８を介して密封
閉鎖可能な供給／閉鎖操作部材（皿部）８とが引き戻さ
れると、例えば加工済み工作物を有する収容部２０が開
口部領域へ回動される。次いで、皿部３０と共にばね１
８の作用に抗して、その収容部２０はシール４０にシー
ルされてチャンバ１の壁に当接される。そのとき、収容
部２０と皿部３０ａとの間の図示しないシールによっ
て、チャンバ１に対する開口部６の真空密封の仕切りが
確保される。
【００２８】図２（ｂ）に符号Ｓ3 で示すように、操作
タペットの作用によって固定機構２６が解除された後
に、工作物２２は例えば磁気式、空気式、又は機械式
に、収容部２０から供給／閉鎖操作部材８によって引き
取られる。収容部２０を介して皿部３０ａがチャンバ１
の壁へ密着すると、供給／閉鎖操作部材８が持ち上げら
れ、加工済みの工作物が操作部材から取り除かれ、新た
に加工すべき工作物が挿入される。供給／閉鎖操作部材
（皿部）８は、新たに加工すべき工作物と共に再び密封
閉鎖され、固定機構２６の空の収容部２０に新たに加工
すべき工作物が引き渡される。次いで皿部３０ａは、図
２（ａ）に点線で示す引き戻し位置へ移動される。それ
によりタレットは、Ｓ2 方向に１クリックさらに自由回
転できる。
【００２９】図２（ａ）に点線で図示するように、チャ
ンバ１内の雰囲気に対し最高の純度が要求される場合に
は、開口部６をポンプスリーブを介してポンプ４２と接
続することができる。しかし、エアロックとして作用す
る開口部６の領域の容積が極端に小さいので、チャンバ
１の容積に対する開口部６の領域の容積の比で与えられ
る希釈比は、チャンバ１内の雰囲気の少なくとも満足の
行く純度を保証するのに充分である。
【００３０】前述のように、皿部８を移送皿部として形
成し、開口部６にフランジ止めされた他のチャンバ内の
移送機構の一部とすることができる。或いは、他の種類
の移送機構が、開口部６を通して工作物をタレット１４
へ供給し、又はそこから取り出すことができる。さら
に、例えば径方向位置Ｂに、例えば開口部６に関して説
明したと同様に形成された取り出しエアロック開口部を
設け、２つの別々の領域において工作物をチャンバ１へ
供給し、かつそこから取り出すことが容易に可能であ
る。前述のように、２つ以上の皿部３０を設けて、チャ
ンバ１内に設けられた対応数の開口部を操作することが
でき、極端な場合には収容部２０と同一の数の皿部を設
けることができる。
【００３１】図２（ａ）から明らかなように、工作物を
チャンバ１へ挿入して、チャンバ１から処理ステーショ
ン方向へ排出する移送路は、処理ステーションからチャ
ンバ１内へ戻ってチャンバ１から工作物を排出する移送
路よりかなり長い。原則的には、チャンバ１が常にそう
形成されているように、工作物を処理前に条件調節する
調節チャンバとして利用される場合には、挿入／排出開
口部が図２に示すように例えば挿入／排出エアロック開
口部として組込まれていても、工作物を未処理工作物の
収容開口部から排出開口部へ移送する移送路は、処理済
工作物をその収容開口部から排出開口部へ移送する移送
路より長く選択される。それにより、前段チャンバであ
るチャンバ１内に工作物が滞留する時間が延長され、そ
の間に工作物は水分及びガスを放出できる。従って工作
物は、次の加工ステップのために前処理（条件調節）さ
れる。このことは特に、例えば通例にメモリプレートに
使用されるプラスチックのように、ガス又は水分吸収に
富む材料の場合に重要である。プロセスステーションに
おける工作物の激しいガス抜きは、それによって工作物
のコーティングが使用不能になる恐れがあるので、実施
できない。
【００３２】次に、チャンバ２とチャンバ１との相互作
用について説明する。チャンバ２内には、例えば６つの
移送アーム４６を有する移送スター４４が設けられる。
移送スター４４は、駆動装置４８によって軸５０を介し
て回転駆動される。アーム４６の端部側には、真空密に
封入された駆動機構によって径方向に往復動可能な皿部
５２が固定配置される。皿部５２は、チャンバ１への開
口部４と、１つ又は多数の付加的な開口部５４とへ揺動
可能である。この開口部には、図示実施例のように１つ
又は多数の処理ステーション及び／又は他の移送チャン
バ若しくはエアロックチャンバを配置できる。図示実施
例では処理チャンバ５６が設けられる。
【００３３】次に、チャンバ１からチャンバ２への工作
物の引き渡しについて説明する。工作物は表面処理の前
に開口部４の下流、すなわち工作物の移送方向において
開口部４の後方の処理位置において、所望の表面領域を
被覆されなければならない。ここで考察しているメモリ
プレートの場合には、処理のために開口２８を中心とす
るその中央領域と周辺領域とが少なくとも１つの処理ス
テーションにおいて被覆されなければならない。
【００３４】後述するように、被処理工作物は、ルーズ
に供給されるマスキング部材による中央マスキングによ
って保護される。このマスキング部材は後述するよう
に、処理前に工作物に取り付けられ、処理後に再び工作
物から取り除かれる。処理後に皿部５２へ戻される工作
物に取着されたマスキング機構５８は、開口部４の領域
でこの処理済工作物から取り外されて、チャンバ２内で
いずれかの皿部５２に新たに載置された工作物へ取り付
けられる。新たな工作物は移送スター４４の回転によっ
て処理位置へ移動される。そのため、チャンバ１の回転
しない皿部３０ｂの中央に電磁石が配置される。
【００３５】例えば図２（ａ）に示す回転方向Ｓ4 にお
いて、上述の種類のディスク状の工作物２２は開口部４
に対向する図１に示す位置へ移送される。当該の皿部５
２は、シール６２によって開口部４の周縁に密着され
る。それにより、磁石６４（好ましくは電磁石）によっ
て保持された、皿部に載置されて移動する工作物２２
は、開口部４へ挿入される。軸５０（軸線Ａ44）を中心
として皿部５２が回転する間、工作物を持たない空の収
容部２０は、開口部４の位置に位置決めされる。その場
合に皿部３０ｂは、空の収容部２０をシール６６及びシ
ール６８を介して開口部４のチャンバ１側の周縁上に押
圧するので、移送スター４４が回転移動する間、２つの
チャンバ１，２は気密に、かつ所望により真空密に分離
される。
【００３６】皿部５２が、シール６２によってチャンバ
２側からこの分離を保証する位置へ移動されると、皿部
３０ｂの電磁石６０が励磁されて、磁気材料からなるマ
スキング機構５９に作用し、皿部３０ｂの引き戻しによ
って工作物２２と皿部５２との係合が解離される。図１
に概略図示するタペット７０の操作により、図２（ｂ）
に示す固定機構２６が収容部２０内で処理済の工作物２
２に作用する。皿部３０ｂが磁気的に同皿部に保持され
たマスキング機構５８と共に引き戻された後に、タレッ
ト１４はＳ2 方向に１クリック回動され、それにより未
加工の工作物を装填した収容部２０が開口部４の上方へ
回動される。前処理され、マスキング機構を除去された
工作物は、それに対応する収容部２０と共に図２に示す
ように角度位置Ｂに到達する。皿部３０ｂを、その前に
収容したマスキング機構５８と共に前進させることによ
って、マスキング機構は新たに供給された工作物２２に
取り付けられる。新しく挿入された収容部２０に設けた
シール６６，６８により、この場合にもチャンバ分離が
確保される。
【００３７】次に電磁石６０が消磁されると、磁石６４
がマスキング機構５８を工作物と共に皿部５２に吸引し
て保持する。そのため、気密、好ましくは真空密（蛇
腹）に形成されたタペット７０によって固定機構２６が
緩められる。それにより、工作物はマスクされて皿部５
２上に位置する。収容部２０は空であって、次のサイク
ルの加工された工作物を収容する準備が整う。新しく装
填された皿部５２が引き戻され、チャンバ分離は皿部３
０ｂと空の収容部２０によって確保される。移送スター
４４の回転により、装填された工作物はその加工位置へ
さらに回動され、加工済の工作物は空の収容部２０の上
方位置へ回動される。シール６８は例えば収容部２０に
配置され、かつ図示の装置においては開口部６をエアロ
ックシールするよう作用する。余り慎重を要しない処理
プロセスにおいてチャンバ１とチャンバ２との間の真空
密の分離が必要とされない場合、又は例えばチャンバ２
の後段に接続された加工及び／又は移送チャンバがそれ
自体分離機構及び条件調節手段を有する場合には、シー
ル６８と同様にシール６６及び／又はシール６２も、拡
散ギャップシールとして形成することができる。
【００３８】移送スター４４のアーム４６が、それぞれ
処理ステーション又はそれに通じる開口部（開口部５４
等）に対向して位置決めされる場合には、その皿部５２
が前進駆動され、所望により、シール６２によって開口
部５４の周縁に当接される。エッチングプロセスやコー
ティングプロセスにより、マスキングされた工作物２３
の表面処理が行われる。メモリプレートに関する図示実
施例では、周辺マスクは処理ステーション５６の固定位
置に取り付けられたマスキングリング７２によって実施
される。マスキングリング７２は弾性的に形成すること
ができる。しかし、所望により、周辺又は他のマスキン
グ機構を中央マスキング機構５８と同一の原理で取り扱
うことが可能であり、それについては図４を用いて後述
する。
【００３９】前述のように、チャンバ２にも多数の処理
ステーションを設けることができ、また、設置される開
口部の幾つかを他の移動ないし分配チャンバ又は他のエ
アロックチャンバに連通させることができる。符号７４
で示すように、図示の装置においてはチャンバ２自体も
排気され、又は条件調節される。皿部５２の駆動装置用
の制御線は、スター４４の軸５０を通して案内すること
ができる（図示せず）。
【００４０】図１及び図２には図示しないが、マスキン
グ機構５８は、処理によって消耗した場合、すなわち例
えば処理を多数回通過した後に厚肉になった場合には、
チャンバ２内へ戻されず、例えば皿部３０ｂによって持
ち上げられずに処理済みの工作物に残したままエアロッ
クを通して排出される。これは所定の工程であり、前述
のように、収容部２０によって供給される未加工の工作
物は、すでにマスキング機構５８を設けてチャンバ１内
に挿入され、使用済みのマスキング機構５８と交換され
る。
【００４１】以上、図１及び図２に示す好ましい実施例
により本発明を説明した。図３は、図１及び図２に示す
実施例において、２つの移送機構の間でマスクの交換が
原則的にどのように行われるかを、より原理的に示す。
図３（ａ）によれば、チャンバ８０とチャンバ７８と
は、開口部８２を有する壁７６によって分離される。各
チャンバ内には、概略的にベルトコンベヤ８４，８６と
して図示された移送装置が配置される。各コンベヤには
工作物８８を保持する制御可能な保持機構９０（略示す
る）が設けられる。工作物８８の処理位置への移送方向
は、Ｓ5 で示すように、チャンバ７８からチャンバ８０
内へ行われる。いま装置が駆動されたものと仮定する。
【００４２】その場合に図３（ａ）によれば、移送装置
８４は空であり、工作物８８は別部材として形成された
マスキング機構９２と一緒に移送装置８６によって符号
Ｓ6で示す方向に供給される。最初に供給される工作物
Ｎｏ．１は、開口部８２の上方へ移送され、図３（ｂ）
に示すように、例えばタペットの形状の横移送機構９４
によって、コンベヤ８６から開口部８２を通してコンベ
ヤ８４内へ移動される。コンベヤ８４は図３（ｂ）に示
すように、方向Ｓ7 へさらに前進される。このプロセス
は、循環式に回転するコンベヤ８４に完全に工作物が装
填されるまでの間行われ、工作物の一部はすでに処理さ
れている。その場合、コンベヤ８６は移送方向において
開口部８２の下流で常に空であった。
【００４３】コンベヤ８４にはｎ個の工作物を取り付け
ることができる。移送方向において開口部８２の下流
で、工作物Ｎｏ．１が加工後に、図３（ｃ）に示すよう
に開口部８２の前へ現れる。コンベヤ８６の工作物Ｎ
ｏ．（ｎ＋１）は、マスキング９２なしで供給される。
図３（ｄ）への移行から明らかなように、処理済みの工
作物Ｎｏ．１がまずコンベヤ８４からコンベヤ８６へ引
き渡され、次に工作物Ｎｏ．１からマスキング機構９２
が持ち上げられる。
【００４４】次いでコンベヤ８６は、１ステップだけＳ
6 方向へさらに移動され、それにより図３（ｅ）に示す
状況が生じる。すなわち、加工済みの工作物Ｎｏ．１は
チャンバ７８から排出するように移送され、工作物Ｎ
ｏ．（ｎ＋１）が開口部８２へ移動される。すでに開口
部８２から開口部８２へチャンバ７８を通って一巡して
来たマスキング機構９２が、横移送機構９４によって、
未処理の工作物Ｎｏ．（ｎ＋１）に取り付けられる。こ
の工作物は、図３（ｆ）から明らかなように、コンベヤ
８６から開口部８２を通してコンベヤ８４へ引き渡され
る。それにより、コンベヤ８６の工作物収容部は空にな
り、その結果、図３（ｃ）〜（ｆ）に示すサイクルを繰
り返すことができる。
【００４５】図４は、図１に示す装置の開口部４を有す
る他の実施例による装置を概略図示する。この装置で
は、周辺マスキング機構５８ｐを上述のマスキング機構
５８と同様に交換することができる。必ずしも上述のマ
スキングコンセプトと結び付けられるものではないが、
図示の実施例ではシール６２を有する皿部５２に車両プ
レート５２ａが支持される。車両プレートは、好ましく
は永久磁石６４ａによって、磁気的に皿部５２に保持さ
れる。
【００４６】車両プレート５２ａ自体は、皿部５２側の
周辺磁石６４ｐと中央磁石６４とを支持する。シールを
有する収容部２０は、前述のように、シール６６を有す
る皿部３０ｂによって開口部４の周縁へ向かって駆動さ
れる。皿部３０ｂには、周辺マスキング機構５８ｐ用の
電磁石６０ｐ、又は中央マスキング機構５８用の電磁石
６０が設けられる。マスキング機構５８に関して上述し
たのと同様に、磁石６０ｐによって周辺マスキング機構
５８ｐが送られる。
【００４７】車両プレート５２ａは工作物取り付けプレ
ートとすることができ、それぞれ処理すべき工作物２２
に対して交換される。車両プレートは、それぞれの工作
物２２と一緒に工作物移送路の少なくとも一部を通過す
る。図示のように、車両プレート５２ａを設ける場合に
は、固定機構２６が車両プレートに作用する。
【００４８】図５は、上述のマスキング方法又はそれを
実施する装置の全体像を、基本原理によって示す。図示
のように、コンベヤ１００上で、工作物１０２ａがマス
キングなしで、コンベヤ１００すなわち工作物１０２の
移送路Ｂに沿って作用する取付けステーション１０４へ
供給される。取付けステーションには、マガジン１０６
からルーズなマスキング部材１０８が供給される。取付
けステーション１０４、すなわちマスキング部材１０８
が工作物１０２ａへ取付けられるステーションの出口側
では、マスキング部材１０８を設けられた工作物１０２
ｂが、図５では一般的に真空表面処理ステーション１１
０で示される１つ又は複数の処理ステーションへ供給さ
れ、その中で上述の工作物１０２ｂの片面、両面、又は
周囲が表面処理される。装置１１０の出口側では、マス
キングされた処理済みの工作物１０２ｂが、工作物の移
送路Ｂに沿って作用する取出しステーション１１２へ供
給され、処理済みのマスキングなしの工作物１０２ｃと
して取出しステーション１１２から出て行く。ステーシ
ョン１１２で取外されたマスキング部材１０８は、取付
けステーション１０４へ戻される。或いは、多数回の戻
しサイクルを経て処理装置１１０の作用によって消耗し
た場合は、符号１１４で示すように循環ループから引き
出される。これは、概略図示する制御可能な選択ユニッ
ト１１６を介して行われる。
【００４９】図６及び図７を参照して、図１及び図２に
示す好ましい装置のチャンバ１内で実現される移送技術
の一般的原理について説明する。図６によれば、それ自
体及び／又は少なくとも２つ設けられるチャンバ開口部
１２２の少なくとも１つを通して真空技術的に条件調節
可能な移送チャンバ１２０内にタレット１２４が設けら
れる。タレットは、ω1 で示すように回転駆動制御され
る。タレットには、一般的に、所望により制御可能な工
作物１２６用の固定機構１２５が設けられる。
【００５０】図６に示す構成によれば、タレット１２４
は例えばディスク状の工作物１２６を、タレット１２４
が回転軸を中心に回転する場合に工作物のディスク面が
円筒面を描くように、保持し、かつ移送する。好ましい
実施例では、タレット１２４の回転軸Ａ124 に関して回
転しないように径方向に制御されて引出し及び引き戻し
可能に送り機構１２８が設けられる。それが回転しない
場合には、その数はチャンバ１２０内のそれによって操
作される開口部１２２の数と同一であるが、その数はチ
ャンバ１２０に大体において設けられる工作物を通過さ
せる開口部の数と必ずしも同一にする必要はない。
【００５１】タレット１２４は好ましくは歩進的に回転
駆動されるので、それぞれの収容部１２５が操作すべき
チャンバ開口部１２２に対して整合され、その後、開口
部１２２に対し固定的に設けられた送り機構１２８によ
って、位置決めされた工作物１２６がチャンバ１２０か
ら出る方向へ引き出され、又は逆に、開口部１２２を通
して工作物がチャンバ１２０の外側から引き戻しないし
は引き込まれる。
【００５２】図から明らかなように、所望通りに条件調
節された雰囲気内で、この種の移送チャンバ１２０に送
り機構１２８よりも多い工作物１２６を設けて中間貯蔵
することができる。軸Ａ124 を中心とする回転運動と、
送り機構１２８によって実施されるような径方向移動と
は分離され、それによって該当する駆動装置と制御線と
の実現が著しく簡略化される。タレットの必要な回転運
動と送り機構の径方向運動とが１つの平面で行われると
いう事実に基づいて、最適な平坦なチャンバ１２０が得
られる。
【００５３】上記のことはもちろん必ずしも必要ではな
く、望ましいことである。図６に一点鎖線で示すよう
に、送り機構１２８を軸Ａ124 に対して斜めの角度で配
置し、それに伴って保持機構をタレットに設け、かつチ
ャンバ１２０に開口部を設けることも容易に可能であ
る。さらにまた、図６に示すタレットに、点線で示すよ
うに、軸Ａ124 の方向に見て２つ以上の工作物の層を設
けて、この軸方向に階段状にされた送り機構１２８によ
って開口部１２２を操作し、又はＶで示すように、設置
された送り機構１２８をさらに回転しないように、しか
し軸方向には制御されて移動できるように配置すること
も可能である。図６にω2aで示すように、１２８ｍで概
略図示する別体の回転駆動装置を用いて、送り機構１２
８を軸Ａ124を中心に回転させることも容易に可能であ
る。当業者には明らかなように、チャンバ１２０又は図
１のチャンバ１において実現される移送原理を、それぞ
れの要請に合わせて修正する多数の方法がある。
【００５４】この開発された多数の方法から、図７は、
移送チャンバ１２０の組立高さを著しく削減することを
可能にする他の方法を示す。ここでタレット１２４は、
工作物１２６がディスク状である場合に、その厚み方向
の広がりである最小の工作物寸法がタレット軸１２４に
対して平行となるように形成される。移送機構１２８は
図６と同様に形成され、設置される開口部１２２ａはス
リットとして形成される。
【００５５】次に、チャンバ１又はチャンバ２のコンセ
プトに基づくそれぞれ少なくとも１つのチャンバを用い
て、チャンバの構成の一般的なこと、及び装置構造のコ
ンセプトについて説明する。図８は、図１及び図２に示
すチャンバ２の他の実施例を横断面図で示す。このチャ
ンバは駆動モータ１３０を有し、空間軸Ａ及び物理的な
駆動軸１３３としてのその軸上に、軸Ａ135 を有する少
なくとも１つの移送アーム１３５が、例えば空間軸Ａに
対して４５°の角度で、傾けて固定される。モータによ
って駆動軸１３３がω2 で示すように回転されると、１
つ又は複数の移送アーム１３５は例えば４５°の円錐開
放角度φを有する円錐面を描く。図８では、チャンバＫ
は操作すべき２つの開口部を有する。第１の開口部１３
７は、例えば図示のように直接エアロック開口部として
形成されている。その場合、例えば図５及び図６のチャ
ンバの原理に従って形成された他のチャンバ１８０は、
エアロック開口部を持たなくてもよい。開口部にはフレ
ーム１３９が設けられ、そのフレームに昇降可能なフレ
ーム１４１がフランジ止めされる。駆動されて昇降する
フレーム１４１の内部にシールフレーム１４２が設けら
れ、このシールフレームは法線Ａ143 でエアロック容積
１４３を定める。エアロック開口部１３７にはさらに天
井部１４５が設けられ、天井部は例えばｘ方向に線形に
移動できる。天井部はもちろん図７の垂直軸を中心に揺
動して開閉することができる。天井部は、図示の閉鎖位
置において、中央フレーム１４１がｙ方向に下降するこ
とにより、シールフレーム１４２上に密接する。それに
より、エアロック開口部１３７は周囲Ｕに対して密封さ
れる。
【００５６】移送アーム１３５の端部側には、支持体部
分として皿部１４９が固定され、その上に処理すべき工
作物（図示の例ではメモリディスク１５１）が置かれ
る。点線で示すように、移送アーム１３５において皿部
１４９はシールフレーム１４２に接する着座位置から空
間軸Ａ方向へ引き戻され、それによりエアロック開口部
の移送方向側が開放される。皿部１４９は、チャンバＫ
内で最大の純度要求を満足させる雰囲気を維持する必要
がない場合、フレーム１４２に密着させる必要はない。
工作物１５１は、モータ１３０による軸１３３の回転に
よって、移送アームにより図示の第２の開口部１５７へ
移送される。その構成自体は本発明には関係がなく、か
つそれについては当業者には多数の実現方法が周知であ
る。移送アーム１３５における径方向駆動機構は、これ
が重要な点であるが、回転可能な移送アームに直接に設
けられ、かつ蛇腹１５３によってチャンバＫ内の周囲に
対して真空密に覆われる。移送アーム１３５の回転によ
って、工作物１５１すなわちディスクは、第２の開口部
１５７の領域へ移送される。開口部１５７は開放面積法
線Ａ157 を定める。工作物１５１を有する移送皿部１４
９は、点線で示す近傍位置Ｑから、アーム１３５に設け
られた上述の例えば空気式の昇降機構によって実線で示
す位置へ持ち上げられるので、皿部１４９は開口部１５
７の端縁に密着する。
【００５７】周囲Ｕに対し、チャンバＫは好ましくは真
空密に形成されている。それぞれ使用目的（図示せず）
に従って、チャンバＫの開口部に結合されたステーショ
ン及び／又は移送チャンバ及び／又はチャンバＫ自体及
び／又はエアロック開口部１３７には、それぞれ所望の
雰囲気を調節する装置、すなわち排気スリーブ及び／又
はガス入口が設けられる。チャンバＫとエアロック開口
部１３７用のポンプスリーブ１６０とを図８に示す。
【００５８】チャンバが、すべてのチャンバ開口部がそ
れぞれ設けられるアーム１３５のいずれかによって密封
閉鎖されるように形成される場合は、開口部に対して設
けられる処理ステーション及び／又は移送チャンバ及び
／又はエアロック開口部内のそれぞれの雰囲気を、チャ
ンバＫ内の雰囲気とは関係なく設定することが可能にな
る。しかし所定の場合には、少なくとも１つの他のチャ
ンバないしステーションとチャンバＫとに関して共通の
雰囲気を設定するだけで充分であり、それにより、図８
に例えばエアロック開口部１３５とチャンバＫとが共通
に示されるように、例えばチャンバＫのみが条件調節な
いし排気される。
【００５９】図９は、図１及び図２のチャンバ２の原理
に基づくチャンバを一部断面で示す。このチャンバで
は、アーム１３５はモータ１３０の軸１３３から垂直に
突出し、それによりφ＝９０°となる。図１０は、図９
に示す装置の一部であるチャンバの上面図を示す。同一
の参照符号は同一の部材を示す。図９におけるのと同様
に、軸Ａを中心に例えば６つの移送アーム１３５ａ〜１
３５ｆが配置され、これらは開口部１５７ａ〜１５７ｅ
を通して、例えばディスク１５１を出入りさせるための
エアロックステーション１５８ａ、ステーション１５８
ｂ1 を有する移送チャンバ１５８ｂ、及び他の５つのチ
ャンバないし処理ステーションを交互に操作する。
【００６０】開口部１５７ｂは、チャンバ１ないしは図
６及び図７で説明したチャンバと同様に、例えばタレッ
トと送り機構とを有する移送チャンバ１５８ｂに対して
設けられる。このチャンバ１５８ｂは、他の処理ステー
ション及び／又は他の移送ステーションと接続される。
開口部１５７ｃは、図１のチャンバ２に基づき、かつ図
８に関連して説明した形式の他のチャンバ１５８ｃと接
続される。チャンバ１５８ｃはまた、他の処理及び／又
は移送及び／又はエアロックチャンバと接続される。図
示の装置全体の配置は、フレキシブルにモジュラーとし
て、かつ図１及び図２のチャンバ１に基づく形式のチャ
ンバ及び／又は図１及び図２に示すチャンバ２に基づく
形式のチャンバから、装置を形成する方法の一例を示す
ものに過ぎない。このフレキシビリティについてはさら
に詳しく後述する。その場合、すでに図１０においてチ
ャンバタイプシンボルが使用されている。
【００６１】図１１は、図１、図２、及び図８〜図１０
を用いて説明したチャンバＫの基本原理を再び概略図示
する。例えば図示の、空間軸Ａを中心に回転する３つの
移送アーム１３５ａ〜１３５ｃにより、例えば記載され
ている３つの開口部１５７が操作される。チャンバＫ
は、略示された仕切り１５９により包囲される。移送装
置は、ω2 に回転する再に開放角度φを有する円錐面を
描き、面法線Ａ157 を定める開口部１５７を操作する。
面法線は、描かれる円錐の外側線の方向へ向いている。
開口部１５７は、描かれる円錐面の大円上に位置し、す
なわち開口部はすべてアーム１３５によって描かれる円
錐の先端Ｓから等距離だけ離れている。
【００６２】図１２は、他の可能性を示す。ここではア
ーム１３５によって描かれる図示の円錐１６１の大円１
６３上に開口部が配置され、かつ大円１６５上に他の開
口部が配置される（そのうち１つのみ図示する）。開放
面法線Ａ157 は、ここでも円錐外側線ｍの方向を向いて
いる。異なる大円１６３，１６５上に配置された開口部
１５７を操作するために、アーム１３５は、例えば図８
の蛇腹１５３と同様の図示しない蛇腹によって覆われた
空気式テレスコープ駆動装置１６７（概略図示する）を
介して、伸縮可能に駆動される。それにより、開口部１
５７を、図８〜図１０に示すチャンバの場合のように大
円上に配置するだけでなく、好ましくはアジマスφで変
位した多数の円錐大円上に設けることが可能になる。
【００６３】図１３に示すチャンバＫの実施例において
は、再び符号１６７で示すようにアーム１３５は引出し
ないし引き戻し可能であって、移送プレート１４９ａを
支持する。さらに円錐角度φが調節可能に駆動されるの
で、異なる開放角度φを有する円錐を描くことができ
る。従って、広い範囲で任意に配置した開口部１５７を
操作できる。さらに支持プレート１４９ａは、角度β＜
９０°で傾斜してそれぞれのアーム１３５に軸承され、
かつｐで示すように、アーム軸Ａ135 を中心に回転可能
である。円錐角度調節φも、アームの引出しと引き込み
も、ｐで示す回転も制御の下で駆動され、それにより、
この種の装置を用いて、空間的に実際に任意に配置され
た開口部１５７を操作することが可能になる。チャンバ
Ｋの区切りを点線で示す。
【００６４】図１４によれば、アーム１３５は、回転軸
Ａに対して平行になるようにＬ字状に形成され、かつ軸
承される。空間軸ないし回転軸Ａが垂直である場合に
は、それによって工作物を皿部１４９上に保持する必要
がなくなるという大きな利点が得られる。皿部１４９の
運動Ｖを行わせる駆動装置は、蛇腹１５３の内部に配置
される。
【００６５】次に、下記のようなチャンバタイプを定義
し、かつグラフィック的に簡略化するために、図１５で
は、以下に定義する略称すなわち文字シンボルを用い
る。 １．挿入及び排出エアロックチャンバ（ＥＡＳＫ）：工
作物を両方向にエアロックを介して通過させるエアロッ
クチャンバ。 ２．挿入エアロックチャンバ（ＥＳＫ）：工作物がその
真空表面処理に向かう方向においてのみエアロックを介
して挿入されるエアロックチャンバ。 ３．排出エアロックチャンバ（ＡＳＫ）：工作物が真空
表面処理から離れる方向にのみエアロックを通過するエ
アロックチャンバ。 ４．処理チャンバ（ＢＥＡＫ）：内部で工作物が、除
去、コーティング、浄化、加熱、冷却などの表面処理を
受けるチャンバ。 ５．径方向に操作されるタレットチャンバ（ＲＡＫＡ
Ｋ）：図１、図２、図６、及び図７のチャンバ１を用い
て説明された形式の移送チャンバ。 ６．径方向に操作される回転スターチャンバ（ＲＡＤ
Ｋ）：図１のチャンバ２及び図８〜図１４に関連して説
明された形式のチャンバ。 ７．移送チャンバ（ＴＲ）：内部で工作物が少なくとも
２つの開口部間で移動されるチャンバ。従ってチャンバ
ＥＡＳＫ、ＥＳＫ、ＡＳＫ、ＲＡＫＡＫ、及びＲＡＤＫ
がこれに含まれるが、特にチャンバＲＡＫＡＫ及びＲＡ
ＤＫに関して説明された移送機構を有するチャンバも含
む。
【００６６】図１６は、装置の幾つかの構成を示す。そ
の中で少なくとも１つのチャンバは、ＲＡＫＡＫ又はＲ
ＡＤＫチャンバである。図から明らかなように、２つの
チャンバタイプ及び他の公知のチャンバを用いて、図５
に示すマスキング機構を有する又は有しない最もフレキ
シブルな任意のモジュラー装置構成が形成される。本発
明方法は特に、磁気光学的なメモリプレートの処理に適
している。
【００６７】図１７及び図１８は、他の好ましい装置構
成のそれぞれ上面図と側面図を示す。この装置には、特
に図１及び図２を用いて説明したのと同様のチャンバ２
と、同様にそこで説明されたチャンバ１とが設けられて
いる。チャンバ１の開口部６は、特に図２から明らかな
ように、図１４に図示されたものと同様の回転アーム２
０１によって操作され、かつ軸Ａ17を中心に回転駆動さ
れる。軸方向に引出し及び引き戻し可能な皿部１４９に
より、ディスク状の基板が位置Ｐinで概略図示するよう
に収容され、かつロボットアーム２０１の回転によって
開口部６に接する位置へ回動される。その位置で、すで
に図２を用いて説明したように、チャンバ１に引き渡さ
れる。次いでタレット１４が、Ｓ2 方向に１回転増分角
度さらに回動される。ここで導入されたディスク状の基
板は、タレット内で位置Ｐ3 にある。
【００６８】特に図１８から明らかなように、チャンバ
１の下方にはガス抜きチャンバ２０３が配置される。こ
のガス抜きチャンバには、中央の駆動装置２０５によっ
て駆動される移送回転皿部２０７が設けられる。ガス抜
きチャンバ２０３は、真空ポンプ２０９によって別にポ
ンピングされる。図１７に示す基板の位置Ｐ3 におい
て、基板は図示しない移送スライダによって、チャンバ
１内の上方の位置からその下にあるガス抜きチャンバ２
０３内の位置へ図１８のＳA 方向へ移送される。タレッ
ト１４はチャンバ１内で相変わらず静止しており、チャ
ンバ２０３内で移送皿部２０７は、駆動装置２０５によ
って図１７にＳ207 で示す方向へ１増分角度さらに回動
される。それにより、基板２１１の、チャンバ２０３内
で完全に１回転したものが、Ｐ3 の下方の位置へ来る。
【００６９】上述の移送スライダにより、前述の基板が
チャンバ２０３からチャンバ１内の位置Ｐ3 へＳA 方向
に持ち上げられ、タレット１４においてチャンバ２０３
に新しく供給された基板が占めていたその位置を占め
る。次いでタレット１４は、チャンバ１内で１回転増分
角度だけＳ2 方向へさらに回動される。容易に理解でき
るように、すべての基板はチャンバ１内の位置Ｐ3 から
このチャンバを去り、ガス抜きチャンバ２０３内におい
て長い時間ガス抜きされる。このガス抜きは、例えばこ
のチャンバ２０３内にさらに加熱部材（図示せず）を設
けることによって補助することができる。そして基板
は、上述の位置Ｐ3 においてチャンバ１内へ再び収容さ
れ、その処理へ供給される。しかしその場合、装置全体
の作業サイクルは遅延されない。図１及び図２を用いて
説明したように、チャンバ１から工作物がチャンバ２へ
引き渡され、そこで例えば図示の６つの処理ステーショ
ン５６によって処理される。ガス抜きチャンバ又はその
収容能力の寸法決めによって、それぞれの使用目的のた
めに必要なガス抜き時間を容易に設けることができる。
【００７０】ディスク状の工作物すなわち基板２１１
が、チャンバ１からガス抜きチャンバ２０３へ引き渡さ
れる間に、上述の移送スライダによってチャンバ１をチ
ャンバ２０３に対してそれぞれエアロック式に分離する
ことが確保される。真空ポンプ２０９によって、ガス抜
き生成物がチャンバ２０３から除去されることが確保さ
れる。真空ポンプによって、図１８にΔｐで点線で示す
ように、チャンバ２０３内のポンプ２０９方向への圧力
勾配が保証される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の２つの視点において実現される好まし
い装置構成の概略的な縦断面図である。
【図２】（ａ）図１に示す装置の一部断面で示す上面
図、及び（ｂ）図１に示す装置のチャンバに設けられた
工作物収容部の好ましい実施例を示す図、である。
【図３】（ａ）〜（ｆ）はマスキング原理の好ましい実
施形態を示す概略図である。
【図４】図１及び図２に示す装置におけるマスキング機
構を有する工作物を引き渡す引渡し領域の他の実施例を
示す断面図である。
【図５】マスキングの基本原理を示す概略図である。
【図６】本発明の視点において本発明の基本原理を説明
する図で、図１及び図２に示す装置に使用される本発明
チャンバを一部断面で示す概略図である。
【図７】他の変形例として図６に示すものと同様の本発
明によるチャンバの概略図である。
【図８】図１及び図２に示す装置において変形例として
実現される本発明によるチャンバ組合せ体の他の実施例
の部分的な断面図である。
【図９】図８に示すチャンバ組合せ体の原理を示す他の
実施例の図である。
【図１０】図９に示す本発明のチャンバ組合せ体を一部
断面で示す上面図である。
【図１１】図８及び図９、又は図１及び図２に示すチャ
ンバ組合せ体の基本原理を示す概略図である。
【図１２】図１１のチャンバ組合せ体に基づく他の変形
例を示す概略図である。
【図１３】図１２のチャンバ組合せ体の変形例に基づく
他の実施例の概略図である。
【図１４】本発明によるチャンバ組合せ体用のチャンバ
の他の実施形態を一部断面で示す側面図である。
【図１５】種々のチャンバ形式のグラフィックシンボル
の定義を示す説明図である。
【図１６】図１及び図２に示すチャンバ原理に基づくチ
ャンバの少なくともそれぞれ１つを有するモジュラー構
成された装置構造又はチャンバ組合せ体の例を示す説明
図である。
【図１７】モジュラー構成された他の好ましい装置構造
を示す概略上面図である。
【図１８】図１７に示す構成の装置の概略側面図であ
る。
【符号の説明】
１，２…チャンバ ４，６…開口部 ２０，５２…工作物収容部 ２６，６４…保持機構 ３０ｂ，４６…移送機構 ６６，６８…シール機構 ２０３…中間貯蔵チャンバ ２０９…循環移送機構

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 工作物（２２）と、軸を中心に後述の開
    口部に整合して回転可能な多数の工作物収容部（２０）
    とを通過させる少なくとも２つの開口部（４，６）を備
    え、工作物、特にメモリプレート等の円形ディスク状の
    工作物を、その製造の間に少なくとも一次的に真空雰囲
    気内で少なくとも移送するためのチャンバ（１）におい
    て、 開口部（４）に整合され、回転可能な工作物収容部（２
    ０）に関してチャンバ（１）内で独立して軸承され、少
    なくとも１つの成分において径方向に制御されて引出し
    又は引き戻し可能な少なくとも１つの移送機構（３０
    ｂ）を備え、この移送機構が開口部領域において工作物
    に作用することを特徴とするチャンバ。
  2. 【請求項２】 回転可能な多数の工作物収容部（２０）
    に関して独立して軸承された移送機構（３０ｂ）がチャ
    ンバ内に回転しないように軸承されることを特徴とする
    請求項１に記載のチャンバ。
  3. 【請求項３】 チャンバ（１）にその内部から見て、加
    工すべき工作物用の第１の収容開口部（６）及び加工済
    みの工作物用の第１の排出開口部（４）と、さらに加工
    すべき工作物用の第２の排出開口部（６）と加工済みの
    工作物用の第２の収容開口部（４）とが設けられ、第１
    の開口部（６）及び／又は第２の開口部（４）がそれぞ
    れの開口部（４，６）内で組み合わされ、チャンバ
    （１）内で、それぞれ加工すべき工作物（２２）用の第
    １の収容開口部（６）から第２の排出開口部（４）まで
    の移送路（Ｓ2 ）が、それぞれ加工済みの工作物用の第
    ２の収容開口部（４）から第１の排出開口部（６）まで
    の移送路より長いことを特徴とする請求項１又は２に記
    載のチャンバ。
  4. 【請求項４】 １つ又は複数の移送機構（５２，３０
    ｂ）が、それぞれ設けられている回転軸（Ａ44，Ａ14）
    に対して直角に引出し又は引き戻し可能であることを特
    徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のチャン
    バ。
  5. 【請求項５】 ディスク状の工作物（２２）用の少なく
    とも１つの工作物収容部（２０，５２）が軸（Ａ14，Ａ
    44）を中心に回転するときに、その広い収容面が円筒面
    を描くことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に
    記載のチャンバ。
  6. 【請求項６】 多数の工作物収容部（２０）が、その回
    転軸（Ａ14）内で作用する駆動装置（１０）を有し、駆
    動装置が工作物に関して工作物収容部の周辺に作用する
    ことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の
    チャンバ。
  7. 【請求項７】 多数の工作物収容部（２０）が、径方向
    に弾性的（１８）に軸承され、かつ回転可能な工作物収
    容部から独立して軸承される少なくとも１つの移送機構
    （３０ｂ）によって開口部周縁へ当接可能であって、そ
    のときにこの開口部を気密又は真空密に閉鎖するシール
    機構（６６，６８）を設けたことを特徴とする請求項１
    〜６のいずれか１項に記載のチャンバ。
  8. 【請求項８】 少なくとも１つの工作物収容部（５２，
    ２０）に工作物（２２）用の制御可能な保持機構（２
    ６，６４）が設けられ、この保持機構が所定の回転位置
    において、工作物収容部（２０）が開口部領域内に位置
    決めされたときに、機械的な作用（７０，Ｓ3 ）によっ
    て操作可能であることを特徴とする請求項１〜７のいず
    れか１項に記載のチャンバ。
  9. 【請求項９】 外側開口部の少なくとも一部（４，６，
    ５４）が少なくとも１つの移送機構（３０ｂ，５２）の
    作用によって気密又は真空密に閉鎖可能であることを特
    徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のチャン
    バ。
  10. 【請求項１０】 工作物（２２）と、軸を中心に後述の
    開口部に整合して回転可能な多数の工作物収容部（２
    ０）とを通過させる少なくとも２つの開口部（４，６）
    を備え、工作物、特にメモリプレートなど円形ディスク
    状の工作物を、その製造の間に少なくとも一次的に真空
    雰囲気内で、少なくとも移送するためのチャンバ（２）
    との組合せ体であり、少なくとも１つの工作物収容部
    （５２）を備えるチャンバ組合せ体において、 工作物収容部（５２）が移送機構（４６）に配置され、
    移送機構は全体として軸（Ａ44）を中心に回転駆動され
    るように軸承され、かつ直線状に引出し又は引き戻し可
    能であって、 さらに、少なくとも１つの外側開口部（４）に少なくと
    も１つの外側開口部（６）と移送装置（３０ｂ，２０）
    とを有する他のチャンバ（１）が接続されることを特徴
    とするチャンバ組合せ体。
  11. 【請求項１１】 前記他のチャンバ（１）が、工作物
    （２２）と、軸を中心に後述の開口部に整合して回転可
    能な多数の工作物収容部（２０）とを通過させる少なく
    とも２つの開口部（４，６）を備え、工作物、特にメモ
    リプレートなど円形ディスク状の工作物を、その製造の
    間に少なくとも一次的に真空雰囲気内で、少なくとも移
    送するために、開口部（４）に整合され、回転可能な工
    作物収容部（２０）に関してチャンバ（１）内で独立し
    て軸承され、少なくとも１つの成分において径方向に制
    御されて引出し又は引き戻し可能な少なくとも１つの移
    送機構（３０ｂ）を備え、この移送機構が開口部領域に
    おいて工作物に作用するように形成されることを特徴と
    する請求項１０に記載のチャンバ組合せ体。
  12. 【請求項１２】 回転可能な多数の工作物収容部（２
    ０）に関して独立して軸承された移送機構（３０ｂ）が
    チャンバ内に回転しないように軸承されることを特徴と
    する請求項１１に記載のチャンバ組合せ体。
  13. 【請求項１３】 チャンバ（１）にその内部から見て、
    加工すべき工作物用の第１の収容開口部（６）及び加工
    済みの工作物用の第１の排出開口部（４）と、さらに加
    工すべき工作物用の第２の排出開口部（６）と加工済み
    の工作物用の第２の収容開口部（４）とが設けられ、第
    １の開口部（６）及び／又は第２の開口部（４）がそれ
    ぞれの開口部（４，６）内で組み合わされ、チャンバ
    （１）内で、それぞれ加工すべき工作物（２２）用の第
    １の収容開口部（６）から第２の排出開口部（４）まで
    の移送路（Ｓ2 ）が、それぞれ加工済みの工作物用の第
    ２の収容開口部（４）から第１の排出開口部（６）まで
    の移送路より長いことを特徴とする請求項１０〜１２の
    いずれか１項に記載のチャンバ組合せ体。
  14. 【請求項１４】 １つ又は複数の移送機構（５２，３０
    ｂ）が、それぞれ設けられている回転軸（Ａ44，Ａ14）
    に対して直角に引出し又は引き戻し可能であることを特
    徴とする請求項１０〜１３のいずれか１項に記載のチャ
    ンバ組合せ体。
  15. 【請求項１５】 ディスク状の工作物（２２）用の少な
    くとも１つの工作物収容部（２０，５２）が軸（Ａ14，
    Ａ44）を中心に回転するときに、その広い収容面が円筒
    面を描くことを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか
    １項に記載のチャンバ組合せ体。
  16. 【請求項１６】 多数の工作物収容部（２０）が、その
    回転軸（Ａ14）内で作用する駆動装置（１０）を有し、
    駆動装置が工作物に関して工作物収容部の周辺に作用す
    ることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか１項に
    記載のチャンバ組合せ体。
  17. 【請求項１７】 多数の工作物収容部（２０）が、径方
    向に弾性的（１８）に軸承され、かつ回転可能な工作物
    収容部から独立して軸承される少なくとも１つの移送機
    構（３０ｂ）によって開口部周縁へ当接可能であって、
    そのときにこの開口部を気密又は真空密に閉鎖するシー
    ル機構（６６，６８）を設けたことを特徴とする請求項
    １１〜１６のいずれか１項に記載のチャンバ組合せ体。
  18. 【請求項１８】 少なくとも１つの工作物収容部（５
    ２，２０）に工作物（２２）用の制御可能な保持機構
    （２６，６４）が設けられ、この保持機構が所定の回転
    位置において、工作物収容部（２０）が開口部領域内に
    位置決めされたときに、機械的な作用（７０，Ｓ3 ）に
    よって操作可能であることを特徴とする請求項１０〜１
    ７のいずれか１項に記載のチャンバ組合せ体。
  19. 【請求項１９】 外側開口部の少なくとも一部（４，
    ６，５４）が少なくとも１つの移送機構（３０ｂ，５
    ２）の作用によって気密又は真空密に閉鎖可能であるこ
    とを特徴とする請求項１０〜１８のいずれか１項に記載
    のチャンバ組合せ体。
  20. 【請求項２０】 チャンバ（１）が少なくとも３つの外
    側開口部を有し、そのうちの少なくとも１つが中間貯蔵
    チャンバ（２０３）と連通され、かつそれぞれ少なくと
    も１つの工作物をチャンバ（１）から中間貯蔵チャンバ
    （２０３）内へ又はその逆へ移送するために、二路移送
    機構が設けられることを特徴とする請求項１０〜１９の
    いずれか１項に記載のチャンバ組合せ体。
  21. 【請求項２１】 中間貯蔵チャンバ（２０３）内に循環
    移送機構（２０９）が設けられ、それにより、それぞれ
    少なくとも１つの移送された工作物が中間貯蔵チャンバ
    （２０３）を通って移動してチャンバ（１）内へ戻され
    ることを特徴とする請求項２０に記載のチャンバ組合せ
    体。
  22. 【請求項２２】 中間貯蔵チャンバ（２０３）が工作物
    用のガス抜きチャンバとして形成されることを特徴とす
    る請求項２０又は２１に記載のチャンバ組合せ体。
  23. 【請求項２３】 少なくとも１つの外側開口部と二路移
    送機構との移送運動が軸に対して略平行に整合され、か
    つ循環移送機構（２０９）が中間貯蔵チャンバ（２０
    ３）内で軸に対して略直角に工作物を移送する移送平面
    を画定することを特徴とする請求項２０〜２２のいずれ
    か１項に記載のチャンバ組合せ体。
  24. 【請求項２４】 工作物（２２）と、軸を中心に後述の
    開口部に整合して回転可能な多数の工作物収容部（２
    ０）とを通過させる少なくとも２つの開口部（４，６）
    を備え、工作物、特にメモリプレート等の円形ディスク
    状の工作物を、その製造の間に少なくとも一次的に真空
    雰囲気内で少なくとも移送するために、開口部（４）に
    整合され、回転可能な工作物収容部（２０）に関してチ
    ャンバ（１）内で独立して軸承され、少なくとも１つの
    成分において径方向に制御されて引出し又は引き戻し可
    能な少なくとも１つの移送機構（３０ｂ）を備え、この
    移送機構が開口部領域において工作物に作用するチャン
    バを備えた真空処理装置において、 エアロックチャンバ（６）、処理チャンバ（５６）、移
    送チャンバ（１５８）の各形式の少なくとも１つの他の
    チャンバが、前記チャンバの外側開口部に設けられるこ
    とを特徴とする真空処理装置。
  25. 【請求項２５】 工作物（２２）と、軸を中心に後述の
    開口部に整合して回転可能な多数の工作物収容部（２
    ０）とを通過させる少なくとも２つの開口部（４，６）
    を備え、工作物、特にメモリプレートなど円形ディスク
    状の工作物を、その製造の間に少なくとも一次的に真空
    雰囲気内で、少なくとも移送するためのチャンバ（２）
    との組合せ体であり、少なくとも１つの工作物収容部
    （５２）のみが設けられ、工作物収容部（５２）が移送
    機構（４６）に配置され、移送機構は全体として軸（Ａ
    44）を中心に回転駆動されるように軸承され、かつ直線
    状に引出し又は引き戻し可能であって、さらに、少なく
    とも１つの外側開口部（４）に少なくとも１つの外側開
    口部（６）と移送装置（３０ｂ，２０）とを有する他の
    チャンバ（１）が接続されるチャンバ組合せ体を備えた
    真空処理装置において、 エアロックチャンバ（６）、処理チャンバ（５６）、移
    送チャンバ（１５８）の各形式の少なくとも１つの他の
    チャンバが、前記チャンバ組合せ体の外側開口部に設け
    られることを特徴とする真空処理装置。
  26. 【請求項２６】 排気可能なチャンバ内で工作物を移送
    する移送方法において、 少なくとも２つの工作物が回転中心の周りで１つの回転
    平面内で回転され、かつ少なくとも１つの運動成分にお
    いて個々に回転中心に関して径方向に移動されることを
    特徴とする移送方法。
  27. 【請求項２７】 工作物が回転中心の周りで回転駆動さ
    れる機構によって回転され、かつこの機構によって移動
    され、又は第１の機構によって回転中心を中心に回転さ
    れ、かつ第２の機構によって移動され、その場合に第２
    の機構が回転中心の周りで独立して回転可能であり、又
    は回転しないことを特徴とする請求項２６に記載の方
    法。
  28. 【請求項２８】 排気可能なチャンバ装置を通して工作
    物を移送する移送方法において、 移送路が第１のチャンバにおける移送位置に関して、第
    ２のチャンバへ入り、前記位置へ戻るように一巡される
    ことを特徴とする移送方法。
  29. 【請求項２９】 工作物が回転平面に対してほぼ垂直に
    第２のチャンバへ入り、かつ戻され、第２のチャンバに
    おける一巡が好ましくは回転平面に対してほぼ平行に行
    われることを特徴とする請求項２８に記載の移送方法。
  30. 【請求項３０】 工作物が一巡の間にガス抜きされるこ
    とを特徴とする請求項２８又は２９に記載の移送方法。
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