JPH06295337A - 高速画像データ処理回路 - Google Patents

高速画像データ処理回路

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JPH06295337A
JPH06295337A JP5313093A JP31309393A JPH06295337A JP H06295337 A JPH06295337 A JP H06295337A JP 5313093 A JP5313093 A JP 5313093A JP 31309393 A JP31309393 A JP 31309393A JP H06295337 A JPH06295337 A JP H06295337A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 記憶域の大きな削減をもたらし、後続処理用
のデータを改善すると同時に、画像データ内に元々存在
する完全な分解能の情報を維持し、又、分解能の喪失な
しにデータを削減し、より高速のデータ圧縮またはアン
チ・エイリアスを提供する。 【構成】 画像データ処理回路が、正規化段、放物線近
似段、アービトレーション段、選択段およびアンチ・エ
イリアス段の各段で入力の対またはグループの組合せご
とに、事前計算された値を記憶することによって、高速
度を達成する。第1段としての、おそらくはデータ切捨
と共に行われる入力値の正規化によって、プロセッサの
各段で同一の内容を有する小型のメモリの使用が可能に
なる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、全般的に専用データ処
理回路に関し、具体的には、自動検査システム内の画像
データ用データ処理回路に関する。
【0002】
【従来の技術】表示の生成もしくは特徴の測定、抽出ま
たは認識のための画像処理は、おそらく、現在最も普通
に見られる、最も計算量および記憶量の大きな範疇のデ
ータ処理問題である。生物学の分野での細胞特徴の測定
と、被覆処理や層生成処理の監視などの際の特徴測定
が、高精度の特徴測定データの高速計算を必要とする自
動特徴測定の応用分野の2例である。実際の処理が非常
に簡単な場合もあるにはあるが、このような問題は、通
常は比較的大量のデータを使用する。たとえば、処理す
べき画像の最小単位を画素と称し、これを用いて、画像
の表面をしばしば行列の形にタイル分割することを考慮
されたい。画像の解像度が、1辺1000画素の行列で
ある場合、その画像全体では1000000画素を含む
ことになる。各画素は、さらに、色、色相、彩度などの
画像値を表すデータと、物体番号や3次元空間内での位
置など他の画素に対する関係を表す他のデータを含むこ
とがある。画像を表すのに必要なビット数を得るには、
このような画像値情報のビット数に、その画像内の画素
の数をかける必要がある。この画像データのどれかまた
はすべてに対してある動作が必要なことがあり得るの
で、空間解像度と画像値の分解能が低目であっても、数
百万回のデータ処理動作が必要であることが理解でき
る。
【0003】したがって、近年、画像処理装置から所望
の水準のスループットを達成するため、処理しなければ
ならないデータの量を減少させるために多くの手法が試
みられてきた。それにもかかわらず、専用補助プロセッ
サやパイプライン・アーキテクチャを含めて高速コンピ
ュータを使用しても、単一画像の処理を完了するのに数
時間要することもまれではない。自動検査システムの分
野では、このような処理時間が、製造工程のスループッ
トに対する主な制約となる。しかし、高集積密度での電
子回路デバイスの製造など一部の製造分野では、自動検
査に代わる有望な代替案がない。
【0004】したがって、画像特徴の測定、抽出または
認識の技術は、一般的に、特定の種類の画像特徴に特に
適応させた専用の画像変換器および処理装置の開発によ
って進歩してきた。たとえば、米国特許第442458
8号明細書には、対称形物体の位置を検出するための処
理が記載されている。米国特許第4499597号明細
書には、小型物体検出用の重心累計が記載されている。
米国特許第4625330号明細書では、隣接画素間で
画素値を比較して、特徴断片内の最大画像値の画素を決
定する。米国特許第4703513号明細書にも、同様
の近傍比較が開示されている。この2つの特許は、ビデ
オ信号の機能強化を対象としたものである。リード・フ
レーム・アセンブリに付着された3次元デバイスを結像
するための配置が、米国特許第5030008号明細書
に開示されている。距離測定用の光学系が、米国特許第
5054926号明細書に開示されている。画像処理シ
ステムで使用するためのデータ処理装置の例は、米国特
許第5016173号明細書、米国特許第491863
6号明細書、米国特許第4963018号明細書、米国
特許第4979221号明細書、米国特許第49253
02号明細書、米国特許第4845356号明細書、米
国特許第4818110号明細書および米国特許第47
07610号明細書にも開示されている。
【0005】この米国特許第4707610号明細書
は、集積回路デバイスの製造に関連する表面輪郭の測定
と線幅測定を対象とするものである。測定するウェハを
振動するように取り付け、光学系で、その表面上の小さ
な点にビームを合焦させる。ウェハに沿ってこの点を走
査すると同時に、焦点を漸進的に変更して、一連の表面
輪郭のサンプルを得る。
【0006】しかし、さらに最近になって、半導体構造
の複数の層によって提示されるものなど、材料本体内部
の複数の反射輪郭を測定することが望ましくなってき
た。このような結像では、たとえば、各輪郭を別々に追
従することができない可能性があり、輪郭の区別が困難
になる可能性がある。また、多重走査は比較的低速であ
り、結像される異なる表面に関連する位置誤差を生ずる
可能性があるので、結像しようとする物体の1回の走査
ですべての輪郭を感知することが望ましい。
【0007】光学式変換器(たとえば電子カメラ)の現
況技術では、デバイスの表面での空間解像度(たとえば
x方向とy方向)とデバイス内部の空間解像度(たとえ
ばz方向)は、1/4μm程度である。したがって、チ
ップの表面などの小さな表面でも、数百万個の画素を必
要とする可能性があり、輪郭情報は、たとえば8ビット
の次元精度で8つの表面を解像できることが望ましい。
各表面からのデータのビット・ストリームは、本質的
に、画素ごとに同時に並列に得られる。したがって、現
在使用可能な変換器の能力を利用し、所望の結像を達成
するためには、極めて大量のデータを取り込み、記憶
し、処理しなければならないことがわかる。
【0008】また、処理速度を増大させようとするある
種の試みでは、データの切捨てが用いられてきたことを
考慮されたい。しかし、このような切捨ては、変換器デ
バイスからの原信号中に存在する情報を結果的に破棄す
る。切捨てさえ、データ削減において非常に限られた価
値しかない。というのは、現在、数百万個の構成要素を
有する集積回路を製造するのは普通のことであり、これ
ら構成要素のそれぞれを、意味のある検査に十分な解像
度で結像させなければならず、そのためには、構成要素
ごとにまたは構成要素の特徴ごとに、数画素が必要にな
るからである。したがって、データ切捨ては、1画素あ
たり1ビットにする場合でも、所望の検査機能を達成す
るのに必要なデータの最少量によって大きく制限され
る。
【0009】要約すると、データ処理技術の現状では、
現在可能な光学変換器の能力を完全に利用できず、ま
た、所望の光学解像度に必要な大量のデータを、高密度
集積電子構成要素用の現在の製造システムに適した自動
リアル・タイム検査システムを提供するのに十分なスル
ープットでリアル・タイムに処理することができない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
1目的は、記憶域の大きな削減をもたらし、後続処理用
のデータを改善すると同時に、画像データ内に元々存在
する完全な分解能の情報を維持する、画像データ用のプ
ロセッサを提供することである。
【0011】本発明のもう1つの目的は、原データの分
解能の喪失を引き起こさない、データ削減の技法を提供
することである。
【0012】本発明のもう1つの目的は、変換器出力の
周期的変動など時間的に変動する誤差を、特にデータ圧
縮との組合せで補正するためのアンチ・エイリアス機能
を提供することである。
【0013】本発明のもう1つの目的は、分解能の喪失
なしに、より高速のデータ圧縮またはアンチ・エイリア
スを提供することである。
【0014】本発明の具体的な1目的は、表面または界
面の位置のサンプルから、表面上または界面上の特徴の
位置を表すデータを提供する、視野内の各画素位置で視
線方向に複数の表面または物体を結像するための距離プ
ロセッサまたは高さプロセッサを提供することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の上記その他の目
的を達成するために、複数の並列入力を受け取る手段
と、前記複数の並列入力のうちの少なくとも1つを、前
記複数の並列入力のうちの隣接する入力によって正規化
するための正規化手段とを含む、データ・プロセッサが
提供される。
【0016】本発明のもう1つの態様によれば、複数の
入力を並列に受け取り、これに応答して、それぞれ当該
の入力対に対応する複数の第1出力を生成するための第
1手段と、第1手段の第1出力を並列に受け取り、これ
に応答して、それぞれ当該の第1入力対に対応する複数
の第2出力を生成するための第2手段と、第2手段の出
力を並列に受け取り、これに応答して、その各出力が第
2出力の当該のグループに対応する、複数の第3出力を
生成するための第3手段とを含む、データ・プロセッサ
が提供される。
【0017】本発明のもう1つの態様によれば、複数の
並列入力のそれぞれの対を用いて、事前計算された値に
アクセスすることにより、複数の入力をそれぞれ正規化
するステップと、正規化ステップの結果のそれぞれの対
を用いて、事前計算された値にアクセスすることによ
り、放物線近似によって少なくとも1つの位置を決定す
るステップとを含む、データ処理方法が提供される。
【0018】
【実施例】ここで図面、具体的には図1を参照すると、
本発明と共に使用される共焦光学深さ測定システム10
が、概略的な形で示されている。共焦深さ測定の基本原
理は、単レンズまたはレンズ系11が、前焦点面と後焦
点面を有することである。すなわち、レンズ中心から所
与の距離にある物体の像は、レンズの反対側でそのレン
ズの焦点距離に関連する、レンズの中心から既知の距離
の所で、最も焦点の合った状態になる。たとえば、平面
12上の物体は、平面13で最もよく焦点が合い、平面
14上の物体は、平面15で最もよく焦点が合う。した
がって、単レンズまたはレンズ系11の中心から共焦点
と称するある距離の所に、平面の対が生成される。
【0019】物体16の、高さが変化する表面16'上
の点の高さを測定するには、光源18からの放射エネル
ギー照明の合焦点を、表面16'上またはその付近の点
に形成させる。これは通常、ピンホール・アパーチャ1
9の位置を変化させて、光の合焦点の位置を、平面12
と平面14'によって示される範囲でz方向に変化させ
ることによって行う。これを行うのは、測定中の表面上
で最適焦点を感知する必要をなくすためである。
【0020】表面16'からの反射光は、物体16上の
現在照らされている位置に焦点が合っているz方向の位
置の共焦点に合焦される。ピンホール・アパーチャ21
も、ピンホール・アパーチャ19の像の最適焦点の高さ
の共焦点に対応する平面の範囲内で移動する場合、表面
16'の高さの小さな変化が、ピンホール・アパーチャ
21を通って変換器平面17に達する光の量の大きな変
化をもたらす。というのは、ピンホール・アパーチャ2
1の平面がレンズ中心から表面16'までの距離と共焦
である時に限って、ピンホール・アパーチャ21を通る
光の透過が最大になるからである。たとえば、平面14
から反射された光は、平面15で最もよく焦点が合った
状態になり、図1に示す特定のピンホール平面13上の
像は、ピンホールより大きくなる。したがって、このピ
ンホールは、反射光の焦点がずれ、そのために、表面1
6'とピンホール・アパーチャ21の両方でより大きな
像を生じる場合に、変換器平面17へ通過する光を実質
的に減衰させる。表面16'またはピンホール・アパー
チャ21のどちらかでピンホール・アパーチャ19の像
の焦点がずれると、変換器平面17にある変換器に達す
る光がさらに減衰する。
【0021】本発明と共に好ましく使用されるカメラの
実用的な実施例で変換速度を増大させるため、表面1
6'の画素位置のアレイが本発明の実施には重要でない
形で異なる深さまたは異なる高さで同時に結像されるよ
うにして、画素から画素へと高速シーケンスで共焦結像
の原理を実施することができる。ただし、カメラの出力
の性質を視覚化するため、ピンホールと変換器平面17
上の複数の変換器の各対ごとに異なる共焦距離を生じる
ように、複数のピンホール・アパーチャ19および21
を設けることによってこれを行う。変換器平面17上の
複数の変換器は、電荷結合素子(CCD)として形成さ
れるセンサの隔置されたアレイであることが好ましい。
しかし、どのサンプリング・サイクルでも、たとえば、
それぞれ8ビットの精度の16個の(すなわち、16個
の画素のそれぞれでの)高さに対応する強度データ・サ
ンプルが、実質的に10MHzを越えるビット速度でカ
メラから出力される。これら16個のサンプルは、同時
出願の関連米国特許出願第07/___、___号明細
書(整理番号FI9−92−010号)に記載の方式
で、表面16'の同一画素の16個の高さに対応するよ
うに再編成され、匹敵するビット速度で出力される。そ
の後、画素ごとにこれらの強度値を検査して、反射面ま
たは界面を表す共焦応答曲線のピークの位置を決定す
る。この検査は、本発明による双曲線近似によって行わ
れることが好ましい。
【0022】説明を簡単にするために、連続的な共焦結
像によって生成される共焦応答曲線22のサンプリング
として、8つのサンプルz1−z8だけを図2に示す。
棒23の高さは、特定の画素位置におけるz方向の特定
の位置の反射光サンプルの強度を示す。所望の数の高さ
サンプルを用意すると、所望の度合の高さ分解能が得ら
れることを理解されたい。また、共焦結像処理に付随し
て、強度は、各サンプル位置の近傍にある領域内のz方
向の位置の尺度でもあり、強度とz方向の距離の関係が
予測可能とみなせることを認識されたい。また、異なる
部分反射強度を生じる複数の反射界面からのデータを取
り込むために、複数ビットの強度分解能を提供する必要
がある。したがって、強度分解能とz距離が比例するこ
とが、1/4μmの分解能で意図された観察を行うのに
好ましいと考えられる。
【0023】放物線近似によるピーク位置推定はそれ自
体は周知である。放物線近似には、基本的前提として、
ピークと放物線の両方が3点で定義できること、また共
焦応答曲線22の一部を拡大した図3に示されるよう
に、放物線が、その範囲にわたって任意の関数のピーク
に非常に近似していることが必要である。位置z2、z
3、z4のI値(強度値)に近似された放物線24は、
この範囲の外では共焦応答曲線22からすぐに離れる
が、この範囲内ではこの曲線に非常に近似し、放物線の
軸Aは、ピーク位置Pに非常に近似しているとみなされ
る。これはもちろん、提供されるサンプリングの空間周
波数から暗示されるように、2つの分解可能なピークが
同一の範囲内に存在しないことを前提とする。任意の3
つの点を介する放物線近似は、下記の一般的な(強度I
と位置zに関して)二次形式の式によって記述できる。 Ii = Azi 2 + Bzi + C ただし、A、B、Cは、放物線の軸に対する相対位置z
i-1、zi、zi+1での強度値の関数である。言い換える
と、この二次方程式の一般解を再構成して、下記の形で
任意の3点のグループ内での相対ピーク位置(RPP)
の推定を得ることができる。
【数1】 ただし、分子の乗数"4"は、各サンプル点の両側に設け
た分解副区間の数に対応する。また、このRppの式は、
iで割ることによって正規化できる。正規化は、本発
明を含むハードウェアに重要である。というのは、正規
化によって、3つではなく2つの量すなわちIi-1/Ii
とIi+1/Iiだけで相対ピーク位置を記述できるように
なるからである。絶対位置は、3点のうちのどれか1つ
の位置とそれらの間の既知の空間距離として保存され、
したがって後で回復することができる。これに関して、
本発明によるプロセッサは、正規化機能のため、強度入
力の絶対値に感応しないことにも留意されたい。
【0024】ここで図4を参照すると、本発明によるプ
リプロセッサが、概略的に示されている。このプリプロ
セッサは、本質的に、高度に並列な4段パイプライン・
プロセッサを形成する。その4つの段を、順に説明す
る。プリプロセッサ30の第1段は、好ましくは図5に
示す複数の索引テーブル(LUT)によって、正規化機
能を提供する。これらのLUTは、それぞれの8ビット
・グレイ・スケール強度値によってアドレスされる。こ
れらの入力は、量子化された測定値を反映するので、商
も量子化され、商の可能なすべての値をメモリに記憶し
単に検索することができ、データのセットごとに除算を
実行する必要はない。こうすると、ハードウェアの実質
的な節約が得られ、動作速度が大幅に向上する。要求さ
れる出力は、完全な分解能で正規化された値の特徴を表
すだけでよい。というのは、後で説明するように、いく
らかの分解能は回復できるからである。したがって、ア
ドレスされるどの位置についても、3ビット、4ビッ
ト、または5ビットと、出力の「位相」用の追加ビット
だけが必要である。図5には別々のメモリ・プレーン5
1として示した4ビットまたは5ビットを使用すること
が、LUTメモリ50にとって好ましい。というのは、
下記で説明するRPP LUTに関するメモリ構造の対
応する選択が、大きな影響を受けないからである。すな
わち、4ビットは1K容量のメモリを必要とし、5ビッ
トは4Kメモリを必要とするが、どちらも簡単に提供で
きる。いずれにせよ、64Kのアドレス可能メモリ空間
が、本発明の実施に一般的に適している。次に、正規化
LUTの動作について、図6を参照して論ずる。
【0025】上で示したように、正規化LUTは、カメ
ラからプロセッサへ入力される強度値のうちの2つの値
の商を含む。これらの商は、アドレス可能空間内で、単
位値を表す45°線(たとえば、1111と任意の位相
ビットとしてコーディングされる)に関して対称に配置
され、その商をもたらす除数が、大きい方の値になるこ
とが好ましい。したがって、位相は、強度値の間の直線
の傾きが正負のいずれであるかを示す。単位線上のアド
レスは、一般に、高アドレス値でのピークと低アドレス
値での谷を暗示し、単位線の上側のアドレスは、点の右
にある谷を暗示し、単位線の下側のアドレスは、点の間
または点の右にあるピークを暗示する。所与のアドレス
では、2つの値だけが表されるので、これらの暗示は必
然的に曖昧である。しかし、相対ピーク位置LUT(R
PP LUT)にある第3の値と比較すると、ピークの
存在とその位置が見つかる。
【0026】正規化によって失われると考えられるデー
タは、実際には、サンプル位置に対応する正規化LUT
の識別によって保存されることを想起されたい。したが
って、正規化LUTは、正確に同一の商と位相をすべて
含むことができ、同一の形でプログラミングされる同一
の読取り専用メモリ(ROM)またはプログラマブル読
取り専用メモリ(PROM)であることが好ましく、そ
うすると、本発明を実行するためのハードウェアまたは
その準備が実質的に簡単になる。
【0027】再度図4を参照すると、プリプロセッサの
次の段は、相対ピーク位置(RPP)LUTのアレイを
含むことが好ましい。これらのLUTの機能は、放物線
近似によるピークの位置の推定を提供することである。
正規化LUTと同じく、入力アドレスは量子化された値
(正規化された強度値)であるので、すべての可能な値
の計算を前もって行うことができ、その結果が、単にR
PP LUTに入力される。正規化LUTに記憶された
値を対称に配置し、位相出力値でIiとIi+1のどちらが
除数になるかを示すことができるのも、このためであ
る。この値は実際の強度値を表すが、正規化LUTの出
力は、RPP LUTにとって、位相ビットの値によっ
て対称な形で区別されるアドレスとしてのみ意味があ
る。実際の事前計算された値はRPP LUTに記憶さ
れるので、正規化処理の逆転は、RPP LUTから出
力される値にとって本質的でない。さらに、特定の値を
計算することに比べて、除数値が小さいことに起因する
精度の非線形性がない。
【0028】次に図7を参照して、RPP LUT60
について論ずる。この場合も、好ましい構造は、複数の
メモリ・プレーンとして示されている。RPP LUT
の数は、正規化LUTの数より1つ少なくすることがで
き、正規化LUTの数は、設計分解能で入力される強度
値の数(たとえば、値z1−zNの数)より1つ少な
い。別法として、追加のRPP LUTを、図4のRP
P0とRPPNに示すように、RPP LUTアレイの
一方または両方の端に追加することができ、この追加R
PP LUTに、単位入力または、深さまたは高さの結
像範囲を超える共焦応答曲線22の仮定された挙動に対
応する他の固定入力を与えることができる。単位値は、
一定値を表し、非単位値は、一定の傾きを表すことにな
る。それぞれのアドレス可能空間は、隣接する正規化L
UTによって出力されるビットの可能な組合せの数、こ
の場合は各正規化LUTによって出力される5ビットに
対して32×32個のアドレスに等しければよく、した
がって、本発明は、非常に少ない(たとえば1Kの)メ
モリを使用して実施できる。それに比べて、これに関し
て、正規化LUTを設けない場合、RPP LUTごと
に少なくとも16Mバイトのメモリが必要になることに
留意されたい。プレーンの数は、やはり所望の度合の分
解能に必要な出力コードの数に依存する。図8に示すよ
うに、8つの副区間に好ましいコーディングを採用する
場合、4ビットの出力だけが必要である。以下の議論で
は、正規化LUTが2つの値の商を供給したのと同様
に、RPPLUTは、2つの値に基づく結果を供給する
ことに留意されたい。原I値のうちの1つが、2つの隣
接する正規化LUTに入力され、その出力が、今度は単
一のRPP LUTに供給されるので、この3つの隣接
する正規化された強度値を、I'j-1、I'j、I'j+1で示
す(プライム記号は、その値が、強度値自体ではなく、
それによって強度値が参照される、特別に正規化された
値に基づくアドレスであることを示す)。ここで、I'i
は、Iiを中心とする3つの値のグループのそれぞれの
中央値であり、Iiは、同じ番号または添字の強度値で
ある。
【0029】図8では、相対ピーク位置の値が、a=b
=c=d=0に対応する位置ziからの正規化された入
力サンプル値I'iに関して対称に配置されるように、コ
ードを、オフセットに関して値a、b、c、dの数の順
に配置することが好ましい。このようにすると、サンプ
ル距離間隔の半分にわたって、中央サンプル値位置の左
右に4つの副分割が設けられる。
【0030】本発明によるプロセッサ内のこの点で、原
データ中で表現される各ピークの相対位置が、好ましい
実施態様のこの例では、1つのRPP LUTの4ビッ
トの9つの可能な値のうちの1つによって表現されるこ
とに留意されたい。絶対位置も、RPP LUTの識別
とその出力からわかる。原入力データは、それぞれ8ビ
ット分解能の16個のサンプルを含んでいたことを想起
すると、これは、それ以降の処理が実行されるデータの
非常に実質的で大きな減少を表す。図4に示した本発明
の好ましい実施例のその後の段は、したがって、幅広い
ピークから生じる可能性のある削減されたデータの曖昧
さの解決、および本発明で使用することが好ましい特定
のカメラによって生じる量子化誤差の補正を対象とす
る。この2つのうちの最初の補正処理は、図4に示し
た、次のピーク・アービトレーション・プロセッサの段
によって実行される。このピーク・アービトレーション
・プロセッサはそれぞれ、RPP LUTのうち4つの
隣接するRPP LUTの出力を受け取る。
【0031】ピーク・アービトレーションLUTの好ま
しい形態の編成を図9に示す。入力は、それぞれRPP
LUTから来る4組(たとえば(a、b、c、d)
j+1)の4つの2進値(a、b、c、d)であるので、
この16ビットの独自の組合せに対応する、64Kのア
ドレス可能空間が必要である。出力されるビットの数
は、4ビットと1ビットの追加の有効ピーク・ビットで
あることが好ましい。この4ビットは、図10に示す二
重範囲内の原分解能に対応し、どれか1つのアービトレ
ーションLUTについてカバーされる範囲に関してアー
ビトレーションが発生し得る。具体的にいうと、原サン
プルは、サンプル範囲と記した括弧で示す重なり合うサ
ンプル範囲内でRPP LUTによって評価される。し
たがって、RPP LUTの範囲は、サンプル範囲(た
とえば、相対ピーク位置の決定に使用されるサンプルの
位置範囲)の半分である。また、図8から、RPP L
UT出力における位置分解能は、原強度サンプル値の位
置にその中心があり、そのような各サンプル位置のそれ
ぞれの側の4つの分解可能位置に伸びていたことも想起
されたい。ピーク・アービトレーションLUT段では、
4つのRPP LUTの出力も重なり合うグループ内で
評価され、この図ではアービトレーションLUT内で表
現されたデータの中心Cの近くにあるピークP2を突き
止めるためのアービトレーションが、各アービトレーシ
ョンLUTによって入力される。したがって、アービト
レーションLUTが機能するこの範囲を、二重範囲と称
し、これも、原データ・サンプルのうちの2つのサンプ
ルの中間にくるCに中心がある。4つのサンプル範囲が
重なり合い、各アービトレーションLUTによって評価
される範囲のグループも重なり合うので、各アービトレ
ーションLUTは、二重範囲内の15個の位置のどれか
でピークを分解することができる。ピーク・アービトレ
ーションLUTの数は、原データ・サンプルの数の半分
より1つ少ないことが好ましい。というのは、サンプリ
ングから暗示されるように、2つの隣接する原サンプル
から複数のピークを分解することは不可能だからであ
る。図4に示したように、ピーク・アービトレーション
LUTは、zN個のサンプルを連続的に包含するため、
RPP LUTの重なり合う範囲に接続される。次に図
10に関して論ずるように、各ピーク・アービトレーシ
ョンLUTを複数(たとえば4つ)のRPP LUTに
接続すると、サンプル範囲の重なりも包含される。
【0032】強度値の広いピークを図10に示す。3つ
の隣接するIサンプルを表すj番目のRPP LUTの
出力は、単調に増加する強度を示す。j+1番目のRP
PLUTは、j+1番目の範囲内にピークがあるなら
ば、そのピークがその範囲の右寄りにあることを示す。
同様に、j+3番目のRPP LUTは、単調に減少す
るI値によってピークがないことを示し、j+2番目の
範囲は、ピークがあるならば、それがj+2番目の範囲
の左寄りにあることを示す。ピーク・アービトレーショ
ンLUTに置かれる値は、本発明の好ましい実施例の他
のLUTと同様に、どの重なり合うサンプル範囲が二重
範囲内にあると報告されるピークP2を含むと思われる
かを解決するために、事前計算される。したがって、二
重範囲の間でのこれ以上のアービトレーションは不要で
ある。この衝突を解決するための基礎は、比較的任意で
あり、たとえば、RPP出力の比較(たとえば±3ない
し4範囲での)、高原または谷の近さ、あるいはこれら
の判断基準の組合せに基づいて行うことができる。ピー
ク・アービトレーションLUTの内容は、すべてのピー
ク・アービトレーションLUTに関して同一であること
が好ましいが、RPP LUTのRPP0またはRPP
Nまたはその両方が設けられていない場合には、12ビ
ット入力のアービトレーションLUTを使用することが
できる。別法として、16ビット入力のアービトレーシ
ョンLUTに省略時値を供給することもできる。いずれ
にせよ、重要な機能は、単一の幅広ピークから複数のピ
ークが得られないようにすること、およびRPP範囲を
二重幅のRPP範囲に有効に変換することである。した
がって、ピーク・アービトレーションLUTの内容の基
本的なガイドラインとしては、未変更の位置を、二重幅
の範囲に関して反映する、たとえば−2から+2まで
の、RPP LUT出力の値を再生成しなければならな
い。
【0033】図4に示したプロセッサの好ましい実施例
の最終段は、図11に示した、多重化LUTまたはピー
ク・ゲートLUTである。これの個数は、ピーク・アー
ビトレーションLUTの数と同一である。各ピーク・ゲ
ートLUTは、対応するピーク・アービトレーションL
UTの出力と、閾値ビットまたはチップ選択ビットとを
受け取る。さらに、各ピーク・ゲートLUTは、使用す
るカメラの周期的に繰り返す量子化誤差(たとえばエイ
リアス)に対応するいくつかのビット(たとえば3ビッ
ト)を受け取る。これらは、限られた数のビットを表す
ので、そのアドレス可能空間は非常に小さく、おそらく
512バイトだけであり、アンチ・エイリアスが不要な
場合にはそれ以下になる。これに関して、エイリアス
は、二重範囲の間でピークをシフトさせる可能性がある
が、原データから分解可能なすべての副分割されたピー
ク位置を識別するため、7ビットの出力を供給すること
に留意されたい。
【0034】アービトレーションLUTの機能が、二重
になっていることを理解されたい。第1に、隣接するR
PP LUT範囲の隣接する端部の近くでピーク位置が
突き止められる可能性のある時、アービトレーションL
UTは、ピークが1つしか存在しないのに別々の2つの
ピークが報告される結果を引き起こす可能性のある曖昧
さを解決する。第2に、二重範囲の数を減らすことによ
って、「下流」側処理回路を最小にすることができる。
これに関して、各RPP LUTはそれぞれ、隣接する
RPP LUTによって検査される入力データの重なり
合う範囲から、隣接するRPP LUTが同時にピーク
を報告してはならないことが暗示される場合でも、その
範囲内でピークを報告できる可能性がある。したがっ
て、RPPLUTの数の約半数に等しい最大数のピーク
だけが有効になり得る。さらに、実際には、発見される
と予想されるピークの数は、この最大数よりはるかに減
り、下記で論ずるように、予想される各ピーク用の選択
回路だけが必要である。
【0035】これらの機能のうちの第1の機能は、互い
のある近傍内で報告されるピークの検出または補間を抑
制するなど、多くの方法で実行できる。しかし、この第
1の機能に対する最も実用的な手法は、特に、選択回路
の数を報告されるピークの数まで減らした時に、分解能
の多少の喪失または曖昧さの導入をもたらすはずであ
る。それにもかかわらず、本発明の方法および装置にア
ービトレーションを含めることは、本発明の本質的な特
徴ではなく、改善機能とみなすべきであり、選択機能お
よび補正(たとえばアンチ・エイリアス)機能は、設け
ることが好ましいとみなされるが、これらを設ける場合
には、RPP LUTの出力に対して直接にこれらの機
能を実行することができる。次にこのピーク位置の選択
および補正の機能を、図11に示すピーク・ゲートLU
Tに関して説明する。
【0036】ピーク・ゲートLUTの出力は、2つのパ
ラメータ、すなわちピーク・アービトレーションLUT
からの有効ピーク出力と選択ビットとに基づいて制御す
ることが好ましい。もちろん、ある範囲内で有効なピー
クが検出されない場合に、有効ピーク・ビットが0の時
にアクセスされ得る位置に特定のコード(たとえばすべ
て0)を置くことにより、あるいは好ましくは、AND
ゲート・アレイを使用して単に出力を抑制することによ
って、出力を抑制すべきである。この出力の抑制は、ど
ちらも、選択信号と有効ピーク信号の両方を受け取る同
様のANDゲート・アレイを用いて行うこともできるは
ずである。選択ビットは、特定の範囲内にピーク値が存
在する場合に、ピーク・ゲートLUTを順番に走査する
ことにより、そのピーク値の出力を走査または多重化す
るのに使用できる。別法として、入力強度値またはRP
P LUT出力の出力の直接評価から、選択信号を導出
することもできる。いずれにせよ、選択信号は、プロセ
ッサによって導出された結果の読出しを制御するだけで
ある。したがって、選択信号の具体的な導出は、本発明
の一部とはみなされず、本発明によるプロセッサの出力
を制御するという機能を越えるものとはみなされない。
したがって、これらの多重化LUTを走査することによ
って、zの昇順または降順のどちらか所望の順序で、検
出されたどのピークの順次読出しも行われる。したがっ
て、多重化LUTへの入力を、選択的に出力に転送する
ことができる。
【0037】また、図4から、ピーク・ゲートLUTの
複数のバンクを設けるのが好ましいことに留意された
い。これらのバンクがあると、予想される各ピークごと
に別々のバンクを設ける場合、各画素位置での特定のピ
ークの選択が簡単になる。言い換えると、ピーク・ゲー
トのこれらのバンクは、並列に動作するが、画素から画
素へと表面を追従するのに有効に使用でき、選択信号が
位置閾値として使用できる。アービトレーションLUT
と同数のバンクを設けることができるが、通常は、2つ
ないし4つのバンクしか必要でない。ドットOR回路
が、各バンクごとに選択された出力を有効にゲート出力
する。
【0038】さらに、多重化LUTは、誤差が予測でき
る場合、さらに誤差補正を提供することができる。たと
えば、上記に指摘したように、本発明と共に使用される
特定のカメラ構造は、8データ読出しサイクル毎に繰り
返す階段状の誤差波形の形で周期的誤差オフセットを生
ずる。そのステップ増分は、高さ値の最小分解能に比例
する。この誤差は、量子化され、強度値の最小分解能よ
り大きくなる可能性があり、また強度サンプル値は高さ
または距離の情報を含むので、この誤差が、図4のプロ
セッサを介して伝播され得る。
【0039】このエイリアス誤差を補償するため、多重
化LUTに2進位相信号を供給して、図12に示される
ピーク・ゲートLUTからの補正値またはエイリアス除
去された値にアクセスすると好都合である。説明を簡単
にするために、エイリアス誤差が、切捨前の強度分解能
または位置分解能の最下位ビットの値に等しい最小増分
を有し、それ以外は正常(たとえば、各ステップに同一
の誤差)であると仮定すると、ピーク・ゲートLUTの
内容を、図12に示すように配置することができる。容
易に理解できるように、特定の二重RPP範囲に関し
て、位相(たとえばサンプルをとった時刻)の増分は、
値出力の減分に関連する。したがって、001という位
相を有する時刻にとられた、特定の二重範囲に対して参
照される、0100という真のRPPを有するサンプル
は、そのアービトレーション・ゲートの出力がオフセッ
トされるか、またはエイリアスを含み、ピーク・ゲート
LUTに対しては0101として報告される。これは、
001000という出力をもたらすはずであるが、この
値は、位相000で測定された真値0100に関して報
告されるはずの値と同一である。これは、どの位相に関
しても正しいことに留意されたい。というのは、LUT
上の値がオフセットされ、対応する出力値が左上から右
下へ対角線内で発生するようになっているからである。
これらの値を、エイリアスの増分と出力の増分が同一で
ある状況または階段状の繰返しパターンに限定する必要
はない。したがって、周期的に繰り返すどの量子化誤差
も、プロセッサの最大分解能まで正確に補償することが
できる。
【0040】本発明を単一の好ましい実施例に関して説
明してきたが、当業者は、特許請求の範囲の趣旨および
範囲内で修正を加えて本発明を実施できることを理解す
るであろう。たとえば、再刻時のため、または、システ
ム中での伝播遅延からもたらされる誤差を防止するた
め、上で説明した動作の基本態様を変更することなく、
プロセッサの段のどれかまたはすべての段の間にレジス
タを設けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】共焦深さ結像装置の概略図である。
【図2】共焦光学応答ピークの検出を示す図である。
【図3】共焦光学応答ピークの放物線近似を示す図であ
る。
【図4】本発明によるプロセッサ配置の概略図である。
【図5】図4の正規化索引テーブルの概略図である。
【図6】図5の正規化索引テーブルの関数のグラフを示
す図である。
【図7】図4の相対ピーク位置索引テーブルの概略図で
ある。
【図8】図7の相対ピーク位置索引テーブル内の項目の
好ましいコーディングを示す図である。
【図9】図4のピーク・アービトレーション索引テーブ
ルの概略図である。
【図10】図9のピーク・アービトレーション索引テー
ブルの動作を示す図である。
【図11】図4のピーク・ゲート索引テーブルの概略図
である。
【図12】変換器の周期変動誤差を補正するためのデー
タを含む、図11のピーク・ゲート索引テーブル内のデ
ータのコーディング例を示す図である。
【符号の説明】
10 共焦光学深さ測定システム 11 単レンズまたはレンズ系 16 物体 17 変換器平面 18 光源 19 ピンホール・アパーチャ 21 ピンホール・アパーチャ 22 共焦応答曲線 24 放物線 30 プリプロセッサ 51 メモリ・プレーン

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の並列入力を受け取る手段と、 前記複数の並列入力のうちの隣接する入力によって、前
    記複数の並列入力のうちの少なくとも1つを正規化する
    ための正規化手段とを含む、データ・プロセッサ。
  2. 【請求項2】前記複数の並列入力のうちの隣接する入力
    によって、前記複数の並列入力のうちの少なくとも1つ
    を正規化するための前記正規化手段が、前記複数の並列
    入力のうちの前記少なくとも1つの入力と、前記複数の
    並列入力のうちの前記隣接する入力とによってアドレス
    可能な、事前計算される正規化された値を含むメモリを
    具備することを特徴とする、請求項1に記載のデータ・
    プロセッサ。
  3. 【請求項3】前記複数の並列入力のうちの少なくとも2
    つの入力がそれぞれ、前記正規化手段によって正規化さ
    れ、前記正規化手段が、対応するアドレスに同一の内容
    を有する少なくとも2つのメモリを具備することを特徴
    とする、請求項2に記載のデータ・プロセッサ。
  4. 【請求項4】さらに、前記複数の前記入力値のうちの、
    第1の値と第3の値が第2の中央の値に隣接する3つの
    値に対応する、前記正規化手段の前記メモリの少なくと
    も第1の出力対を受け取り、メモリの前記第1の対のそ
    れぞれの出力に対応する値を出力するための手段を含
    む、請求項2に記載のデータ・プロセッサ。
  5. 【請求項5】前記正規化手段の前記メモリの前記第1の
    出力対を受け取るための前記手段が、メモリの前記第1
    の対のそれぞれの出力によってアドレス可能なもう1つ
    のメモリを具備することを特徴とする、請求項4に記載
    のデータ・プロセッサ。
  6. 【請求項6】さらに、前記複数の前記入力値のうちの、
    第1の値と第3の値が第2の中央の値に隣接するもう1
    つの3つの値に対応する、前記正規化手段の前記メモリ
    の少なくとも第2の出力対を受け取り、メモリの前記第
    2の対のそれぞれの出力に対応する値を出力するための
    手段を含むことを特徴とする、請求項4に記載のデータ
    ・プロセッサ。
  7. 【請求項7】前記正規化手段の前記メモリの前記第2の
    出力対を受け取るための前記手段が、メモリの前記第2
    の対のそれぞれの出力によってアドレス可能なもう1つ
    のメモリを具備することを特徴とする、請求項6に記載
    のデータ・プロセッサ。
  8. 【請求項8】複数の入力を並列に受け取り、それに応答
    して、それぞれ当該の前記入力対に対応する複数の第1
    出力を生成するための第1手段と、 前記第1手段の前記第1出力を並列に受け取り、それに
    応答して、それぞれ当該の前記第1出力対に対応する複
    数の第2出力を生成するための第2手段と、 前記第2手段の前記第2出力を並列に受け取り、それに
    応答して、それぞれ前記第2出力のうちの少なくとも3
    つの出力からなる当該のグループに対応する複数の第3
    出力を生成するための第3手段とを含む、データ・プロ
    セッサ。
  9. 【請求項9】複数の並列入力のそれぞれの対を用いて、
    事前計算された値にアクセスすることにより、複数の入
    力のそれぞれを正規化するステップと、 前記正規化ステップの結果の当該の対を用いて、事前計
    算された値にアクセスすることにより、少なくとも1つ
    の位置を放物線近似によって決定するステップとを含
    む、データ処理方法。
  10. 【請求項10】さらに、前記決定ステップの結果のグル
    ープを用いて、メモリから事前計算された値にアクセス
    することにより、前記決定ステップの結果の間のアービ
    トレーションを行うステップを含む、請求項9に記載の
    方法。
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