JPH06271532A - 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 - Google Patents
新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】新規スルホニウム塩化合物の重合開始剤を提供
する。 【構成】一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物
及びその重合開始剤。 【化1】 〔式中、R1 ,R2 は、各々水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基又はアルコキシ基を表し、R3 ,
R4 は、各々アルキル基を表し、R3 とR4 は、一体と
なって結合してもよく、Xは、SbF6 ,AsF6 ,P
F6 又はBF4 を表す。〕 【効果】本発明の重合開始剤は、カチオン重合製化合物
の重合開始剤として有効であり、加熱処理又は光照射す
ることにより、極めて迅速に重合、硬化させることがで
きる。
する。 【構成】一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物
及びその重合開始剤。 【化1】 〔式中、R1 ,R2 は、各々水素原子、アルキル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基又はアルコキシ基を表し、R3 ,
R4 は、各々アルキル基を表し、R3 とR4 は、一体と
なって結合してもよく、Xは、SbF6 ,AsF6 ,P
F6 又はBF4 を表す。〕 【効果】本発明の重合開始剤は、カチオン重合製化合物
の重合開始剤として有効であり、加熱処理又は光照射す
ることにより、極めて迅速に重合、硬化させることがで
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規スルホニウム塩化
合物およびそれを含有するカチオン重合開始剤にに関す
るものである。該重合開始剤を含有するカチオン重合性
組成物は、加熱により短時間で硬化することができ、得
られた硬化物は、優れた物性を有しているため成型樹
脂、注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好
適に用いられる。
合物およびそれを含有するカチオン重合開始剤にに関す
るものである。該重合開始剤を含有するカチオン重合性
組成物は、加熱により短時間で硬化することができ、得
られた硬化物は、優れた物性を有しているため成型樹
脂、注型樹脂、塗料、接着剤、インキ等の材料として好
適に用いられる。
【0002】
【従来の技術】従来、エポキシ樹脂の硬化剤として、二
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物、カ
ルボン酸無水物やメルカプト化合物がある。一方、エポ
キシ樹脂を一液系として硬化するのには、フッ化ホウ素
−モノエチルアミンがある。また、熱潜在性カチオン重
合開始剤及びその組成物が記載されているものとして、
特開昭58−37003号公報、特開昭63−2230
02号公報、特開昭56−152833号公報、特開平
2−178319号公報、特開平3−17119号公報
などが知られている。
液系で広く利用されている活性なアミン含有化合物、カ
ルボン酸無水物やメルカプト化合物がある。一方、エポ
キシ樹脂を一液系として硬化するのには、フッ化ホウ素
−モノエチルアミンがある。また、熱潜在性カチオン重
合開始剤及びその組成物が記載されているものとして、
特開昭58−37003号公報、特開昭63−2230
02号公報、特開昭56−152833号公報、特開平
2−178319号公報、特開平3−17119号公報
などが知られている。
【0003】活性なアミン含有化合物やカルボン酸無水
物により、エポキシ樹脂を硬化する所謂二液系では、完
全に各成分を混合する必要があり、硬化時間も数時間要
する。また、反応が室温でも逐次的に起こるので、ポッ
トライフが数時間から数日と短く、取り扱い上問題があ
る。
物により、エポキシ樹脂を硬化する所謂二液系では、完
全に各成分を混合する必要があり、硬化時間も数時間要
する。また、反応が室温でも逐次的に起こるので、ポッ
トライフが数時間から数日と短く、取り扱い上問題があ
る。
【0004】一方、エポキシ樹脂を一液系として硬化す
ることができるフッ化ホウ素−モノエチルアミン系で
は、取り扱い上が便利ではあるが、硬化温度が160℃
以上と高く、しかも完全硬化するのに1〜8時間要する
という問題がある。また、特開昭58−37003号公
報に記載されているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオ
ン重合開始剤および、特開平2−178319号公報に
記載されているピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重
合開始剤では、一液系とすることができ、硬化時間も短
いという特徴を有しているが、硬化温度が高いという問
題点がある。
ることができるフッ化ホウ素−モノエチルアミン系で
は、取り扱い上が便利ではあるが、硬化温度が160℃
以上と高く、しかも完全硬化するのに1〜8時間要する
という問題がある。また、特開昭58−37003号公
報に記載されているスルホニウム塩系の熱潜在性カチオ
ン重合開始剤および、特開平2−178319号公報に
記載されているピリジニウム塩系の熱潜在性カチオン重
合開始剤では、一液系とすることができ、硬化時間も短
いという特徴を有しているが、硬化温度が高いという問
題点がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前に述べた
事情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物を
加熱により、低温かつ短時間に硬化させることができる
新規なカチオン重合開始剤を提供し、更に該開始剤を含
む貯蔵安定性のある一液型カチオン重合組成物を得ると
共に優れた物性を有する硬化物を提供することを目的と
している。
事情からみてなされたもので、カチオン重合性化合物を
加熱により、低温かつ短時間に硬化させることができる
新規なカチオン重合開始剤を提供し、更に該開始剤を含
む貯蔵安定性のある一液型カチオン重合組成物を得ると
共に優れた物性を有する硬化物を提供することを目的と
している。
【0006】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するため鋭意検討したところ、特定のスルホニウ
ム塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温か
つ短時間にてカチオン重合性化合物を硬化することがで
き、更にその硬化物特性に優れた性能を与える新規重合
開始剤を見出して本発明を完成するに至った。
を達成するため鋭意検討したところ、特定のスルホニウ
ム塩化合物からなる重合開始剤を用いることで、低温か
つ短時間にてカチオン重合性化合物を硬化することがで
き、更にその硬化物特性に優れた性能を与える新規重合
開始剤を見出して本発明を完成するに至った。
【0007】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
スルホニウム塩化合物は、下記の化2で表されるが、
スルホニウム塩化合物は、下記の化2で表されるが、
【0008】
【化2】
【0009】上記一般式(I)において、R.、R
2 は、それぞれ水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキ
シル基、c−ヘキシル基等のアルキル基、F,Cl,B
r,I等のハロゲン原子、ニトロ基、メトキシ基,エト
キシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基の群より選
ばれた基であり、R3 、R4 は、それぞれメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−
ブチル基、ヘキシル基、c−ヘキシル基等のアルキル基
の群より選ばれた基であり、また、R3 とR4 は一体と
なって結合して、4〜7員環を形成していてもよく、X
は、SbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4を表す。X
は、SbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 であり、こ
の内、SbF6 が好んで用いられる。
2 は、それぞれ水素原子、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘキ
シル基、c−ヘキシル基等のアルキル基、F,Cl,B
r,I等のハロゲン原子、ニトロ基、メトキシ基,エト
キシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基の群より選
ばれた基であり、R3 、R4 は、それぞれメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−
ブチル基、ヘキシル基、c−ヘキシル基等のアルキル基
の群より選ばれた基であり、また、R3 とR4 は一体と
なって結合して、4〜7員環を形成していてもよく、X
は、SbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4を表す。X
は、SbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 であり、こ
の内、SbF6 が好んで用いられる。
【0010】該スルホニウム塩化合物は、例えば、次の
方法で得ることができる。9−ブロモフルオレン等の9
−ハロフルオレンとジメチルスルフェド等のジアルキル
スルフェドまたはテトラヒドロチオフェン等の環状スル
フィドとを等モルづつ、必要に応じてメタノール、アセ
トン、アセトニトリル等の不活性溶媒存在下にて室温〜
80℃で数時間〜60日間反応させ、次いで、得られた
固形物を水もしくは水−メタノール系等の水−有機溶媒
系に溶解せしめ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム等を
加え激しく攪拌し、析出した液状液状または固形物の生
成物を分離後、乾燥して得られる。
方法で得ることができる。9−ブロモフルオレン等の9
−ハロフルオレンとジメチルスルフェド等のジアルキル
スルフェドまたはテトラヒドロチオフェン等の環状スル
フィドとを等モルづつ、必要に応じてメタノール、アセ
トン、アセトニトリル等の不活性溶媒存在下にて室温〜
80℃で数時間〜60日間反応させ、次いで、得られた
固形物を水もしくは水−メタノール系等の水−有機溶媒
系に溶解せしめ、六フッ化アンチモン酸ナトリウム等を
加え激しく攪拌し、析出した液状液状または固形物の生
成物を分離後、乾燥して得られる。
【0011】本発明の代表的なスルホニウム塩化合物と
して、下記表1に記載の化合物が例示される。但し、式
中のXはSbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 であ
る。
して、下記表1に記載の化合物が例示される。但し、式
中のXはSbF6 ,AsF6 ,PF6 又はBF4 であ
る。
【0012】
【表1】
【0013】本発明において、重合開始剤である前記四
級アンモニウム塩化合物は、カチオン重合性化合物と配
合してカチオン重合組成物として用いられる。カチオン
重合性化合物としては、次のような化合物が挙げられ
る。 (a)エポキシ基を有する化合物として、1,1,3−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、4−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールA型エポシキ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールA型エポシキ樹脂、o−,m−,p−ク
レゾールノボラック型エポシキ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポシキ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポシキ化合物
級アンモニウム塩化合物は、カチオン重合性化合物と配
合してカチオン重合組成物として用いられる。カチオン
重合性化合物としては、次のような化合物が挙げられ
る。 (a)エポキシ基を有する化合物として、1,1,3−
テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイ
ド、4−ビニルシクロヘキセンジオキサイド、(3,4
−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシ
シクロヘキシルカルボキシレート、ジ(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)アジペート、フェニルグリシジルエ
ーテル、ビスフェノールA型エポシキ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールA型エポシキ樹脂、o−,m−,p−ク
レゾールノボラック型エポシキ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポシキ樹脂、多価アルコールのポリグリシジル
エーテル等のエポシキ化合物
【0014】(b)ビニル化合物として、スチレン、α
−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類;n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;
アリルビニルエーテル、1−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類;エチニル
ビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類;フェニルビニ
ルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類;ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類;1,4−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、N−m−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチレング
リコール)ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類;ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類;N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン等のスチ
レン類;n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニル
エーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシ
ブチルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類;
アリルビニルエーテル、1−オクタヒドロナフチルビニ
ルエーテル等のアルケニルビニルエーテル類;エチニル
ビニルエーテル、1−メチル−2−プロペニルビニルエ
ーテル等のアルキニルビニルエーテル類;フェニルビニ
ルエーテル、p−メトキシフェニルビニルエーテル等の
アリールビニルエーテル類;ブタンジオールジビニルエ
ーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル、シク
ロヘキサンジオールジビニルエーテル等のアルキルジビ
ニルエーテル類;1,4−ベンゼンジメタノールジビニ
ルエーテル、N−m−クロロフェニルジエタノールアミ
ンジビニルエーテル、m−フェニレンビス(エチレング
リコール)ジビニルエーテル等のアラルキルジビニルエ
ーテル類;ハイドロキノンジビニルエーテル、レゾルシ
ノールジビニルエーテル等のアリールジビニルエーテル
類;N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン等
のカチオン重合性窒素含有化合物等
【0015】(c)ビシクロオルソエステル化合物とし
て、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキ
サビシクロ〔2,2,2〕オクタン,1−エチル−4−
ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2,2,2〕オクタン等
て、1−フェニル−4−エチル−2,6,7−トリオキ
サビシクロ〔2,2,2〕オクタン,1−エチル−4−
ヒドロキシメチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
〔2,2,2〕オクタン等
【0016】(d)スピロオルソカーボネート化合物と
して、1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,1
1−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等や1,
4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,2−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,
1,4,6−トリオキサスピロ〔4,5〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。 これらは、単独若しくは2種以上を併用して用いても差
し支えない。(a)〜(d)の内で、殊に(a)のエポ
キシ基を有する化合物が好んで使用される。
して、1,5,7,11−テトラオキサスピロ〔5,
5〕ウンデカン、3,9−ジベンジル−1,5,7,1
1−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等や1,
4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,2−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4,4〕ノナン,
1,4,6−トリオキサスピロ〔4,5〕デカン等のス
ピロオルソエステル化合物等である。 これらは、単独若しくは2種以上を併用して用いても差
し支えない。(a)〜(d)の内で、殊に(a)のエポ
キシ基を有する化合物が好んで使用される。
【0017】本発明において、前記スルホニウム塩化合
物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重
合性化合物100部に対し、スルホニウム塩化合物0.
01〜20部、好ましくは0.1〜10部の割合で配合
する。このスルホニウム塩化合物量が少いとカチオン重
合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特
性が低下する。
物とカチオン重合性化合物との配合割合は、カチオン重
合性化合物100部に対し、スルホニウム塩化合物0.
01〜20部、好ましくは0.1〜10部の割合で配合
する。このスルホニウム塩化合物量が少いとカチオン重
合性化合物の硬化性が低下し、過剰であると硬化物の特
性が低下する。
【0018】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、加熱により容易に硬化できる。
熱硬化する場合は、30〜200℃、好ましくは、50
〜180℃の範囲で使用される。
カチオン重合組成物は、加熱により容易に硬化できる。
熱硬化する場合は、30〜200℃、好ましくは、50
〜180℃の範囲で使用される。
【0019】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、
X線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易
に短時間で硬化することができる。電離性放射線による
硬化の場合は、通常0.5〜60Mradの線量の範囲
が使用でき、1〜50Mradの範囲が好ましい。ま
た、電離性放射線および熱を併用して硬化させることも
可能である。
カチオン重合組成物は、α線、β線、γ線、中性子線、
X線、加速電子線のような電離性放射線によっても容易
に短時間で硬化することができる。電離性放射線による
硬化の場合は、通常0.5〜60Mradの線量の範囲
が使用でき、1〜50Mradの範囲が好ましい。ま
た、電離性放射線および熱を併用して硬化させることも
可能である。
【0020】本発明のスルホニウム塩化合物を含有する
カチオン重合組成物は、光によっても容易に短時間で硬
化することができる。また、本発明のスルホニウム塩化
合物を含有するカチオン重合組成物にメトキシフェノー
ルやフェノチアジン等の増感剤を併用すると、光硬化を
より加速することができる。
カチオン重合組成物は、光によっても容易に短時間で硬
化することができる。また、本発明のスルホニウム塩化
合物を含有するカチオン重合組成物にメトキシフェノー
ルやフェノチアジン等の増感剤を併用すると、光硬化を
より加速することができる。
【0021】本発明のスルホニウム塩化合物は一般に単
独で使用されるが、他のカチオン重合開始剤と併用して
用いることもできる。また、前記(a)のエポキシ基を
有する化合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤と
して通常用いられている、フェノール系硬化剤、酸無水
物類硬化剤等の硬化剤を性能が損なわない範囲内で併用
して用いてもよい。
独で使用されるが、他のカチオン重合開始剤と併用して
用いることもできる。また、前記(a)のエポキシ基を
有する化合物を用いる場合は、エポキシ樹脂の硬化剤と
して通常用いられている、フェノール系硬化剤、酸無水
物類硬化剤等の硬化剤を性能が損なわない範囲内で併用
して用いてもよい。
【0022】前記のカチオン重合性化合物に本発明の開
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
始剤を配合して使用する際に、必要に応じて反応性希釈
剤、硬化促進剤、溶剤、顔料、染料、カップリング剤、
無機充填剤、炭素繊維ガラス繊維、界面活性剤等を添加
して使用される。
【0023】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に具
体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何
等限定されるものではない。 <スルホニウム塩化合物の合成> 実施例1:9−フルオレニルジメチルスルホニウムヘキ
サフロロアンチモネートの合成 9−ブロモフルオレン6.13gとジメチルスルフィド
6.21gを混合し、室温で17時間反応させた。得ら
れた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥し、
前駆体の9−フルオレニルジメチルスルホニウムブロマ
イドを得た。収率:57% 9−フルオレニルジメチルスルホニウムブロマイド3.
07gを蒸留水10gとメチルエチルケトン(以下、M
EKと言う)5gの混合溶液に溶解させ、六フッ化アン
チモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌した。こ
の溶液に蒸留水40gを加え、よく攪拌して冷却した。
析出した化合物を濾別し、40℃で減圧乾燥させた。収
率:99% このもののIRスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 IR(KBr,cm-1):1606,1478,145
4,1429,1336,1043,999,790,
740,656
体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何
等限定されるものではない。 <スルホニウム塩化合物の合成> 実施例1:9−フルオレニルジメチルスルホニウムヘキ
サフロロアンチモネートの合成 9−ブロモフルオレン6.13gとジメチルスルフィド
6.21gを混合し、室温で17時間反応させた。得ら
れた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧乾燥し、
前駆体の9−フルオレニルジメチルスルホニウムブロマ
イドを得た。収率:57% 9−フルオレニルジメチルスルホニウムブロマイド3.
07gを蒸留水10gとメチルエチルケトン(以下、M
EKと言う)5gの混合溶液に溶解させ、六フッ化アン
チモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌した。こ
の溶液に蒸留水40gを加え、よく攪拌して冷却した。
析出した化合物を濾別し、40℃で減圧乾燥させた。収
率:99% このもののIRスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 IR(KBr,cm-1):1606,1478,145
4,1429,1336,1043,999,790,
740,656
【0024】実施例2:9−フルオレニルテトラメチレ
ンスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 9−ブロモフルオレン7.35gとテトラヒドロチオフ
ェン4.41gを混合し、50℃で10日間反応させ
た。得られた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧
乾燥し、前駆体の9−フルオレニルテトラメチレンスル
ホニウムブロマイドを得た。収率:64% 9−フルオレニルテトラメチレンスルホニウムブロマイ
ド3.33gを蒸留水15gとに溶解させ、六フッ化ア
ンチモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌し、冷
却した。析出した化合物を濾別し、40℃で減圧乾燥さ
せた。収率:97% このもののIRスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 IR(KBr,cm-1):2948,1607,145
5,1422,784,741,660
ンスルホニウムヘキサフロロアンチモネートの合成 9−ブロモフルオレン7.35gとテトラヒドロチオフ
ェン4.41gを混合し、50℃で10日間反応させ
た。得られた化合物をエーテルで洗浄し、40℃で減圧
乾燥し、前駆体の9−フルオレニルテトラメチレンスル
ホニウムブロマイドを得た。収率:64% 9−フルオレニルテトラメチレンスルホニウムブロマイ
ド3.33gを蒸留水15gとに溶解させ、六フッ化ア
ンチモン酸カリウム3.30gを加え、よく攪拌し、冷
却した。析出した化合物を濾別し、40℃で減圧乾燥さ
せた。収率:97% このもののIRスペクトルデータは以下のとおりであっ
た。 IR(KBr,cm-1):2948,1607,145
5,1422,784,741,660
【0025】<硬化性テスト> (実施例3〜実施例7)実施例1と2で合成した化合物
をプロピレンカーボネートに溶解させ、ERL−422
1(UCC社製脂環型エポキシ)に純分として2.5部
になるように添加し、表2、表3に記載の配合物を調整
した。この配合物についてDSC及びUV−DSC測定
を行い、DSC測定では、発熱ピークのトップ温度、U
V−DSC測定では、光照射から発熱のトップピークま
での時間を求めた。なお、DSC測定条件及びUV−D
SC測定条件は下記の通りであり、その測定結果を表2
及び表3に示した。
をプロピレンカーボネートに溶解させ、ERL−422
1(UCC社製脂環型エポキシ)に純分として2.5部
になるように添加し、表2、表3に記載の配合物を調整
した。この配合物についてDSC及びUV−DSC測定
を行い、DSC測定では、発熱ピークのトップ温度、U
V−DSC測定では、光照射から発熱のトップピークま
での時間を求めた。なお、DSC測定条件及びUV−D
SC測定条件は下記の通りであり、その測定結果を表2
及び表3に示した。
【0026】
【表2】
【0027】
【表3】
【0028】DSC測定条件 DSC測定機器 : DSC220C(セイコー電子工
業社製) 雰囲気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 昇温速度 : 10℃/分 サンプル量 : 0.3〜0.8mg UV−DSC測定条件 DSC測定機器 : DSC220C(セイコー電子工
業社製) UV照射器 : 超高圧水銀灯 雰囲気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 測定温度 : 50℃ サンプル量 : 0.1〜0.3mg 膜 厚 : 2〜10μm 照射時間 : 15分 照 度 : 10mW/cm2 (365n
m)
業社製) 雰囲気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 昇温速度 : 10℃/分 サンプル量 : 0.3〜0.8mg UV−DSC測定条件 DSC測定機器 : DSC220C(セイコー電子工
業社製) UV照射器 : 超高圧水銀灯 雰囲気 : 窒素ガス気流中 30ml/分 測定温度 : 50℃ サンプル量 : 0.1〜0.3mg 膜 厚 : 2〜10μm 照射時間 : 15分 照 度 : 10mW/cm2 (365n
m)
【0029】(比較試料1)本発明の対比として、ベン
ジルジメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
を重合開始剤として用い、実施例と同様にしてERL−
4221(UCC社製脂環型エポキシ)に添加し、配合
物を調整し(比較例1、2、比較例3、4)、DDSC
及びUV−DSC測定を行い、DSC測定では発熱ピー
クのトップ温度、UV−DSC測定では光照射から発熱
のトップピークまでの時間を求めた。これらの結果を前
記の表2及び表3に示した。
ジルジメチルスルホニウムヘキサフロロアンチモネート
を重合開始剤として用い、実施例と同様にしてERL−
4221(UCC社製脂環型エポキシ)に添加し、配合
物を調整し(比較例1、2、比較例3、4)、DDSC
及びUV−DSC測定を行い、DSC測定では発熱ピー
クのトップ温度、UV−DSC測定では光照射から発熱
のトップピークまでの時間を求めた。これらの結果を前
記の表2及び表3に示した。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の新規スル
ホニウム塩化合物は、カチオン重合製化合物の重合開始
剤として有効であり、表2及び表3に見られるように、
加熱処理または光照射することにより、極めて迅速に重
合、硬化させることができる。
ホニウム塩化合物は、カチオン重合製化合物の重合開始
剤として有効であり、表2及び表3に見られるように、
加熱処理または光照射することにより、極めて迅速に重
合、硬化させることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】下記化1で表されるスルホニウム塩化合物 【化1】 〔式中、R1 、R2 は、それぞれ水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルコキシ基を表し、
R3 、R4 は、それぞれアルキル基を表し、R3 とR4
は一体となって結合してもよく、Xは、SbF6 ,As
F6 ,PF6 又はBF4 を表す〕 - 【請求項2】請求項1に記載のスルホニウム塩化合物の
少なくとも一種を含有することを特徴とするカチオン重
合開始剤
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP08017393A JP3512437B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08017393A JP3512437B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06271532A true JPH06271532A (ja) | 1994-09-27 |
| JP3512437B2 JP3512437B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=13710954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08017393A Expired - Fee Related JP3512437B2 (ja) | 1993-03-15 | 1993-03-15 | 新規スルホニウム塩化合物および重合開始剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3512437B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009020089A1 (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Adeka Corporation | 芳香族スルホニウム塩化合物 |
| US7611817B2 (en) * | 2002-09-25 | 2009-11-03 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape |
| WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
| WO2011132702A1 (ja) | 2010-04-22 | 2011-10-27 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス材料、重合開始剤及び熱重合開始剤、インク組成物、有機薄膜及びその製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、照明装置、表示素子、並びに表示装置 |
| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
-
1993
- 1993-03-15 JP JP08017393A patent/JP3512437B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7611817B2 (en) * | 2002-09-25 | 2009-11-03 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound, photo-acid generator comprising the same and photopolymerizable composition containing the same, resin composition for optical three-dimensional shaping, and method of optically forming three-dimensional shape |
| WO2009020089A1 (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-12 | Adeka Corporation | 芳香族スルホニウム塩化合物 |
| US8227624B2 (en) | 2007-08-07 | 2012-07-24 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound |
| JP5367572B2 (ja) * | 2007-08-07 | 2013-12-11 | 株式会社Adeka | 芳香族スルホニウム塩化合物 |
| WO2011040531A1 (ja) | 2009-10-01 | 2011-04-07 | 日立化成工業株式会社 | 有機エレクトロニクス用材料、有機エレクトロニクス素子、有機エレクトロルミネセンス素子、及びそれを用いた表示素子、照明装置、表示装置 |
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| WO2014136900A1 (ja) | 2013-03-08 | 2014-09-12 | 日立化成株式会社 | イオン性化合物を含有する処理液、有機エレクトロニクス素子、及び有機エレクトロニクス素子の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3512437B2 (ja) | 2004-03-29 |
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