JPH06278149A - セルローストリアセテートフィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】セルローストリアセテートフィルムを溶液製膜
法で製造する方法において、高温高速乾燥しても平面性
のよいセルローストリアセテートフィルムを得ることが
出来るようにする。 【構成】流延部10から剥ぎ取られたセルローストリアセ
テートフィルムを乾燥部20及び30で乾燥させる。乾燥部
20及び30で乾燥させられたセルローストリアセテートフ
ィルムを平面性改良部50へ送る。平面性改良部50の加熱
室51において加熱ローラ群54で巻回しつつ搬送して乾燥
部20及び30で生じた凹凸を平坦にし、その直後、冷却ロ
ーラ群56で巻回しつつ平面状態のまま固化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、平面性が良好なセルロ
ーストリアセテートフィルムを製造する方法に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】セルローストリアセテートフィルムの製
造方法の一つに、バンド又はドラム上にドープを流延
し、その後剥ぎ取り乾燥する溶液製膜法がある。

【０００３】従来、この溶液製膜法における乾燥方法と
しては、例えば、図２に示すように、流延面（ドラムの
表面）71から剥ぎ取ったセルローストリアセテートフィ
ルム73を乾燥室72内に設けられた多数のローラ74の間に
掛け渡し、その多数のローラ74間を移動させる（ローラ
搬送方式という）間に、熱風ａ、赤外線などで乾燥させ
る方法があった（米国特許第2,319,053号明細書等）。

【０００４】また、流延面から剥ぎ取ったセルロースト
リアセテートフィルムの両側縁部をテンタークリップ等
で保持しながら、延伸させることなく搬送しつつ乾燥す
る方法もあった（特開昭62−46625号公報、特開昭62−4
6626号公報）。この方法は、流延面から剥ぎ取ったセル
ローストリアセテートフィルムの残留溶媒が非常に多
く、ローラ搬送方式で行うとローラ表面との接触により
セルローストリアセテートフィルムの表面が損なわれる
場合に効果がある。

【０００５】ところで、溶液製膜法は製膜速度が遅いこ
とが大きな問題点であり、乾燥工程においても乾燥速度
を上げることが工業上重要な課題となっていた。そこ
で、流延面上からできるだけ早くセルローストリアセテ
ートフィルムを剥ぎ取って、セルローストリアセテート
フィルムの両面から高温で乾燥させることが好ましく、
そのためのゲル化剤、例えば、ブタノールなどの高沸点
溶剤をドープに含ませたり（米国特許第2,607,704号明
細書、米国特許第2,739,069号明細書等）、また、乾燥
温度を高くしたりする方法が提案されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法では、セルローストリアセテートフィルム
の平面性が悪いものであった。すなわち、セルロースト
リアセテートフィルムは、乾燥工程で搬送される際、搬
送方向に連続的なしわ（以後、スジバリと言う）が発生
し、このスジバリは高温になるにしたがった多発するも
のであった。例えば、ピッチが30〜50mm、搬送時の凹凸
の高さが５〜６mm（静止時で張力がない場合0.5〜1.0m
m）のスジバリが発生していた。

【０００７】このスジバリの発生する原因は、本発明者
らの研究の結果、高温乾燥によってセルローストリアセ
テートフィルムの弾性率が低下し、搬送方向に作用する
搬送テンションによってその方向に延伸されやすくな
り、そして、この時、セルローストリアセテートフィル
ムの巾方向には圧縮力が働くので座屈変形し、その結
果、スジバリが発生するものであることを見出した。

【０００８】そして、このスジバリは、セルローストリ
アセテートフィルムを写真フィルム等の支持体として用
いたとき、乳剤層の厚みむらの原因となるものであっ
た。

【０００９】本発明は、以上の問題点を解決し、高温乾
燥により乾燥速度を上げて高速製膜しても、スジバリが
発生せず平面性が良好なセルローストリアセテートフィ
ルムの製造方法を提供することを目的とする。また、均
一な厚さの乳剤層が形成できる写真フィルムを製造でき
るようにすることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、本発明のセルローストリ
アセテートフィルムの製造方法は、セルローストリアセ
テートフィルム用ドープをバンド又はドラム上に流延す
る流延工程と、この流延工程のバンド又はドラムから剥
ぎ取ったセルローストリアセテートフィルムを乾燥させ
る乾燥工程と、この乾燥工程で乾燥させられたセルロー
ルトリアセテートフィルムの凹凸を平坦にする平面性改
良工程とを有し、平面性改良工程は、乾燥工程を経たセ
ルローストリアセテートフィルムを加熱ローラで加熱し
つつ搬送して平坦にするローラ加熱工程と、このローラ
加熱工程の直後に冷却ローラで冷却しつつ搬送してセル
ローストリアセテートフィルムを固化させるローラ冷却
工程とを具備することを特徴として構成されている。

【００１１】また、本発明のセルロールトリアセテート
フィルムの製造方法は、セルローストリアセテートフィ
ルム用ドープをバンド又はドラム上に流延する流延工程
と、この流延工程のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセ
ルローストリアセテートフィルムを乾燥させる乾燥工程
と、この乾燥工程で乾燥させられたセルローストリアセ
テートフィルムの凹凸を平坦にする平面性改良工程とを
有し、平面性改良工程は、乾燥工程を経たセルロースト
リアセテートフィルムを遠赤外線ヒーター及び加熱ロー
ラで加熱しつつ搬送して平坦にするローラ加熱工程と、
このローラ加熱工程の直後に冷却ローラで冷却しつつ搬
送してセルローストリアセテートフィルムを固化させる
ローラ冷却工程とを具備することを特徴として構成され
ている。

【００１２】平面性改良工程のローラ加熱工程及び冷却
工程においてセルローストリアセテートフィルムを加熱
及び冷却するには、それぞれ複数の加熱ローラ群と冷却
ローラ群とを設け、加熱ローラ群で加熱した後冷却ロー
ラ群で冷却しても、それぞれ径の大きな一個の加熱ロー
ラと冷却ローラとを設け、一個の加熱ローラで加熱した
後一個の冷却ローラで冷却しても、径の大きな一個のロ
ーラの半面を加熱部とし他の半面を冷却部とし、すなわ
ち一個のローラに加熱ローラと冷却ローラとを兼用さ
せ、半面の加熱部で加熱した後他の半面の冷却部で冷却
するようにしてもよい。しかし、収縮による擦傷が発生
しにくいので、ローラ群を用いる方法が好ましい。

【００１３】ローラ群を用いる場合、加熱ローラ群及び
冷却ローラ群の数は、製膜速度、ローラ温度、膜厚、残
留溶媒量によって適宜増減されるが、通常、10〜30本の
間であり、また、ローラの直径は、５〜20cmが好まし
く、７〜15cmがより好ましい。

【００１４】ローラ群の配置は、ローラパス距離が十分
小さくなるように、略同一平面状に隣接して配置し、ま
たは、乾燥ゾーンと同様な二平面状に配置することが好
ましい。ローラパスの距離が長くなると、スジバリが発
生し易くなるからである。すなわち本発明者らの研究の
結果、スジバリの発生は、ローラの径や材質とは直接的
には関係せず、ローラパス距離、すなわち一つのローラ
を離脱した膜が次のローラに接触するまでの距離に関係
することが判明した。ローラパス距離は、搬送するセル
ーストリアセテートフィルムの剛性により変化するが、
３〜30cmが好ましく、４〜15cmがより好ましい。

【００１５】加熱ローラの温度は、セルローストリアセ
テートフィルムが十分軟化する温度であればよく、好ま
しくは100〜190℃、より好ましくは120〜170℃である。
なお、加熱ローラの温度が高温過ぎると、膜中の可塑剤
が浸出して好ましくない。加熱ローラを加熱するには、
加熱ローラ自体にヒーター等の内蔵熱源を設けて加熱し
ても、熱風で加熱しても、遠赤外線ヒータ等の外部熱源
で加熱してもよい。また、内蔵熱源と熱風を組み合わせ
ても、内蔵熱源と外部熱源を組み合わせても、熱風と外
部熱源を組み合わせても、内蔵熱源と外部熱源と熱風と
を組み合わせてもよい。

【００１６】冷却ローラの温度は、セルローストリアセ
テートフィルムの剛性が十分に得られる温度であればよ
く、好ましくは10〜95℃、より好ましくは20〜80℃であ
る。冷却ローラを所定温度に維持するには、温風、又は
所定温度の冷媒を用いた冷却ローラ等を用いる。

【００１７】加熱ローラによる加熱の終了後冷却ローラ
による冷却までの間隔は、加熱ローラにより凹凸が平坦
にされたセルローストリアセテートフィルムがその平面
状態を維持したまま冷却ローラで冷却される間隔であ
り、セルローストリアセテートフィルムの剛性等によっ
て適当に設定される。

【００１８】

【作用】本発明のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法では、乾燥工程で、搬送テンションによって幅
方向に坐屈変形してスジバリが発生して平面性が悪化し
たセルローストリアセテートフィルムを、加熱ローラで
巻回して搬送することにより軟化させると同時にスジバ
リを無くして平坦にし、直ちに、冷却ローラで巻回して
搬送することにより固化して平面に矯正する。

【００１９】本発明のセルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を図面に基づいて説明する。

【００２０】図１は、セルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【００２１】図１において、符号10はセルローストリア
セテートフィルム用ドープを流延する流延部、符号20及
び30は、流延部10から剥ぎ取られたセルローストリアセ
テートフィルム40を順次乾燥する第１乾燥部及び第２乾
燥部であり、符号50は第２乾燥部30から送られてきたセ
ルローストリアセテートフィルム40のスジバリを無くす
平面性改良部である。そして、第１乾燥部20と第２乾燥
部30との間に下塗り塗布部60が設けられている。

【００２２】流延部10は、所定温度に冷却されているバ
ンド11とその上部に設けられた流延口12からなってい
る。また、第１及び第２乾燥部20及び30は、それぞれ、
熱風ａを室内に供給するための熱風供給口21及び31が設
けられ、また、セルローストリアセテートフィルム40を
搬送するためのローラ22及び32が複数設けられている。

【００２３】平面性改良部50は、加熱室51と冷却室52と
が隣接して設けられており、加熱室51には多数の加熱ロ
ーラ53を略同一平面上に隣接して配置した加熱ローラ群
54が設けられ、冷却室52には冷却ローラ55を略同一平面
上に隣接して配置した冷却ローラ群56が加熱ローラ群54
に連続して配置されている。また、加熱室51には、熱風
供給口57が設けられ、この熱風供給口57から熱風ｂが室
内に供給されるようになっており、冷却室52には、冷却
風供給口58が設けられ、この冷却風供給口58から冷却風
ｃが室内に供給されるようになっている。

【００２４】以上のような製造装置でセルローストリア
セテートフィルムを製造するには、まず、所定組成のド
ープを流延口12からバンド11に流延し、流延されたドー
プが発泡しない温度条件で乾燥させつつ搬送する。そし
て、ある程度自己保持性が出た時バンド11から剥ぎ取
り、その後、第１乾燥部20に送り込み、熱風供給口21か
ら熱風ａを送り込みつつローラ22で搬送し、下塗りがで
きる状態まで乾燥させる。こうして乾燥したセルロース
トリアセテートフィルム40を下塗り塗布部60に送り、写
真感光材料用の下塗り剤を塗布する。そして、下塗りさ
れたセルローストリアセテートフィルム40を第２乾燥部
30へ送り、第１乾燥室20と同様に乾燥させる。

【００２５】次に、セルローストリアセテートフィルム
40を平面性改良部50に送り、まず、加熱室51において熱
風を吹き込みつつ加熱ローラ群54で巻回しつつ搬送する
ことにより、軟化させるとともに発生しているスジバリ
をとり表面を平面にし、次に、冷却室52において冷風を
吹き込みつつ冷却ローラ群56により平面状態のまま固化
させる。したがって、冷却室52から排出されたセルロー
ストリアセテートフィルム40は、表面の凹凸がない平面
状態の良好なまま巻き取られる。

【００２６】図２は、セルローストリアセテートフィル
ムの製造方法を実施する製造装置の平面性改良部を変更
した他の例の模式図である。

【００２７】この製造装置は、加熱室51において加熱ロ
ーラ53に対向して遠赤外線ヒーター59が配置されてお
り、その他の構成は図１の製造装置を同様である。この
製造装置では、加熱室51において、遠赤外線ヒーター59
で加熱ローラ53及びセルローストリアセテートフィルム
を加熱することになる。なお、熱風による加熱は、同時
に行なっても行なわなくてもよい。

【００２８】

【実施例】

〔実施例１〕セルローストリアセテート21重量％、トリ
フェニルホスフェート３重量％、メチレンクロライド65
重量％、メタノール７重量％、及びブタノール４重量％
からなるドープを調製し、図１に示すようなバンド流延
機で流延した。乾燥工程の途中では下塗機を用いて写真
乳剤用の下塗を行い、厚さ120μｍのセルローストリア
セテートフィルムを製造した。乾燥温度は第１乾燥室20
は110℃、第２乾燥室30は120℃、平面性改良部50の加熱
室51は130℃、冷却室52は50℃であった。

【００２９】また、加熱ローラ53の半径は５cmで、12cm
のピッチで20個配置し、冷却ローラ55の半径は５cmで、
12cmのピッチで20個配置し、搬送速度は60cm／秒であっ
た。

【００３０】そして、得られたセルローストリアセテー
トフィルムに写真乳剤を塗布して塗布ムラを評価した。
評価方法は現像処理後、透過光を用いて色ムラを肉眼で
判定した。

【００３１】その結果、高温乾燥したにもかかわらず、
フィルムの平面性は良好で写真乳剤の塗布ムラは殆どな
く良好であった。

【００３２】〔実施例２〕実施例１における平面性改良
工程を、図２に示す遠赤外線ヒーターによる加熱方式に
変更した。実施例１と同じセルローストリアセテートフ
ィルム用ドープを用い、実施例１と同一条件で厚さ120
μｍのセルローストリアセテートフィルムを製造した。
ただし、平面性改良工程における加熱室51は100℃、遠
赤外線ヒーターで加熱されたセルローストリアセテート
フィルムは150℃であった。

【００３３】そして、得られたセルローストリアセテー
トフィルムに実施例１と同様、写真乳剤を塗布して塗布
ムラを評価した。

【００３４】その結果、高温乾燥したにもかかわらず、
フィルムの平面性は良好で写真乳剤の塗布ムラは殆どな
く良好であった。

【００３５】〔比較例〕実施例と同じドープを、実施例
と同じ溶液製膜装置を用い、実施例と同じ条件で流延製
膜し、写真用下塗塗布、乾燥を行った。ただし、平面性
改良部50に送り込まず、第２乾燥室30を出たセルロース
トリアセテートフィルムをそのまま巻取った。

【００３６】そして、得られたセルローストリアセテー
トフィルムに実施例と同様、写真乳剤を塗布して塗布ム
ラを評価した。

【００３７】その結果、高温乾燥したために、フィルム
の平面性が悪く、写真乳剤の塗布ムラが目立っていた。

【００３８】

【発明の効果】本発明は、セルローストリアセテートフ
ィルムの平面性を良好に保持しつつ高温高速乾燥するこ
とができるので、セルローストリアセテートフィルムの
製造速度を著しく高めることができる。その結果、均一
な乳剤層が形成された品質の良好な写真フィルム等を、
安価に製造できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明のセルローストリアセテートフィルム
の製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【図２】 本発明のセルローストリアセテートフィルム
の製造方法を実施する製造装置の遠赤外線ヒーターを用
いた平面性改良部の模式図である。

【図３】 従来のセルローストリアセテートフィルムの
製造方法を実施する製造装置の模式図である。

【符号の説明】

10…流延部 20…第１乾燥部 30…第２乾燥部 40…セルローストリアテートフィルム 50…平面性改良部 51…加熱室 52…冷却室 53…加熱ローラ 54…加熱ローラ群 55…冷却ローラ 56…冷却ローラ群 59…遠赤外線ヒーター

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セルローストリアセテートフィルム用ド
   ープをバンド又はドラム上に流延する流延工程と、この
   流延工程のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセルロース
   トリアセテートフィルムを乾燥させる乾燥工程と、この
   乾燥工程で乾燥させられたセルローストリアセテートフ
   ィルムの凹凸を平坦にする平面性改良工程とを有し、平
   面性改良工程は、乾燥工程を経たセルローストリアセテ
   ートフィルムを加熱ローラで加熱しつつ搬送して平坦に
   するローラ加熱工程と、このローラ加熱工程の直後に冷
   却ローラで冷却しつつ搬送してセルローストリアセテー
   トフィルムを固化させるローラ冷却工程とを具備するこ
   とを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製
   造方法
2. 【請求項２】 セルローストリアセテートフィルム用ド
   ープをバンド又はドラム上に流延する流延工程と、この
   流延工程のバンド又はドラムから剥ぎ取ったセルロース
   トリアセテートフィルムを乾燥させる乾燥工程と、この
   乾燥工程で乾燥させられたセルローストリアセテートフ
   ィルムの凹凸を平坦にする平面性改良工程とを有し、平
   面性改良工程は、乾燥工程を経たセルローストリアセテ
   ートフィルムを遠赤外線ヒーター及び加熱ローラで加熱
   しつつ搬送して平坦にするローラ加熱工程と、このロー
   ラ加熱工程の直後に冷却ローラで冷却しつつ搬送してセ
   ルローストリアセテートフィルムを固化させるローラ冷
   却工程とを具備することを特徴とするセルローストリア
   セテートフィルムの製造方法