JPS6018281B2 - 薄膜作成装置 - Google Patents
薄膜作成装置Info
- Publication number
- JPS6018281B2 JPS6018281B2 JP52060607A JP6060777A JPS6018281B2 JP S6018281 B2 JPS6018281 B2 JP S6018281B2 JP 52060607 A JP52060607 A JP 52060607A JP 6060777 A JP6060777 A JP 6060777A JP S6018281 B2 JPS6018281 B2 JP S6018281B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- thin film
- film thickness
- forming apparatus
- thickness setting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B1/00—Producing shaped prefabricated articles from the material
- B28B1/30—Producing shaped prefabricated articles from the material by applying the material on to a core or other moulding surface to form a layer thereon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B5/00—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping
- B28B5/02—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping on conveyors of the endless-belt or chain type
- B28B5/026—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping on conveyors of the endless-belt or chain type the shaped articles being of indefinite length
- B28B5/027—Producing shaped articles from the material in moulds or on moulding surfaces, carried or formed by, in or on conveyors irrespective of the manner of shaping on conveyors of the endless-belt or chain type the shaped articles being of indefinite length the moulding surfaces being of the indefinite length type, e.g. belts, and being continuously fed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は基体上に塗布法により薄膜を作成する装置に関
するものである。
するものである。
このような装置は、積層セラミックコンデンサやセラミ
ックフィル夕の製造過程の中でセラミックの薄膜を作成
する場合等に使用される。
ックフィル夕の製造過程の中でセラミックの薄膜を作成
する場合等に使用される。
従来、この種の薄膜作成装置としては、第１図に示すよ
うに、送りローラ３１と支持ローラ３２によってフィル
ム状基体のロール３３から送り出された基体３４の面上
に供孫台箱３５からスラリ３６を塗布し、マイクロメー
タヘツド３７により調節された膜厚設定板３８と支持板
３９上の基体３４とのすきまに対応した膜厚の薄膜４０
を形成した後に、薄膜４０を乾燥炉４１中にあるシーズ
ヒータ４２で乾燥し、巻き取りローラ４３に基体３４と
一緒に巻き取った後、薄膜４０を基体３４から剥離して
薄膜４０のみを得る等の方法がある。
うに、送りローラ３１と支持ローラ３２によってフィル
ム状基体のロール３３から送り出された基体３４の面上
に供孫台箱３５からスラリ３６を塗布し、マイクロメー
タヘツド３７により調節された膜厚設定板３８と支持板
３９上の基体３４とのすきまに対応した膜厚の薄膜４０
を形成した後に、薄膜４０を乾燥炉４１中にあるシーズ
ヒータ４２で乾燥し、巻き取りローラ４３に基体３４と
一緒に巻き取った後、薄膜４０を基体３４から剥離して
薄膜４０のみを得る等の方法がある。
しかし乍らこのような従来の方法では、フィルムと一緒
に巻きこまれた一部の徴量のスラリとフィルム面に閉じ
込められ、気泡状の空気となって残り、その状態でスラ
リが乾燥する時に気泡が熱膨張して薄膜に微小突起が形
成されたり、ピンホールを生じる場合があった。また、
１枚の膜厚設定板で膜厚設定を行うため薄膜の膜厚が不
均一になり、製品の特性が著しく覆われるとともに、製
品の生産性が悪い等の欠点があった。本発明の目的は、
上述の欠点を除去し、薄膜を高品質かつ能率的に生産す
る薄膜作成装置を提供することにある。
に巻きこまれた一部の徴量のスラリとフィルム面に閉じ
込められ、気泡状の空気となって残り、その状態でスラ
リが乾燥する時に気泡が熱膨張して薄膜に微小突起が形
成されたり、ピンホールを生じる場合があった。また、
１枚の膜厚設定板で膜厚設定を行うため薄膜の膜厚が不
均一になり、製品の特性が著しく覆われるとともに、製
品の生産性が悪い等の欠点があった。本発明の目的は、
上述の欠点を除去し、薄膜を高品質かつ能率的に生産す
る薄膜作成装置を提供することにある。
すなわち本発明は、フィルム状基体を巻いたロールと、
作成した膜を基体とともに巻き取る巻き取り部と、これ
らの間にあって前記基体を繰り出す基体送り部と、前記
ロールと基体送り部との間で基体上にスラリを塗布する
スラリ供給部と、そこで塗布された薄膜を乾燥する乾燥
炉とを備えてなる装置において、前記基体に適当な張力
を与える機構と、前記ロールと前記スラリ供孫舎部との
間に基体表面に付着する気泡状の空気を除去する機構と
を有し、かつ前記スラリ供Ｖ給部には調節可能な２枚の
膜厚設定板を備えている薄膜作成装置である。
作成した膜を基体とともに巻き取る巻き取り部と、これ
らの間にあって前記基体を繰り出す基体送り部と、前記
ロールと基体送り部との間で基体上にスラリを塗布する
スラリ供給部と、そこで塗布された薄膜を乾燥する乾燥
炉とを備えてなる装置において、前記基体に適当な張力
を与える機構と、前記ロールと前記スラリ供孫舎部との
間に基体表面に付着する気泡状の空気を除去する機構と
を有し、かつ前記スラリ供Ｖ給部には調節可能な２枚の
膜厚設定板を備えている薄膜作成装置である。
次に本発明の薄膜作成装置の一実施例について図を参照
して説明する。
して説明する。
第２図は本発明の薄膜作成装置の一実施例の構成を示す
斜視図、第３図は第２図における基体ガイドブロックの
断面図、第４図は第２図におけるスラリ供Ｖ給部の主要
断面図である。
斜視図、第３図は第２図における基体ガイドブロックの
断面図、第４図は第２図におけるスラリ供Ｖ給部の主要
断面図である。
１はフィルム状の基体でロール２から繰り出される。
３は張力制御部でロール２の巻径を検出部４で絶えず検
出し、この検出部の信号により基体１に一定の張力を与
える。
出し、この検出部の信号により基体１に一定の張力を与
える。
５は回転ローラで基体１の送り方向を変える。
６はスラリ供Ｖ給部で、基体１の表面に付着する気泡状
の空気を除去する構造として、例えば基体１と一緒に巻
き込まれた徴量の空気に対して図示してない減圧ポンプ
等によりラビリンス構造７内を負圧とすることにより除
去するものであり、このラビリンス構造７を供給箱８の
基体ロール側前面に一体に設け、供給箱８内で上下摺動
し、粉末状の物体と溶剤とバィンダとで成るスラリ９の
薄膜１０の膜厚を設定し、ス０ラリ９があふれるのを防
ぐ返し１２とスラリ９をにがすにげ穴１３とを有する第
１膜厚設定板１１と、第１膜厚設定板１１と同じく供給
箱８内で上下摺動して薄膜１０の膜厚を設定している第
２膜厚設定板１４と、第１膜厚設定板１１および第２５
膜厚設定板１４の上下位置をおのおの調節するマイクロ
メータヘッド１５と、基体１を介して供給箱８を保持し
ている支持台１６とで構成されている。
の空気を除去する構造として、例えば基体１と一緒に巻
き込まれた徴量の空気に対して図示してない減圧ポンプ
等によりラビリンス構造７内を負圧とすることにより除
去するものであり、このラビリンス構造７を供給箱８の
基体ロール側前面に一体に設け、供給箱８内で上下摺動
し、粉末状の物体と溶剤とバィンダとで成るスラリ９の
薄膜１０の膜厚を設定し、ス０ラリ９があふれるのを防
ぐ返し１２とスラリ９をにがすにげ穴１３とを有する第
１膜厚設定板１１と、第１膜厚設定板１１と同じく供給
箱８内で上下摺動して薄膜１０の膜厚を設定している第
２膜厚設定板１４と、第１膜厚設定板１１および第２５
膜厚設定板１４の上下位置をおのおの調節するマイクロ
メータヘッド１５と、基体１を介して供給箱８を保持し
ている支持台１６とで構成されている。
１７は乾燥炉で薄膜１０をヒータ１８（例えば遠赤外線
ヒータを使用して効率よく乾燥する。
ヒータを使用して効率よく乾燥する。
）で乾燥する。１９は基体ガイドブロックで、薄膜１０
が塗布された後の基体１の両端部（薄膜１０が塗布され
ていない部分）をガイドして基体１の蛇行と薄膜１０の
膜だれとを防ぐ。
が塗布された後の基体１の両端部（薄膜１０が塗布され
ていない部分）をガイドして基体１の蛇行と薄膜１０の
膜だれとを防ぐ。
２０は薄膜１０の状態を監視するための照明灯で、薄膜
１０スラリ塗布部６で塗布された後および乾燥炉１７で
乾燥された後に基体１の下部より照す。
１０スラリ塗布部６で塗布された後および乾燥炉１７で
乾燥された後に基体１の下部より照す。
２１は基体送り部で、ドライブローラ２２とこれを駆動
するサーボモータ２３と、一定の間隔を保って設置し、
基体了に送りを与えるピンチローラ２４とで構成されて
いる。
するサーボモータ２３と、一定の間隔を保って設置し、
基体了に送りを与えるピンチローラ２４とで構成されて
いる。
２５は巻き取り制御部で、巻き取りローラ２６に巻き取
られた基体１と薄膜１０との巻径を検出部２７で検出し
、この検出部の信号により基体１と薄膜１川こ一定の張
力を与える。
られた基体１と薄膜１０との巻径を検出部２７で検出し
、この検出部の信号により基体１と薄膜１川こ一定の張
力を与える。
次に本発明の動作について図を参照して説明する。
第２図および第３図、第４図に示すように、サーボモー
タ２３により回転したドライブローラ２２とピンチロー
ラ２４とで基体１がロール２より送り出される。
タ２３により回転したドライブローラ２２とピンチロー
ラ２４とで基体１がロール２より送り出される。
このとき、基体１にはロール２の巻径を検出する検出部
４の信号を受けた張力制御部３により一定の張力が懸け
られている。ロール２より出された基体１は回転ローラ
５によって送り方向が変えられる。次に、支持台６上の
供給箱８のラビリンス構造７により基体１の表面上に付
着する気泡状の空気が除去され、続いてスラリ９が塗布
され薄膜１０が形成される。このときスラリ９は、基体
ガイドブロック１９にガイドされピンチローラ２４が接
触する基体１の両端部には塗布されない。また、薄膜１
０の膜厚はマイクロメータヘッド１５でおのおの調節さ
れた第１険厚設定板１１、第２膜厚設定板１４と平坦な
支持台１６上の基体１とのすきまで設定されるが、あら
かじめ第１膜厚設定板１１で設定した後第２膜厚設定板
１４で最終的に設定される。それに第１膜厚設定板１１
のすきまと第２膜厚設定板１４のすきまとの差日が生じ
てスラリ９が余り第１膜厚設定板１１と第２膜厚設定板
１４との間にたまってきた場合は、第１膜厚設定板１１
の返し１２で供 ｖ給箱８よりあふれるのを防いでにげ
穴１３よりもとに戻す。次に基体１表面に塗布された薄
膜１川ま基体１の両端部をガイドしている基体ガイドブ
ロック１９により導かれて乾燥炉１７内のヒータ１８で
乾燥される。それに塗布後と乾燥後との薄膜１０の状態
は基体１の下部より照明灯２０より照らして監視するこ
とができる。次に、乾燥した薄膜１０はドライブロ川ラ
２２とピンチローラ２４を通って巻き取りローラ２６に
基体１と一緒に巻き取られる。このとき、基体１と薄膜
１０には基体と薄膜との巻径を検出する検出部２７の信
号を受けた巻き取り制御部２５により一定の張力が懸け
られている。巻き取り終了後、薄膜１０を基体１から剥
離して薄膜のみを得ることができる。このように本発明
ではスラリの塗布時に基板とスラリの間に気泡状の空気
が残らないので、気泡状の空気に起因する薄膜中のピン
ホールが除かれる。また本発明では薄膜は２枚の膜厚設
定板により２段に設定されるので、膜厚が均一になる。
４の信号を受けた張力制御部３により一定の張力が懸け
られている。ロール２より出された基体１は回転ローラ
５によって送り方向が変えられる。次に、支持台６上の
供給箱８のラビリンス構造７により基体１の表面上に付
着する気泡状の空気が除去され、続いてスラリ９が塗布
され薄膜１０が形成される。このときスラリ９は、基体
ガイドブロック１９にガイドされピンチローラ２４が接
触する基体１の両端部には塗布されない。また、薄膜１
０の膜厚はマイクロメータヘッド１５でおのおの調節さ
れた第１険厚設定板１１、第２膜厚設定板１４と平坦な
支持台１６上の基体１とのすきまで設定されるが、あら
かじめ第１膜厚設定板１１で設定した後第２膜厚設定板
１４で最終的に設定される。それに第１膜厚設定板１１
のすきまと第２膜厚設定板１４のすきまとの差日が生じ
てスラリ９が余り第１膜厚設定板１１と第２膜厚設定板
１４との間にたまってきた場合は、第１膜厚設定板１１
の返し１２で供 ｖ給箱８よりあふれるのを防いでにげ
穴１３よりもとに戻す。次に基体１表面に塗布された薄
膜１川ま基体１の両端部をガイドしている基体ガイドブ
ロック１９により導かれて乾燥炉１７内のヒータ１８で
乾燥される。それに塗布後と乾燥後との薄膜１０の状態
は基体１の下部より照明灯２０より照らして監視するこ
とができる。次に、乾燥した薄膜１０はドライブロ川ラ
２２とピンチローラ２４を通って巻き取りローラ２６に
基体１と一緒に巻き取られる。このとき、基体１と薄膜
１０には基体と薄膜との巻径を検出する検出部２７の信
号を受けた巻き取り制御部２５により一定の張力が懸け
られている。巻き取り終了後、薄膜１０を基体１から剥
離して薄膜のみを得ることができる。このように本発明
ではスラリの塗布時に基板とスラリの間に気泡状の空気
が残らないので、気泡状の空気に起因する薄膜中のピン
ホールが除かれる。また本発明では薄膜は２枚の膜厚設
定板により２段に設定されるので、膜厚が均一になる。
本実施例では回転ローラ５を用いて基体の送り方向を変
えている。このように方向を変えることにより基体に掛
る張力の測定が容易になる。また本実施例では基体表面
に付着する気泡を除去する機構としてラビリンス構造７
をスラリ供給部と一体化して設けてある。気泡状の空気
を除去するために、このようにスラリ供繋溝部に一体化
して空気の入り込みを防止した構造が好ましい。さらに
本実施例では基体ガイドブロックを備えるとともに膜厚
設定板の幅を基体の幅よりも狭くし、基体の両端部には
薄膜が形成されないようにし、基体送り部ではピンチロ
ーラで薄膜の形成されていない基体両端部を押えるよう
にしている。このようにすることにより形成された薄膜
が第１図の支持ローラ３２で押さえられる場合に比べて
ローラにより汚されることがなくなるので品質の優れた
薄膜が得られる。また基体ガイドブロックを備えること
により薄膜の膜だれがなく、薄膜が均一に保たれる効果
もあり、膜厚が厚い場合には特に有効である。さらに本
実施例では薄膜が塗布された後および乾燥された後に下
から照明灯により薄膜の状態を監視できる構成にしてあ
る。
えている。このように方向を変えることにより基体に掛
る張力の測定が容易になる。また本実施例では基体表面
に付着する気泡を除去する機構としてラビリンス構造７
をスラリ供給部と一体化して設けてある。気泡状の空気
を除去するために、このようにスラリ供繋溝部に一体化
して空気の入り込みを防止した構造が好ましい。さらに
本実施例では基体ガイドブロックを備えるとともに膜厚
設定板の幅を基体の幅よりも狭くし、基体の両端部には
薄膜が形成されないようにし、基体送り部ではピンチロ
ーラで薄膜の形成されていない基体両端部を押えるよう
にしている。このようにすることにより形成された薄膜
が第１図の支持ローラ３２で押さえられる場合に比べて
ローラにより汚されることがなくなるので品質の優れた
薄膜が得られる。また基体ガイドブロックを備えること
により薄膜の膜だれがなく、薄膜が均一に保たれる効果
もあり、膜厚が厚い場合には特に有効である。さらに本
実施例では薄膜が塗布された後および乾燥された後に下
から照明灯により薄膜の状態を監視できる構成にしてあ
る。
これにより塗布状態の変化が容易に検知され、ただちに
所定の塗布条件に膜厚設定板が調節される。さらに本実
施例では２枚の膜厚設定坂間にスラリがたまってきた場
合に返しと逃げ穴とにより元に戻す構造にしたので、外
部に漏れることがないため作業性がよい。
所定の塗布条件に膜厚設定板が調節される。さらに本実
施例では２枚の膜厚設定坂間にスラリがたまってきた場
合に返しと逃げ穴とにより元に戻す構造にしたので、外
部に漏れることがないため作業性がよい。
以上説明したように、本発明によればピンホールがなく
、また膜厚が均一な薄膜を塗布法により達成することが
できる。
、また膜厚が均一な薄膜を塗布法により達成することが
できる。
第１図は従来の薄膜作成装置の概略図、第２図は本発明
装置の一実施例の構成を示す斜視図、第３図は第２図に
おける基体ガイドブロックの断面図、第４図は第２図に
おけるスラリ供給部の主要断面図である。 図において１，３４は基体、２，３３はロール、３は張
力制御部、４は検出部、５は回転ローラ、６はスラリ供
給部、７はラビリンス構造、８，２５は供給箱〜 ９，
３６はスラリ、１０，４０は薄膜、１１は第１膜厚設定
板、１２は返し、１３はにげ穴、１４は第２膜厚設定板
、１５，３７はマイクロメータヘツド、１６，３９は支
持台、１７，４１は乾燥炉、１８，４２はヒータ、１９
は基体ガイドブロック、２川ま照明灯、２１は基体送り
部、２２はドライブローフ、０２３はサーボモータ、２
４はピンチローラ、２５は巻き取り制御部、２６，４３
は巻き取りローラ、２７は検出部、３１は送りローラ、
３２は支持ローラ、３８は濃厚設定板である。オー図 オ２図 汁３図 オ４図
装置の一実施例の構成を示す斜視図、第３図は第２図に
おける基体ガイドブロックの断面図、第４図は第２図に
おけるスラリ供給部の主要断面図である。 図において１，３４は基体、２，３３はロール、３は張
力制御部、４は検出部、５は回転ローラ、６はスラリ供
給部、７はラビリンス構造、８，２５は供給箱〜 ９，
３６はスラリ、１０，４０は薄膜、１１は第１膜厚設定
板、１２は返し、１３はにげ穴、１４は第２膜厚設定板
、１５，３７はマイクロメータヘツド、１６，３９は支
持台、１７，４１は乾燥炉、１８，４２はヒータ、１９
は基体ガイドブロック、２川ま照明灯、２１は基体送り
部、２２はドライブローフ、０２３はサーボモータ、２
４はピンチローラ、２５は巻き取り制御部、２６，４３
は巻き取りローラ、２７は検出部、３１は送りローラ、
３２は支持ローラ、３８は濃厚設定板である。オー図 オ２図 汁３図 オ４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フイルム状基体を巻いたロールと、作成した膜を基
体とともに巻き取る巻き取り部と、これらの間にあつて
前記基体を繰り出す基体送り部と前記ロールと基体送り
部との間で基体上にスラリを塗布するスラリ供給部とそ
こで塗布された薄膜を乾燥する乾燥炉とを備えてなる装
置において、前記基体に適当な張力を与える機構と、前
記ロールと前記スラリ供給部との間に基体表面に付着す
る気泡状の空気を除去する機構とを有し、かつ前記スラ
リ供給部には調節可能な２枚の膜厚設備板を備えている
ことを特徴とする薄膜作成装置。 ２ ２枚の膜厚設定板はあらかじめ膜厚を設定する第１
膜厚設定板と、基体進行方向に対し第１膜厚設定板の前
方にあつて基体との隙間が前記第１の膜厚設定板よりも
小さい第２膜厚設定板とからなる特許請求の範囲第１項
記載の薄膜作成装置。 ３ ２枚の膜厚設定板間にはスラリの溢れを防ぐ返しを
設け第１の膜厚設定板ににげ穴を設けた特許請求の範囲
第２項記載の薄膜作成装置。 ４ 膜厚設定板の幅が基体の幅よりも狭い特許請求の範
囲第１項もしくは第２項記載の薄膜作成装置。 ５ スラリ供給部と基体送り部との間の部分に基体ガイ
ドブロツクを備えた特許請求の範囲第１項もしくは第４
項記載の薄膜作成装置。 ６ 基体表面に付着する気泡状の空気を除去する機構は
ラビリンス構造である特許請求の範囲第１項記載の薄膜
作成装置。 ７ 基体表面に付着する気泡状の空気を除去する機構を
スラリ供給部と一体化し、スラリ供給部のロール側前面
に設けた特許請求の範囲第１項もしくは第６項記載の薄
膜作成装置。 ８ 基体の適当な張力を与える機構はロールの巻径を検
出する検出部とこの検出部の信号により基体の張力を制
御する張力制御部とからなる特許請求の範囲第１項記載
の薄膜作成装置。 ９ 基体進行方向に対しスラリ供給部の前方および乾燥
炉の前方の双方もしくは一方の基体下部に照明灯を備え
た特許請求の範囲第１項記載の薄膜作成装置。 １０ ロールとスラリ供給部との間に回転ローラを設け
基体の方向を変更した特許請求の範囲第１項記載の薄膜
作成装置。 １１ 基体送り部の支持ローラは基体の両端のみを挾む
ピンチローラである特許請求の範囲第１項第４項もしく
は第５項記載の薄膜作成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52060607A JPS6018281B2 (ja) | 1977-05-24 | 1977-05-24 | 薄膜作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52060607A JPS6018281B2 (ja) | 1977-05-24 | 1977-05-24 | 薄膜作成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53144909A JPS53144909A (en) | 1978-12-16 |
| JPS6018281B2 true JPS6018281B2 (ja) | 1985-05-09 |
Family
ID=13147100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52060607A Expired JPS6018281B2 (ja) | 1977-05-24 | 1977-05-24 | 薄膜作成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018281B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010186982A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-08-26 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 保持脱離治具及び取扱治具 |
| JP2011142273A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 保持脱離治具及び取扱治具 |
| US20250367877A1 (en) * | 2024-05-28 | 2025-12-04 | General Electric Company | Tape casting apparatus and method of using the same |
-
1977
- 1977-05-24 JP JP52060607A patent/JPS6018281B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS53144909A (en) | 1978-12-16 |
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