JPH0626830A - 干渉測定方法および装置 - Google Patents
干渉測定方法および装置Info
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- JPH0626830A JPH0626830A JP4185393A JP18539392A JPH0626830A JP H0626830 A JPH0626830 A JP H0626830A JP 4185393 A JP4185393 A JP 4185393A JP 18539392 A JP18539392 A JP 18539392A JP H0626830 A JPH0626830 A JP H0626830A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来にない新規な干渉測定方法および、この方
法を実施するための装置を実現する。 【構成】測定光束を第１のビームスプリッター１４によ
り、互いに等価な波面を持った２光束に波面分割し、こ
れら２光束を第２のビームスプリッター２４により合流
させて互いに干渉させる干渉測定方式において、互いに
干渉する光束の一方を、波面分割から干渉縞発生までの
間に奇数回反射させ、他方を偶数回反射させる。
法を実施するための装置を実現する。 【構成】測定光束を第１のビームスプリッター１４によ
り、互いに等価な波面を持った２光束に波面分割し、こ
れら２光束を第２のビームスプリッター２４により合流
させて互いに干渉させる干渉測定方式において、互いに
干渉する光束の一方を、波面分割から干渉縞発生までの
間に奇数回反射させ、他方を偶数回反射させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は干渉測定方法および装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】測定光束を互いに等価な波面を持った２
光束に波面分割し、これら２光束を互いに干渉させて干
渉縞を発生させ、この干渉縞を測定・解析することによ
り測定光束の波面に含まれた情報を求める干渉測定方式
が知られている。従来、この種の干渉測定方式では、干
渉縞を発生させるために、波面分割された２光束を相互
に横ずらししており、波面の形状によっては干渉縞が発
生し難い場合があった。
光束に波面分割し、これら２光束を互いに干渉させて干
渉縞を発生させ、この干渉縞を測定・解析することによ
り測定光束の波面に含まれた情報を求める干渉測定方式
が知られている。従来、この種の干渉測定方式では、干
渉縞を発生させるために、波面分割された２光束を相互
に横ずらししており、波面の形状によっては干渉縞が発
生し難い場合があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、波面分割
した２光束を互いに干渉させる干渉測定方法において、
従来にない新規な干渉測定方法および、この方法を実施
するための装置の提供を目的とする。
した２光束を互いに干渉させる干渉測定方法において、
従来にない新規な干渉測定方法および、この方法を実施
するための装置の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この発明の干渉測定方法
は「測定光束を第１のビームスプリッターにより互いに
等価な波面を持った２光束に波面分割し、これら２光束
を第２のビームスプリッターにより合流させて互いに干
渉させる干渉測定方法」であって、「互いに干渉する光
束の一方を、波面分割から干渉縞発生までの間に奇数回
反射させ、他方を偶数回反射させる」ことを特徴とする
（請求項１）。
は「測定光束を第１のビームスプリッターにより互いに
等価な波面を持った２光束に波面分割し、これら２光束
を第２のビームスプリッターにより合流させて互いに干
渉させる干渉測定方法」であって、「互いに干渉する光
束の一方を、波面分割から干渉縞発生までの間に奇数回
反射させ、他方を偶数回反射させる」ことを特徴とする
（請求項１）。
【０００５】ここに、「波面分割から干渉縞発生までの
間の反射回数」には、波面分割および光束合流の際の反
射が含まれる。また反射回数が偶数回であるとは、反射
回数が「０回」の場合を含む。
間の反射回数」には、波面分割および光束合流の際の反
射が含まれる。また反射回数が偶数回であるとは、反射
回数が「０回」の場合を含む。
【０００６】上記請求項１記載の干渉測定方法におい
て、「分割された２光束の一方の光路中に、光軸光線の
方向を保存しつつ、像の向きを１方向に反転する像反転
プリズムを用い、これを光軸の回りに回転することによ
り、所望の方向における干渉縞を強調する」ようにする
ことができる。
て、「分割された２光束の一方の光路中に、光軸光線の
方向を保存しつつ、像の向きを１方向に反転する像反転
プリズムを用い、これを光軸の回りに回転することによ
り、所望の方向における干渉縞を強調する」ようにする
ことができる。
【０００７】請求項３記載の干渉測定装置は、請求項１
に記載された干渉測定方法を実施するための装置であっ
て、測定光束発生部と、第１および第２のビームスプリ
ッターと、２以上のミラー部材と、受光部とを有する。
「測定光束発生部」は、可干渉性の単色光を放射する光
源を含み、測定光束を発生させる。「第１のビームスプ
リッター」は、対物レンズにより平行光束化された測定
光束を互いに等価な波面を持った２光束に波面分割す
る。「第２のビームスプリッター」は、第１のビームス
プリッターにより分離された２光束を再度合流させる。
第１、第２のビームスプリッターとしては半透鏡や半透
鏡プリズム等の光学素子を用いることができる。
に記載された干渉測定方法を実施するための装置であっ
て、測定光束発生部と、第１および第２のビームスプリ
ッターと、２以上のミラー部材と、受光部とを有する。
「測定光束発生部」は、可干渉性の単色光を放射する光
源を含み、測定光束を発生させる。「第１のビームスプ
リッター」は、対物レンズにより平行光束化された測定
光束を互いに等価な波面を持った２光束に波面分割す
る。「第２のビームスプリッター」は、第１のビームス
プリッターにより分離された２光束を再度合流させる。
第１、第２のビームスプリッターとしては半透鏡や半透
鏡プリズム等の光学素子を用いることができる。
【０００８】「２以上のミラー部材」は、第１のビーム
スプリッターから第２のビームスプリッターに到る２つ
の光路を形成する。「受光部」は、干渉縞を読み取る。
上記ミラー部材は「一方の光路をたどる光束に対して偶
数回、他方の光路をたどる光束に対して奇数回の反射を
実現する」ように配備され、且つ、ミラー部材の１つは
「光軸光線の方向を保存しつつ、像の向きを１方向に反
転する像反転プリズム」である。像反転プリズム以外の
ミラー部材としては平面鏡やミラープリズム等の光学素
子を用いることができる。
スプリッターから第２のビームスプリッターに到る２つ
の光路を形成する。「受光部」は、干渉縞を読み取る。
上記ミラー部材は「一方の光路をたどる光束に対して偶
数回、他方の光路をたどる光束に対して奇数回の反射を
実現する」ように配備され、且つ、ミラー部材の１つは
「光軸光線の方向を保存しつつ、像の向きを１方向に反
転する像反転プリズム」である。像反転プリズム以外の
ミラー部材としては平面鏡やミラープリズム等の光学素
子を用いることができる。
【０００９】上記像反転プリズムは、これを「光軸の回
りに回転可能」に設けることができる（請求項４）。ま
た像反転プリズム以外のミラー部材の１つを「光束の一
方を他方に対して横ずらしできる」ように、変位可能に
設けることができる（請求項５）。さらに請求項５記載
の干渉測定装置においては、「像反転プリズムを光路上
から退避可能とする」ことができる（請求項６）。
りに回転可能」に設けることができる（請求項４）。ま
た像反転プリズム以外のミラー部材の１つを「光束の一
方を他方に対して横ずらしできる」ように、変位可能に
設けることができる（請求項５）。さらに請求項５記載
の干渉測定装置においては、「像反転プリズムを光路上
から退避可能とする」ことができる（請求項６）。
【００１０】
【作用】上記のように、この発明では、干渉縞を発生さ
せるべく互いに干渉し合う２光束の反射回数に「奇数回
の差」があるので、これら光束が干渉しあうとき、各光
束の波面は一方が他方の鏡映像の関係になっている。
せるべく互いに干渉し合う２光束の反射回数に「奇数回
の差」があるので、これら光束が干渉しあうとき、各光
束の波面は一方が他方の鏡映像の関係になっている。
【００１１】
【実施例】図１は、この発明の干渉測定装置の１実施例
を要部のみ略示している。この実施例は、請求項４記載
の干渉測定装置を「レンズ性能測定」用に構成した例で
ある。
を要部のみ略示している。この実施例は、請求項４記載
の干渉測定装置を「レンズ性能測定」用に構成した例で
ある。
【００１２】被検体であるレンズ０は、図示されない適
宜の保持体により測定態位に保持され、光源１０により
照射される。光源１０は、この実施例において半導体レ
ーザーであり、可干渉な単色光を放射する。放射された
光束はレンズ０を透過したのち集束点を過ぎると発散光
となって対物レンズ１２に入射し、実質的な平行光束に
変換されて測定光束となる。即ちこの実施例において、
レンズ０を保持する保持体（図示されず）と光源１０と
対物レンズ１２とは「測定光束発生部」を構成してい
る。この例の場合、測定光束の波面は理想的には平面で
あるが、実際にはレンズ０における収差等の影響で「歪
んだ面」となっており、その「歪み具合」がレンズ０に
関する光学情報を含んでいる。
宜の保持体により測定態位に保持され、光源１０により
照射される。光源１０は、この実施例において半導体レ
ーザーであり、可干渉な単色光を放射する。放射された
光束はレンズ０を透過したのち集束点を過ぎると発散光
となって対物レンズ１２に入射し、実質的な平行光束に
変換されて測定光束となる。即ちこの実施例において、
レンズ０を保持する保持体（図示されず）と光源１０と
対物レンズ１２とは「測定光束発生部」を構成してい
る。この例の場合、測定光束の波面は理想的には平面で
あるが、実際にはレンズ０における収差等の影響で「歪
んだ面」となっており、その「歪み具合」がレンズ０に
関する光学情報を含んでいる。
【００１３】測定光束は先ず第１のビームスプリッター
である半透鏡プリズム１４に入射する。半透鏡プリズム
１４は反射率５０％のアルミニウム反射膜を１対の直角
プリズムの斜面間に挾持したものである。測定光束は半
透鏡プリズム１４に入射すると一部はそのまま透過し、
残りは図の左方へ反射される。このようにして測定光束
は互いに等価な波面を持った２光束に波面分割される。
である半透鏡プリズム１４に入射する。半透鏡プリズム
１４は反射率５０％のアルミニウム反射膜を１対の直角
プリズムの斜面間に挾持したものである。測定光束は半
透鏡プリズム１４に入射すると一部はそのまま透過し、
残りは図の左方へ反射される。このようにして測定光束
は互いに等価な波面を持った２光束に波面分割される。
【００１４】半透鏡プリズム１４により反射された光束
は、第２のビームスプリッターである半透鏡プリズム２
２に入射する。この半透鏡プリズム２２は半透鏡プリズ
ム１４と同じ構造のものである。一方、半透鏡プリズム
１４を透過した光束は、ミラー部材であるミラープリズ
ム１６，１８により順次反射され、像反転プリズム１８
を介して半透鏡プリズム２２に入射する。ミラープリズ
ム１６，１８は共に、アルミニウムによる全反射膜を１
対の直角プリズムの斜面間に挾持したものである。
は、第２のビームスプリッターである半透鏡プリズム２
２に入射する。この半透鏡プリズム２２は半透鏡プリズ
ム１４と同じ構造のものである。一方、半透鏡プリズム
１４を透過した光束は、ミラー部材であるミラープリズ
ム１６，１８により順次反射され、像反転プリズム１８
を介して半透鏡プリズム２２に入射する。ミラープリズ
ム１６，１８は共に、アルミニウムによる全反射膜を１
対の直角プリズムの斜面間に挾持したものである。
【００１５】像反転プリズム２０は、対称台形プリズム
の底面に反射膜２１を形成したもので、光軸の回りに回
転可能となっている。この像反転プリズム２０に光軸に
合致して入射する光線は入射面により屈折され、底面の
反射面により反射され、射出面で再度屈折されて光軸に
合致して射出する。従って、像反転プリズム２０を透過
した光束においては「光軸光線の方向が保存される」
が、像の向き、即ち光束断面の向きが１方向（図の例で
は、図の左右方向）に反転される。なお、反射膜２１を
設けずに、上記底面における全反射を利用するようにし
てもよい。
の底面に反射膜２１を形成したもので、光軸の回りに回
転可能となっている。この像反転プリズム２０に光軸に
合致して入射する光線は入射面により屈折され、底面の
反射面により反射され、射出面で再度屈折されて光軸に
合致して射出する。従って、像反転プリズム２０を透過
した光束においては「光軸光線の方向が保存される」
が、像の向き、即ち光束断面の向きが１方向（図の例で
は、図の左右方向）に反転される。なお、反射膜２１を
設けずに、上記底面における全反射を利用するようにし
てもよい。
【００１６】像反転プリズム２０を透過して半透鏡プリ
ズム２２に入射した光束は、半透鏡プリズム２２を透過
することにより、「半透鏡プリズム１４から直接的に入
射して半透鏡プリズム２２により反射された光束」と合
流され、互いに干渉して干渉縞をスクリーン２４上に発
生させる。この干渉縞は、結像レンズ２６によりＣＣＤ
カメラ等のパターン読取装置２８の受光面上に結像され
る。従って、この実施例においては、スクリーン２４と
結像レンズ２６とパターン読取装置２８とが受光部を構
成している。
ズム２２に入射した光束は、半透鏡プリズム２２を透過
することにより、「半透鏡プリズム１４から直接的に入
射して半透鏡プリズム２２により反射された光束」と合
流され、互いに干渉して干渉縞をスクリーン２４上に発
生させる。この干渉縞は、結像レンズ２６によりＣＣＤ
カメラ等のパターン読取装置２８の受光面上に結像され
る。従って、この実施例においては、スクリーン２４と
結像レンズ２６とパターン読取装置２８とが受光部を構
成している。
【００１７】ここで仮りに、像反転プリズム２０がない
場合を考えてみると、スクリーン２４に到達する光束の
うち、半透鏡プリズム１４により反射された光束は、半
透鏡プリズム１４と２２とに反射されてスクリーン２４
に到達するのであるから波面分割から干渉縞発生までに
２回反射されている。これに対し、半透鏡プリズム１４
を透過した光束は、像反転プリズムを除いて考える場合
は、ミラープリズム１６，１８により反射されるのみで
あるから反射回数は２回である。従って、もし像反転プ
リズム２０がなければ、各光束は互いに同一の状態で重
なりあい、光束相互にシェア（横ずらし）も存在しない
ので、互いに干渉させてもスクリーン２４上に干渉縞は
発生しない。
場合を考えてみると、スクリーン２４に到達する光束の
うち、半透鏡プリズム１４により反射された光束は、半
透鏡プリズム１４と２２とに反射されてスクリーン２４
に到達するのであるから波面分割から干渉縞発生までに
２回反射されている。これに対し、半透鏡プリズム１４
を透過した光束は、像反転プリズムを除いて考える場合
は、ミラープリズム１６，１８により反射されるのみで
あるから反射回数は２回である。従って、もし像反転プ
リズム２０がなければ、各光束は互いに同一の状態で重
なりあい、光束相互にシェア（横ずらし）も存在しない
ので、互いに干渉させてもスクリーン２４上に干渉縞は
発生しない。
【００１８】しかるに、像反転プリズム２０が図のよう
に配備されていると、半透鏡プリズム２２を透過する方
の光束の反射回数は３回となり、その波面は、他方の光
束の波面を図の左右方向へ反転したものとなる。従っ
て、測定光束の波面が光学系光軸に対して非対称である
場合、干渉縞は波面の非対称性を強調したものとして発
生する。従って、このような干渉縞を読取・解析するこ
とにより、レンズ０における光学特性を有効に測定でき
る。
に配備されていると、半透鏡プリズム２２を透過する方
の光束の反射回数は３回となり、その波面は、他方の光
束の波面を図の左右方向へ反転したものとなる。従っ
て、測定光束の波面が光学系光軸に対して非対称である
場合、干渉縞は波面の非対称性を強調したものとして発
生する。従って、このような干渉縞を読取・解析するこ
とにより、レンズ０における光学特性を有効に測定でき
る。
【００１９】上記実施例において、像反転プリズム２０
の態位が図の位置に固定的である場合には、互いに像反
転プリズムを透過して他方の光束と干渉する光束の波面
は、他方の光束の波面を図の左右方向に反転したものと
なり、波面の反転方向は図の左右方向に限定される。も
ちろんこのように、波面の反転方向を光学系空間に対し
て固定しても良いが、上記実施例におけるように、像反
転プリズム２０の態位を光軸の回りに回転可能にする
と、波面反転の方向を自由に設定できるので、波面を所
望の方向に反転させ、この方向における干渉縞を強調す
ることができる。例えば、レンズ１０に光軸の傾きがあ
るような場合、像反転プリズムを回転させて最も顕著に
干渉縞の現われる位置を探れば、光軸の傾きがどの方向
に生じているかを検出できる。
の態位が図の位置に固定的である場合には、互いに像反
転プリズムを透過して他方の光束と干渉する光束の波面
は、他方の光束の波面を図の左右方向に反転したものと
なり、波面の反転方向は図の左右方向に限定される。も
ちろんこのように、波面の反転方向を光学系空間に対し
て固定しても良いが、上記実施例におけるように、像反
転プリズム２０の態位を光軸の回りに回転可能にする
と、波面反転の方向を自由に設定できるので、波面を所
望の方向に反転させ、この方向における干渉縞を強調す
ることができる。例えば、レンズ１０に光軸の傾きがあ
るような場合、像反転プリズムを回転させて最も顕著に
干渉縞の現われる位置を探れば、光軸の傾きがどの方向
に生じているかを検出できる。
【００２０】以下、変形例を説明する。先ず受光部の配
置であるが、図の配置に変えて、受光部を半透鏡プリズ
ム２２の左方の位置に配備しても良い。この場合、波面
分割された光束は、半透鏡プリズム１４側から入射して
半透鏡プリズム２２を透過した光束と、像反転プリズム
２０側から入射して半透鏡プリズム２２に反射された光
束とが合流されて干渉縞を発生する。前者の光束に就い
ては反射回数は１回であり、後者の光束に就いては反射
回数は４回である。同様に、測定光束発生部を図１にお
いて第１のビームスプリッター１４の右方に配しても良
い。
置であるが、図の配置に変えて、受光部を半透鏡プリズ
ム２２の左方の位置に配備しても良い。この場合、波面
分割された光束は、半透鏡プリズム１４側から入射して
半透鏡プリズム２２を透過した光束と、像反転プリズム
２０側から入射して半透鏡プリズム２２に反射された光
束とが合流されて干渉縞を発生する。前者の光束に就い
ては反射回数は１回であり、後者の光束に就いては反射
回数は４回である。同様に、測定光束発生部を図１にお
いて第１のビームスプリッター１４の右方に配しても良
い。
【００２１】別の変形例として、図１の光学配置もしく
は、直上で述べた「光部を半透鏡プリズム２２の左方に
位置させる光学配置」において、像反転プリズム２０
を、図１の位置に変えて、半透鏡プリズム１４，２２間
に配備してもよい。
は、直上で述べた「光部を半透鏡プリズム２２の左方に
位置させる光学配置」において、像反転プリズム２０
を、図１の位置に変えて、半透鏡プリズム１４，２２間
に配備してもよい。
【００２２】さらに他の変形例として、ミラープリズム
１６を図１の上下方向に変位可能とするか、あるいはミ
ラープリズム１８を図の左右方向に変位可能にすると、
これら変位可能なミラープリズムを変位させることによ
り、波面分割した２光束間に「シェア」を与えることが
できる。この場合、像反転プリズム２０を光路上から退
避できるようにしておき、像反転プリズム２０を光路上
から退避させれば、図１の光学系をそのまま、従来から
良く知られた「シェアリング干渉測定装置」として使用
することができる。
１６を図１の上下方向に変位可能とするか、あるいはミ
ラープリズム１８を図の左右方向に変位可能にすると、
これら変位可能なミラープリズムを変位させることによ
り、波面分割した２光束間に「シェア」を与えることが
できる。この場合、像反転プリズム２０を光路上から退
避できるようにしておき、像反転プリズム２０を光路上
から退避させれば、図１の光学系をそのまま、従来から
良く知られた「シェアリング干渉測定装置」として使用
することができる。
【００２３】また別の変形例として、上記実施例および
各変形例においてスクリーン２４を省略し、結像レンズ
２６によりパターン読取装置２８上に各光束を結像さ
せ、これら結像光束相互を直接パターン読取装置２８の
受光面上で干渉させ、その干渉縞を測定・解析するよう
にしてもよい。
各変形例においてスクリーン２４を省略し、結像レンズ
２６によりパターン読取装置２８上に各光束を結像さ
せ、これら結像光束相互を直接パターン読取装置２８の
受光面上で干渉させ、その干渉縞を測定・解析するよう
にしてもよい。
【００２４】各実施例・変形例とも、波面分割された２
光束は、偏光方向を保存したまま互いに干渉するので、
干渉効率が良い。
光束は、偏光方向を保存したまま互いに干渉するので、
干渉効率が良い。
【００２５】
【発明の効果】以上の如く、この発明によれば新規な干
渉測定方法および装置を提供できる。この発明は上記の
如く、「一方の光束の波面に対して他方の光束の波面を
鏡像的に反転して干渉させる」ので、測定光束における
波面形状が左右・上下等の特定の方向に非対称な場合
に、その非対称性を強調して干渉縞を発生させることが
でき、良好な測定を実現できる。また波面分割された２
光束の反射回数を奇数回だけ異ならせるので、一方の光
束の光路が他方の光束の光路より長くなり、この光路を
通る光束の波面形状がよりよく「参照波面化」されるの
で、このことも測定精度向上の一因となる。
渉測定方法および装置を提供できる。この発明は上記の
如く、「一方の光束の波面に対して他方の光束の波面を
鏡像的に反転して干渉させる」ので、測定光束における
波面形状が左右・上下等の特定の方向に非対称な場合
に、その非対称性を強調して干渉縞を発生させることが
でき、良好な測定を実現できる。また波面分割された２
光束の反射回数を奇数回だけ異ならせるので、一方の光
束の光路が他方の光束の光路より長くなり、この光路を
通る光束の波面形状がよりよく「参照波面化」されるの
で、このことも測定精度向上の一因となる。
【図１】この発明の１実施例を要部のみ略示する図であ
る。
る。
１０ 光源 ０ レンズ（被検体） １２ 対物レンズ １４ 第１のビームスプリッター ２４ 第２のビームスプリッター １６，１８ ミラープリズム（ミラー部材） ２０ 像反転プリズム ２８ パターン読取装置
Claims (6)
- 【請求項１】測定光束を第１のビームスプリッターによ
り互いに等価な波面を持った２光束に波面分割し、これ
ら２光束を第２のビームスプリッターにより合流させて
互いに干渉させる干渉測定方法において、 互いに干渉する光束の一方を、波面分割から干渉縞発生
までの間に奇数回反射させ、他方を偶数回反射させるこ
とを特徴とする干渉測定方法。 - 【請求項２】請求項１記載の干渉測定方法において、 分割された２光束の一方の光路中に、光軸光線の方向を
保存しつつ、像の向きを１方向に反転する像反転プリズ
ムを用い、これを光軸の回りに回転することにより、所
望の方向における干渉縞を強調することを特徴とする干
渉測定方法。 - 【請求項３】可干渉性の単色光を放射する測定光束用光
源を含む測定光束発生部と、 測定情報を波面形状として含む測定光束を互いに等価な
波面を持った２光束に波面分割する第１のビームスプリ
ッターと、 この第１のビームスプリッターにより分離された２光束
を再度合流させる第２のビームスプリッターと、 上記第１のビームスプリッターから第２のビームスプリ
ッターに到る２つの光路を形成する２以上のミラー部材
と、 干渉縞を読み取るための受光部とを有し、 上記ミラー部材は、一方の光路をたどる光束に対して偶
数回、他方の光路をたどる光束に対して奇数回の反射を
実現するように配備され、且つ、上記ミラー部材の１つ
が光軸光線の方向を保存しつつ、像の向きを１方向に反
転する像反転プリズムであることを特徴とする干渉測定
装置。 - 【請求項４】請求項３記載の干渉測定装置において、 像反転プリズムが光軸の回りに回転可能であることを特
徴とする、干渉測定装置。 - 【請求項５】請求項３または４記載の干渉測定装置にお
いて、 像反転プリズム以外のミラー部材の１つが、光束の一方
を他方に対して横ずらしできるように、変位可能である
ことを特徴とする干渉測定装置。 - 【請求項６】請求項５記載の干渉測定装置において、 像反転プリズムが光路上から退避可能であることを特徴
とする干渉測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4185393A JPH0626830A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 干渉測定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4185393A JPH0626830A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 干渉測定方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0626830A true JPH0626830A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16170028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4185393A Pending JPH0626830A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 干渉測定方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0626830A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007010447A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Technical:Kk | 寸法測定装置 |
| JP2011033567A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Mitsutoyo Corp | 斜入射干渉計 |
| US8405059B2 (en) | 2007-02-02 | 2013-03-26 | King's College London | Method and apparatus for improving the resolution and/or sectioning ability of an imaging system |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP4185393A patent/JPH0626830A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007010447A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Technical:Kk | 寸法測定装置 |
| US8405059B2 (en) | 2007-02-02 | 2013-03-26 | King's College London | Method and apparatus for improving the resolution and/or sectioning ability of an imaging system |
| JP2011033567A (ja) * | 2009-08-05 | 2011-02-17 | Mitsutoyo Corp | 斜入射干渉計 |
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