JPH06297652A - ビスベンゾフェノンにより安定化された積層熱可塑性プラスチック - Google Patents
ビスベンゾフェノンにより安定化された積層熱可塑性プラスチックInfo
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- JPH06297652A JPH06297652A JP6674194A JP6674194A JPH06297652A JP H06297652 A JPH06297652 A JP H06297652A JP 6674194 A JP6674194 A JP 6674194A JP 6674194 A JP6674194 A JP 6674194A JP H06297652 A JPH06297652 A JP H06297652A
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/13—Phenols; Phenolates
- C08K5/132—Phenols containing keto groups, e.g. benzophenones
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ベンゾフェノンにより安定化された積層熱可
塑性プラスチックを提供する。 【構成】 外側の紫外線吸収性被覆層の中に有効安定量
の次式 （式中、ＸはＣ2 〜Ｃ10のアルキレン基等、ＹはＨ等、
ＺはＨ、Ｃｌ等）で表されるビスベンゾフェノン紫外線
吸収剤を加入することよりなる、同時押出により製造さ
れた多層、熱可塑性物品を安定化する方法。 【効果】 熱可塑性物品、好ましくはポリカーボネート
は、選択されたビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を、同
時押出技術により製造される物品の外側表面または被覆
層において濃厚にすることにより都合良くは安定化され
る。
塑性プラスチックを提供する。 【構成】 外側の紫外線吸収性被覆層の中に有効安定量
の次式 （式中、ＸはＣ2 〜Ｃ10のアルキレン基等、ＹはＨ等、
ＺはＨ、Ｃｌ等）で表されるビスベンゾフェノン紫外線
吸収剤を加入することよりなる、同時押出により製造さ
れた多層、熱可塑性物品を安定化する方法。 【効果】 熱可塑性物品、好ましくはポリカーボネート
は、選択されたビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を、同
時押出技術により製造される物品の外側表面または被覆
層において濃厚にすることにより都合良くは安定化され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被覆層が選択されたビス
ベンゾフェノン紫外線吸収剤を含有する、被覆熱可塑性
物品を、好ましくは同時押出を介して製造する改良方
法、およびこれにより製造された安定化物品に関する。
ベンゾフェノン紫外線吸収剤を含有する、被覆熱可塑性
物品を、好ましくは同時押出を介して製造する改良方
法、およびこれにより製造された安定化物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリマーの安定化においてさまざまな種
類の紫外線吸収剤の使用は良く知られている。これらの
安定剤は、入射紫外線放射を吸収し、そして吸収したエ
ネルギーを非破壊的方法により分散させることにより機
能する。従って、紫外線光の侵入を防ぐために、ポリマ
ーの表面近くに紫外線吸収剤を濃厚にすることが、紫外
線吸収剤をポリマーの塊の隅々まで分散させるよりも、
より効率的でまた経済的であると考えられる。
類の紫外線吸収剤の使用は良く知られている。これらの
安定剤は、入射紫外線放射を吸収し、そして吸収したエ
ネルギーを非破壊的方法により分散させることにより機
能する。従って、紫外線光の侵入を防ぐために、ポリマ
ーの表面近くに紫外線吸収剤を濃厚にすることが、紫外
線吸収剤をポリマーの塊の隅々まで分散させるよりも、
より効率的でまた経済的であると考えられる。
【０００３】紫外線光からの芳香族ポリカーボネートの
保護は、ポリマー自身が相当量の高いエネルギー光を吸
収しそして直ちに黄色になり曇ると知られているので特
殊な問題である。それらの強度および靱性の他に、ポリ
カーボネートはそれらの優秀な光学特性、即ち、低い着
色および高い透明度から高い値を導き出すものである。
従って、ほとんどの光が吸収されるところのポリカーボ
ネートのようなポリマーの表面にて、紫外線照射に対す
る保護は極めて重大なものとなる。
保護は、ポリマー自身が相当量の高いエネルギー光を吸
収しそして直ちに黄色になり曇ると知られているので特
殊な問題である。それらの強度および靱性の他に、ポリ
カーボネートはそれらの優秀な光学特性、即ち、低い着
色および高い透明度から高い値を導き出すものである。
従って、ほとんどの光が吸収されるところのポリカーボ
ネートのようなポリマーの表面にて、紫外線照射に対す
る保護は極めて重大なものとなる。
【０００４】安定剤自体によりポリマー組成物に付与さ
れる全ての着色は可能な限り少なくなければならないこ
とは勿論自明なことである。
れる全ての着色は可能な限り少なくなければならないこ
とは勿論自明なことである。
【０００５】多くの方法は、紫外線吸収剤を高分子材料
の表面近くまたは表面にて濃縮させるために開発されて
きた。これらには表面含浸（参照、米国特許明細書第３
３０９２２０号、同３０４３７０９号、同４８６１６６
４号および同４９３７０２６号）および熱可塑性樹脂お
よび紫外線吸収剤を含有した溶液によるプラスチック物
品の被覆（参照、米国特許明細書第４６６８５８８号お
よび同４３５３９６５号）が該当する。両技術は、その
他の加工段階（即ち、塗布、乾燥またはカール）を必要
とすることを含む重大な欠点に苦しみ、および大きな加
工物品の取扱と関連した困難さに出あう。特にポリカー
ボネートシート製造に関連するその他の欠点は、後に施
す付加処理が高分子支持体の表面について有するという
有害作用である。
の表面近くまたは表面にて濃縮させるために開発されて
きた。これらには表面含浸（参照、米国特許明細書第３
３０９２２０号、同３０４３７０９号、同４８６１６６
４号および同４９３７０２６号）および熱可塑性樹脂お
よび紫外線吸収剤を含有した溶液によるプラスチック物
品の被覆（参照、米国特許明細書第４６６８５８８号お
よび同４３５３９６５号）が該当する。両技術は、その
他の加工段階（即ち、塗布、乾燥またはカール）を必要
とすることを含む重大な欠点に苦しみ、および大きな加
工物品の取扱と関連した困難さに出あう。特にポリカー
ボネートシート製造に関連するその他の欠点は、後に施
す付加処理が高分子支持体の表面について有するという
有害作用である。
【０００６】同時押出は、単一の複合材料を形成する種
々様々な層を同時に押出成形することによる、積層熱可
塑性材料のよく認められた生産方法である。米国特許明
細書第４５４０６２３号には少なくとも４０層からなる
同時押出材料が記載されている。他の方法はわずか２ま
たは３つの異なる層を製造するにすぎない。
々様々な層を同時に押出成形することによる、積層熱可
塑性材料のよく認められた生産方法である。米国特許明
細書第４５４０６２３号には少なくとも４０層からなる
同時押出材料が記載されている。他の方法はわずか２ま
たは３つの異なる層を製造するにすぎない。
【０００７】各々の層において使用される樹脂は、同一
または異なる、例えばポリプロピレン／ポリアクリレー
ト／ポリカーボネートであるか、または２つの異なる芳
香族ポリカーボネートのような異なる種類の同種の樹脂
でありうる。
または異なる、例えばポリプロピレン／ポリアクリレー
ト／ポリカーボネートであるか、または２つの異なる芳
香族ポリカーボネートのような異なる種類の同種の樹脂
でありうる。
【０００８】同様にして、各々の層において使用される
添加剤の種類および量は大きく変化させうる。典型的な
添加剤には染料、顔料、酸化防止剤、加工および紫外線
安定剤およびガラス充填剤が該当する。
添加剤の種類および量は大きく変化させうる。典型的な
添加剤には染料、顔料、酸化防止剤、加工および紫外線
安定剤およびガラス充填剤が該当する。
【０００９】光吸収層を積層体の表面にてまたはその近
くにて加入することによる、光安定性物品を製造するた
めの同時押出の使用は注目を浴びてきた。特に重要なこ
とは、該方法を介してのポリカーボネートコア層の保護
である。
くにて加入することによる、光安定性物品を製造するた
めの同時押出の使用は注目を浴びてきた。特に重要なこ
とは、該方法を介してのポリカーボネートコア層の保護
である。
【００１０】欧州特許明細書第１１０２２１号におい
て、ポリカーボネートコア層は高濃度の紫外線吸収剤を
含有する薄いポリカーボネート層により保護されてい
る。しかしながら、使用された紫外線吸収剤は、特には
押出条件下、揮発性であり、またポリマー組成物からの
損失および移行が生じうる。
て、ポリカーボネートコア層は高濃度の紫外線吸収剤を
含有する薄いポリカーボネート層により保護されてい
る。しかしながら、使用された紫外線吸収剤は、特には
押出条件下、揮発性であり、またポリマー組成物からの
損失および移行が生じうる。
【００１１】添加剤滲出を防ぐために、揮発性添加剤を
ほとんど含まないかまたは全く含まないところの第三の
キャップ層または遮断層が加入される。米国特許明細書
第４７０７３９３号において、ポリ（メチルメタクリレ
ート）（ＰＭＭＡ）または（ＰＭＭＡ）複合材料のパー
マネント（permanent)層は２つのポリカーボネート層の
上面にて同時押出される。欧州特許明細書第３４５８８
４号は除去しうる遮断層の使用を記載している。
ほとんど含まないかまたは全く含まないところの第三の
キャップ層または遮断層が加入される。米国特許明細書
第４７０７３９３号において、ポリ（メチルメタクリレ
ート）（ＰＭＭＡ）または（ＰＭＭＡ）複合材料のパー
マネント（permanent)層は２つのポリカーボネート層の
上面にて同時押出される。欧州特許明細書第３４５８８
４号は除去しうる遮断層の使用を記載している。
【００１２】欧州特許明細書第１１０２２１号の再滲出
問題は、ある種の低揮発性ビスベンゾトリアゾール紫外
線吸収剤を紫外線吸収層の中に混和することにより克服
されうる。これらの非−移行性紫外線吸収剤は、米国特
許明細書第４７０７３９３号または欧州特許明細書第３
４５８８４号のキャップ層を不必要なものにする。この
方法は簡略化した製造の利点、およびたぶん、より重要
には、製造された熱可塑性成形品の改良された紫外線お
よび耐候安定化を権利として要求するものである。
問題は、ある種の低揮発性ビスベンゾトリアゾール紫外
線吸収剤を紫外線吸収層の中に混和することにより克服
されうる。これらの非−移行性紫外線吸収剤は、米国特
許明細書第４７０７３９３号または欧州特許明細書第３
４５８８４号のキャップ層を不必要なものにする。この
方法は簡略化した製造の利点、およびたぶん、より重要
には、製造された熱可塑性成形品の改良された紫外線お
よび耐候安定化を権利として要求するものである。
【００１３】カナダ特許明細書第２００２１７７号は、
同時押出を介して適用されうる芳香族ポリカーボネート
のための特別なポリメタクリレート被膜を開示してい
る。この被膜は、ポリマーの光安定化のための多様な紫
外線吸収剤を含みうるものである。しかしながら、この
特許の焦点は、ポリカーボネート相溶性ポリメタクリレ
ートを提供することにあり、また紫外線吸収剤の選択に
対してなにも手引を提供するものではない。本発明の特
別な種類のビスベンゾフェノンは議論されていない。
同時押出を介して適用されうる芳香族ポリカーボネート
のための特別なポリメタクリレート被膜を開示してい
る。この被膜は、ポリマーの光安定化のための多様な紫
外線吸収剤を含みうるものである。しかしながら、この
特許の焦点は、ポリカーボネート相溶性ポリメタクリレ
ートを提供することにあり、また紫外線吸収剤の選択に
対してなにも手引を提供するものではない。本発明の特
別な種類のビスベンゾフェノンは議論されていない。
【００１４】本発明の式に相当する多くの紫外線吸収剤
は知られている。米国特許明細書第３５８０９２７号お
よび同３６６６７１３号；チェコスロバキア特許明細書
第１３５１１５号；日本国特願昭４７−４８８８８号お
よび同昭４４−２６４５６号；および英国特許明細書第
１３９６２４０号は、本発明のビスベンゾフェノンの式
中のＺが水素原子を表すところの種々の化合物の紫外線
吸収剤としての製造および一般的な使用を記載してい
る。本発明の化合物（式中、Ｚは水素原子、アルコキシ
基またはアルキル基を表す。）は日本国特願平１−２４
５０４６号において記載されており、また日本国特願昭
４５−１２８５２号において暗に言及されている。
は知られている。米国特許明細書第３５８０９２７号お
よび同３６６６７１３号；チェコスロバキア特許明細書
第１３５１１５号；日本国特願昭４７−４８８８８号お
よび同昭４４−２６４５６号；および英国特許明細書第
１３９６２４０号は、本発明のビスベンゾフェノンの式
中のＺが水素原子を表すところの種々の化合物の紫外線
吸収剤としての製造および一般的な使用を記載してい
る。本発明の化合物（式中、Ｚは水素原子、アルコキシ
基またはアルキル基を表す。）は日本国特願平１−２４
５０４６号において記載されており、また日本国特願昭
４５−１２８５２号において暗に言及されている。
【００１５】これらビスベンゾフェノン化合物の幾つか
のための他の、より特別な使用は、日本国特願昭６９−
３９６２号；同昭５７−１２６４３号；同昭５６−２４
４１８号；同昭５２−９３４６２号および同平１−２４
５０４６号において記載されている。これらの使用はポ
リプロピレンの安定化を含むが、しかし特別なポリエス
テルの用途を主に取り扱っている。
のための他の、より特別な使用は、日本国特願昭６９−
３９６２号；同昭５７−１２６４３号；同昭５６−２４
４１８号；同昭５２−９３４６２号および同平１−２４
５０４６号において記載されている。これらの使用はポ
リプロピレンの安定化を含むが、しかし特別なポリエス
テルの用途を主に取り扱っている。
【００１６】存在する先行技術のどこをみても、積層物
品の紫外線吸収層における本発明のビスベンゾフェノン
の使用も予期されておらず、該化合物を含有する同時押
出法も開示されていない。
品の紫外線吸収層における本発明のビスベンゾフェノン
の使用も予期されておらず、該化合物を含有する同時押
出法も開示されていない。
【００１７】唯一、日本国特願昭５７−１２６４３号の
場合において、すべの種類の積層物品が議論されてい
る。しかしながら、この場合においてコア層はキシリレ
ン架橋されたビスベンゾフェノンにより安定化されてお
り、また保護被覆層は非−吸収耐水性コポリエステル−
エーテルである。この書類の中ではコア層は“複合剤フ
ィルム”であると漠然と言及されている。しかしなが
ら、該開示はコア層は更に被覆された紫外線安定化二軸
延伸フィルムでなけばならないという開示が述べられ示
されている。該被覆フィルムは明らかに同時押出を介し
て製造できない。
場合において、すべの種類の積層物品が議論されてい
る。しかしながら、この場合においてコア層はキシリレ
ン架橋されたビスベンゾフェノンにより安定化されてお
り、また保護被覆層は非−吸収耐水性コポリエステル−
エーテルである。この書類の中ではコア層は“複合剤フ
ィルム”であると漠然と言及されている。しかしなが
ら、該開示はコア層は更に被覆された紫外線安定化二軸
延伸フィルムでなけばならないという開示が述べられ示
されている。該被覆フィルムは明らかに同時押出を介し
て製造できない。
【００１８】更に、これらビスベンゾフェノン安定剤
を、同時押出または他の方法を介して紫外線吸収表面層
に適用することは自明ではなかった。従来技術文献のい
ずれも、これらの本発明化合物の使用は、以前に記載さ
れた紫外線吸収剤に対する、より良い耐候性および着色
という言葉で、提供するところの利点を予測するもので
はなかった。
を、同時押出または他の方法を介して紫外線吸収表面層
に適用することは自明ではなかった。従来技術文献のい
ずれも、これらの本発明化合物の使用は、以前に記載さ
れた紫外線吸収剤に対する、より良い耐候性および着色
という言葉で、提供するところの利点を予測するもので
はなかった。
【００１９】本発明は、存在する先行技術に対する改良
を提案するものであって、米国特許明細書第５１０８８
３５号において見出される光安定化二重壁熱可塑性プラ
スチックの製造において同様の簡単化を提供するだけで
なく、ビスベンゾトリアゾールのような他の種類の紫外
線吸収剤の使用により最近利用可能になったものよりも
改良された耐候性および、より低い着色性を持つ積層熱
可塑性物品を提供するものである。
を提案するものであって、米国特許明細書第５１０８８
３５号において見出される光安定化二重壁熱可塑性プラ
スチックの製造において同様の簡単化を提供するだけで
なく、ビスベンゾトリアゾールのような他の種類の紫外
線吸収剤の使用により最近利用可能になったものよりも
改良された耐候性および、より低い着色性を持つ積層熱
可塑性物品を提供するものである。
【００２０】色および性能におけるこの改良は特に驚く
ものである、なぜなら本発明のビスベンゾフェノンおよ
び米国特許明細書第５１０８８３５号のビスベンゾトリ
アゾールは、慣用のバルク安定化技術を介して１２５ｍ
ｉｌ（３．２ｍｍ）厚プラックに混和したときに、非常
に類似した着色および耐候性能を示すからである。
ものである、なぜなら本発明のビスベンゾフェノンおよ
び米国特許明細書第５１０８８３５号のビスベンゾトリ
アゾールは、慣用のバルク安定化技術を介して１２５ｍ
ｉｌ（３．２ｍｍ）厚プラックに混和したときに、非常
に類似した着色および耐候性能を示すからである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】より特別には、本発明
は、外側の紫外線吸収性被覆層の中に有効安定化量の次
式 〔式中、Ｘは炭素原子数１ないし１６の直鎖または枝分
れ鎖アルキレン基、ｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレンま
たは式−ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 〕n −、−ＣＨ
2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〔ＯＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〕n −また
は−ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
ＣＨ2 〕n −（式中、ｎは１−４を表す。）で表される
オキサ−アルカンジイル基を表し、Ｙは水素原子、炭素
原子数１ないし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基を
表し、およびＺは水素原子、塩素原子、炭素原子数１な
いし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基または炭素原
子数１ないし１８のアルコキシ基を表す。〕で表される
ビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を混和することよりな
ることを特徴とする同時押出により製造された多層、熱
可塑性物品を安定化する方法に関する。
は、外側の紫外線吸収性被覆層の中に有効安定化量の次
式 〔式中、Ｘは炭素原子数１ないし１６の直鎖または枝分
れ鎖アルキレン基、ｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレンま
たは式−ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 〕n −、−ＣＨ
2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〔ＯＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〕n −また
は−ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
ＣＨ2 〕n −（式中、ｎは１−４を表す。）で表される
オキサ−アルカンジイル基を表し、Ｙは水素原子、炭素
原子数１ないし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基を
表し、およびＺは水素原子、塩素原子、炭素原子数１な
いし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基または炭素原
子数１ないし１８のアルコキシ基を表す。〕で表される
ビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を混和することよりな
ることを特徴とする同時押出により製造された多層、熱
可塑性物品を安定化する方法に関する。
【００２２】好ましくは、Ｘは炭素原子数２ないし１０
のアルキレン基を表す。
のアルキレン基を表す。
【００２３】好ましくは、Ｙは水素原子または第三ブチ
ル基を表す。
ル基を表す。
【００２４】好ましくは、Ｚは水素原子、塩素原子、第
三ブチル基またはメトキシ基を表す。
三ブチル基またはメトキシ基を表す。
【００２５】最も好ましくは、Ｘは炭素原子数３ないし
１０のアルキレン基を表し、およびＹおよびＺの双方は
水素原子を表す。
１０のアルキレン基を表し、およびＹおよびＺの双方は
水素原子を表す。
【００２６】本発明のビスベンゾフェノンは都合良くは
ジヒドロキシベンゾフェノンのアルカリ金属塩とアルキ
レンジハロゲン化物またはアラルキルジハロゲン化合物
との反応により製造される。
ジヒドロキシベンゾフェノンのアルカリ金属塩とアルキ
レンジハロゲン化物またはアラルキルジハロゲン化合物
との反応により製造される。
【００２７】同時押出を介しての表面層の適用は、米国
特許明細書第３４８７５０５号および同３５５７２６５
号において教示されたような知られた同時押出装置にお
いて、知られた方法による行なわれる。
特許明細書第３４８７５０５号および同３５５７２６５
号において教示されたような知られた同時押出装置にお
いて、知られた方法による行なわれる。
【００２８】本発明はまた、０．１重量％ないし２０重
量％の上記式のビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を含有
する、０．１ないし１０ｍｉｌ（０．００２５４ｍｍな
いし０．２５４ｍｍ）、好ましくは０．１ないし５ｍｉ
ｌ（０．００２５４ｍｍないし０．１２７ｍｍ）厚の熱
可塑性プラスチック層により被覆された熱可塑性物品に
関する。紫外線吸収剤の好ましい濃度は２重量％ないし
１５重量％；最も好ましくは５重量％ないし１０重量％
である。
量％の上記式のビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を含有
する、０．１ないし１０ｍｉｌ（０．００２５４ｍｍな
いし０．２５４ｍｍ）、好ましくは０．１ないし５ｍｉ
ｌ（０．００２５４ｍｍないし０．１２７ｍｍ）厚の熱
可塑性プラスチック層により被覆された熱可塑性物品に
関する。紫外線吸収剤の好ましい濃度は２重量％ないし
１５重量％；最も好ましくは５重量％ないし１０重量％
である。
【００２９】本発明の紫外線吸収剤は、押出に先立って
添加剤と粒状樹脂をドライブレンドするような標準的な
方法により、表面層の熱可塑性プラスチックに混和する
ことができる。
添加剤と粒状樹脂をドライブレンドするような標準的な
方法により、表面層の熱可塑性プラスチックに混和する
ことができる。
【００３０】紫外線吸収層は熱可塑性物品の片側または
両側に対して適用することができる。
両側に対して適用することができる。
【００３１】米国特許明細書第４９９２３２２号におい
て見出されるような、耐水性層のような付加的な層を含
有する本発明に相当する積層熱可塑性物品はまた本発明
の範囲内である。
て見出されるような、耐水性層のような付加的な層を含
有する本発明に相当する積層熱可塑性物品はまた本発明
の範囲内である。
【００３２】コア層および被覆層は同一の熱可塑性樹脂
または異なる熱可塑性樹脂であってもよい。これらの樹
脂は芳香族ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエス
テルカーボネート、ポリフェニレンオキサイド、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリ
レート、ポリメタクリレートおよびポリブタジエンとス
チレンとアクリロニトリルとの、およびスチレンと無水
マレイン酸とのコポリマーおよびブレンドが該当する。
または異なる熱可塑性樹脂であってもよい。これらの樹
脂は芳香族ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエス
テルカーボネート、ポリフェニレンオキサイド、ポリ塩
化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアクリ
レート、ポリメタクリレートおよびポリブタジエンとス
チレンとアクリロニトリルとの、およびスチレンと無水
マレイン酸とのコポリマーおよびブレンドが該当する。
【００３３】好ましい樹脂は二価フェノールをベースと
したポリカーボネート、例えば、２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−フェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）；２，４−ビス−（４−ヒドロキシ−フェニル）−
２−メチルブタン；１，１−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン；２，２−ビス−（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；４，４’−スル
ホニルジフェノール；および１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サンである。
したポリカーボネート、例えば、２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−フェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）；２，４−ビス−（４−ヒドロキシ−フェニル）−
２−メチルブタン；１，１−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン；２，２−ビス−（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；４，４’−スル
ホニルジフェノール；および１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サンである。
【００３４】また好ましいものは、２種またはそれより
多くのフェノールを混和しているポリカーボネートコポ
リマー、枝分れポリカーボネート（多官能性芳香族化合
物は二価フェノールおよびカーボネート先駆物質と反応
している。）およびポリカーボネートがブレンドの重要
な部分よりなるポリマーブレンドである。
多くのフェノールを混和しているポリカーボネートコポ
リマー、枝分れポリカーボネート（多官能性芳香族化合
物は二価フェノールおよびカーボネート先駆物質と反応
している。）およびポリカーボネートがブレンドの重要
な部分よりなるポリマーブレンドである。
【００３５】両層について最も好ましい樹脂はビスフェ
ノールＡをベースとしたポリカーボネートである。
ノールＡをベースとしたポリカーボネートである。
【００３６】他の慣用の添加剤、例えば強化材および充
填剤、難燃剤、染料、顔料、潤滑剤、および加工中にま
たはその後の熱崩壊に対して、ポリマーを保護するため
に添加される安定剤は、また層の片側または両側に存在
しうる。加工／熱安定剤は、例えば立体障害フェノール
酸化防止剤、有機ホスフィット、ホスフェート、ホスホ
ネートおよびチオエーテルが該当する。
填剤、難燃剤、染料、顔料、潤滑剤、および加工中にま
たはその後の熱崩壊に対して、ポリマーを保護するため
に添加される安定剤は、また層の片側または両側に存在
しうる。加工／熱安定剤は、例えば立体障害フェノール
酸化防止剤、有機ホスフィット、ホスフェート、ホスホ
ネートおよびチオエーテルが該当する。
【００３７】得られる本発明の安定化ポリカーボネート
組成物は、所望によりまた約０．０１ないし５重量％、
好ましくは約０．０２５ないし約２重量％、および特に
は約０．１ないし約１重量％の種々の他の慣用の安定
剤、例えば以下に掲げられた材料、またはそれらの混合
物を含有する。
組成物は、所望によりまた約０．０１ないし５重量％、
好ましくは約０．０２５ないし約２重量％、および特に
は約０．１ないし約１重量％の種々の他の慣用の安定
剤、例えば以下に掲げられた材料、またはそれらの混合
物を含有する。
【００３８】熱可塑性樹脂がポリカーボネートまたはポ
リカーボネートコポリマーである場合、以下に列記され
たいくつかの共添加剤は避けるべきである。これらには
群１．３，群１．６の酸化防止剤；１−（３，５−ジ−
第三−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−３，５−ジ
（オクチルチオ）−ｓ−トリアジンおよびＮ，Ｎ’−ヘ
キサメチレン−ビス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナアミド）；群２．６の光安定
剤；メルカプト−ベンジミダゾール、２−メルカプト−
ベンジミダゾールの亜鉛塩および亜鉛ジブチル−ジチオ
カルバミド酸亜鉛であるところの群５の化合物；および
群６，群７および群９の化合物が含まれる。
リカーボネートコポリマーである場合、以下に列記され
たいくつかの共添加剤は避けるべきである。これらには
群１．３，群１．６の酸化防止剤；１−（３，５−ジ−
第三−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−３，５−ジ
（オクチルチオ）−ｓ−トリアジンおよびＮ，Ｎ’−ヘ
キサメチレン−ビス（３，５−ジ−第三−ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナアミド）；群２．６の光安定
剤；メルカプト−ベンジミダゾール、２−メルカプト−
ベンジミダゾールの亜鉛塩および亜鉛ジブチル−ジチオ
カルバミド酸亜鉛であるところの群５の化合物；および
群６，群７および群９の化合物が含まれる。
【００３９】１．酸化防止剤 １．１アルキル化モノフェノール 、例えば２，６−ジ−
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール。１．２ アルキル化ヒドロキノン 、例えば２，６−ジ−
第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第
三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミル−ヒ
ドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオ
キシフェノール。１．３−ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノ
ール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メ
チルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチ
ル−２−メチルフェノール）。
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル
−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル
−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオク
タデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，６−トリシ
クロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４
−メトキシメチルフェノール。１．２ アルキル化ヒドロキノン 、例えば２，６−ジ−
第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第
三ブチル−ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミル−ヒ
ドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオ
キシフェノール。１．３−ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例え
ば２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフ
ェノール）、２，２′−チオビス（４−オクチルフェノ
ール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メ
チルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチ
ル−２−メチルフェノール）。
【００４０】１．４ アルキリデンビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、２，２′−メチレン−ビス（４，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン
−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，
２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−第三ブチル−ブチルフェノール）、４，４′−メチレ
ン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、２，６−ジ（３−第三ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−
ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレ
ングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ジ（３−第
三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシ
クロペンタジエン、ジ［２−（３′−第三ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチ
ル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
えば２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−
第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチ
レン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキ
シル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−
メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−
メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス [６−（α−メチルベ
ンジル）−４−ノニルフェノール] 、２，２′−メチレ
ン−ビス [６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノ
ニルフェノール] 、２，２′−メチレン−ビス（４，６
−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン
−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，
２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブ
チルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス（２，６
−第三ブチル−ブチルフェノール）、４，４′−メチレ
ン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、
１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、２，６−ジ（３−第三ブチル
−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチル
フェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４
−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−
ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフ
ェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレ
ングリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−
４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート] 、ジ（３−第
三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシ
クロペンタジエン、ジ［２−（３′−第三ブチル−２′
−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチ
ル−４−メチルフェニル］テレフタレート、
【００４１】１．５ ベンジル化合物、例えば、１，
３，５−トリ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセチル酸イソオクチルエステ
ル、ビス−（４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、
１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５
−トリス−（４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ
−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸
ジオクタデシルエステル、３，５−ジ−第三−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸モノエチルエステ
ル、カルシウム塩。１．６ アシルアミノフェノール、 例えば、４−ヒドロ
キシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ−ステアリ
ン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６
−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシアニリ
ノ）−ｓ−トリアジン、Ｎ−（３，５−ジ−第三−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバミド酸オクチル
エステル。１．７ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、 例えば、メタノール、、オクタデ
カノール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ジ
−ヒドロキシエチル蓚酸。
３，５−トリ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
スルフィド、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセチル酸イソオクチルエステ
ル、ビス−（４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−ジメチルベンジル）ジチオールテレフタレート、
１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三−ブチル−４
−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５
−トリス−（４−第三−ブチル−３−ヒドロキシ−２，
６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ
−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸
ジオクタデシルエステル、３，５−ジ−第三−ブチル−
４−ヒドロキシベンジル−ホスホン酸モノエチルエステ
ル、カルシウム塩。１．６ アシルアミノフェノール、 例えば、４−ヒドロ
キシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ−ステアリ
ン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６
−（３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシアニリ
ノ）−ｓ−トリアジン、Ｎ−（３，５−ジ−第三−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバミド酸オクチル
エステル。１．７ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アル
コールとのエステル、 例えば、メタノール、、オクタデ
カノール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ジ
−ヒドロキシエチル蓚酸。
【００４２】１．８ β−（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチル蓚酸。１．９ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸のアミド 、例えばＮ，Ｎ′−
ジ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）ヒドラジン。
ロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の下記の一
価または多価アルコールとのエステル、例えば、メタノ
ール、、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、ジ−ヒドロキシエチル蓚酸。１．９ β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオン酸のアミド 、例えばＮ，Ｎ′−
ジ（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル
プロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）ヒドラジン。
【００４３】２．紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１．２−( ２′−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾール、 例えば、５’−メチル−，３’，５’−ジ−
第三−ブチル−、５’−第三−ブチル−、５’−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−、５−クロロ−
３’，５’−ジ−第三−ブチル−、５−クロロ−３’−
第三−ブチル−５’−メチル−、３’−第二−ブチル−
５’−第三−ブチル−、４’−オクトキシ、３’，５’
−ジ−第三アミル−、３’，５’−ビス−（α，α−ジ
メチルベンジル），３’−第三−ブチル−５’−（２−
（オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カ
ルボニル−エチル）−、３’−ドデシル−５’−メチル
−、および３’−第三−ブチル−５’−（２−オクチル
−オキシカルボニル）エチル−、およびドデシレート化
−５’−メチル誘導体。
アゾール、 例えば、５’−メチル−，３’，５’−ジ−
第三−ブチル−、５’−第三−ブチル−、５’−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−、５−クロロ−
３’，５’−ジ−第三−ブチル−、５−クロロ−３’−
第三−ブチル−５’−メチル−、３’−第二−ブチル−
５’−第三−ブチル−、４’−オクトキシ、３’，５’
−ジ−第三アミル−、３’，５’−ビス−（α，α−ジ
メチルベンジル），３’−第三−ブチル−５’−（２−
（オメガ−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カ
ルボニル−エチル）−、３’−ドデシル−５’−メチル
−、および３’−第三−ブチル−５’−（２−オクチル
−オキシカルボニル）エチル−、およびドデシレート化
−５’−メチル誘導体。
【００４４】２．２． ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノ
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。２．３．所望により置換された安息香酸のエステル 、例
えばフェニルサリチレート、４−第三ブチルフェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４
−ジ−第三ブチルフェニルエステルおよび３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエス
テル。２．４．アクリレート 、例えばα−シアノ−β, β−ジ
フェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソオクチル
エステル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステルもしくはブチルエステル、α−カルボメトキシ
−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリ
ン。２．５ ニッケル化合物 、例えば、２，２′−チオビス
−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フ
ェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２
錯体であって，所望により付加的にｎ−ブチルアミン、
トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ
−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、例えば４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメ
チル、エチルもしくはブチルエステルのニッケル塩のよ
うなモノアルキルエステル、例えば、２−ヒドロキシ−
４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのようなケ
トキシムのニッケル錯体、所望により他の配位子を伴う
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾ
ールのニッケル錯体。
ン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オ
クトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ
−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒド
ロキシ−および２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキ
シ誘導体。２．３．所望により置換された安息香酸のエステル 、例
えばフェニルサリチレート、４−第三ブチルフェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイ
ル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，
５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４
−ジ−第三ブチルフェニルエステルおよび３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエス
テル。２．４．アクリレート 、例えばα−シアノ−β, β−ジ
フェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソオクチル
エステル、α−カルボメトキシ桂皮酸メチルエステル、
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−桂皮酸メチル
エステルもしくはブチルエステル、α−カルボメトキシ
−ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カル
ボメトキシ−β−シアノビニル) −２−メチルインドリ
ン。２．５ ニッケル化合物 、例えば、２，２′−チオビス
−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル) −フ
ェノール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２
錯体であって，所望により付加的にｎ−ブチルアミン、
トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ
−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニ
ッケルジブチルジチオカルバメート、例えば４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメ
チル、エチルもしくはブチルエステルのニッケル塩のよ
うなモノアルキルエステル、例えば、２−ヒドロキシ−
４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのようなケ
トキシムのニッケル錯体、所望により他の配位子を伴う
１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾ
ールのニッケル錯体。
【００４５】２．６ 立体障害アミン、例えばビス
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス−（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−
ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンと琥珀酸との縮合生成物、Ｎ，
Ｎ′−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，
６−ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エ
タンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピ
ペラジノン），ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケー
ト。
（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス−（１，２，
２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−
ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ヒドロキシピペリジンと琥珀酸との縮合生成物、Ｎ，
Ｎ′−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）ヘ
キサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，
６−ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エ
タンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピ
ペラジノン），ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジニ−４−イル）セバケー
ト。
【００４６】２．７ 蓚酸ジアミド例えば４，４′−ジ
−オクチルオキシオキサアニリド、２，２′−ジ−オク
チルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサアニリ
ド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第
三ブチルオキサアニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサアニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブ
チル−２′−エトキサニリドおよび該化合物と２−エト
キシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチルオキサ
アニリドとの混合物，およびｏ−およびｐ−メトキシ−
二置換オキサアニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エ
トキシ−二置換オキサアニリドの混合物。２．８ ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン 、例えば
２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジン；２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリア
ジン；２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン；２，
４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−
トリアジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル〕−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリア
ジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェニル〕−６−（４−ブロモフェニ
ル）−ｓ−トリアジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ
−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル〕−６−
（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン；２，４−ビ
ス〔２，４−ジヒドロキシ−フェニル〕−６−（２，４
−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン。
−オクチルオキシオキサアニリド、２，２′−ジ−オク
チルオキシ−５，５′−ジ−第三ブチルオキサアニリ
ド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジ−第
三ブチルオキサアニリド、２−エトキシ−２′−エチル
オキサアニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−第三ブ
チル−２′−エトキサニリドおよび該化合物と２−エト
キシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブチルオキサ
アニリドとの混合物，およびｏ−およびｐ−メトキシ−
二置換オキサアニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エ
トキシ−二置換オキサアニリドの混合物。２．８ ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン 、例えば
２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−ト
リアジン；２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）
−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリア
ジン；２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）
−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン；２，
４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエト
キシ）フェニル〕−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−
トリアジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２
−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル〕−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリア
ジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒド
ロキシエトキシ）フェニル〕−６−（４−ブロモフェニ
ル）−ｓ−トリアジン；２，４−ビス〔２−ヒドロキシ
−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル〕−６−
（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン；２，４−ビ
ス〔２，４−ジヒドロキシ−フェニル〕−６−（２，４
−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン。
【００４７】３．金属不活性化剤 例えばN,N'−ジフェニル蓚酸ジアミド、N-サリチラル-
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾール、ビス（ベンジリ
デン）蓚酸ジヒドラジド。４．ホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リ（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,4-
ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシル
ペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−（2,4-ジ−
第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4-ジ−第三ブチルフェニル）4,4'
−ジフェニレンジホスフォナイト。5. 過酸化物を分解する化合物 例えば、β- チオジプロピオン酸のエステル、例えばラ
ウリル、ステアリル、ミリスチルもしくはトリデシルエ
ステル、メルカプト- ベンズイミダゾールもしくは2-メ
ルカプト- ベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル
−ジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、
ペンタエリトリトールテトラキス-(β- ドデシルメルカ
プト) −プロピオネート。6 . ヒドロキシアミン 例えば、N,N −ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N −
ジエチルヒドロキシルアミン、N,N −ジオクチルヒドロ
キシルアミン、N,N −ジラウリルヒドロキシルアミン、
N,N −ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N −ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、N,N −ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、N −ヘキサデシル− N− オクタ
デシルヒドロキシルアミン、N −ヘプタデシル− N−
オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンか
ら誘導されたN,N −ジ−アルキルヒドロキシルアミン。
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾール、ビス（ベンジリ
デン）蓚酸ジヒドラジド。４．ホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リ（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,4-
ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシル
ペンタエリトリトールジホスフィット、ジ−（2,4-ジ−
第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィ
ット、トリステアリル−ソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4-ジ−第三ブチルフェニル）4,4'
−ジフェニレンジホスフォナイト。5. 過酸化物を分解する化合物 例えば、β- チオジプロピオン酸のエステル、例えばラ
ウリル、ステアリル、ミリスチルもしくはトリデシルエ
ステル、メルカプト- ベンズイミダゾールもしくは2-メ
ルカプト- ベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチル
−ジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、
ペンタエリトリトールテトラキス-(β- ドデシルメルカ
プト) −プロピオネート。6 . ヒドロキシアミン 例えば、N,N −ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N −
ジエチルヒドロキシルアミン、N,N −ジオクチルヒドロ
キシルアミン、N,N −ジラウリルヒドロキシルアミン、
N,N −ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N −ジヘ
キサデシルヒドロキシルアミン、N,N −ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、N −ヘキサデシル− N− オクタ
デシルヒドロキシルアミン、N −ヘプタデシル− N−
オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンか
ら誘導されたN,N −ジ−アルキルヒドロキシルアミン。
【００４８】7. ニトロン 例えば、N −ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、
N −エチル−アルファ−メチルニトロン、N −オクチル
−アルファ−ヘプチルニトロン、N −ラウリル−アルフ
ァ−ウンデシルニトロン、N −テトラデシル−アルファ
−トリデシルニトロン、N −ヘキサデシル−アルファ−
ペンタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −ヘキサデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ペンタデシルニトロン、N −ヘプタデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから誘導され
たN,N −ジ−アルキルヒドロキシルアミンから誘導され
たニトロン。8 ．ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。9 ．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカ
リウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート、ま
たは亜鉛ピロカテコレート。10. 核剤 例えば、4 −第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェ
ニル酢酸。11．充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。12. その他の添加物 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎
加工剤、静電防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤、例えば
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチ
オジプロピオネート。
N −エチル−アルファ−メチルニトロン、N −オクチル
−アルファ−ヘプチルニトロン、N −ラウリル−アルフ
ァ−ウンデシルニトロン、N −テトラデシル−アルファ
−トリデシルニトロン、N −ヘキサデシル−アルファ−
ペンタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −ヘキサデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ペンタデシルニトロン、N −ヘプタデシル−アルファ−
ヘプタデシルニトロン、N −オクタデシル−アルファ−
ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから誘導され
たN,N −ジ−アルキルヒドロキシルアミンから誘導され
たニトロン。8 ．ポリアミド安定剤 例えば、沃化物及び／又はリン化合物及び二価マグネシ
ウムの塩と組み合わせた銅塩。9 ．塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジ
アミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラ
ジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級
脂肪酸のアルカリ金属およびアルカリ土類金属塩、例え
ば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグ
ネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート及びカ
リウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート、ま
たは亜鉛ピロカテコレート。10. 核剤 例えば、4 −第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェ
ニル酢酸。11．充填剤および強化剤 例えば、炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、アスベ
スト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸
化物および金属水酸化物、カーボンブラック、黒鉛。12. その他の添加物 例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、防炎
加工剤、静電防止剤、発泡剤およびチオ相乗剤、例えば
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチ
オジプロピオネート。
【００４９】特に興味あるフェノール系酸化防止剤は、
ｎ−オクタデシル3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシ
ヒドロシンナメート、ネオペンタンテトラリルテトラキ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナ
メート) 、ジ−ｎ−オクタデシル3,5 −ジ第三ブチル−
4 −ヒドロキシベンジルホスホネート、1,3,5 −トリス
( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジル) イソ
シアヌレート）、チオジエチレンビス( 3,5 −ジ第三ブ
チル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート、1,3,5 −ト
リメチル−2,4,6 −トリス( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −
ヒドロキシベンジル) ベンゼン、3,6 −ジオキサオクタ
メチレンビス( 3 −メチル−5 −ジ第三ブチル−4 −ヒ
ドロキシヒドロシンナメート) 、2,6 −ジ第三ブチル−
p −クレゾール、2,2'−エチリデン−ビス( 4,6 −ジ第
三ブチルフェノール) 、1,3,5 −トリス( 2,6 −ジメチ
ル−4 −第三ブチル−3 −ヒドロキシベンジル) イソシ
アヌレート、1,1,3 −トリス( 2 −メチル−4−ヒドロ
キシ−5 −第三ブチルフェニル) ブタン、1,3,5 −トリ
ス[ 2 −(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロ
シンナモイルオキシ) エチル] イソシアヌレート、3,5
−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジ
ル) メシトール、ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート) 、1 −( 3,
5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシアニリノ) −3,5 −
ジ(オクチルチオ) −s −トリアジン、Ｎ, Ｎ' −ヘキ
サメチレン−ビス( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキ
シヒドロシンナマイド) 、カルシウムビス( エチル 3,5
−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジルホスホネー
ト) 、エチレンビス[3,3−ジ( 3 −ジ第三ブチル−4 −
ヒドロキシフェニル) ブチレート] 、オクチル 3,5−ジ
第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート、ビス( 3,5−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシヒド
ロキシンナモイル) ヒドラジド、及びＮ,Ｎ' −ビス[2
− ( 3,5−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナ
モイロキシ) −エチル] −オキサミドからなる群より選
ばれる。
ｎ−オクタデシル3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシ
ヒドロシンナメート、ネオペンタンテトラリルテトラキ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナ
メート) 、ジ−ｎ−オクタデシル3,5 −ジ第三ブチル−
4 −ヒドロキシベンジルホスホネート、1,3,5 −トリス
( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジル) イソ
シアヌレート）、チオジエチレンビス( 3,5 −ジ第三ブ
チル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート、1,3,5 −ト
リメチル−2,4,6 −トリス( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −
ヒドロキシベンジル) ベンゼン、3,6 −ジオキサオクタ
メチレンビス( 3 −メチル−5 −ジ第三ブチル−4 −ヒ
ドロキシヒドロシンナメート) 、2,6 −ジ第三ブチル−
p −クレゾール、2,2'−エチリデン−ビス( 4,6 −ジ第
三ブチルフェノール) 、1,3,5 −トリス( 2,6 −ジメチ
ル−4 −第三ブチル−3 −ヒドロキシベンジル) イソシ
アヌレート、1,1,3 −トリス( 2 −メチル−4−ヒドロ
キシ−5 −第三ブチルフェニル) ブタン、1,3,5 −トリ
ス[ 2 −(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロ
シンナモイルオキシ) エチル] イソシアヌレート、3,5
−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジ
ル) メシトール、ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート) 、1 −( 3,
5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシアニリノ) −3,5 −
ジ(オクチルチオ) −s −トリアジン、Ｎ, Ｎ' −ヘキ
サメチレン−ビス( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキ
シヒドロシンナマイド) 、カルシウムビス( エチル 3,5
−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジルホスホネー
ト) 、エチレンビス[3,3−ジ( 3 −ジ第三ブチル−4 −
ヒドロキシフェニル) ブチレート] 、オクチル 3,5−ジ
第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジルメルカプトアセテ
ート、ビス( 3,5−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシヒド
ロキシンナモイル) ヒドラジド、及びＮ,Ｎ' −ビス[2
− ( 3,5−ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナ
モイロキシ) −エチル] −オキサミドからなる群より選
ばれる。
【００５０】最も興味のあるフェノール系酸化防止剤
は、ネオペンタンテトラリルテトラキス（3,5 −ジ第三
ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−オ
クタデシル3,5 −ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒド
ロシンナメート、1,3,5 −トリメチル−2,4,6 −トリス
( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジル) ベン
ゼン、1,3,5 −トリ( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロ
キシベンジル) イソシアヌレート、2,6 −ジ第三ブチル
−p −クレゾールもしくは2,2'−エチリデン−ビス(4,6
−ジ第三−ブチルフェノール) である。
は、ネオペンタンテトラリルテトラキス（3,5 −ジ第三
ブチル−4 −ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−オ
クタデシル3,5 −ジ−第三ブチル−4 −ヒドロキシヒド
ロシンナメート、1,3,5 −トリメチル−2,4,6 −トリス
( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロキシベンジル) ベン
ゼン、1,3,5 −トリ( 3,5 −ジ第三ブチル−4 −ヒドロ
キシベンジル) イソシアヌレート、2,6 −ジ第三ブチル
−p −クレゾールもしくは2,2'−エチリデン−ビス(4,6
−ジ第三−ブチルフェノール) である。
【００５１】本発明において製造される積層熱可塑性プ
ラスチックは、例えば二重層ポリカーボネートシートと
して使用されるか、または最終物品へと更に加工され
る。
ラスチックは、例えば二重層ポリカーボネートシートと
して使用されるか、または最終物品へと更に加工され
る。
【００５２】
【実施例】以下の実施例は、例示のみの目的のためのも
のであり、いかなる方法によっても本発明の性質または
範囲を制限するものと解釈されるべきものではない。
のであり、いかなる方法によっても本発明の性質または
範囲を制限するものと解釈されるべきものではない。
【００５３】実施例１−４ 以下の実施例は、積層ポリカーボネートプラック（紫外
線吸収剤が同時押出物品において製造されたような薄い
表面保護層にのみ混和されている）において、米国特許
明細書第５１０８８３５号のビスベンゾトリアゾールよ
りも、本発明のビスベンゾフェノンが卓越していること
を明示するものである。
線吸収剤が同時押出物品において製造されたような薄い
表面保護層にのみ混和されている）において、米国特許
明細書第５１０８８３５号のビスベンゾトリアゾールよ
りも、本発明のビスベンゾフェノンが卓越していること
を明示するものである。
【００５４】積層プラックは、５重量％の紫外線吸収剤
を含有する１ｍｉｌ（０．０２５４ｍｍ）ポリカーボネ
ートフィルム（商標名ＬＥＸＡＮ １４１−１１１Ｎ、
ゼネラルエレクトリック社）を、ワバッシ（Wabash) 圧
縮成形機での〔３５０°Ｆ（１７７℃）にて、１０００
ｐｓｉ（７０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて３分間、３０００ｐｓ
ｉ（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて３分間、そしてその後冷
却しながら３０００ｐｓｉ（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて
３分間の圧縮成形を介して、非−紫外線安定化１２５ｍ
ｉｌ（３．１８ｍｍ）ポリカーボネートプラック（商標
名ＬＥＸＡＮ１４１−１１Ｎ）にアニールすることによ
り製造した。プラックはその後アトラスＣＩ６５キセノ
ンウエザロメーター中において、ＡＳＴＭ名称Ｇ２６−
８８試験方法Ｃを使用して、入射光に対向する保護層に
ついて曝露された。重合体の崩壊はＡＣＳ分光光度計で
の黄色度指数（ＹＩ）を計測することにより測定した。
を含有する１ｍｉｌ（０．０２５４ｍｍ）ポリカーボネ
ートフィルム（商標名ＬＥＸＡＮ １４１−１１１Ｎ、
ゼネラルエレクトリック社）を、ワバッシ（Wabash) 圧
縮成形機での〔３５０°Ｆ（１７７℃）にて、１０００
ｐｓｉ（７０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて３分間、３０００ｐｓ
ｉ（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて３分間、そしてその後冷
却しながら３０００ｐｓｉ（２１０ｋｇ／ｃｍ2 ）にて
３分間の圧縮成形を介して、非−紫外線安定化１２５ｍ
ｉｌ（３．１８ｍｍ）ポリカーボネートプラック（商標
名ＬＥＸＡＮ１４１−１１Ｎ）にアニールすることによ
り製造した。プラックはその後アトラスＣＩ６５キセノ
ンウエザロメーター中において、ＡＳＴＭ名称Ｇ２６−
８８試験方法Ｃを使用して、入射光に対向する保護層に
ついて曝露された。重合体の崩壊はＡＣＳ分光光度計で
の黄色度指数（ＹＩ）を計測することにより測定した。
【００５５】以下の表は、ＹＩが１０に達するまでに必
要とされる曝露時間数を示す。
要とされる曝露時間数を示す。
【００５６】データは、最新の技術現状に対する、ポリ
マー安定化のこの方法において、本発明のビスベンゾフ
ェノンの際立った卓越を明らかに示すものである。 実施例* ＹＩ＝１０に達するまでの時間 １ ２００ ２ １３５０ ３ １９５０ ４ ＞２０００* 実施例１は対照でありまた保護層において紫外線吸収
剤を含有していない。
マー安定化のこの方法において、本発明のビスベンゾフ
ェノンの際立った卓越を明らかに示すものである。 実施例* ＹＩ＝１０に達するまでの時間 １ ２００ ２ １３５０ ３ １９５０ ４ ＞２０００* 実施例１は対照でありまた保護層において紫外線吸収
剤を含有していない。
【００５７】実施例２は保護層において次式 で表される米国特許明細書第５１０８８３５号のビスベ
ンゾトリアゾール５％を含有する。
ンゾトリアゾール５％を含有する。
【００５８】実施例３は保護層において、次式 （式中、ｎは６を表す。）で表されるヘキシル架橋され
たビスベンゾフェノン５％を含有する。
たビスベンゾフェノン５％を含有する。
【００５９】実施例４は保護層において、次式 （式中、ｎは１０を表す。）のデシル架橋されたビスベ
ンゾフェノン５％を含有する。
ンゾフェノン５％を含有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 69:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 9:00 4Ｆ (72)発明者 ジェームス エッチ． ボットキン アメリカ合衆国，07055 ニュージャージ ー， パセーク，リッジアベニュー 111 (72)発明者 カルメン ヘンドリックス アメリカ合衆国，10606 ニューヨーク, ホワイトプレイン，バトルアベニュー 194
Claims (13)
- 【請求項１】 外側の紫外線吸収性被覆層の中に有効安
定化量の次式 〔式中、Ｘは炭素原子数１ないし１６の直鎖または枝分
れ鎖アルキレン基、ｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレンま
たは式−ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 〕n −、−ＣＨ
2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〔ＯＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）〕n −また
は−ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 〔ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2
ＣＨ2 〕n −（式中、ｎは１−４を表す。）で表される
オキサ−アルカンジイル基を表し、Ｙは水素原子、炭素
原子数１ないし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基を
表し、およびＺは水素原子、塩素原子、炭素原子数１な
いし１８の直鎖または枝分れ鎖アルキル基または炭素原
子数１ないし１８のアルコキシ基を表す。〕で表される
ビスベンゾフェノン紫外線吸収剤を混和することよりな
る、同時押出により製造された多層、熱可塑性物品を安
定化する方法。 - 【請求項２】 Ｘは炭素原子数２ないし１０のアルキレ
ン基を表すところの請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 Ｙは水素原子または第三ブチル基を表す
ところの請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 Ｚは水素原子、塩素原子、第三ブチル基
またはメトキシ基を表すところの請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 Ｘは炭素原子数３ないし１０のアルキレ
ン基を表し、およびＹおよびＺは双方とも水素原子を表
すところの請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 熱可塑性物品は０．１ないし１０ｍｉｌ
（０．００２５４ないし０．２５４ｍｍ）厚の熱可塑性
層により被覆されており、該層において、ビスベンゾフ
ェノン紫外線吸収剤０．１ないし２０重量％を含有して
いるところの請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 熱可塑性層は０．１ないし５ｍｉｌ
（０．００２５４ないし０．１２７ｍｍ）厚であるとこ
ろの請求項６記載の方法。 - 【請求項８】 該層はビスベンゾフェノン２ないし１５
重量％を含有しているところの請求項６記載の方法。 - 【請求項９】 該層はビスベンゾフェノン５ないし１０
重量％を含有しているところの請求項８記載の方法。 - 【請求項１０】 熱可塑性物品および／または被覆層の
ための熱可塑性樹脂は、芳香族ポリカーボネート、ポリ
エステル、ポリエステルカーボネート、ポリフェニレン
オキサイド、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエ
チレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、およ
び、ポリブタジエンとスチレンおよびアクリロニトリル
との、およびスチレンと無水マレイン酸とのコポリマー
およびブレンドからなる群から選択されるところの請求
項１記載の方法。 - 【請求項１１】 熱可塑性樹脂は２，２−ビス−（４−
ヒドロキシ−フェニル）プロパン（ビスフェノール
Ａ）；２，４−ビス−（４−ヒドロキシ−フェニル）−
２−メチルブタン；１，１−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン；２，２−ビス−（３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；４，４’−スル
ホニルジフェノール；および１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サンからなる群から選択された二価フェノールをベース
としたポリカーボネートであるところの請求項１０記載
の方法。 - 【請求項１２】 物品および被覆層の双方のための熱可
塑性樹脂はビスフェノールＡをベースとしたポリカーボ
ネートであるところの請求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】 請求項１記載の方法により製造および
安定化された安定化熱可塑性物品。
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