JPH0629302B2 - ポリスチレンの製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）の製造法に
関する。

＜従来の技術＞ 近年，各種の合成樹脂は家電機器用途，自動車等の車輌
用途，その他多くの分野に多量使用されており，それぞ
れの用途に応じて，機械的物性や熱的性質，更には成型
品の表面光沢等の外観特性等，様々な特性の向上が強く
求められている。

特にＨＩＰＳの場合には，成型品の耐衝撃強度が高く，
且つ表面光沢の高いことが求められ，又，成型時の操作
性の観点から，引張強度や最大伸びが大きく，且つ押出
し流れ性の良好なることが求められている。

一般に，ポリスチレンの耐衝撃強度の改良のために，ブ
タジエン系ゴムの存在下にスチレンモノマーあるいはス
チレンと共重合可能な他のモノマーとの混合物をグラフ
ト重合して，衝撃強度の向上した樹脂を得る方法が開発
されており，工業的にも実施されている。

ところが，この場合にブタジエン系ゴムとして通常市販
されている高シス含量を有するポリブタジエン（いわゆ
る高Cis−BR）を使用したのでは，耐衝撃強度の改良効
果が不十分であるばかりか，場合によりＨＩＰＳに着色
を来したり，あるいはゲル成分の混入により却って衝撃
強度が低下する等の問題があった。一方，リチウム系重
合開始剤により合成・市販されているトランス含量の比
較的高いポリブタジエン（いわゆる低Cis−BR）を使用
するとゲル含量か比較的少なく，又，衝撃強度もかなり
改良されるものの，この場合にも，より一層の衝撃強度
の改良を図るにはポリブタジエンの使用量を増加させる
か，或いはポリブタジエンの平均分子量を増大させる必
要があり，この結果，ＨＩＰＳの光沢が悪化したり，表
面の平滑化が低下して，いずれも衝撃強度と外観物性と
を同時に改良するには至らなかった。

最近，リチウム系重合開始剤による重合処方，いわゆる
溶液アニオン重合法により得られるポリブタジエンゴム
中のビニル結合含量をやや高くすることにより，落錘衝
撃強度やアイゾット衝撃強度の向上したＨＩＰＳを製造
する方法が，特公昭53-44188号や特公昭58-4934号にお
いて提案されている。

又，特開昭59-24711号においては，錫−ブタジエン結合
を含有するブタジエン系ゴムを使用して，耐衝撃強度や
表面光沢の向上したＨＩＰＳを製造する方法が開示され
ている。

これらの製法により得られるＨＩＰＳは，従来のＨＩＰ
Ｓに比べて若干異なる物性値を示すものの，今日求めら
れている実用的な物性のバランスという観点からは，更
に改良が必要とされている。

＜発明が解決しようとする問題点＞ 本発明の目的は，かかる問題点を解決し，耐衝撃性と外
観特性とが同時に改良され，且つ，引張強度や伸びも大
きく，押出流れ性の良好なＨＩＰＳを製造する方法を提
供することである。

＜問題点を解決するための手段＞ 本発明者らは，ＨＩＰＳの合成時に使用するブタジエン
系ゴムの分子構造，特に分子量分布や分岐の形態，ミク
ロ結合様式と得られるＨＩＰＳの物性との関係について
鋭意検討した結果，ブタジエン系ゴムとして特定の構造
を有するブタジエン系重合体を使用することにより目的
性能を有する耐衝撃性ポリスチレンが得られることを見
出し，本発明に至った。

すなわち本発明は，ブタジエン系ゴムとスチレンをラジ
カル重合させて耐衝撃性ポリスチレンを製造する方法に
おいて，ブタジエン系ゴムとして，有機リチウム化合物
の存在下に1,3−ブタジエンもしくは1,3−ブタジエンと
スチレンを重合もしくは共重合させ，更に化学式， R_lSiX_4-l （Ｒ＝炭化水素基，Si＝硅素原子，Ｘ＝ハロゲン原子で
あり，ｌ＝０又は１である。）で定義される化合物を反
応させることにより得られる分岐状の高分子鎖を有する
ブタジエン系重合体であって，ブタジエン系重合体中の
結合ブタジエンを基準とする1,2−結合含量が８〜14モ
ル％，ブタジエン系重合体中の結合スチレン量が15重量
％以下，重合平均分子量と数平均分子量との比が1.08〜
1.60，分岐状の高分子鎖の含有率が50重量％以上，ゲル
・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）にて
測定した分岐状の高分子鎖の分子鎖長と非分岐状の高分
子鎖の分子鎖長との比が1.8以上3.2以下，100℃におけ
るムーニー粘度が35〜50,25℃におけるスチレン中５重
量％濃度の溶液粘度が25〜65cpsであるブタジエン系重
合体を用い，且つ，生成ポリスチレン中のブタジエン系
重合体含量が５〜15重量％となるように重合することを
特徴とする耐衝撃性ポリスチレンの製造法を提供するも
のである。

本発明においてブタジエン系ゴムとして使用されるブタ
ジエン系重合体は，有機リチウム化合物（重合開始剤）
の存在下に1,3−ブタジエンを単独で重合するか，1,3−
ブタジエンとスチレンを共重合させ，更にR_lSiX_4-lの化
学式を有する化合物を作用させてこの重合もしくは共重
合体の活性重合末端と反応させることにより得られる分
岐状の高分子鎖を有するブタジエン系重合体である。

ここで，重合開始剤として使用される有機リチウム化合
物としてはエチルリチウム，ｎ−ブチルリチウム，ｎ−
ヘキシルリチウム，ステアリルリチウム，アリルリチウ
ム，シクロヘキシルリチウム，フェニルリチウム，ベン
ジルリチウム，テトラメチレンジリチウム，ジフェニル
エチレンジリチウム，1,20−ジリチオエイコサン，1,4
−ジリチオシクロヘキサン等が例示されるが，特にアル
キルリチウムが好ましく，使用される。かかる有機リチ
ウム化合物は，通常1,3−ブタジエン100ｇあたり0.5〜
３ミリモル使用される。

本発明においては，ブタジエン系重合体中の結合ブタジ
エンを基準とする1,2−結合含量を制御するために，該
重合体の合成時にルイス塩基性化合物を共存させること
ができる。

ルイス塩基性化合物としてはジブチルエーテル，テトラ
ヒドロフラン，エチレングリコールジメチルエーテル，
エチレングリコールジブチルエーテル，ジエチレングリ
コールジメチルエーテル，ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル等のエーテル類，トリエチルアミン，トリブ
チルアミン，N,N，Ｎ′Ｎ′−テトラメチルエチレンジ
アミン等の第三級アミン類が使用され，これらは単独で
あっても２種以上の混合物であってもよい。その使用量
は個々の化合物によって変わるため必ずしも特定されな
いが，代表的なテトラヒドロフランを使用する場合には
有機リチウム化合物に対して0.2〜1.0モル倍である。

基本成分である1,3−ブタジエンは，好ましくはそれ単
独で用いられるが，場合によりスチレンと共に用いても
よい。しかし，スチレンを併用する場合であっても，そ
の使用量は得られたブタジエン系重合体中の結合スチレ
ン量が15重量％以下，好ましくは10重量％以下となるよ
うな範囲であることがＨＩＰＳ製品の表面光沢などの点
で好ましい。

かかるブタジエン系重合体において，ブタジエン系重合
体中の平均1,2−結合含量は結合ブタジエンを基準とし
て８〜14モル％，好ましくは10〜13モル％の範囲内であ
ることが必要である。1,2−結合含量がこの範囲よりも
低い場合には，ＨＩＰＳ製品の表面光沢が著しく悪くな
り，一方この範囲よりも高い場合には，ＨＩＰＳ製品の
表面に不規則な縞模様が発生したり，或いは，0.01mm〜
0.2mm程度の大きさの異質の粒子を生成するなどして，
好ましくない。

この1,2−結合含量の制御は，1,3−ブタジエンまたはこ
れとスチレンの混合物を（共）重合する際に，前記した
ルイス塩基性化合物の種類，量を調節することにより達
成することができる。

上記有機リチウム化合物および必要に応じてルイス塩基
性化合物の存在下で（共）重合させて得られた1,3−ブ
タジエン（共）重合体を，引き続いてR_lSiX_4-lの化学式
を有する化合物と反応させることにより，分岐状の高分
子鎖を有するブタジエン系重合体を得ることができる。
ここでＲは炭化水素基，Siは硅素原子，Ｘはハロゲン原
子であり，またｌは０又は１である。

R_lSiX_4-lの化学式を有する化合物としてはモノメチル三
塩化硅素，モノエチル三塩化硅素，モノフェニル三塩化
硅素，四塩化硅素，四臭化硅素，四沃化硅素等各種の化
合物の内，１種もしくは２種以上の混合物を使用するこ
とができる。特にモノメチル三塩化硅素，又は四塩化硅
素を使用することがブタジエン系重合体の合成時の安定
性，及びＨＩＰＳ製造時のブタジエン系重合体の安定性
の点で好ましい。

一方，いわゆる溶液アニオン重合の分野では，硅素以外
の金属原子を含むハロゲン化合物を分岐形成剤として使
用することも知られているが，例えば，四塩化錫等の錫
原子含有化合物を用いたブタジエン系ゴムを合成して，
ＨＩＰＳ原料に用いると，スチレンモノマーにゴムを溶
解した時点で一部の分岐の切断が発生し，然もその程度
がＨＩＰＳ重合処方の微妙な差異により変化して，ＨＩ
ＰＳの物性の制御に困難を来たす故，本発明の目的に照
らして好ましくない。

本発明に使用するブタジエン系重合体の合成において，
R_lSiX_4-lの化学式を有する化合物の添加時期は，該ブタ
ジエン系重合体中に結合されるべきブタジエン単量体，
又は場合によりスチレン単量体との混合物の量の75％乃
至95％の重合が進行した時点が好ましく選択される。

又，化合物R_lSiX_4-lの添加量は，ブタジエン系重合体の
活性生長末端１ｇ当量あたり0.50乃至0.90ｇ当量とする
ことが望ましい。このような添加時期と添加量との規定
は，ブタジエン系重合体の分子量分布と分岐の形態とを
制御するためのものである。即ち，ブタジエン単量体の
重合，又は場合によりスチレン単量体との共重合を開始
し，重合反応が75％乃至95％進行した時点で化合物R_lSi
X_4-lを添加して，いわゆるカップリング反応を起こさせ
て，ｌ＝0,1に応じて４倍，３倍の分子量を有する星型
の分岐構造を有する高分子鎖を形成せしめ，然る後にカ
ップリング反応に関与しない重合生長末端と残余単量体
との重合反応を継続して，実質的に重合反応を完結せし
めるものである。

このようにして合成されたブタジエン系重合体中の星型
分岐状の高分子鎖の分子量は，非分岐状高分子鎖の分子
量の２倍乃至3.7倍程度であり，その結果として，GPCに
て測定される光学的分子鎖長の比は1.8乃至3.2の範囲に
入るものとなる。光学的分子鎖長の比がこの範囲よりも
小さい値になると，ＨＩＰＳ製品の耐衝撃強度が低下
し，一方この分子鎖長の比がこの範囲よりも大きい値と
なると，ＨＩＰＳ製品の破断時の伸びが小さくなり，い
ずれも本発明の目的に照らして好ましくない。この値
は，2.3以上3.0以下であることが特に好ましい。

本発明において使用されるブタジエン系重合体は，1,3
−ブタジエン（共重合体）の活性重合末端に対して，R_l
SiX_4-lの化学式を有する化合物を作用させて得られる分
岐状の高分子鎖を50重量％以上，特に好ましくは60重量
％以上含有することを特徴とする。この含量率が50重量
％以上であれば，耐衝撃強度や外観物性上好ましいＨＩ
ＰＳが得られるのみならず，ＨＩＰＳの製造時に，良好
な操作性が得られる。これに対して含有率が50重量％未
満である場合には，ブタジエン系重合体をスチレン等の
モノマーと混合してＨＩＰＳ樹脂を製造する際の重合系
の粘度が高くなり，又，樹脂の機械的物性の安定性，再
現性が低下する等不都合な事態を発生する。

この分岐状の高分子鎖の含有率は，前述の如く有機リチ
ウム化合物とR_lSiX_4-l型の化合物との量比を調節するこ
とによって制御でき，本発明ではR_lSiX_4-l型化合物は有
機リチウム化合物に対して0.5当量倍以上0.9当量倍以下
の割合で用いる方法にて合成されたブタジエン系重合体
が用いられる。

本発明で使用されるブタジエン系重合体は上記の如く製
造され，且つ，種々の制限を有するものであるが，更
に，100℃におけるムーニー粘度が35〜50であり，且
つ，25℃におけるスチレン中５重量％濃度の溶液粘度が
25〜65cpsであることが必要である。

粘度がこれらの範囲よりも低い，すなわち分子量が低い
場合にはＨＩＰＳの衝撃強度が低いか，或いはＨＩＰＳ
の物性の安定性・再現性が悪化したり，極端な場合に
は，ＨＩＰＳの特徴であるポリスチレン相とゴム相と
の，いわゆるサラミ型の層分離構造を形成し得ず，成型
品表面に凹凸の激しい，いわゆるフィッシュアイを発生
したりするなど，本発明の目的に照らして不適当な樹脂
が得られる結果となる。

一方，これらの範囲を超えてすなわち分子量が高い場合
にはＨＩＰＳの光沢等外観物性低下するか，あるいはＨ
ＩＰＳの合成時の装置内攪拌混合が困難となり，ＨＩＰ
Ｓ製品の品質の均質性が保たれなくなる。

又，本発明において使用されるブタジエン系重合体は，
その重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/
Mn)の値が概ね1.08〜1.60，好ましくは1.10〜1.40の範
囲入るものである。(Mw/Mn)の数値は，前述のR_l SiX_4-l
型化合物の添加量，及び添加時期により制御される。(M
w/Mn)を上述の範囲より低く制御することは，実用的に
は困難であり，一方，上述範囲を超える場合には，ＨＩ
ＰＳ製品の光沢が低下して，本発明の目的に適さない。

本発明は，かかるブタジエン系重合体とスチレンとをラ
ジカル重合させることにより，ＨＩＰＳを製造するもの
であるが，両者の反応割合は得られたＨＩＰＳ中のブタ
ジエン系重合体含量が５〜15重量％となるようにするこ
とが好ましい。ブタジエン系重合体の含有量が５重量％
未満であるとアイゾット衝撃強度が低く，一方，含有量
が15重量％を超えると表面光沢が低下する。

重合方法としては従来より公知の塊状重合方式，或いは
塊状・懸濁重合併用方式のいずれかが選ばれる。たとえ
ば，塊状重合方式による場合にはブタジエン系重合体を
スチレン・モノマーに溶解し，無触媒或いは触媒を添加
して加熱することにより所定量のスチレンが反応するま
で重合を実施する。この場合に，重合転化率の上昇と共
に重合系の粘度が急激に上昇し，攪拌が困難となった
り，反応速度の急激な増大により反応制御不能となる事
態を避けるために少量のトルエン，エチルベンゼンなど
を希釈剤として添加することができ，これらの希釈剤
は，重合終了後に未反応のスチレンモノマーと共に加熱
或いは減圧条件下に除去される。又，塊状・懸濁重合併
用方式による場合には，ブタジエン系重合体をスチレン
・モノマーに溶解し，無触媒又は触媒存在下に加熱して
スチレン・モノマーの一部を重合させ，この部分的に重
合した重合混合物を懸濁安定剤或いは界面活性剤の存在
下に水中に移し，攪拌・分散させたのち，スチレン・モ
ノマーの重合を懸濁重合方式で完結させ，得られた水性
スラリー液からポリマー粒子を取出して洗浄，乾燥する
ことにより行われる。

又，本発明の製造方法においては，ブタジエン系重合体
とともにＨＩＰＳを形成するスチレン・モノマーの一部
をスチレン以外のスチレンとラジカル共重合可能なモノ
マーで置換することもできる。かかるスチレン以外のモ
ノマーとしては，α−メチルスチレン，ｐ−メチルスチ
レン，Ｐ−tert−ブチルスチレン，ｍ−メチルスチレ
ン，ビニルナフタレン等のモノビニル芳香族炭化水素，
或いは，ブタジエン，イソプレン等の共役ジエン類，ま
たはアクリロニトリル，メタクリル酸メチル等から選ば
れた１種または２種以上のモノマーが例示され，これら
はスチレンを含む全モノマー中の50重量％以下の範囲で
用いられる。

本発明の製造方法によって製造されたＨＩＰＳは，射出
成形や押出成形等の加工法により，種々の製品として実
用に供されるが，加工に際して，本発明の目的を損なわ
ぬ範囲で酸化防止剤，紫外線吸収剤，滑剤，離型剤，充
填剤等を混合することもできる。

このようにして得られる本発明の製法によるＨＩＰＳは
従来のいわゆる耐衝撃性ポリスチレンに比べてアイゾッ
ト衝撃強度と表面光沢とのバランスが改良・向上したも
のであり，又，抗張力が大きく，押出流れ性も向上した
ものである。車輌用途や家電器具用途等に使用される場
合に実用的に要求される，これら物性の水準を好ましく
満足するものである故に，有用性に富むものである。特
にこれらの諸特性は，従来公知の方法によっては，同時
に改善することが困難とされていたものであり，本発明
の製造方法は，当業界においてＨＩＰＳ製造技術上の著
しい進歩をもたらすものである。

＜実施例＞ 以下に実施例により，本発明を説明する。

実施例１〜７および比較例１〜６ 内容積10の攪拌機・ジャケット付きオートクレーブを
乾燥した窒素ガスにより充分内部置換したのち，乾燥シ
クロヘキサン７，1,3−ブタジエン（変量）と，場合
によってテトラヒドロフラン（変量）を添加して，内温
を55℃とした。次にｎ−ブチルリチウム（変量）を添加
して重合を開始し，約150分の反応の後，四塩化硅素，
又はモノメチル三塩化硅素（変量）を添加して30分間反
応させた。然る後に，更に1,3−ブタジエン（変量）を
添加して約60分間の反応を実施した。

得られたポリマー溶液に安定剤として2,6−ジ−tert−
ブチル−４−メチルフェノール（住友化学工業製スミラ
イザー ＢＨＴ）を0.5重量phr加え，溶媒を加熱留去し
てポリブタジエンを得た。

これらのポリブタジエン8.5重量部をスチレン・モノマ
ー91.5重量部に加えて室温で攪拌・溶解した後，tert−
ドデシルメルカプタン0.08重量部を添加して，混合溶液
を無触媒下に120℃で４時間攪拌しつつ加熱して，スチ
レンモノマーの約３０％が重合した溶液を得た。

この溶液に該溶液１００重量部当り，水を150重量部，
水酸化アルミニウム0.2重量部，ドデシルベンゼンスル
ホン酸ソーダ0.02重量部，ベンゾイルパーオキサイド0.
3重量部，ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド0.05重量部を
加え，80℃で４時間，100℃で３時間，130℃で５時間重
合を行った。得られたポリマースラリー液からポリマー
を別して水洗・乾燥した後，押出機及び圧縮成形機を
用いてプレスシートを作成して物性評価用に供した。

物性評価は，以下に記載する方法で実施した。

アイゾット衝撃強度 ＪＩＳ Ｋ−6871に従って実施した。

表面光沢 ＪＩＳ Ｚ−8741に従って実施した。

引張強さ及び伸び ＪＩＳ Ｋ−6871に従って実施した。

メルトフローインデックス ＪＩＳ Ｋ−6870に従って実施した。

成型品表面状態 目視観察して，表面に不規則な縞模様や異質な粒子，フ
ィッシュアイなどが発見された試験片を「×」，発見さ
れないものを「○」と判定した。

なお，ポリブタジエンの構造解析は，以下に記載する方
法で実施した。

平均1,2−結合含量 赤外吸収スペクトル分光法によった。

ムーニー粘度 100℃に設定したムーニー粘度計を用いて１分間予熱。
更に４分後のトルク値を読み取った。（ＭＬ，１＋４，
100℃） Mw/Mn，分岐状の高分子鎖の含有率，及び分子鎖長比 東洋曹達製HLC-802URを使用，分配カラムとして10³，10
⁴，10⁶，10⁷のカラムを選択し，屈析計を検出器として
用いた。展開溶媒としテトラヒドロフラン(THF)を用い
て40℃で重合体の分子量分布(Mw/Mn)を測定した。ま
た，分岐状の高分子鎖と結合されていない高分子鎖のそ
れぞれの平均分子量に相当するピークの高さの相対比を
以って，それぞれの高分子鎖の重量比率として，分岐状
高分子鎖の含有率を算出した。そして，それぞれの高分
子鎖のピークの担持時間を，別に測定した標準ポリスチ
レンの担持時間と比較して光学的分子鎖長に換算した。

溶液粘度 25℃に設定して恒温曹中でＢ型粘度計を用いて，スチレ
ン・モノマー中のポリブタジエン濃度５重量％なる条件
にて測定した。

これらの結果を表１に示した。

比較例７および８ ２種類の市販のポリブタジエンＡ，Ｂを用いて，実施例
１と同様にＨＩＰＳを合成して，物性を測定した。

なお，ポリブタジエンＡの分子量分布は二つのピークを
持つ複峰型の分布であり，高分子量側のピークと低分子
量側のピークとに相当する光学的分子鎖長の比は3.4で
あったので，高分子量側のピークを四官能性の分岐状の
高分子鎖と見做して，その含有率を算出した。

これらの結果も表１に示した。

表１に見られるとおり，本発明の製法に従って製造され
たＨＩＰＳ（実施例１〜７）は，アイゾット衝撃強度及
び表面光沢の値が高く，又，抗張力やメルトフローイン
デックスも実用的に要求される水準を満足している上
に，破断時の最大伸びも特徴的に大きな値を示した。

これに反して，本発明の製法に拠らず，例えば，分岐状
の高分子鎖の含有率の低いポリブタジエンを使用した比
較例２や比較例５では，破断時の伸びが小さい値とな
り，又，アイゾット衝撃強度も低く，好ましくない。

又，本発明の方法に拠らず，溶液粘度の低いポリブタジ
エンを使用した比較例３，或いは光学的分子鎖長の比が
著しく小さいポリブタジエンを使用した比較例６におい
ても，アイゾット衝撃強度の値が小さく，逆に溶液粘度
の高いポリブタジエンを使用した比較例４や分子量分布
の広いポリブタジエンを使用した比較例８では，表面光
沢が低下していずれも好ましくない。比較例４ではメル
トフローインデックスも小さい値となっている。

更に，1,2結合含量が14mol％を超えるポリブタジエンを
使用した比較例１および７では，表面光沢として測定さ
れる値は高いものの，表面に異質の粒子や縞模様が見ら
れ（比較例７），フィッシュアイを発生して（比較例
１），いずれも好ましくない。

＜発明の効果＞ 以上説明したように，本発明によれば，耐衝撃性と外観
特性とが同時に改良され，且つ，引張強度や伸びも大き
く，押出流れ性の良好なＨＩＰＳを製造する方法を提供
することができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ブタジエン系ゴムとスチレンをラジカル重
   合させて耐衝撃性ポリスチレンを製造する方法におい
   て，ブタジエン系ゴムとして，有機リチウム化合物の存
   在下に1,3−ブタジエンもしくは1,3−ブタジエンとスチ
   レンを重合もしくは共重合させ，更に化学式， R_l SiX_4-l （Ｒ＝炭化水素基，Si＝硅素原子，Ｘ＝ハロゲン原子で
   あり，ｌ＝０又は１である。）で定義される化合物を反
   応させることにより得られる分岐状の高分子鎖を有する
   ブタジエン系重合体であって，該ブタジエン系重合体中
   の結合ブタジエンを基準とする1,2−結合含量が８〜14
   モル％，ブタジエン系重合体中の結合スチレン量が15重
   量％以下，重量平均分子量と数平均分子量との比が1.08
   〜1.60，分岐状の高分子鎖の含有率が50重量％以上，ゲ
   ル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）に
   て測定した分岐状の高分子鎖の分子鎖長と非分岐状の高
   分子鎖の分子鎖長との比が1.8以上3.2以下，100℃にお
   けるムーニー粘度が35〜50,25℃におけるスチレン中５
   重量％濃度の溶液粘度が25〜65cpsであるブタジエン系
   重合体を用い，且つ，生成ポリスチレン中のブタジエン
   系重合体含量が５〜15重量％となるように重合すること
   を特徴とする耐衝撃性ポリスチレンの製造法。
2. 【請求項２】化学式R_lSiX_4-lで定義される化合物が四塩
   化硅素又はモノメチル三塩化硅素のいずれかである特許
   請求の範囲第１項記載の耐衝撃性ポリスチレンの製造
   法。
3. 【請求項３】ブタジエン系重合体が，分岐状高分子鎖と
   非分岐状高分子鎖の分子鎖長との比が2.3以上3.0以下の
   ブタジエン系重合体である特許請求の範囲第１項もしく
   は第２項記載の耐衝撃性ポリスチレンの製造法。
4. 【請求項４】ブタジエン系重合体が，分岐状の高分子鎖
   の含有率が60重量％以上95重量％以下のブタジエン系重
   合体である特許請求の範囲第１項記載の耐衝撃性ポリス
   チレンの製造法。
5. 【請求項５】ブタジエン系重合体が，重量平均分子量と
   数平均分子量との比が1.10〜1.40のブタジエン系重合体
   である特許請求の範囲第１項記載の耐衝撃性ポリスチレ
   ンの製造法。