JPH0629111A - 抵抗体の抵抗値調整方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】抵抗値の安定性に優れ、電気的ストレスに弱く
なったり、定格電力に余計な制約を受けることのない抵
抗体の抵抗値調整方法を提供する。 【構成】抵抗膜４上面に形成したレーザ照射パッド６に
レーザ光線を照射して抵抗膜４を加熱し、それによっ
て、抵抗膜４の抵抗値を変化させて所定の値に調整す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板上面に抵抗膜を形
成してなる抵抗体の抵抗値調整方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図３は、基板１上面に形成した一対の端
子電極２，３にまたがって抵抗膜４を設けてなる抵抗体
を示している。この抵抗体は、基板１にアルミナ等のセ
ラミック材料が用いられ、端子電極２，３にＡｇ，Ａｇ
・Ｐｄ合金等の金属材料が用いられ、抵抗膜４に酸化ル
テニウム等のサーメット材料が用いられて構成されてい
る。

【０００３】従来、このような抵抗体においては、抵抗
膜４に、その側端からレーザ光線でカット溝５を形成
し、そのカット溝５の長さを調節することにより、その
抵抗値を調整していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
抵抗値の調整方法においては、カット溝５の周辺部にマ
イクロクラックが生じるため、抵抗値の安定性に欠ける
という問題があった。

【０００５】また、カット溝５の長さが長くなると、そ
の部分の抵抗膜４の幅が狭くなるため、その幅の狭い部
分における電流密度が増大して電気的ストレスに弱くな
るととともに、その幅の狭い部分によって定格電力が制
約されるという問題があった。

【０００６】したがって、本発明においては、抵抗値の
安定性に優れ、電気的ストレスに弱くなったり、定格電
力に余計な制約を受けることのない抵抗体の抵抗値調整
方法を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の抵抗値調整方法においては、抵抗膜
上面に抵抗膜を保護するレーザ照射パッドを形成し、該
レーザ照射パッドにレーザ光線を照射することにより該
レーザ照射パッドを介して前記抵抗膜を加熱し、その熱
により該抵抗膜の抵抗値を変化させて所定の値にするこ
とを特徴としている。

【０００８】

【作用】抵抗膜を形成している酸化ルテニウム等の抵抗
材料は、加熱温度に応じて抵抗値が変化し、元の値に戻
ることはないという熱特性を有している。一方、レーザ
照射パッドに照射するレーザ光線の照射量、照射時間、
照射面積等を変えることによって抵抗膜の加熱温度を変
えることができる。そのため、その加熱温度に応じて抵
抗膜の抵抗値を調整することができる。

【０００９】しかも、レーザ光線はレーザ照射パッドに
照射し、直接、抵抗膜に照射するものではないため、抵
抗膜を損傷することなく抵抗値を調整することができ
る。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳
細に説明する。

【００１１】まず、図１に示すように従来例と同様の抵
抗体は、基板１上面の一対の端子電極２，３にまたがっ
て抵抗膜４を設けたものである。

【００１２】ついで、図２に示すように図１に示す抵抗
体の抵抗膜４上面に複数個のレーザ照射パッド６を形成
する。このレーザ照射パッド６は、Ａｇペーストをスク
リーン印刷し乾燥したのちに焼成して形成したものであ
って、レーザ光線によって損傷を受けないように抵抗膜
４を保護する。

【００１３】ついで、レーザ照射パッド６に順次にレー
ザ光線を照射する。これによって、レーザ照射パッド６
を介して抵抗膜４が加熱される。このときの加熱温度
は、レーザ光線の照射量、照射時間、レーザ照射パッド
６の面積等を変えることにより適宜の値に調節すること
ができる。

【００１４】抵抗膜４が加熱されると、抵抗膜４を形成
している抵抗材料の熱特性に応じた抵抗値に変化する。
このようにして変化した抵抗膜４の抵抗値は、温度特性
に応じた若干の変動はあっても冷却されたのちに元の抵
抗値に戻ることはない。

【００１５】なお、抵抗材料の熱特性は、材料の種類に
よって加熱することにより抵抗値が高くなるものと、抵
抗値が低くなるものとが存在する。したがって、加熱す
ることにより抵抗値が高くなる抵抗材料を用いる場合
は、抵抗膜の初期抵抗値を低めに設定しておけばよく、
加熱することにより抵抗値が低くなる抵抗材料を用いる
場合は、抵抗膜の初期抵抗値を高めに設定しておけばよ
い。

【００１６】また、レーザ照射パッド６の材料は、Ａｇ
に限らず、Ｃｕ等でもよい。要は、レーザ光線によって
損傷を受けないように抵抗膜を保護するものであればよ
い。

【００１７】また、抵抗膜４上面に形成するレーザ照射
パッド６の個数は任意であり、導電率のきわめて低い材
料であれば、抵抗膜４の全面に形成してもよい。

【００１８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、抵抗膜上
面のレーザ照射パッドにレーザ光線を照射することによ
る熱によって抵抗膜の抵抗値を変えるもので、直接、抵
抗膜にレーザ光線を照射してカット溝を形成するもので
はないから、抵抗値の安定性に優れたものとなり、電気
的ストレスに弱くなったり、定格電力に余計な制約を受
けるようなことがなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る抵抗体の抵抗値調整方
法を説明するための抵抗体の平面図である。

【図２】図１に示す抵抗膜上面にレーザ照射パッドを形
成した抵抗体の平面図である。

【図３】従来の抵抗体の抵抗値調整方法を説明するため
の抵抗体の平面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２，３ 端子電極 ４ 導体膜 ６ レーザ照射パッド

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上面に抵抗膜を形成してなる抵抗体
   の抵抗値調整方法であって、 抵抗膜上面に抵抗膜を保護するレーザ照射パッドを形成
   し、該レーザ照射パッドにレーザ光線を照射することに
   より該レーザ照射パッドを介して前記抵抗膜を加熱し、
   その熱により該抵抗膜の抵抗値を変化させて所定の値に
   することを特徴とする抵抗体の抵抗値調整方法。