JPH0629340A - 樹脂封止型半導体装置用成形金型及びそれに用いた半導体チップの樹脂封止方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置用成形金型及びそれに用いた半導体チップの樹脂封止方法Info
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- JPH0629340A JPH0629340A JP4184854A JP18485492A JPH0629340A JP H0629340 A JPH0629340 A JP H0629340A JP 4184854 A JP4184854 A JP 4184854A JP 18485492 A JP18485492 A JP 18485492A JP H0629340 A JPH0629340 A JP H0629340A
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- chip
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】封止樹脂で形成されたパッケージにボイドや未
充填部分を発生させない成形金型及びそれを用いた樹脂
封止方法を提供する。 【構成】成形金型Mが上下金型5、6からなり、それら
のキャビティ5A、6Aの内面5a、6aと同一の平面
を形成する平端面に構成した可動ピン9が複数本各上下
金型5、6に、前記平面に対して垂直状態に可動するよ
うに設け、リードフレームに搭載したICチップ1をキ
ャビティ5A、6A内の所定の位置に成形金型Mで締結
した状態で前記各可動ピン9を引き出してICチップ1
の移動を規制しながら溶融した封止樹脂を注入し、その
注入が終わる頃に前記平端面がキャビティ5A、6Aの
内面5a、6aと同一の内面を形成する位置まで前記可
動ピン9を引き戻して、封止樹脂を硬化させる。
充填部分を発生させない成形金型及びそれを用いた樹脂
封止方法を提供する。 【構成】成形金型Mが上下金型5、6からなり、それら
のキャビティ5A、6Aの内面5a、6aと同一の平面
を形成する平端面に構成した可動ピン9が複数本各上下
金型5、6に、前記平面に対して垂直状態に可動するよ
うに設け、リードフレームに搭載したICチップ1をキ
ャビティ5A、6A内の所定の位置に成形金型Mで締結
した状態で前記各可動ピン9を引き出してICチップ1
の移動を規制しながら溶融した封止樹脂を注入し、その
注入が終わる頃に前記平端面がキャビティ5A、6Aの
内面5a、6aと同一の内面を形成する位置まで前記可
動ピン9を引き戻して、封止樹脂を硬化させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体チップをトラン
スファーモールド法により樹脂で封止する樹脂封止型半
導体装置(以下、単に「IC」と記す)用成形金型(以
下、単に「成形金型」と記す)及びこの成形金型を用い
て半導体チップを樹脂封止する樹脂封止方法に関するも
のである。
スファーモールド法により樹脂で封止する樹脂封止型半
導体装置(以下、単に「IC」と記す)用成形金型(以
下、単に「成形金型」と記す)及びこの成形金型を用い
て半導体チップを樹脂封止する樹脂封止方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来技術の成形金型を図6乃至図8を用
いて説明する。従来の成形金型は、通常、図6の縦断面
図に示したように、上金型5と下金型6とから構成され
ている。この成形金型は2つの上下金型5、6の間に挟
まれて設置されたICチップ1を所定形状の樹脂モール
ドICとして封止するための中空部であるキャビティ5
A、6Aと、樹脂の通路となるランナー部7から各キャ
ビティ5A、6Aへの注入口となるゲート部8とから構
成されている。
いて説明する。従来の成形金型は、通常、図6の縦断面
図に示したように、上金型5と下金型6とから構成され
ている。この成形金型は2つの上下金型5、6の間に挟
まれて設置されたICチップ1を所定形状の樹脂モール
ドICとして封止するための中空部であるキャビティ5
A、6Aと、樹脂の通路となるランナー部7から各キャ
ビティ5A、6Aへの注入口となるゲート部8とから構
成されている。
【0003】このような成形金型は、樹脂成形時、溶融
した封止樹脂がキャビティ5A、6Aの一側方から注入
されるため、ICチップ及びそれが搭載されるダイパッ
ド2が注入樹脂の圧力で設計上の位置から上下に動いた
り傾くことがある。
した封止樹脂がキャビティ5A、6Aの一側方から注入
されるため、ICチップ及びそれが搭載されるダイパッ
ド2が注入樹脂の圧力で設計上の位置から上下に動いた
り傾くことがある。
【0004】特に近年、ICチップ1の集積度が増大
し、ICチップ1の面積も増大して、従って、前記ダイ
パッド2も従来より大きくなってきている。その一方
で、パッケージのピン数は増えつつあり、外部リード間
ピッチも狭くなり、それに伴い、内部リードやダイパッ
ド2を吊っているサポートバーの幅も細く、かつ長くな
ってきている。このような構造になると、小さな樹脂圧
力でもICチップ1およびダイパッド2が、前記のよう
に上下動したり、傾いたりする。
し、ICチップ1の面積も増大して、従って、前記ダイ
パッド2も従来より大きくなってきている。その一方
で、パッケージのピン数は増えつつあり、外部リード間
ピッチも狭くなり、それに伴い、内部リードやダイパッ
ド2を吊っているサポートバーの幅も細く、かつ長くな
ってきている。このような構造になると、小さな樹脂圧
力でもICチップ1およびダイパッド2が、前記のよう
に上下動したり、傾いたりする。
【0005】また更に、近年、薄型化を目的として開発
が進められているフローティングチップ構造のICで
は、リードフレームにダイパッド2が存在しないため
に、このチップの上下動や傾きが、ダイパッド2を有す
るものと比較して、より頻繁に発生する。
が進められているフローティングチップ構造のICで
は、リードフレームにダイパッド2が存在しないため
に、このチップの上下動や傾きが、ダイパッド2を有す
るものと比較して、より頻繁に発生する。
【0006】このようなICチップ1およびそのダイパ
ッド2の上下動および傾きが激しい場合には、 1.ICチップ1の上、またはそのダイパッド2の下
(フローティングチップ構造の場合はICチップ1の
下)の、封止樹脂が封入される空間が狭くなるために溶
融樹脂の流動性が悪くなり、その注入した溶融樹脂の表
面に未充填やボイドが発生する 2.ICの縦断面構造のバランスがくずれ、内部構成材
料間の熱膨張係数の違いによってICパッケージに反り
を発生させる
ッド2の上下動および傾きが激しい場合には、 1.ICチップ1の上、またはそのダイパッド2の下
(フローティングチップ構造の場合はICチップ1の
下)の、封止樹脂が封入される空間が狭くなるために溶
融樹脂の流動性が悪くなり、その注入した溶融樹脂の表
面に未充填やボイドが発生する 2.ICの縦断面構造のバランスがくずれ、内部構成材
料間の熱膨張係数の違いによってICパッケージに反り
を発生させる
【0007】また更に、特に半導体チップ1が上方に上
がった場合、 3.ICチップ1とリードフレームとの間をボンディン
グしているワイヤ3が封止樹脂の表面に露出する 4.ICチップ1上のボンディング点の位置が上昇する
と、ワイヤ3が倒れて、ICチップ1のエッジ部に触
れ、ショート不良を起こす 5.ワイヤ3が引っ張られて断線する など、不具合の原因になる。
がった場合、 3.ICチップ1とリードフレームとの間をボンディン
グしているワイヤ3が封止樹脂の表面に露出する 4.ICチップ1上のボンディング点の位置が上昇する
と、ワイヤ3が倒れて、ICチップ1のエッジ部に触
れ、ショート不良を起こす 5.ワイヤ3が引っ張られて断線する など、不具合の原因になる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このような致命的な不
良を引き起こすICチップ1の上下動を抑えるため、特
開平4−7848に開示された事例では、フローティン
グチップ構造のIC用の樹脂封止金型において、上金型
及び下金型でICチップを挟んで固定するための突起物
を設けているが、この封止方法では図7に示したよう
に、ICパッケージ10の表面上に突起物の痕跡11が
残り、場合によっては、ICチップの表面までの樹脂の
厚さが薄くなったり、更にはICチップ表面が露出する
ようなことになる。
良を引き起こすICチップ1の上下動を抑えるため、特
開平4−7848に開示された事例では、フローティン
グチップ構造のIC用の樹脂封止金型において、上金型
及び下金型でICチップを挟んで固定するための突起物
を設けているが、この封止方法では図7に示したよう
に、ICパッケージ10の表面上に突起物の痕跡11が
残り、場合によっては、ICチップの表面までの樹脂の
厚さが薄くなったり、更にはICチップ表面が露出する
ようなことになる。
【0009】これらの現象は外観的な問題になるほか、
ICパッケージ10の機械的強度の低下、これらの部分
からの水分などの浸入によるICの信頼性の低下を招く
ことがある。また更に、前記痕跡部分から入射した外部
からの光、または薄くなった樹脂を透過してきた光の影
響で、ICの電気的特性、例えばメモリの場合、データ
保持電圧などの特性に悪影響を及ぼすことになる。
ICパッケージ10の機械的強度の低下、これらの部分
からの水分などの浸入によるICの信頼性の低下を招く
ことがある。また更に、前記痕跡部分から入射した外部
からの光、または薄くなった樹脂を透過してきた光の影
響で、ICの電気的特性、例えばメモリの場合、データ
保持電圧などの特性に悪影響を及ぼすことになる。
【0010】また、特開平3−9538に開示された実
施例でも、前記の例と同様に樹脂封止用金型に、ICチ
ップを搭載するダイパッドを挟んで固定するための可動
式の円錐状ピンを設け、注入した樹脂が硬化し、離型す
るときに、これらの可動ピンを主型面下にまで引き込め
るとしているが、図8に示したように、この場合にもI
Cパッケージ10の表面にこれらの可動ピンの痕跡が残
って、前記の実施例で説明したような不具合が起こり、
またこれらのピンの痕跡が残らないように樹脂封止中に
可動ピンを引き込めるタイミングなどを調整しても、可
動ピンの形状が円錐状であるため、主型面上の可動ピン
の収納部に樹脂が流れ込んで、図示のようにICパッケ
ージ10の表面にバリ12が残ることになる。
施例でも、前記の例と同様に樹脂封止用金型に、ICチ
ップを搭載するダイパッドを挟んで固定するための可動
式の円錐状ピンを設け、注入した樹脂が硬化し、離型す
るときに、これらの可動ピンを主型面下にまで引き込め
るとしているが、図8に示したように、この場合にもI
Cパッケージ10の表面にこれらの可動ピンの痕跡が残
って、前記の実施例で説明したような不具合が起こり、
またこれらのピンの痕跡が残らないように樹脂封止中に
可動ピンを引き込めるタイミングなどを調整しても、可
動ピンの形状が円錐状であるため、主型面上の可動ピン
の収納部に樹脂が流れ込んで、図示のようにICパッケ
ージ10の表面にバリ12が残ることになる。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上下金型で
構成された樹脂封止型半導体装置の成形金型において、
これら上下金型に形成し、封止樹脂が注入される内面が
平面なキャビティのそれぞれの主型面において、半導体
チップ及び又はダイパッドの移動を規制する複数の可動
ピンが設けられ、これらの可動ピンの前記半導体チップ
及び又は前記ダイパッドに近接する先端部が、これら可
動ピンが後退した状態の時に、前記キャビティの内面と
同一の平面を構成するように平面に形成した。
構成された樹脂封止型半導体装置の成形金型において、
これら上下金型に形成し、封止樹脂が注入される内面が
平面なキャビティのそれぞれの主型面において、半導体
チップ及び又はダイパッドの移動を規制する複数の可動
ピンが設けられ、これらの可動ピンの前記半導体チップ
及び又は前記ダイパッドに近接する先端部が、これら可
動ピンが後退した状態の時に、前記キャビティの内面と
同一の平面を構成するように平面に形成した。
【0012】そして、そのような成形金型を用い、その
成形金型のキャビティの所定の位置に半導体チップを搭
載したリードフレームを配置し、前記上下金型を締結
し、そして前記上下金型に設けた各可動ピンを前記半導
体チップの方に可動、近接させて、前記半導体チップの
移動を規制するようにした状態で、溶融した封止樹脂を
前記成形金型に注入し、この封止樹脂が前記半導体チッ
プを殆ど覆い尽くした、或いは全て覆い尽くした状態の
時に、前記各可動ピンを、それらの先端部の前記平面が
前記上下金型の内面の平面と同一の面を構成する位置ま
で引き戻し、前記封止樹脂が前記各可動ピンが存在した
位置の空間部を埋め尽くして硬化した後、前記上下金型
を開き、樹脂封止された前記半導体チップを離型して樹
脂封止型半導体装置を得るようにして、前記課題を解決
するようにした。
成形金型のキャビティの所定の位置に半導体チップを搭
載したリードフレームを配置し、前記上下金型を締結
し、そして前記上下金型に設けた各可動ピンを前記半導
体チップの方に可動、近接させて、前記半導体チップの
移動を規制するようにした状態で、溶融した封止樹脂を
前記成形金型に注入し、この封止樹脂が前記半導体チッ
プを殆ど覆い尽くした、或いは全て覆い尽くした状態の
時に、前記各可動ピンを、それらの先端部の前記平面が
前記上下金型の内面の平面と同一の面を構成する位置ま
で引き戻し、前記封止樹脂が前記各可動ピンが存在した
位置の空間部を埋め尽くして硬化した後、前記上下金型
を開き、樹脂封止された前記半導体チップを離型して樹
脂封止型半導体装置を得るようにして、前記課題を解決
するようにした。
【0013】
【作用】従って、成形金型のキャビティ内に存在するI
Cチップが、前記成形金型に注入された溶融した封止樹
脂の流れに速度差があって、前記ICチップが上下いず
れかの方に移動させられようとしても、前記複数の可動
ピンでその動きが規制されることになる。そして、封止
樹脂が硬化する前に前記構造の可動ピンを前記各キャビ
ティ内面と同一面に引き戻すので、硬化した封止樹脂に
は、可動ピンの極めて僅かな痕跡は残るが、従来技術に
見られたようなバリなどが発生することがない。
Cチップが、前記成形金型に注入された溶融した封止樹
脂の流れに速度差があって、前記ICチップが上下いず
れかの方に移動させられようとしても、前記複数の可動
ピンでその動きが規制されることになる。そして、封止
樹脂が硬化する前に前記構造の可動ピンを前記各キャビ
ティ内面と同一面に引き戻すので、硬化した封止樹脂に
は、可動ピンの極めて僅かな痕跡は残るが、従来技術に
見られたようなバリなどが発生することがない。
【0014】
【実施例】以下、この発明の樹脂封止型半導体装置用成
形金型の実施例を図1乃至図5を用いて説明する。図1
はこの発明の実施例である樹脂封止型半導体装置用成形
金型及びその成形金型でICチップを搭載したリードフ
レームを挟んだ状態を示した断面図であって、同図Aは
ダイパッドを有するリードフレームを示したものであ
り、同図Bはダイパッドがないリードフレームを示した
ものであり、図2は図1に示した状態で、この発明の成
形金型に溶融した封止樹脂を注入しているICの製造過
程を示した断面図であり、図3は図2に示した製造過程
から次の製造過程を示した断面図であり、図4は図3に
示した製造過程から次の製造過程を示した断面図であ
り、そして図5は図4に示した製造過程から、必要に応
じて用いて効果的な製造過程を示した断面図である。な
お、図6乃至図8に示した従来技術と同一の構成部分に
は同一の符号を付し、それらの詳細な説明を省略する。
形金型の実施例を図1乃至図5を用いて説明する。図1
はこの発明の実施例である樹脂封止型半導体装置用成形
金型及びその成形金型でICチップを搭載したリードフ
レームを挟んだ状態を示した断面図であって、同図Aは
ダイパッドを有するリードフレームを示したものであ
り、同図Bはダイパッドがないリードフレームを示した
ものであり、図2は図1に示した状態で、この発明の成
形金型に溶融した封止樹脂を注入しているICの製造過
程を示した断面図であり、図3は図2に示した製造過程
から次の製造過程を示した断面図であり、図4は図3に
示した製造過程から次の製造過程を示した断面図であ
り、そして図5は図4に示した製造過程から、必要に応
じて用いて効果的な製造過程を示した断面図である。な
お、図6乃至図8に示した従来技術と同一の構成部分に
は同一の符号を付し、それらの詳細な説明を省略する。
【0015】先ず、図1を用いてこの発明の成形金型及
びICチップを搭載したリードフレームを説明する。I
Cチップ1は、ダイパッド2とこの周縁部に形成された
複数のインナーリード4とその他の構成要素から構成さ
れた通常のリードフレームの、前記ダイパッド2に銀ペ
ースト等で接着、固定されて搭載されており、その前記
インナーリード4の内端部に前記ICチップ1に形成さ
れている複数の電極をワイヤ3で接続されている。
びICチップを搭載したリードフレームを説明する。I
Cチップ1は、ダイパッド2とこの周縁部に形成された
複数のインナーリード4とその他の構成要素から構成さ
れた通常のリードフレームの、前記ダイパッド2に銀ペ
ースト等で接着、固定されて搭載されており、その前記
インナーリード4の内端部に前記ICチップ1に形成さ
れている複数の電極をワイヤ3で接続されている。
【0016】一方、図1に示した成形金型Mは、上金型
5と下金型6とから構成されていて、両者の相対する面
に、それぞれの内面5a、6aが平面なキャビティ5
A、6Aが形成されている。この構造は従来技術の成形
金型と同様である。この発明では、前記ICチップ1が
存在する上下金型5、6の主型面で前記複数の電極を避
けた部分に、前記ICチップ1に垂直状態でそのICチ
ップ1の方に可動する複数の可動ピン9を上金型5及び
下金型6に設けた。
5と下金型6とから構成されていて、両者の相対する面
に、それぞれの内面5a、6aが平面なキャビティ5
A、6Aが形成されている。この構造は従来技術の成形
金型と同様である。この発明では、前記ICチップ1が
存在する上下金型5、6の主型面で前記複数の電極を避
けた部分に、前記ICチップ1に垂直状態でそのICチ
ップ1の方に可動する複数の可動ピン9を上金型5及び
下金型6に設けた。
【0017】これらの可動ピン9の形状は、特開平3−
9538の実施例のように円錐状にするのではなく、ピ
ンを引き込めた時に上下金型5、6の主型面5a、6a
と連続になるように円柱状もしくは角柱状とする。そし
て、前記ICチップ1、または前記ダイパッド2の裏面
に近接するそれらの先端部は、これら可動ピン9が後退
した状態の時に、前記キャビティ5A、6Aの内面5
a、6aと同一の平面を構成するように平面状に形成す
る(図3及び図4)。
9538の実施例のように円錐状にするのではなく、ピ
ンを引き込めた時に上下金型5、6の主型面5a、6a
と連続になるように円柱状もしくは角柱状とする。そし
て、前記ICチップ1、または前記ダイパッド2の裏面
に近接するそれらの先端部は、これら可動ピン9が後退
した状態の時に、前記キャビティ5A、6Aの内面5
a、6aと同一の平面を構成するように平面状に形成す
る(図3及び図4)。
【0018】次に、このような構成の上下金型5、6を
用いてICチップ1を樹脂封止する方法を説明する。先
ず、図1に示したように、下金型6のキャビティ6Aの
中央部にダイパッド2に搭載されたICチップ1が位置
するようにリードフレームを下金型6の上に載置し、上
金型5も同様にして下金型6の上に重ね、各上下金型
5、6の縁で複数のインナーリード4などを挟み、固定
する。
用いてICチップ1を樹脂封止する方法を説明する。先
ず、図1に示したように、下金型6のキャビティ6Aの
中央部にダイパッド2に搭載されたICチップ1が位置
するようにリードフレームを下金型6の上に載置し、上
金型5も同様にして下金型6の上に重ね、各上下金型
5、6の縁で複数のインナーリード4などを挟み、固定
する。
【0019】そして、その下金型6の方から複数の可動
ピン9を上げ、また上金型5の方から複数の可動ピン9
を下ろして、前者はダイパッド2の裏面に、後者はIC
チップ1の表面に、それぞれ極めて僅かな隙間を開けて
近接させ、ICチップ1が殆ど所定の位置で保持され、
好ましくない移動を規制するように調整する。
ピン9を上げ、また上金型5の方から複数の可動ピン9
を下ろして、前者はダイパッド2の裏面に、後者はIC
チップ1の表面に、それぞれ極めて僅かな隙間を開けて
近接させ、ICチップ1が殆ど所定の位置で保持され、
好ましくない移動を規制するように調整する。
【0020】図1Bに示したように、ダイパッドレスの
リードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置の場合に
は、前記下金型6に設けた可動ピン9を上げた場合、前
記のようにこれらの可動ピン9もICチップ1の裏面に
直接近接させる。
リードフレームを用いた樹脂封止型半導体装置の場合に
は、前記下金型6に設けた可動ピン9を上げた場合、前
記のようにこれらの可動ピン9もICチップ1の裏面に
直接近接させる。
【0021】このようにして、可動ピン9を各キャビテ
ィ5A、6Aの主型面より突出させることによって、I
Cチップ1及び又はそのダイパッド2の上下方向の動き
が規制されることになる。
ィ5A、6Aの主型面より突出させることによって、I
Cチップ1及び又はそのダイパッド2の上下方向の動き
が規制されることになる。
【0022】次に、図3に示したように、溶融した封止
樹脂10をランナー部7及びゲ−ト部8を通じて両キャ
ビティ5A、6A内に注入する。この図に示したよう
に、溶融した封止樹脂10がICチップ1をほぼ覆うま
では各可動ピン9を突出した状態にしておき、上下をほ
ぼ覆った時点で可動ピン9を引き戻していく。
樹脂10をランナー部7及びゲ−ト部8を通じて両キャ
ビティ5A、6A内に注入する。この図に示したよう
に、溶融した封止樹脂10がICチップ1をほぼ覆うま
では各可動ピン9を突出した状態にしておき、上下をほ
ぼ覆った時点で可動ピン9を引き戻していく。
【0023】そして溶融した封止樹脂10を成形金型M
のキャビティ5A、6Aに流し切ったときの様子を示し
たのが図4である。この時点では既に、全ての可動ピン
9の先端部の面はキャビティ5A、6Aの内面5a、6
aの一部である主型面と同一の平面を形成するまで戻さ
れており、封止樹脂10が硬化して時に、それがICパ
ッケージとなる、その表面に可動ピン9の痕跡が殆ど残
らないようにしている。
のキャビティ5A、6Aに流し切ったときの様子を示し
たのが図4である。この時点では既に、全ての可動ピン
9の先端部の面はキャビティ5A、6Aの内面5a、6
aの一部である主型面と同一の平面を形成するまで戻さ
れており、封止樹脂10が硬化して時に、それがICパ
ッケージとなる、その表面に可動ピン9の痕跡が殆ど残
らないようにしている。
【0024】また、各可動ピン9を引き戻すタイミング
や速さは、パッケ−ジ(硬化した封止樹脂10)の表面
に未充填やボイドが発生しないように調整することが肝
要である。従って、封止樹脂10が流動状態にあり、そ
して図2に示したような封止樹脂10が殆どICチップ
1を覆い終わる時に、各可動ピン9を引き戻すとよい。
や速さは、パッケ−ジ(硬化した封止樹脂10)の表面
に未充填やボイドが発生しないように調整することが肝
要である。従って、封止樹脂10が流動状態にあり、そ
して図2に示したような封止樹脂10が殆どICチップ
1を覆い終わる時に、各可動ピン9を引き戻すとよい。
【0025】封止樹脂10を注入しその樹脂が充分に硬
化した後に、図4に示したように、上下金型5、6を離
して、ICを成形金型Mから離型させる。このとき可動
ピン9は引き込ませた状態のままでICを充分離型でき
るが、離型しにくい時には、図5に示したように、一部
あるいは全ての可動ピン9を再び可動、突出させて、I
Cを離型させるようにすることもできる。
化した後に、図4に示したように、上下金型5、6を離
して、ICを成形金型Mから離型させる。このとき可動
ピン9は引き込ませた状態のままでICを充分離型でき
るが、離型しにくい時には、図5に示したように、一部
あるいは全ての可動ピン9を再び可動、突出させて、I
Cを離型させるようにすることもできる。
【0026】
【発明の効果】1.以上、説明したように、この発明の
成形金型及び製造方法によれば、樹脂からなるパッケー
ジ内部でのICチップの位置制御が可能となった。これ
によって、 1)パッケージ表面上の未充填・ボイドの発生 2)パッケージの反り 3)パッケージ表面へのボンディングワイヤの露出 4)ショート不良(ボンディングワイヤがチップのエッ
ジ部に触れる) 5)ボンディングワイヤの断線 などの不具合を低減することができた。また、
成形金型及び製造方法によれば、樹脂からなるパッケー
ジ内部でのICチップの位置制御が可能となった。これ
によって、 1)パッケージ表面上の未充填・ボイドの発生 2)パッケージの反り 3)パッケージ表面へのボンディングワイヤの露出 4)ショート不良(ボンディングワイヤがチップのエッ
ジ部に触れる) 5)ボンディングワイヤの断線 などの不具合を低減することができた。また、
【0027】2.ICチップの位置制御がパッケージの
樹脂部に孔を付けることなく行えるようになった。これ
によって、 1)パッケージの外観上の問題がなくなる 2)パッケージの機械的強度の低下を防止することがで
きる 3)水分などの浸入の抑制によって、ICの信頼性の向
上が図れる 4)外部からの光の入射がなくなり、ICの電気的特性
に影響がなくなる などの効果が得られた。
樹脂部に孔を付けることなく行えるようになった。これ
によって、 1)パッケージの外観上の問題がなくなる 2)パッケージの機械的強度の低下を防止することがで
きる 3)水分などの浸入の抑制によって、ICの信頼性の向
上が図れる 4)外部からの光の入射がなくなり、ICの電気的特性
に影響がなくなる などの効果が得られた。
【0028】
【図1】この発明の実施例である樹脂封止型半導体装置
用成形金型及びその成形金型でICチップを搭載したリ
ードフレームを挟んだ状態を示した断面図であって、同
図Aはダイパッドを有するリードフレームを示したもの
であり、同図Bはダイパッドがないリードフレームを示
したものである。
用成形金型及びその成形金型でICチップを搭載したリ
ードフレームを挟んだ状態を示した断面図であって、同
図Aはダイパッドを有するリードフレームを示したもの
であり、同図Bはダイパッドがないリードフレームを示
したものである。
【図2】図1に示した状態で、この発明の成形金型に溶
融した封止樹脂を注入しているICの製造過程を示した
断面図である。
融した封止樹脂を注入しているICの製造過程を示した
断面図である。
【図3】図2に示した製造過程から次の製造過程を示し
た断面図である。
た断面図である。
【図4】図3に示した製造過程から次の製造過程を示し
た断面図である。
た断面図である。
【図5】図4に示した製造過程から、必要に応じて用い
て効果的な製造過程を示した断面図である。
て効果的な製造過程を示した断面図である。
【図6】従来の樹脂封止型半導体装置用成形金型に、I
Cチップを搭載したリードフレームを挟んだ状態の断面
図である。
Cチップを搭載したリードフレームを挟んだ状態の断面
図である。
【図7】従来の樹脂封止型半導体装置用成形金型で製造
した樹脂封止型半導体装置の縦断面図である。
した樹脂封止型半導体装置の縦断面図である。
【図8】従来の他の樹脂封止型半導体装置用成形金型で
製造した樹脂封止型半導体装置の縦断面図である。
製造した樹脂封止型半導体装置の縦断面図である。
M 成形金型 1 半導体チップ(ICチップ) 2 ダイパッド 4 インナーリード 5 上金型 5A 上金型5のキャビティ 5a キャビティ5Aの内面 6 下金型 6A 上金型6のキャビティ 6a キャビティ6Aの内面 7 ランナ−部 8 ゲ−ト部 9 可動ピン 10 モ−ルド樹脂 11 ピン痕 12 バリ
Claims (3)
- 【請求項1】上下金型で構成された樹脂封止型半導体装
置の成形金型において、これら上下金型に形成し、封止
樹脂が注入される内面が平面なキャビティのそれぞれの
主型面において、半導体チップ及び又はダイパッドの移
動を規制する複数の可動ピンが設けられ、これらの可動
ピンの前記半導体チップ及び又は前記ダイパッドに近接
する先端部が、これら可動ピンが後退した状態の時に、
前記キャビティの内面と同一の平面を構成するように平
面に形成したことを特徴する樹脂封止型半導体装置用成
形金型。 - 【請求項2】請求項1に記載の成形金型のキャビティの
所定の位置に半導体チップを搭載したリードフレームを
配置し、前記上下金型を締結し、そして前記上下金型に
設けた各可動ピンを前記半導体チップの方に可動、近接
させて、前記半導体チップの移動を規制するようにした
状態で、溶融した封止樹脂を前記成形金型に注入し、こ
の封止樹脂が前記半導体チップを殆ど覆い尽くした、或
いは全て覆い尽くした状態の時に、前記各可動ピンを、
それらの先端部の前記平面が前記上下金型の内面の平面
と同一の面を構成する位置まで引き戻し、前記封止樹脂
が前記各可動ピンが存在した位置の空間部を埋め尽くし
て硬化した後、前記上下金型を開き、樹脂封止された前
記半導体チップを離型して樹脂封止型半導体装置を得る
ことを特徴とする半導体チップの樹脂封止方法。 - 【請求項3】請求項2に記載の半導体チップの樹脂封止
方法において、前記注入した封止樹脂が硬化した後、前
記引き戻されていた一部又は全部の可動ピンを封止樹脂
側に可動させて、前記樹脂封止型半導体装置を離型する
とを特徴とする半導体チップの樹脂封止方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4184854A JPH0629340A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 樹脂封止型半導体装置用成形金型及びそれに用いた半導体チップの樹脂封止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4184854A JPH0629340A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 樹脂封止型半導体装置用成形金型及びそれに用いた半導体チップの樹脂封止方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629340A true JPH0629340A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16160471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4184854A Pending JPH0629340A (ja) | 1992-07-13 | 1992-07-13 | 樹脂封止型半導体装置用成形金型及びそれに用いた半導体チップの樹脂封止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629340A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100448659B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2004-09-13 | (주)에이치디세미테크 | 반도체 성형장치 및 방법 |
| US7319042B2 (en) | 2001-12-07 | 2008-01-15 | Yamaha Corporation | Method and apparatus for manufacture and inspection of semiconductor device |
-
1992
- 1992-07-13 JP JP4184854A patent/JPH0629340A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7319042B2 (en) | 2001-12-07 | 2008-01-15 | Yamaha Corporation | Method and apparatus for manufacture and inspection of semiconductor device |
| KR100448659B1 (ko) * | 2002-04-15 | 2004-09-13 | (주)에이치디세미테크 | 반도체 성형장치 및 방법 |
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