JPH0628688U - ガスリーク検出システム - Google Patents
ガスリーク検出システムInfo
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- JPH0628688U JPH0628688U JP7115092U JP7115092U JPH0628688U JP H0628688 U JPH0628688 U JP H0628688U JP 7115092 U JP7115092 U JP 7115092U JP 7115092 U JP7115092 U JP 7115092U JP H0628688 U JPH0628688 U JP H0628688U
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低真空のチャンバー内のリークを出ガスの影
響を受けずにチャンバー内における特定ガスのリークを
精度良く測定できるようにする。 【構成】 エッチングチャンバー11内に接続したガス
全てをマスフローコントローラ15,16と圧力計9に
て制御し、この時のガス分析のピーク値を校正値として
用いる手段と、エッチングチャンバー11のガス出口と
出力を閉じた状態での圧力上昇によるガスリークの値と
前記校正値より絶対値としてのガスのリーク値を求める
手段とを設けた。
響を受けずにチャンバー内における特定ガスのリークを
精度良く測定できるようにする。 【構成】 エッチングチャンバー11内に接続したガス
全てをマスフローコントローラ15,16と圧力計9に
て制御し、この時のガス分析のピーク値を校正値として
用いる手段と、エッチングチャンバー11のガス出口と
出力を閉じた状態での圧力上昇によるガスリークの値と
前記校正値より絶対値としてのガスのリーク値を求める
手段とを設けた。
Description
【0001】
本考案は、ガスのリークを数Pa(パスカル)の低真空チャンバーで、かつチ ャンバー内より出ガスしている真空装置において、特定ガスのリークを絶対値と して検出ができるガスリーク検出システムに関するものである。
【0002】
従来、ガスリーク検出システムはチャンバー内の圧力を達成真空度まで低くし 、チャンバーのガスの入口と出口を閉じた状態で単位時間当りの圧力上昇を測定 することにより得ている。 この場合の測定では、複数のガスが混合使用されているような場合、その中の 1つのガス、すなわち単一ガスについてだけの圧力測定はできなかった。 また、単独ガスだけが使用されている場合に、この単独ガスの測定を行うのに 、検出器として残留ガス分析装置を使用した方法がある。この方法の場合では次 の(1)UN〜(3)に述べるような特徴があった。 (1)検出器は、10-2Pa以下の圧力の時に作動する構造になっている。この ため、チャンバー真空度がこれよりも高い数Pa程度にある場合は、このチャン バー内におけるガス分析による分圧測定はできない。 (2)単独ガス測定時には、他のガスとの相対値としてのガス圧、あるいはガス 量として表示する方法を取っているので絶対値が得られない。 (3)また、この単独ガス測定時に絶対値を測定する場合は、標準サンプルガス を必要とし、トータルシステムとしては複雑な構成となっていた。
【0003】
すなわち、従来の何れの方法も、真空度が数Paのチャンバー内での出ガスの 影響を受けずに単独ガスのリーク量を絶対値測定することができず、混合ガスの 分圧値や相対値によってチャンバー内のリークを管理している。このため、リー クガスによるプロセス条件の影響を十分に考慮した装置管理が不可能であった。 また、チャンバー内の出ガスの多い場合においてはリークが出ガスと区別がで きない。このため、出ガスをなくすのに長時間の真空引き時間を要する等の問題 点があった。
【0004】 本考案は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は低真空のチャ ンバー内における特定ガスのリークを精度良く測定することが可能な優れたガス リーク検出システムを提供することにある。
【0005】
上記目的を達成するため、本考案に係るガスリーク検出システムは、チャンバ ー内における特定ガスのリークを測定するものであって、チャンバーの圧力によ ってオリフィスを変更してガス分析できるようにする手段と、チャンバー内に接 続したガス全てをマスフローと圧力計にて制御し、この時のガス分析のピーク値 を校正値として用いる手段と、チャンバーのガス出口と出力を閉じた状態での圧 力上昇によるガスリークの値と前記校正値より絶対値としてのガスのリーク値を 求める手段と、各ガス毎にガス圧力あるいは流量に対して信号強度の関係を関数 として処理するための手段とを設けたものである。
【0006】
この構成によれば、特定ガスのリークを絶対値として検出できる。 したがって、従来方法でのような低圧力状態のチャンバーを別のポンプシステ ムにて高真空状態まで引かねばならないと言うようなことがなくなり、従来これ に要していた時間と設備が不要になる。しかも、出ガスによる圧力上昇をバック グランドとして測定するので測定回数が少なくなり、測定時間の短縮ができる。 また、各ガスについて関数が設定できるので、ガス特性による圧力の誤差を少 なくできる。 さらに、相対値から絶対値の測定ができるので、チャンバー内に入っては困る ガスの微量リークの影響調査等に適用可能となる。
【0007】
以下、本考案の実施例について図面を用いて詳細に説明する。 図1は、本考案の一実施例を示す概略構成図である。 図において、符号1は残留ガス測定器としての残留分析システムである。この 残留分析システム1は、分析室2と、分析室2を排気して圧力を10-5Toor 以下にすることが可能なポンプユニット3と、このポンプユニット3と排気ライ ンを接続するためのフランジ4と、この残留分析システム1とエッチングチャン バー11とを接続するためのフランジ5等が設けられている。
【0008】 また、フランジ5と分析室2との間には、エッチングチャンバー11と残留分 析システム1との間を断続するためのマニュアルバルブ6と、このマニュアルバ ルブ6と分析室2の圧力が一定圧力(例えば10Pa程度)以下でないと開にな らないインターロック機能が設けられて分析室2内のマスフィルタ10を保護す るエアバルブ7と、エッチングチャンバー11側の圧力と分析室2の圧力差を設 けるオリフィス8と、マニュアルバルブ6とエアバルブ7間の圧力を測定する圧 力計(マノメータ)9等が配設されている。 そして、この残留分析システム1では、オリフィス8を変更することにより、 約数十Paの高圧力から10-5Toorまでのチャンバー圧力で測定することが でき、またマニュアルバルブ6はフランジ5の部分より取り外し可能になってい る。
【0009】 エッチングチャンバー11は、到達圧力が0.75×10-3Torrとなるよ うに設定されており、バルブ12と排気バルブ13を介してポンプ14と接続さ れている。そして、プロセス制御時には、ポンプ14を駆動して排気し、内部を 数Paの圧力にすることができる。また、エッチングチャンバー11には、この エッチングチャンバー11内に導入するガスのマスフローコントローラ(MFC )15,16がバルブ17,19を介して接続されている。
【0010】 次に、このシステムの操作方法について、(1)から(8)の順番で以下に説 明する。 まず、残留ガス測定器、すなわち残留分析システム1をエッチングチ ャンバー11に取り付けてセットする場合について説明する。 (1)フランジ5を用いてエッチングチャンバー11と残留分析システム1を接 続するとともに、この残留分析システム1をフランジ4を用いて排気系に接続す る。 (2)圧力計9が一定値以下のとき開可能となるインターロックが設けられたエ アバルブ7は閉のままで、マニュアルバルブ6を開けるとともに、エッチングチ ャンバー11側のポンプ14で排気する。そして、この排気でマニュアルバルブ 6とエアバルブ7の間の圧力計9が一定値以下になってエアバルブ7が開可能と なるまで真空状態にする。 (3)また、エアバルブ7が開可能となる真空状態になった後、エッチングチャ ンバー11内をさらに約10分程度排気する。 (4)ストップバルブ17または18を開放し、マスフローコントローラ15ま たは16で流量を制御しながら例えばO2 ガスをエッチングチャンバー11内に 入れる。なお、本実施例ではエッチングチャンバー11内にO2 ガスを入れたが 、勿論これ以外のガスであっても差し支えないものである。 (5)標準圧力を5Pa程度に設定し、この標準圧力を基準にしてエッチングチ ャンバー11内の圧力を一定にする。 (6)エアバルブ7を開け、エッチングチャンバー11側より分圧計(分圧室2 側)にO2 ガスを導入する。 (7)測定器の読みを5Pa値として校正するように、この残留分析システム1 側で判断し、これを図示せぬメモリに保存する。この場合、オリフィス8が固定 なのでオリフィス8を含んだ時の読み値を5Paとして校正する。 (8)測定後、エアバルブ7を閉にする。また、分圧計の圧力が高真空になるの を確認する。
【0011】 次に、リークレート測定の方法について、(1)から(6)の順番で以下に説 明する。 (1)マニュアルバルブ6を開の状態で、エッチングチャンバー11に接続して いるポンプ14でエッチングチャンバー11内のガスを排気し、これを到達真空 度に近い約1Paの値まで引く。 (2)ストップバルブ17,18,排気バルブ13を閉じるとともにエアバルブ 7を開き、残留分析システム1側のポンプユニット3のポンプでエッチングチャ ンバー11内のガスを引く。 (3)図示せぬガス分析開始ボタンを押す。そして、例えば3分間での圧力上昇 によりO2 ガスのガス分圧値を測定する、いわゆる圧力上昇法にてO2 リークレ ートを見て、このときのO2 リークレートを図示せぬ表示部上に表示する。 (4)エアバルブ7を閉じる。 (5)排気バルブ13を開き、ポンプ14でエッチングチャンバー11内を真空 引きにする。 (6)真空引き後、マニュアルバルブ6をマニュアルにて閉じる。すると、ここ で残留分析システム(残留ガス測定器)1の校正で、図2に示すグラフの圧力5 Paの信号強度Aとガス圧力あるいはガス流量Bを得ることができる。なお、図 2は圧力が5Paで、O2 ガス流量が10ccの時を一例としたものである。
【0012】 このとき、残留分析システム1の圧力あるいはガス流量と信号強度Cの関係を 関数値処理し、図2に示すように直線Eとなるような関数を持たせている。 すなわち、ここでは図2において、AとBの値より直線になる次式(1)の傾 きとなるaとbの値をその都度得ることができ、またエッチングチャンバー11 内での出ガスによりチャンバー雰囲気が変わっても補正できるようになっている 。
【0013】
【数1】 y=ax+b …(1)
【0014】 すなわち、図2の直線の傾きとなる値を計算より求める場合は、aは図2にお いてAとBが分かることから求まり、bは残留分析システム1の定数よりCが分 かり、上記aとbから計算によりDが求まる。そして、この値はその都度図示せ ぬメモリに保存できるようになっている。
【0015】 次に、上記リークレート測定の方法で得た3分間での圧力上昇によるO2 ガス の分圧あるいはガス流量を図示せぬメモリに保存し、上式(1)で得たyに信号 値を入れて計算することによりガス分圧あるいはガス流量を得ることができる。 これらは、エッチングチャンバー11にストップバルブ17,18及びマスフロ ーコントローラ15,16を介して接続されているガスの全てについて対応でき る。また、これらの処理は全てパソコンのソフトウエアにて対応できるため、そ れぞれのガスについて個別の関数を持つことが可能である。
【0016】 したがって、このガスリーク検出システムによれば、以下の(1)〜(9)が 可能になる。 (1)数Paの低真空チャンバー内のガスリークが検出できる。 (2)絶対量を測定するのに標準サンプルを必要としない。すなわち、エッチン グチャンバー11内に、マスフローコントローラ15,16と圧力計9により圧 力調整できるガスを使用することで、製造ガス以外のガスを使用することなく絶 対量が測定できる。 (3)比較ガスの流量と圧力を制御したいときの測定を行い、このときの値を残 留分析システム1内の図示せぬメモリに保存できる。 (4)エッチングチャンバー11内を排気し、ストップバルブ17,18,排気 バルブ13等を閉にした後の圧力上昇中の分析結果を、上記(3)のメモリの値 と比較することで、このときの比較ガスと同種のガスのリークが測定できる。 (5)比較ガスはエッチングチャンバー11内にライン導入されているガスであ れば全てのガスについて、エッチングチャンバー11外からのリークとエッチン グチャンバー11内でのリークとが測定できる。 (6)エッチングチャンバー11内部からの出ガスによって圧力が上昇したとし ても、上記(3)に述べたように、比較ガスの流量と圧力を制御したいときの測 定を行う測定方法なので、上記(4)に述べたように、エッチングチャンバー1 1内を排気し、ストップバルブ17,18,排気バルブ13等を閉にした後の圧 力上昇中の分析結果を、上記(3)のメモリの値と比較することで、このときの 比較ガスと同種のガスのリークを測定した時にもバックグランドが同一なので出 ガスの多いエッチングチャンバー11等を測定するにも絶対値測定ができる。 (7)分析室2の圧力が10-2Pa以下でないと分析できないので、マニュアル バルブ6とエアバルブ7の圧力を圧力計9で監視し、一定の圧力以下でないとエ アバルブ7を開にしないように設定して、分析室2内のマスフィルタ10を保護 することができる。 (8)エッチングチャンバー11と残留分析システム1はフランジ5で接続して いるので取り外しを自由に行うことができる。また、バルブ6としてマニュアル バルブを使用しているので、任意に閉状態にしてマニュアルバルブ6から排気ま での間を真空状態のままで分離できる。 (9)オリフィスを変更することで数10Paの高圧力から10-5からTorr の低圧力までの分析が可能となる。
【0017】 なお、上記実施例ではエッチングチャンバー11内における出ガスを検出する 場合について説明したが、これはエッチングチャンバー11に限ることなく他の チャンバーにも同様にして使用できるものである。
【0018】
以上説明したとおり、本考案に係るガスリーク検出システムでは、ガスのリー クを数Paの低真空チャンバーでも測定でき、しかもチャンバー内から出ガスし ている真空装置において特定ガスのリークを絶対値として検出できる。 したがって、従来方法でのような低圧力状態のチャンバーを別のポンプシステ ムにて高真空状態まで引かねばならないと言うようなことがなくなり、従来これ に要していた時間と設備が不要になる。しかも、本考案の場合では、出ガスによ る圧力上昇をバックグランドとして測定するので測定回数が少なくなり、測定時 間の短縮ができる。 また、各ガスについて関数が設定できるので、ガス特性による圧力の誤差を少 なくできる。 さらに、相対値から絶対値の測定ができるので、チャンバー内に入っては困る ガスの微量リークの影響調査等にも適用可能となる等の効果が期待できる。
【図1】本考案の一実施例を示すシステムの概略構成図
である。
である。
【図2】ガス分析計算のベースとなる関係図である。
1 残留分析システム 2 分析室 3 ポンプユニット 6 マニュアル
バルブ 7 エアバルブ 8 オリフィス 9 圧力計 11 エッチン
グチャンバー 14 ポンプ 15 マスフロ
ーコントローラ 16 マスフローコントローラ
バルブ 7 エアバルブ 8 オリフィス 9 圧力計 11 エッチン
グチャンバー 14 ポンプ 15 マスフロ
ーコントローラ 16 マスフローコントローラ
Claims (1)
- 【請求項1】 チャンバー内における特定ガスのリーク
を測定するガスリーク検出システムにおいて、 チャンバーの圧力によってオリフィスを変更してガス分
析できるようにする手段と、 チャンバー内に接続したガス全てをマスフローと圧力計
にて制御し、この時のガス分析のピーク値を校正値とし
て用いる手段と、 チャンバーのガス出口と出力を閉じた状態での圧力上昇
によるガスリークの値と前記校正値より絶対値としての
ガスのリーク値を求める手段と、 各ガス毎にガス圧力あるいは流量に対して信号強度の関
係を関数として処理するための手段とを設けたことを特
徴とするガスリーク検出システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115092U JPH0628688U (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ガスリーク検出システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7115092U JPH0628688U (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ガスリーク検出システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0628688U true JPH0628688U (ja) | 1994-04-15 |
Family
ID=13452296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7115092U Pending JPH0628688U (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ガスリーク検出システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0628688U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112432738A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 上海卫星装备研究所 | 一种用于常压多气体漏率测试的质谱分析检测装置及方法 |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP7115092U patent/JPH0628688U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112432738A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 上海卫星装备研究所 | 一种用于常压多气体漏率测试的质谱分析检测装置及方法 |
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