JPH10162714A - チップヒューズ素子 - Google Patents
チップヒューズ素子Info
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- JPH10162714A JPH10162714A JP31810096A JP31810096A JPH10162714A JP H10162714 A JPH10162714 A JP H10162714A JP 31810096 A JP31810096 A JP 31810096A JP 31810096 A JP31810096 A JP 31810096A JP H10162714 A JPH10162714 A JP H10162714A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 異常電流に対しては安定的に溶断動作すると
ともに、同時に、突入電流に対して感度を低下させて、
突入電流で溶断することがなく、しかも、製造方法が簡
略し、小型・低背化が可能なチップヒューズ素子を提供
するものである。 【解決手段】異常電流の入力によって発熱する発熱導体
膜3と、該発熱導体膜3の融点よりも低い融点の金属材
料から成り、且つ該発熱導体膜3の発熱によって溶断す
る溶断導体膜4とが直列接続するように、端子電極5、
5間に被着配置されたチップヒューズ素子である。
ともに、同時に、突入電流に対して感度を低下させて、
突入電流で溶断することがなく、しかも、製造方法が簡
略し、小型・低背化が可能なチップヒューズ素子を提供
するものである。 【解決手段】異常電流の入力によって発熱する発熱導体
膜3と、該発熱導体膜3の融点よりも低い融点の金属材
料から成り、且つ該発熱導体膜3の発熱によって溶断す
る溶断導体膜4とが直列接続するように、端子電極5、
5間に被着配置されたチップヒューズ素子である。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、電源投入時など、
瞬時に発生する大電流(以下、突入電流という)に対し
ては溶断しにくく、1/10〜1秒程度持続する過電流
(以下、異常電流という)に対して安定的に溶断するチ
ップヒューズの構造に関するものである。
瞬時に発生する大電流(以下、突入電流という)に対し
ては溶断しにくく、1/10〜1秒程度持続する過電流
(以下、異常電流という)に対して安定的に溶断するチ
ップヒューズの構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】チップ
ヒューズ素子は、絶縁基板の主面にガラスグレーズ層を
形成し、絶縁基板の長手方向の両端部に端子電極を形成
し、この両端子電極間にアルミニウムなどの金属材料か
らなるヒューズ導体薄膜を被着し、さらに、溶断導体膜
上に保護ガラス層を形成していた。
ヒューズ素子は、絶縁基板の主面にガラスグレーズ層を
形成し、絶縁基板の長手方向の両端部に端子電極を形成
し、この両端子電極間にアルミニウムなどの金属材料か
らなるヒューズ導体薄膜を被着し、さらに、溶断導体膜
上に保護ガラス層を形成していた。
【0003】チップヒューズ素子は、端子電極間に印加
される異常電流によって、ヒューズ導体薄膜が発熱す
る。この時、ガラスグレーズ層はヒューズ導体膜で発熱
された熱が過度に絶縁基板側に逃げないように、熱伝導
率が適宜設定されていた。そして、この発熱によって、
ヒューズ導体薄膜自体が溶断し、ヒューズとして作用す
る。さらに、ヒューズ導体の発熱によって軟化した保護
ガラス膜が充填され、溶断後の高い絶縁性を維持してい
た。
される異常電流によって、ヒューズ導体薄膜が発熱す
る。この時、ガラスグレーズ層はヒューズ導体膜で発熱
された熱が過度に絶縁基板側に逃げないように、熱伝導
率が適宜設定されていた。そして、この発熱によって、
ヒューズ導体薄膜自体が溶断し、ヒューズとして作用す
る。さらに、ヒューズ導体の発熱によって軟化した保護
ガラス膜が充填され、溶断後の高い絶縁性を維持してい
た。
【0004】しかし、このような端子電極間のヒューズ
導体薄膜が発熱及び溶断作用を行うチップヒューズ素子
においては、異常電流に対して正常に溶断動作し、且つ
電源投入時に発生する突入電流には溶断動作することが
ないようにすることは、ヒューズ導体薄膜の金属材料、
厚み、導体パターンなどの種々の条件を組み合わせて達
成しなくてはならず、その制御が非常に困難であった。
導体薄膜が発熱及び溶断作用を行うチップヒューズ素子
においては、異常電流に対して正常に溶断動作し、且つ
電源投入時に発生する突入電流には溶断動作することが
ないようにすることは、ヒューズ導体薄膜の金属材料、
厚み、導体パターンなどの種々の条件を組み合わせて達
成しなくてはならず、その制御が非常に困難であった。
【0005】そこで、本出願人は先に、2つの端子電極
間に、異常電流の入力によって発熱する発熱導体膜と、
該発熱導体膜の融点よりも低い融点の金属材料で形成さ
れ、前記発熱導体膜の発熱によって溶断する溶断導体線
とを直列接続させるとともに、前記溶断導体線を前記発
熱導体膜上に架設させたチップヒューズ素子を提案し
た。
間に、異常電流の入力によって発熱する発熱導体膜と、
該発熱導体膜の融点よりも低い融点の金属材料で形成さ
れ、前記発熱導体膜の発熱によって溶断する溶断導体線
とを直列接続させるとともに、前記溶断導体線を前記発
熱導体膜上に架設させたチップヒューズ素子を提案し
た。
【0006】この構造によれば、発熱作用が発生する導
体膜(発熱導体膜)と、溶断作用が発生する導体線(溶
断導体線)とを夫々別々に設けることによって、異常電
流、突入電流に対応する発熱特性を簡単に制御でき、ま
た、この発熱によって溶断する溶断導体の溶断特性も簡
単に制御することができるため、例えば、突入電流に対
しては溶断せず、異常電流に対しては溶断するチップヒ
ューズ素子を構成することが簡単にできる。
体膜(発熱導体膜)と、溶断作用が発生する導体線(溶
断導体線)とを夫々別々に設けることによって、異常電
流、突入電流に対応する発熱特性を簡単に制御でき、ま
た、この発熱によって溶断する溶断導体の溶断特性も簡
単に制御することができるため、例えば、突入電流に対
しては溶断せず、異常電流に対しては溶断するチップヒ
ューズ素子を構成することが簡単にできる。
【0007】しかし、発熱作用が発生する導体膜(発熱
導体膜)と、溶断作用が発生する導体線とを別々に形成
していたとしても、溶断導体は、例えばアルミニウムな
どのワイヤボンディング細線によって構成するために、
組立工程が複雑になってしまうという問題点があった。
導体膜)と、溶断作用が発生する導体線とを別々に形成
していたとしても、溶断導体は、例えばアルミニウムな
どのワイヤボンディング細線によって構成するために、
組立工程が複雑になってしまうという問題点があった。
【0008】本発明は上述の課題に鑑みて案出されたも
のであり、その目的は、異常電流に対しては安定的に溶
断動作し、突入電流に対して感度を低下し、突入電流で
溶断することがない、製造方法、構造が簡略化するチッ
プヒューズ素子を提供するものである。
のであり、その目的は、異常電流に対しては安定的に溶
断動作し、突入電流に対して感度を低下し、突入電流で
溶断することがない、製造方法、構造が簡略化するチッ
プヒューズ素子を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、絶縁基
板上に異常電流の入力によって発熱する発熱導体膜と、
該発熱導体膜の融点よりも低い融点の金属材料で形成さ
れ、前記発熱導体膜の発熱によって溶断する溶断導体膜
とを被着形成させるとともに、該発明導体膜及び溶断導
体膜を絶縁基板に設けた2つの端子電極間に直列接続さ
せたことを特徴とするチップヒューズ素子である。
板上に異常電流の入力によって発熱する発熱導体膜と、
該発熱導体膜の融点よりも低い融点の金属材料で形成さ
れ、前記発熱導体膜の発熱によって溶断する溶断導体膜
とを被着形成させるとともに、該発明導体膜及び溶断導
体膜を絶縁基板に設けた2つの端子電極間に直列接続さ
せたことを特徴とするチップヒューズ素子である。
【0010】
【作用】本発明のチップヒューズ素子では、発熱作用が
発生する導体膜(発熱導体膜)と、溶断作用が発生する
導体膜(溶断導体膜)とを直列接続されて構成されてい
る。そして、溶断導体膜の溶断は、発熱導体膜が発熱し
た溶断導体膜の融点以上の熱が、発熱導体膜から溶断導
体膜に、また、基板を伝わって溶断導体膜に達すること
によって溶断することになる。即ち、突入電流のように
非常に短い時間、例えば、0〜0.5μsec間に発生
する電流では、仮に発熱導体膜で発熱しても、その間で
溶断導体膜を溶断するにまで到らないものとなり、それ
以上の時間、例えば0.1〜1secを越えて流れる異
常電流に対しては、発熱導体膜から溶断導体膜へ熱が伝
わり、溶断導体膜を溶断させることができる。従って、
チップヒューズ素子の溶断導体膜での突入電流または異
常電流が発生したから発熱導体膜から伝わる熱による昇
温特性が、下に凸の曲線とすることができる。
発生する導体膜(発熱導体膜)と、溶断作用が発生する
導体膜(溶断導体膜)とを直列接続されて構成されてい
る。そして、溶断導体膜の溶断は、発熱導体膜が発熱し
た溶断導体膜の融点以上の熱が、発熱導体膜から溶断導
体膜に、また、基板を伝わって溶断導体膜に達すること
によって溶断することになる。即ち、突入電流のように
非常に短い時間、例えば、0〜0.5μsec間に発生
する電流では、仮に発熱導体膜で発熱しても、その間で
溶断導体膜を溶断するにまで到らないものとなり、それ
以上の時間、例えば0.1〜1secを越えて流れる異
常電流に対しては、発熱導体膜から溶断導体膜へ熱が伝
わり、溶断導体膜を溶断させることができる。従って、
チップヒューズ素子の溶断導体膜での突入電流または異
常電流が発生したから発熱導体膜から伝わる熱による昇
温特性が、下に凸の曲線とすることができる。
【0011】これによって、突入電流に対しては溶断せ
ず、異常電流に対しては溶断するチップヒューズ素子を
構成することが簡単にできる。
ず、異常電流に対しては溶断するチップヒューズ素子を
構成することが簡単にできる。
【0012】また、基板の表面には、発熱導体膜と溶断
導体膜が夫々被着されているため、従来のようにアルミ
ワイヤによるボンディング接合作業が不要となり、発熱
導体膜及び溶断導体膜が一連の薄膜技法を用いて形成す
ることができ、また、発熱導体膜及び溶断導体膜の被覆
が、通常のチップヒューズのように、直接被着できるた
め、製造方法、構造が非常に簡略化することになる。
導体膜が夫々被着されているため、従来のようにアルミ
ワイヤによるボンディング接合作業が不要となり、発熱
導体膜及び溶断導体膜が一連の薄膜技法を用いて形成す
ることができ、また、発熱導体膜及び溶断導体膜の被覆
が、通常のチップヒューズのように、直接被着できるた
め、製造方法、構造が非常に簡略化することになる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明のチップヒューズ素
子を図面に基づいて詳説する。
子を図面に基づいて詳説する。
【0014】図1は本発明の本発明の実施例を説明する
ためのチップヒューズの断面図であり、図2は端子電
極、保護用オーバコート層を省略した状態のチップヒュ
ーズの平面である。図中、1は絶縁基板、2はガラスグ
レーズ層、3は発熱体導体膜、4は溶断導体膜、5、5
は端子電極、6は保護用オーバーコート層である。
ためのチップヒューズの断面図であり、図2は端子電
極、保護用オーバコート層を省略した状態のチップヒュ
ーズの平面である。図中、1は絶縁基板、2はガラスグ
レーズ層、3は発熱体導体膜、4は溶断導体膜、5、5
は端子電極、6は保護用オーバーコート層である。
【0015】絶縁基板1は、アルミナセラミック基板や
ガラス−セラミック基板などが例示でき、概略直方体形
状を成している。この絶縁基板1の表面には、熱伝導率
を制御するためのガラスグレーズ層2が形成されてい
る。また、絶縁基板1の対向する両端部には、端子電極
5、5が形成されている。 端子電極5、5は、絶縁基
板1に焼きつけによって形成されたAg系下地金属導体
膜、該下地導体膜上に被着されたNiや半田などの表面
メッキ層が積層して構成されている。
ガラス−セラミック基板などが例示でき、概略直方体形
状を成している。この絶縁基板1の表面には、熱伝導率
を制御するためのガラスグレーズ層2が形成されてい
る。また、絶縁基板1の対向する両端部には、端子電極
5、5が形成されている。 端子電極5、5は、絶縁基
板1に焼きつけによって形成されたAg系下地金属導体
膜、該下地導体膜上に被着されたNiや半田などの表面
メッキ層が積層して構成されている。
【0016】絶縁基板1の表面で、2つの端子電極5、
5間には、発熱導体膜3及び溶断導体膜4とが被着され
て配置されている。具体的には、絶縁基板1の表面の溶
断導体膜4が被着形成され、その一端部は、電極パッド
3cを介して一方の端子電極5に接続している。また、
溶断導体膜4の他端は、例えば発熱導体膜3の一端部で
もある電極パッド3bが重畳して接続している。また、
発熱導体膜3の他端部である電極パッド3aは他方の端
子電極5に接続している。即ち、端子電極5、5間に、
電極パッド3a、溶断導体膜4、発熱導体膜3(電極パ
ッド3b、3c)が夫々直列的に接続した状態で配置さ
れている。
5間には、発熱導体膜3及び溶断導体膜4とが被着され
て配置されている。具体的には、絶縁基板1の表面の溶
断導体膜4が被着形成され、その一端部は、電極パッド
3cを介して一方の端子電極5に接続している。また、
溶断導体膜4の他端は、例えば発熱導体膜3の一端部で
もある電極パッド3bが重畳して接続している。また、
発熱導体膜3の他端部である電極パッド3aは他方の端
子電極5に接続している。即ち、端子電極5、5間に、
電極パッド3a、溶断導体膜4、発熱導体膜3(電極パ
ッド3b、3c)が夫々直列的に接続した状態で配置さ
れている。
【0017】ここで、発熱導体膜3は、例えば高融点金
属材料でありるタングステンまたはその合金、モリブデ
ンまたはその合金、Agまたはその合金などからなる。
属材料でありるタングステンまたはその合金、モリブデ
ンまたはその合金、Agまたはその合金などからなる。
【0018】溶断導体膜4は、その融点が発熱導体膜3
の融点(いずれも960℃以上)に比較して低い材料、
例えばアルミニウムなどからなっている。
の融点(いずれも960℃以上)に比較して低い材料、
例えばアルミニウムなどからなっている。
【0019】いずれの導体膜3、4は、抵抗加熱方法、
スパッタリング法などの薄膜技法を用いて形成される。
また、所定の形状は、マスクを用いたり、フォトリソグ
ラフィ技術でもって達成される。
スパッタリング法などの薄膜技法を用いて形成される。
また、所定の形状は、マスクを用いたり、フォトリソグ
ラフィ技術でもって達成される。
【0020】発熱導体膜3、溶断導体膜4の材料の選
択、その形状は、ガラスグレズ層2の熱伝導性を考慮し
て、ヒューズの定格に基づいて種々決定されるものであ
り、例えば、定格電流以下の突入電流では、発熱導体膜
3から発熱して、その熱が溶断導体膜4に伝わっても、
溶断導体膜4の融点以上に達することがなく、また、定
格電流においては、発熱導体膜3から発熱して、その熱
が溶断導体膜4に伝わって確実に溶断導体膜4が溶断す
るように形状を設定すればよい。
択、その形状は、ガラスグレズ層2の熱伝導性を考慮し
て、ヒューズの定格に基づいて種々決定されるものであ
り、例えば、定格電流以下の突入電流では、発熱導体膜
3から発熱して、その熱が溶断導体膜4に伝わっても、
溶断導体膜4の融点以上に達することがなく、また、定
格電流においては、発熱導体膜3から発熱して、その熱
が溶断導体膜4に伝わって確実に溶断導体膜4が溶断す
るように形状を設定すればよい。
【0021】この発熱導体膜3、溶断導体膜4は、保護
用オーバーコート層6によって被覆されている。保護用
オーバコート層6は、例えば低融点のガラス層とその表
面を覆う耐湿性樹脂層の積層構造となっている。低融点
ガラス層は、発熱導体膜3の発熱作用により軟化し、溶
断導体膜4が溶断した際、その溶断部分にガラス成分が
充填され、溶断後に高い絶縁性を確保するものである。
用オーバーコート層6によって被覆されている。保護用
オーバコート層6は、例えば低融点のガラス層とその表
面を覆う耐湿性樹脂層の積層構造となっている。低融点
ガラス層は、発熱導体膜3の発熱作用により軟化し、溶
断導体膜4が溶断した際、その溶断部分にガラス成分が
充填され、溶断後に高い絶縁性を確保するものである。
【0022】以上の構成によれば、2つの端子電極5、
5間に正常電流が流れるに当たって、発熱導体膜3、溶
断導体膜4を介して、その電流の流れを許容する。
5間に正常電流が流れるに当たって、発熱導体膜3、溶
断導体膜4を介して、その電流の流れを許容する。
【0023】また、2つの端子電極5、5間に、電源投
入時に発生する突入電流が流れた時には、発熱導体膜3
での発生時間が例えば0.5μsecと非常に短いた
め、この熱が溶断導体膜4側に伝わったとしても、溶断
導体膜4で溶断発生しえる程度にまで昇温することがな
いため、その電流の流れを許容する。
入時に発生する突入電流が流れた時には、発熱導体膜3
での発生時間が例えば0.5μsecと非常に短いた
め、この熱が溶断導体膜4側に伝わったとしても、溶断
導体膜4で溶断発生しえる程度にまで昇温することがな
いため、その電流の流れを許容する。
【0024】さらに、0.1〜1.0秒程度持続する異
常電流が流れた時には、発熱導体膜3で発熱し、その熱
が溶断導体膜4側に直接伝わり、またガラスグレーズ層
2を介して伝わり、溶断導体膜4の融点以上の温度とな
り、溶断導体膜4で溶断し、その電流の流れが遮断され
ることになる。
常電流が流れた時には、発熱導体膜3で発熱し、その熱
が溶断導体膜4側に直接伝わり、またガラスグレーズ層
2を介して伝わり、溶断導体膜4の融点以上の温度とな
り、溶断導体膜4で溶断し、その電流の流れが遮断され
ることになる。
【0025】
【実施例】本発明者は、上述の構造のチップヒューズ素
子の効果を有限要素法に基づいてその効果を確認すべ
く、実験を行った。
子の効果を有限要素法に基づいてその効果を確認すべ
く、実験を行った。
【0026】まず、チップヒューズ素子の構造は、幅1.
25mm、長さ2.0mm 、厚さ0.49mmのアルミナセラミックか
ら成る基板1(熱伝導率16W/m ・ K 、比熱0.8J/g・ k 、
密度3.6g/cm3)の表面に、幅1.0mm 、長さ1.3mm 、厚さ
0.013mm のグレーズガラス層2(熱伝導率0.5W/m・ K 、
比熱1.2J/g・ k 、密度4.0g/cm3)を形成し、さらにその
表面に、厚さ10μm のタングステンメタライズからなる
発熱導体膜3を被着形成した。具体的には、基板1の長
手方向の両端と中央の3カ所に、Agなどからなる長手
方向が0.4mm 、幅方向が0.6mm の概略矩形状の電極パッ
ドを形成しておき、中央のパッドと一方のパッドとの間
に幅0.2mm の形状とした。その後、中央のハッドと他方
のパッドとの間に、幅0.2mm 、長さ0.6mm 、厚さ2.7 μ
m のアルミニウムからなる溶断導体膜4をを蒸着形成す
る。これにより、発熱導体膜3と溶断導体膜4とはパッ
ドを介して直列的に接続されることになる。なお、基板
1の表面の両端部のパッドは、基板1の両端部に形成す
る端子電極5、5となる。
25mm、長さ2.0mm 、厚さ0.49mmのアルミナセラミックか
ら成る基板1(熱伝導率16W/m ・ K 、比熱0.8J/g・ k 、
密度3.6g/cm3)の表面に、幅1.0mm 、長さ1.3mm 、厚さ
0.013mm のグレーズガラス層2(熱伝導率0.5W/m・ K 、
比熱1.2J/g・ k 、密度4.0g/cm3)を形成し、さらにその
表面に、厚さ10μm のタングステンメタライズからなる
発熱導体膜3を被着形成した。具体的には、基板1の長
手方向の両端と中央の3カ所に、Agなどからなる長手
方向が0.4mm 、幅方向が0.6mm の概略矩形状の電極パッ
ドを形成しておき、中央のパッドと一方のパッドとの間
に幅0.2mm の形状とした。その後、中央のハッドと他方
のパッドとの間に、幅0.2mm 、長さ0.6mm 、厚さ2.7 μ
m のアルミニウムからなる溶断導体膜4をを蒸着形成す
る。これにより、発熱導体膜3と溶断導体膜4とはパッ
ドを介して直列的に接続されることになる。なお、基板
1の表面の両端部のパッドは、基板1の両端部に形成す
る端子電極5、5となる。
【0027】その後、発熱導体膜3、溶断導体膜4上
に、厚さ10μm の低融点のガラスから成る保護オーバー
コート層6を形成する。最後に、基板1の長手方向の両
端部に、両端のパッドに接続するように銀を主成分とす
る端面電極5、5を形成した。
に、厚さ10μm の低融点のガラスから成る保護オーバー
コート層6を形成する。最後に、基板1の長手方向の両
端部に、両端のパッドに接続するように銀を主成分とす
る端面電極5、5を形成した。
【0028】上述の構造のチップヒューズ素子の端子電
極5、5間に、電流発生源を用いて、電流値とその持続
時間を0.1秒から2秒まで変えながら、溶断導体膜4
での溶断が発生する条件を求めた。その結果、持続時間
が2秒の場合では2Aで溶断が発生したのに対し、0.
1秒では10Aでも溶断は発生しなかった。
極5、5間に、電流発生源を用いて、電流値とその持続
時間を0.1秒から2秒まで変えながら、溶断導体膜4
での溶断が発生する条件を求めた。その結果、持続時間
が2秒の場合では2Aで溶断が発生したのに対し、0.
1秒では10Aでも溶断は発生しなかった。
【0029】上述の理由は、有限要素法を用いて非定常
熱伝導解析で明らかとなる。尚、解析にあったて、電流
の計算値は2Aとした。
熱伝導解析で明らかとなる。尚、解析にあったて、電流
の計算値は2Aとした。
【0030】その結果、図3に示すように、アルミニウ
ムから成る溶断導体膜4の昇温曲線は、下に凸の曲線を
描くことが理解できる。通常の発熱作用及び溶断作用を
兼ねるヒューズ導体膜を用いた従来のチップヒューズで
は、昇温曲線は、急激に上昇する上に凸の曲線を描き、
突入電流、異常電流に係わらず突発的な大電流が加わっ
た場合には初期に急激に温度が上昇し、溶断が発生する
危険性がある。しかし、上述の構造のように、仮に発熱
導体膜3側で急激に発熱が発生したとしても、熱の伝達
に要する時間などから、溶断導体膜4側では、初期の温
度上昇が緩やかとなり、初期に、瞬時に溶断する可能性
は低いということになる。
ムから成る溶断導体膜4の昇温曲線は、下に凸の曲線を
描くことが理解できる。通常の発熱作用及び溶断作用を
兼ねるヒューズ導体膜を用いた従来のチップヒューズで
は、昇温曲線は、急激に上昇する上に凸の曲線を描き、
突入電流、異常電流に係わらず突発的な大電流が加わっ
た場合には初期に急激に温度が上昇し、溶断が発生する
危険性がある。しかし、上述の構造のように、仮に発熱
導体膜3側で急激に発熱が発生したとしても、熱の伝達
に要する時間などから、溶断導体膜4側では、初期の温
度上昇が緩やかとなり、初期に、瞬時に溶断する可能性
は低いということになる。
【0031】このように、発熱体導体膜3と溶断導体膜
4との間にある距離を置いて配置することにより、電源
投入時などの突入電流に対しては溶断しにくく、且つ1
/10〜1秒程度持続する異常電流に対して安定的に溶
断するチップヒューズとなる。
4との間にある距離を置いて配置することにより、電源
投入時などの突入電流に対しては溶断しにくく、且つ1
/10〜1秒程度持続する異常電流に対して安定的に溶
断するチップヒューズとなる。
【0032】また、構造的に、発熱作用を行う発熱手段
と、溶断作用を行う溶断手段が、夫々絶縁基板1のガラ
スグレーズ層2上に、何れも薄膜技法を用いて発熱導体
膜3及び溶断導体膜4として直接被着形成されている。
このため、発熱導体膜3から溶断導体膜4に伝わる熱の
伝導率の制御が、ガラスグレーズ層の材料、厚みによっ
て制御できるため、チップピューズの定格に合致するチ
ッフヒューズを簡単に達成できる。
と、溶断作用を行う溶断手段が、夫々絶縁基板1のガラ
スグレーズ層2上に、何れも薄膜技法を用いて発熱導体
膜3及び溶断導体膜4として直接被着形成されている。
このため、発熱導体膜3から溶断導体膜4に伝わる熱の
伝導率の制御が、ガラスグレーズ層の材料、厚みによっ
て制御できるため、チップピューズの定格に合致するチ
ッフヒューズを簡単に達成できる。
【0033】また、これらの発熱導体膜3及び溶断導体
膜4を被覆保護するための低融点ガラス層が、一括的
に、且つ既知の成膜技術を用いて簡単に形成できるた
め、小型、低背で且つ製造方法が簡略化できる。また、
特性的には、溶断導体膜4の溶断によって形成される溶
断溝部分に低融点ガラス成分が充填されることになるた
め、溶断後、安定した絶縁特性が得られ、スパークなど
が発生することがなく、さらに、例えば溶断導体膜4の
アルミニウムの酸化などの変質が少なく、安定した特性
を長期に維持できる実用性の高いチップヒューズ素子と
なる。
膜4を被覆保護するための低融点ガラス層が、一括的
に、且つ既知の成膜技術を用いて簡単に形成できるた
め、小型、低背で且つ製造方法が簡略化できる。また、
特性的には、溶断導体膜4の溶断によって形成される溶
断溝部分に低融点ガラス成分が充填されることになるた
め、溶断後、安定した絶縁特性が得られ、スパークなど
が発生することがなく、さらに、例えば溶断導体膜4の
アルミニウムの酸化などの変質が少なく、安定した特性
を長期に維持できる実用性の高いチップヒューズ素子と
なる。
【0034】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、電源投
入時の突入電流に対して、感度が鈍く、また、所定時間
以上持続する異常電流に対して、安定的に遮断し得るチ
ップヒューズ素子となり、しかも、溶断導体膜の昇温制
御が比較的容易に行え、小型低背で、特性が安定した実
用性の高いチップヒューズ素子となる。
入時の突入電流に対して、感度が鈍く、また、所定時間
以上持続する異常電流に対して、安定的に遮断し得るチ
ップヒューズ素子となり、しかも、溶断導体膜の昇温制
御が比較的容易に行え、小型低背で、特性が安定した実
用性の高いチップヒューズ素子となる。
【図1】本発明のチップヒューズ素子の断面図である。
【図2】本発明のチップヒューズ素子の部分平面面図で
ある。
ある。
【図3】本発明の溶断導体膜の温度上昇特性を有限要素
法解析により求めた特性図である。
法解析により求めた特性図である。
1・・・セラミック基板 2・・・ガラスグレーズ層 3・・・発熱導体膜 4・・・溶断導体膜 5・・・端子電極 6・・・保護用オーバーコート層
Claims (1)
- 【請求項1】絶縁基板上に異常電流の入力によって発熱
する発熱導体膜と、該発熱導体膜の融点よりも低い融点
の金属材料で形成され、前記発熱導体膜の発熱によって
溶断する溶断導体膜とを被着形成させるとともに、該発
明導体膜及び溶断導体膜を絶縁基板に設けた2つの端子
電極間に直列接続させたことを特徴とするチップヒュー
ズ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31810096A JPH10162714A (ja) | 1996-11-28 | 1996-11-28 | チップヒューズ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31810096A JPH10162714A (ja) | 1996-11-28 | 1996-11-28 | チップヒューズ素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10162714A true JPH10162714A (ja) | 1998-06-19 |
Family
ID=18095496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31810096A Pending JPH10162714A (ja) | 1996-11-28 | 1996-11-28 | チップヒューズ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10162714A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7286037B2 (en) * | 2002-12-27 | 2007-10-23 | Sony Corporation | Protective element |
| JP2009193927A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Kamaya Denki Kk | チップヒューズ及びその製造方法 |
| WO2011126091A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2011-10-13 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 保護素子、バッテリ制御装置、及びバッテリパック |
-
1996
- 1996-11-28 JP JP31810096A patent/JPH10162714A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7286037B2 (en) * | 2002-12-27 | 2007-10-23 | Sony Corporation | Protective element |
| JP2009193927A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Kamaya Denki Kk | チップヒューズ及びその製造方法 |
| WO2011126091A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2011-10-13 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 保護素子、バッテリ制御装置、及びバッテリパック |
| JP2011222264A (ja) * | 2010-04-08 | 2011-11-04 | Sony Chemical & Information Device Corp | 保護素子、バッテリ制御装置、及びバッテリパック |
| US9184609B2 (en) | 2010-04-08 | 2015-11-10 | Dexerials Corporation | Overcurrent and overvoltage protecting fuse for battery pack with electrodes on either side of an insulated substrate connected by through-holes |
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