JPH06300509A - 絶縁性被膜または絶縁部材の厚さを測定する装置およびその測定方法 - Google Patents
絶縁性被膜または絶縁部材の厚さを測定する装置およびその測定方法Info
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- JPH06300509A JPH06300509A JP11235493A JP11235493A JPH06300509A JP H06300509 A JPH06300509 A JP H06300509A JP 11235493 A JP11235493 A JP 11235493A JP 11235493 A JP11235493 A JP 11235493A JP H06300509 A JPH06300509 A JP H06300509A
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Abstract
(57)【要約】
【目 的】 測定開始に行なう0調整の回数が少なく、
金属板がたとえ上下にぶれた状態でも正確な厚さが測定
できる金属板上に形成された絶縁性被膜、または絶縁部
材の厚さを測定する装置およびその測定方法を提供す
る。 【構 成】 センサ部(11)は、静電容量電極(1
2)と渦電流電極(13)とを一組として同じ高さに設
定されている。補正値設定部は、前記センサ部(11)
における渦電流電極(13)によって金属板(15)の
表面とセンサ部(11)との変位を測定する。静電容量
検出部は、金属板(15)の表面とセンサ部(11)と
の間の静電容量を測定する。厚さ演算部は、前記静電容
量検出部から得られた値を前記補正値設定部から得られ
た補正値によって金属板(15)上の絶縁性被膜(1
6)の厚さを演算する。また、絶縁部材だけの場合で
も、上記と同様に厚さを測定できる。
金属板がたとえ上下にぶれた状態でも正確な厚さが測定
できる金属板上に形成された絶縁性被膜、または絶縁部
材の厚さを測定する装置およびその測定方法を提供す
る。 【構 成】 センサ部(11)は、静電容量電極(1
2)と渦電流電極(13)とを一組として同じ高さに設
定されている。補正値設定部は、前記センサ部(11)
における渦電流電極(13)によって金属板(15)の
表面とセンサ部(11)との変位を測定する。静電容量
検出部は、金属板(15)の表面とセンサ部(11)と
の間の静電容量を測定する。厚さ演算部は、前記静電容
量検出部から得られた値を前記補正値設定部から得られ
た補正値によって金属板(15)上の絶縁性被膜(1
6)の厚さを演算する。また、絶縁部材だけの場合で
も、上記と同様に厚さを測定できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、静電容量方式と渦電流
方式とのハイブリッド構造によって、金属板上に形成さ
れた絶縁性被膜、または絶縁部材の厚さを測定する装置
およびその測定方法に関するものである。近年、金属板
に付ける接着剤の厚さ、金属板に塗るインクの厚さ、金
属板を絶縁するコーティングの厚さ等の絶縁物の精度の
高い厚さ管理が要望されるようになった。そして、金属
板に塗るインク、コーティング等は、金属板が高速に移
動する間に処理されている。絶縁フイルム等を作製する
場合、作製中における厚さ管理を行なうことが必要にな
ってきた。そこで、本発明は、上記のような高速移動中
の金属板上に形成された絶縁性被膜、または絶縁部材の
厚さを高い精度で測定できる測定装置および測定方法を
提供するものである。
方式とのハイブリッド構造によって、金属板上に形成さ
れた絶縁性被膜、または絶縁部材の厚さを測定する装置
およびその測定方法に関するものである。近年、金属板
に付ける接着剤の厚さ、金属板に塗るインクの厚さ、金
属板を絶縁するコーティングの厚さ等の絶縁物の精度の
高い厚さ管理が要望されるようになった。そして、金属
板に塗るインク、コーティング等は、金属板が高速に移
動する間に処理されている。絶縁フイルム等を作製する
場合、作製中における厚さ管理を行なうことが必要にな
ってきた。そこで、本発明は、上記のような高速移動中
の金属板上に形成された絶縁性被膜、または絶縁部材の
厚さを高い精度で測定できる測定装置および測定方法を
提供するものである。
【0002】
【従来の技術】図3は渦電流を利用してセンサ部と金属
盤との間の距離を測定する原理を説明するための図であ
る。図3において、距離測定装置は、金属盤31に対向
して配置されたコイル32と、測定部33とから構成さ
れる。そして、測定部33は、前記コイル32に高周波
電流を流すための発振回路331と、高周波電流がコイ
ル32に流されることによって、前記金属盤31に渦電
流を発生させ、この渦電流によって変化するコイル32
のインピーダンスを検出する検出回路332と、被測定
物の種類、あるいはコイル32の寸法等を考慮して金属
盤31とコイル32までの距離hを演算する演算回路3
33と、各回路に電流供給する電源回路334とから構
成される。
盤との間の距離を測定する原理を説明するための図であ
る。図3において、距離測定装置は、金属盤31に対向
して配置されたコイル32と、測定部33とから構成さ
れる。そして、測定部33は、前記コイル32に高周波
電流を流すための発振回路331と、高周波電流がコイ
ル32に流されることによって、前記金属盤31に渦電
流を発生させ、この渦電流によって変化するコイル32
のインピーダンスを検出する検出回路332と、被測定
物の種類、あるいはコイル32の寸法等を考慮して金属
盤31とコイル32までの距離hを演算する演算回路3
33と、各回路に電流供給する電源回路334とから構
成される。
【0003】図3に示す距離測定装置は、発振回路33
1から金属盤31に対向して配置されたコイル32に電
流を流す。コイル32に流れた電流は、電磁誘導によっ
て、金属盤31の表面に電界および渦電流を発生させ
る。当該渦電流は、コイル32に誘導電流を発生させ
る。測定部33における検出回路332は、このコイル
32の検出回路332から見たインピーダンスを検出す
る。コイル32の検出回路332から見たインピーダン
スは、コイル32と金属盤31との距離によって変化す
る。したがって、演算回路333は、金属盤31の導電
率、透磁率、厚さ、温度、コイルの大きさ等を考慮して
補正すると、演算回路333の出力電圧34から金属盤
31とコイル32との間の距離がμm単位で測定でき
る。
1から金属盤31に対向して配置されたコイル32に電
流を流す。コイル32に流れた電流は、電磁誘導によっ
て、金属盤31の表面に電界および渦電流を発生させ
る。当該渦電流は、コイル32に誘導電流を発生させ
る。測定部33における検出回路332は、このコイル
32の検出回路332から見たインピーダンスを検出す
る。コイル32の検出回路332から見たインピーダン
スは、コイル32と金属盤31との距離によって変化す
る。したがって、演算回路333は、金属盤31の導電
率、透磁率、厚さ、温度、コイルの大きさ等を考慮して
補正すると、演算回路333の出力電圧34から金属盤
31とコイル32との間の距離がμm単位で測定でき
る。
【0004】図4は静電容量方式における厚み計の原理
を説明するための図である。図4において、厚み計は、
静電容量を測るために、主電極41と対向電極42とか
ら構成される。金属板43′上に形成された絶縁性被膜
43は、主電極41と対向電極42との間に配置され
る。前記対向電極42は、基台44等の上に載置あるい
は取り付けられている。そして、基台44に設けられた
摺動杆45には、摺動自在に上下方向に動く支持杆46
が取り付けられている。当該支持杆46には、前記主電
極41を絶縁された状態で保持している外部ホルダ47
が固定されている。測定装置48は、主電極41および
対向電極42に電圧を印加する図示されていない電源回
路、発振回路、静電容量を検出する検出回路、および厚
さを演算する演算回路から構成されている。
を説明するための図である。図4において、厚み計は、
静電容量を測るために、主電極41と対向電極42とか
ら構成される。金属板43′上に形成された絶縁性被膜
43は、主電極41と対向電極42との間に配置され
る。前記対向電極42は、基台44等の上に載置あるい
は取り付けられている。そして、基台44に設けられた
摺動杆45には、摺動自在に上下方向に動く支持杆46
が取り付けられている。当該支持杆46には、前記主電
極41を絶縁された状態で保持している外部ホルダ47
が固定されている。測定装置48は、主電極41および
対向電極42に電圧を印加する図示されていない電源回
路、発振回路、静電容量を検出する検出回路、および厚
さを演算する演算回路から構成されている。
【0005】このような厚み計において、たとえば絶縁
性被膜43が形成されている金属板43′は、主電極4
1と対向電極42との間に挿入される。この場合の静電
容量は、絶縁性被膜43が形成された金属板43′を挿
入する前と比較し変化する。したがって、厚さの判って
いる上記絶縁性被膜43の静電容量を予め計測してお
き、この静電容量を基にして、絶縁性被膜43から検出
された静電容量値により、測定装置48内の演算回路が
比較演算して当該絶縁性被膜43の厚さを求める。
性被膜43が形成されている金属板43′は、主電極4
1と対向電極42との間に挿入される。この場合の静電
容量は、絶縁性被膜43が形成された金属板43′を挿
入する前と比較し変化する。したがって、厚さの判って
いる上記絶縁性被膜43の静電容量を予め計測してお
き、この静電容量を基にして、絶縁性被膜43から検出
された静電容量値により、測定装置48内の演算回路が
比較演算して当該絶縁性被膜43の厚さを求める。
【0006】また、近年、移動中の金属板上に形成され
た絶縁性被膜43等の塗膜の厚さを測定する必要が出て
きた。図5は従来例における測定方法で、移動中の金属
板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための説
明図である。図5において、金属ローラ52は、回転軸
53によって回転される。また、金属ローラ52は、そ
の表面に絶縁性被膜54をコーティングしながら回転す
る。そして、回転中の金属ローラ52上に形成された絶
縁性被膜54の厚さは、静電容量電極51と金属ローラ
52とに電圧を印加して計測される静電容量によって決
まる。
た絶縁性被膜43等の塗膜の厚さを測定する必要が出て
きた。図5は従来例における測定方法で、移動中の金属
板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための説
明図である。図5において、金属ローラ52は、回転軸
53によって回転される。また、金属ローラ52は、そ
の表面に絶縁性被膜54をコーティングしながら回転す
る。そして、回転中の金属ローラ52上に形成された絶
縁性被膜54の厚さは、静電容量電極51と金属ローラ
52とに電圧を印加して計測される静電容量によって決
まる。
【0007】図6は従来例における測定方法で、金属板
上に形成された幅広の絶縁性被膜の厚さを測定するため
の説明図である。図6において、静電容量電極用支持部
材61には、たとえば静電容量電極62ないし65がセ
ンサ部を下方に向けて面一に設置されている。金属板6
6の表面に形成されている絶縁性被膜67の厚さは、絶
縁性被膜67の各所で測定され、この値が、たとえば厚
みを制御するために制御装置に送られる。また、絶縁部
材のみの厚さは、絶縁部材が挿入された静電容量電極6
2と基台68との間の静電容量を測定し、この値と予め
厚さの判っている絶縁部材を挿入した場合の静電容量値
とによって演算される。
上に形成された幅広の絶縁性被膜の厚さを測定するため
の説明図である。図6において、静電容量電極用支持部
材61には、たとえば静電容量電極62ないし65がセ
ンサ部を下方に向けて面一に設置されている。金属板6
6の表面に形成されている絶縁性被膜67の厚さは、絶
縁性被膜67の各所で測定され、この値が、たとえば厚
みを制御するために制御装置に送られる。また、絶縁部
材のみの厚さは、絶縁部材が挿入された静電容量電極6
2と基台68との間の静電容量を測定し、この値と予め
厚さの判っている絶縁部材を挿入した場合の静電容量値
とによって演算される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図3に示す距離測定装
置は、距離を測定するもので、金属盤31上に形成され
た絶縁性被膜の厚さを測定することができない。また、
図4に示す静電容量計は、金属板43′上に形成された
絶縁性被膜43の厚みを金属板43′の上下のぶれを生
じない限りにおいて測定することができる。しかし、絶
縁性被膜43が金属板43′上に形成されている場合
は、移動中に常に一定の高さにあるとは限らない。その
ため、金属板43′上に形成されている絶縁性被膜43
は、上下にぶれた状態で移動していると、基準静電容量
が変化してしまうため、正確な厚みが測定できないとい
う問題を有した。特に、図5に示すような金属ローラ5
2の表面に形成される絶縁性被膜54は、金属ローラ5
2の回転軸53が、たとえば図示矢印55の方向に振動
した場合、静電容量電極51によって計測された厚みに
上記と同様な理由によって誤差ができるという問題を有
する。
置は、距離を測定するもので、金属盤31上に形成され
た絶縁性被膜の厚さを測定することができない。また、
図4に示す静電容量計は、金属板43′上に形成された
絶縁性被膜43の厚みを金属板43′の上下のぶれを生
じない限りにおいて測定することができる。しかし、絶
縁性被膜43が金属板43′上に形成されている場合
は、移動中に常に一定の高さにあるとは限らない。その
ため、金属板43′上に形成されている絶縁性被膜43
は、上下にぶれた状態で移動していると、基準静電容量
が変化してしまうため、正確な厚みが測定できないとい
う問題を有した。特に、図5に示すような金属ローラ5
2の表面に形成される絶縁性被膜54は、金属ローラ5
2の回転軸53が、たとえば図示矢印55の方向に振動
した場合、静電容量電極51によって計測された厚みに
上記と同様な理由によって誤差ができるという問題を有
する。
【0009】さらに、金属板66上に形成された絶縁性
被膜67の厚みは、図6に示す複数の静電容量電極62
ないし65によって、幅方向の各所において正確に測定
することができる。しかし、金属板66上に形成された
絶縁性被膜67は、移動中に基台68から上下にぶれた
状態になることがある。この場合、金属板66と基台6
8との間の距離71を測定して、この値から正確な絶縁
性被膜67の厚みを補正することが困難である。したが
って、図6に示す測定装置は、距離71を無視した距離
69と測定された静電容量とから絶縁性被膜67の厚さ
70を演算している。
被膜67の厚みは、図6に示す複数の静電容量電極62
ないし65によって、幅方向の各所において正確に測定
することができる。しかし、金属板66上に形成された
絶縁性被膜67は、移動中に基台68から上下にぶれた
状態になることがある。この場合、金属板66と基台6
8との間の距離71を測定して、この値から正確な絶縁
性被膜67の厚みを補正することが困難である。したが
って、図6に示す測定装置は、距離71を無視した距離
69と測定された静電容量とから絶縁性被膜67の厚さ
70を演算している。
【0010】また、図6に示す従来例における静電容量
によって、金属板66上に形成された絶縁性被膜67の
厚さを測定する場合、静電容量電極62ないし65と基
台68との間隔は、時間、日月等の温度変化によって変
化する。したがって、このような厚み計は、正しい距離
を常に調整(0調整)することによって、高い精度の測
定を行なっていた。しかし、近年、さらに高い精度の測
定が要望されるようになり、一日における温度差による
誤差が問題になる。この場合は、一日に何回か製造ライ
ンを止めて0調整を行なう必要があり、生産性を低下さ
せるという問題を有した。
によって、金属板66上に形成された絶縁性被膜67の
厚さを測定する場合、静電容量電極62ないし65と基
台68との間隔は、時間、日月等の温度変化によって変
化する。したがって、このような厚み計は、正しい距離
を常に調整(0調整)することによって、高い精度の測
定を行なっていた。しかし、近年、さらに高い精度の測
定が要望されるようになり、一日における温度差による
誤差が問題になる。この場合は、一日に何回か製造ライ
ンを止めて0調整を行なう必要があり、生産性を低下さ
せるという問題を有した。
【0011】さらに、絶縁部材のみの厚さは、その絶縁
部材が静電容量電極62と基台68との間において、上
下方向に移動したとしても、影響されずに正確に測定さ
れる。しかし、静電容量電極62ないし65の高さが変
化する場合があり、絶縁部材の厚さは、この高さを常に
考慮して演算を行なう必要がある。そのため、静電容量
電極62と基台68との距離を常に一定になるような0
調整が頻繁に行なわねばならないという問題を有してい
る。
部材が静電容量電極62と基台68との間において、上
下方向に移動したとしても、影響されずに正確に測定さ
れる。しかし、静電容量電極62ないし65の高さが変
化する場合があり、絶縁部材の厚さは、この高さを常に
考慮して演算を行なう必要がある。そのため、静電容量
電極62と基台68との距離を常に一定になるような0
調整が頻繁に行なわねばならないという問題を有してい
る。
【0012】以上のような問題を解決するために、本発
明は、測定開始に行なう0調整の回数が少なく、金属板
がたとえ上下にぶれた状態でも正確な厚さが測定できる
金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する装置
およびその測定方法を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、センサ部が上下方向に移動しても0調整
を行なう必要がない絶縁部材の厚さを測定する装置およ
びその測定方法を提供することを目的とする。
明は、測定開始に行なう0調整の回数が少なく、金属板
がたとえ上下にぶれた状態でも正確な厚さが測定できる
金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する装置
およびその測定方法を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、センサ部が上下方向に移動しても0調整
を行なう必要がない絶縁部材の厚さを測定する装置およ
びその測定方法を提供することを目的とする。
【0013】
(第1発明)前記目的を達成するために、本発明におけ
る金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する装
置は、静電容量電極(12)と渦電流電極(13)とを
一組としたセンサ部(11)と、当該センサ部(11)
における渦電流電極(13)によって金属板(15)の
表面とセンサ部(11)との変位を測定し、金属板(1
5)の表面とセンサ部(11)との補正距離を得る補正
値設定部と、前記センサ部(11)における静電容量電
極(12)によって金属板(15)の表面とセンサ部
(11)との間の静電容量を測定する静電容量検出部
と、当該静電容量検出部から得られた値を前記補正値設
定部から得られた補正値によって金属板(15)上の絶
縁性被膜(16)の厚さを演算する厚さ演算部とから構
成される。
る金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する装
置は、静電容量電極(12)と渦電流電極(13)とを
一組としたセンサ部(11)と、当該センサ部(11)
における渦電流電極(13)によって金属板(15)の
表面とセンサ部(11)との変位を測定し、金属板(1
5)の表面とセンサ部(11)との補正距離を得る補正
値設定部と、前記センサ部(11)における静電容量電
極(12)によって金属板(15)の表面とセンサ部
(11)との間の静電容量を測定する静電容量検出部
と、当該静電容量検出部から得られた値を前記補正値設
定部から得られた補正値によって金属板(15)上の絶
縁性被膜(16)の厚さを演算する厚さ演算部とから構
成される。
【0014】(第2発明)本発明における絶縁部材の厚
さを測定する装置は、静電容量電極(12)と渦電流電
極(13)とを一組としたセンサ部(11)と、当該セ
ンサ部(11)における渦電流電極(13)によって金
属製基台(14′)表面とセンサ部(11)との変位を
測定し、金属製基台(14′)表面とセンサ部(11)
との距離を得る距離設定部と、前記センサ部(11)に
おける静電容量電極(12)によって金属製基台(1
4′)表面とセンサ部(11)との間の静電容量を測定
する静電容量検出部と、当該静電容量検出部から得られ
た値を前記距離設定部から得られた値によって上記金属
製基台(14′)とセンサ部(11)間に存在する絶縁
部材の厚さを演算する厚さ演算部とから構成される。
さを測定する装置は、静電容量電極(12)と渦電流電
極(13)とを一組としたセンサ部(11)と、当該セ
ンサ部(11)における渦電流電極(13)によって金
属製基台(14′)表面とセンサ部(11)との変位を
測定し、金属製基台(14′)表面とセンサ部(11)
との距離を得る距離設定部と、前記センサ部(11)に
おける静電容量電極(12)によって金属製基台(1
4′)表面とセンサ部(11)との間の静電容量を測定
する静電容量検出部と、当該静電容量検出部から得られ
た値を前記距離設定部から得られた値によって上記金属
製基台(14′)とセンサ部(11)間に存在する絶縁
部材の厚さを演算する厚さ演算部とから構成される。
【0015】(第3発明)本発明における金属板上に形
成された絶縁性被膜の厚さを測定する方法は、渦電流計
によってセンサ部(11)と被測定部分における金属板
(15)の表面との変位、および静電容量計によってセ
ンサ部(11)と金属板(15)の表面との静電容量を
測定した後、渦電流計によって計測されたセンサ部(1
1)と金属板(15)の表面との変位に基づいて前記静
電容量を補正することを特徴とする。
成された絶縁性被膜の厚さを測定する方法は、渦電流計
によってセンサ部(11)と被測定部分における金属板
(15)の表面との変位、および静電容量計によってセ
ンサ部(11)と金属板(15)の表面との静電容量を
測定した後、渦電流計によって計測されたセンサ部(1
1)と金属板(15)の表面との変位に基づいて前記静
電容量を補正することを特徴とする。
【0016】(第4発明)本発明における絶縁部材の厚
さを測定する方法は、渦電流計によってセンサ部(1
1)と金属製基台(14′)の表面との変位、および静
電容量計によってセンサ部(11)と金属製基台(1
4′)表面との間の静電容量を測定した後、渦電流計に
よって計測されたセンサ部(11)と金属製基台(1
4′)表面との変位に基づいて前記静電容量を補正する
ことを特徴とする。
さを測定する方法は、渦電流計によってセンサ部(1
1)と金属製基台(14′)の表面との変位、および静
電容量計によってセンサ部(11)と金属製基台(1
4′)表面との間の静電容量を測定した後、渦電流計に
よって計測されたセンサ部(11)と金属製基台(1
4′)表面との変位に基づいて前記静電容量を補正する
ことを特徴とする。
【0017】
【作 用】本発明は、高速で移動中の被測定物が上下
にぶれても金属板と電極との変位を正確に測定できる渦
電流計に着目して、この渦電流計と被測定物の厚みを測
定する静電容量計とを組み合わせたものである。すなわ
ち、金属板上に形成されている絶縁性被膜の厚さを測定
するに際し、補正値設定部は、金属板とセンサ部との変
位をセンサ部における渦電流電極によって測定する。そ
の後、静電容量検出部は、静電容量電極と金属板表面と
の間に、金属板上に形成された絶縁性被膜を介した場合
の静電容量を測定する。さらに、厚さ演算部は、補正値
設定部で得られた補正値を基にして静電容量検出部によ
って検出された静電容量を補正して、金属板上に形成さ
れた絶縁性被膜の厚さを演算する。以上のように、本発
明は、静電容量電極と渦電流電極とが一対になった測定
系によって、たとえば金属板が移動中に上下にぶれを生
じた状態でも、金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ
を正確に測定することができる。
にぶれても金属板と電極との変位を正確に測定できる渦
電流計に着目して、この渦電流計と被測定物の厚みを測
定する静電容量計とを組み合わせたものである。すなわ
ち、金属板上に形成されている絶縁性被膜の厚さを測定
するに際し、補正値設定部は、金属板とセンサ部との変
位をセンサ部における渦電流電極によって測定する。そ
の後、静電容量検出部は、静電容量電極と金属板表面と
の間に、金属板上に形成された絶縁性被膜を介した場合
の静電容量を測定する。さらに、厚さ演算部は、補正値
設定部で得られた補正値を基にして静電容量検出部によ
って検出された静電容量を補正して、金属板上に形成さ
れた絶縁性被膜の厚さを演算する。以上のように、本発
明は、静電容量電極と渦電流電極とが一対になった測定
系によって、たとえば金属板が移動中に上下にぶれを生
じた状態でも、金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ
を正確に測定することができる。
【0018】また、センサ部と金属製基台との間に挿入
された絶縁部材の厚さは、次のようにして測定される。
すなわち、センサ部における渦電流電極は、センサ部と
金属製基台との変位を測定する。次に、センサ部におけ
る静電容量電極は、前記絶縁部材が挿入された状態で、
センサ部と金属製基台との間の静電容量を測定する。そ
して、絶縁部材の厚さは、前記センサ部と金属製基台と
の変位を基にして、前記静電容量を補正することによっ
て得られる。本発明は、絶縁部材の測定に際し、センサ
部における渦電流電極によってセンサ部と金属製基台と
の変位を測定するため、センサ部が上下方向に移動して
も、絶縁部材の厚さを正確に測定することができる。ま
た、本発明は、センサ部と金属製基台との変位を測定し
ながら、静電容量を補正して正確な厚みを演算するた
め、センサ部と金属製基台との変位に対して0調整を行
なう必要がない。
された絶縁部材の厚さは、次のようにして測定される。
すなわち、センサ部における渦電流電極は、センサ部と
金属製基台との変位を測定する。次に、センサ部におけ
る静電容量電極は、前記絶縁部材が挿入された状態で、
センサ部と金属製基台との間の静電容量を測定する。そ
して、絶縁部材の厚さは、前記センサ部と金属製基台と
の変位を基にして、前記静電容量を補正することによっ
て得られる。本発明は、絶縁部材の測定に際し、センサ
部における渦電流電極によってセンサ部と金属製基台と
の変位を測定するため、センサ部が上下方向に移動して
も、絶縁部材の厚さを正確に測定することができる。ま
た、本発明は、センサ部と金属製基台との変位を測定し
ながら、静電容量を補正して正確な厚みを演算するた
め、センサ部と金属製基台との変位に対して0調整を行
なう必要がない。
【0019】
【実 施 例】図1(イ)は本発明の一実施例で、移動
中の金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する
ための原理説明図である。センサ部11は、静電容量電
極12と、渦電流電極13とが一対になって構成され
る。また、静電容量電極12および渦電流電極13は、
たとえば絶縁性部材中に一体に埋め込まれたり、あるい
は周知の固着手段によって着脱自在に取り付けられる。
さらに、静電容量電極12および渦電流電極13は、取
り付け位置を変えられるように摺動できるようにするこ
ともできる。そして、静電容量電極12と渦電流電極1
3との下面は、同一面になるように構成される。静電容
量電極12と渦電流電極13とは、その出力17を介し
て図示されていない測定装置に接続されている。
中の金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する
ための原理説明図である。センサ部11は、静電容量電
極12と、渦電流電極13とが一対になって構成され
る。また、静電容量電極12および渦電流電極13は、
たとえば絶縁性部材中に一体に埋め込まれたり、あるい
は周知の固着手段によって着脱自在に取り付けられる。
さらに、静電容量電極12および渦電流電極13は、取
り付け位置を変えられるように摺動できるようにするこ
ともできる。そして、静電容量電極12と渦電流電極1
3との下面は、同一面になるように構成される。静電容
量電極12と渦電流電極13とは、その出力17を介し
て図示されていない測定装置に接続されている。
【0020】基台14上では、絶縁性被膜16が形成さ
れている金属板15が移動する。絶縁性被膜16が形成
されている金属板15は、移動中に、たとえば図1で示
すように、変位aだけ浮くことがある。しかし、測定装
置は、予め設定されている距離a+bにおける静電容量
として絶縁性被膜16の厚さを演算する。そのため、測
定装置が演算して得られた厚さと、実際の絶縁性被膜1
6の厚さとには、誤差が生じる。したがって、本実施例
は、まず、渦電流電極13によって、センサ部11の下
部と金属板15の表面との変位cを測定する。図示され
ていない測定装置の補正値設定部は、上記変位cを基に
補正値を設定する。すなわち、渦電流電極13の変位測
定によって、金属板15とセンサ部11との正しい変位
cが得られる。その後、図示されていない測定装置の静
電容量検出部によって、静電容量電極12と金属板15
との間の静電容量bが測定される。図示されていない測
定装置の厚さ演算部は、基準となる変位cにおける静電
容量bを基にした正確な絶縁性被膜16の厚さdを演算
する。
れている金属板15が移動する。絶縁性被膜16が形成
されている金属板15は、移動中に、たとえば図1で示
すように、変位aだけ浮くことがある。しかし、測定装
置は、予め設定されている距離a+bにおける静電容量
として絶縁性被膜16の厚さを演算する。そのため、測
定装置が演算して得られた厚さと、実際の絶縁性被膜1
6の厚さとには、誤差が生じる。したがって、本実施例
は、まず、渦電流電極13によって、センサ部11の下
部と金属板15の表面との変位cを測定する。図示され
ていない測定装置の補正値設定部は、上記変位cを基に
補正値を設定する。すなわち、渦電流電極13の変位測
定によって、金属板15とセンサ部11との正しい変位
cが得られる。その後、図示されていない測定装置の静
電容量検出部によって、静電容量電極12と金属板15
との間の静電容量bが測定される。図示されていない測
定装置の厚さ演算部は、基準となる変位cにおける静電
容量bを基にした正確な絶縁性被膜16の厚さdを演算
する。
【0021】図1(ロ)は本発明の他の実施例で、金属
製基台上における絶縁部材の厚さを測定するための原理
説明図である。図1(イ)と相違する所は、被測定物が
絶縁部材のみであること、および基台が金属製であるこ
とである。前記同様に、渦電流電極13によって、金属
製基台14′とセンサ部11との変位c′が測定され
る。次に、静電容量電極12によって、静電容量電極1
2と金属製基台14′との間に絶縁部材16′が挿入さ
れた状態の静電容量が測定される。したがって、センサ
部11と金属製基台14′との距離が変動しても、渦電
流電極13によって得られる正しい変位に基づいて静電
容量を補正することができるので、センサ部11と金属
製基台14′との間に挿入された絶縁部材16′の正確
な厚さd′が測定される。
製基台上における絶縁部材の厚さを測定するための原理
説明図である。図1(イ)と相違する所は、被測定物が
絶縁部材のみであること、および基台が金属製であるこ
とである。前記同様に、渦電流電極13によって、金属
製基台14′とセンサ部11との変位c′が測定され
る。次に、静電容量電極12によって、静電容量電極1
2と金属製基台14′との間に絶縁部材16′が挿入さ
れた状態の静電容量が測定される。したがって、センサ
部11と金属製基台14′との距離が変動しても、渦電
流電極13によって得られる正しい変位に基づいて静電
容量を補正することができるので、センサ部11と金属
製基台14′との間に挿入された絶縁部材16′の正確
な厚さd′が測定される。
【0022】図2は本発明の一実施例におけるセンサ部
を説明するための図である。図2において、静電容量電
極12および渦電流電極13は、そのホルダ21および
22が測定電極用支持部材23によって支持されてい
る。そして、各電極12および13は、図示されていな
い金属変位検出部、静電容量検出部、および電源にケー
ブル24を介して接続されている。静電容量電極12お
よび渦電流電極13は、測定電極用支持部材23と一体
に構成することや、あるいはホルダ21および22の部
分において、高さ方向に摺動させて調整できるように構
成することもできる。
を説明するための図である。図2において、静電容量電
極12および渦電流電極13は、そのホルダ21および
22が測定電極用支持部材23によって支持されてい
る。そして、各電極12および13は、図示されていな
い金属変位検出部、静電容量検出部、および電源にケー
ブル24を介して接続されている。静電容量電極12お
よび渦電流電極13は、測定電極用支持部材23と一体
に構成することや、あるいはホルダ21および22の部
分において、高さ方向に摺動させて調整できるように構
成することもできる。
【0023】上記のように静電容量電極と渦電流電極と
の一対からなるセンサ部を備えた測定装置は、金属板が
移動中に基台から上下にぶれた状態になっても、金属板
と静電容量電極との距離の変位を渦電流電極で測定し、
演算回路によって補正するため、金属板上に形成された
絶縁性被膜の厚さを正確に測定することができる。な
お、実際に本発明の測定装置を用いた測定結果は、次の
ようになった。測定条件 金属板上に形成された被測定
物を固定して静電容量電極および渦電流電極を上下に移
動する 被測定物 アクリル樹脂膜の厚さ 300μm 電極と被測定物とのギャップ間距離 4.2mm 被測定物の移動量(上下方向) 0.4mm 被測定物が形成されている金属板の厚さ 10mm 上記のように被測定物を上下方向に0.4mm移動させ
ながら被測定物の厚さを測定した結果、その誤差は、1
ないし5μm以内であった。
の一対からなるセンサ部を備えた測定装置は、金属板が
移動中に基台から上下にぶれた状態になっても、金属板
と静電容量電極との距離の変位を渦電流電極で測定し、
演算回路によって補正するため、金属板上に形成された
絶縁性被膜の厚さを正確に測定することができる。な
お、実際に本発明の測定装置を用いた測定結果は、次の
ようになった。測定条件 金属板上に形成された被測定
物を固定して静電容量電極および渦電流電極を上下に移
動する 被測定物 アクリル樹脂膜の厚さ 300μm 電極と被測定物とのギャップ間距離 4.2mm 被測定物の移動量(上下方向) 0.4mm 被測定物が形成されている金属板の厚さ 10mm 上記のように被測定物を上下方向に0.4mm移動させ
ながら被測定物の厚さを測定した結果、その誤差は、1
ないし5μm以内であった。
【0024】以上、本発明の実施例を詳述したが、本発
明は、前記実施例に限定されるものではない。そして、
特許請求の範囲に記載された本発明を逸脱することがな
ければ、種々の設計変更を行なうことが可能である。た
とえば、静電容量電極および渦電流電極の形状、あるい
はこれらを測定電極用支持部材に取り付ける手段等は、
各種変形することができる。また、静電容量電極および
渦電流電極を一対にしたものを複数設け、金属板の幅方
向に並べることによって、幅広な金属板上に形成された
絶縁性被膜の厚さを正確に測定できる。さらに、このよ
うにすることで、静電容量電極および渦電流電極を金属
板の幅方向に走査する必要がなくなる。さらに、本実施
例は、厚さの測定について説明したが、厚さ以外に重さ
等を含む物理量の測定もできる。すなわち、物理量の変
化と静電容量値とのテーブルを用意しておけば、当該物
理量は、静電容量から演算することができる。さらに、
センサ部の測定手段として、赤外線や放射線を使用する
ことができる。また、センサ部は、一組として、被測定
物の幅方向に移動させながら測定することもできる。
明は、前記実施例に限定されるものではない。そして、
特許請求の範囲に記載された本発明を逸脱することがな
ければ、種々の設計変更を行なうことが可能である。た
とえば、静電容量電極および渦電流電極の形状、あるい
はこれらを測定電極用支持部材に取り付ける手段等は、
各種変形することができる。また、静電容量電極および
渦電流電極を一対にしたものを複数設け、金属板の幅方
向に並べることによって、幅広な金属板上に形成された
絶縁性被膜の厚さを正確に測定できる。さらに、このよ
うにすることで、静電容量電極および渦電流電極を金属
板の幅方向に走査する必要がなくなる。さらに、本実施
例は、厚さの測定について説明したが、厚さ以外に重さ
等を含む物理量の測定もできる。すなわち、物理量の変
化と静電容量値とのテーブルを用意しておけば、当該物
理量は、静電容量から演算することができる。さらに、
センサ部の測定手段として、赤外線や放射線を使用する
ことができる。また、センサ部は、一組として、被測定
物の幅方向に移動させながら測定することもできる。
【0025】
【発明の効果】本発明によれば、移動中の金属板が基台
上で上下にぶれていても、静電容量による厚み計と渦電
流による距離計とを組み合わすことで、金属板上に形成
された絶縁性被膜の厚さを正確に測定することができ
る。また、本発明によれば、センサ部が上下方向に移動
したとしても、絶縁部材の厚さを測定する度に、センサ
部と金属製基台との距離を測定しながら、この値によっ
て静電容量を補正しているので、絶縁部材の厚さを正確
に測定できる。
上で上下にぶれていても、静電容量による厚み計と渦電
流による距離計とを組み合わすことで、金属板上に形成
された絶縁性被膜の厚さを正確に測定することができ
る。また、本発明によれば、センサ部が上下方向に移動
したとしても、絶縁部材の厚さを測定する度に、センサ
部と金属製基台との距離を測定しながら、この値によっ
て静電容量を補正しているので、絶縁部材の厚さを正確
に測定できる。
【図1】(イ)は本発明の一実施例で、移動中の金属板
上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための原理
説明図である。(ロ)は本発明の他の実施例で、金属製
基台上における絶縁部材の厚さを測定するための原理説
明図である。
上に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための原理
説明図である。(ロ)は本発明の他の実施例で、金属製
基台上における絶縁部材の厚さを測定するための原理説
明図である。
【図2】本発明の一実施例におけるセンサ部を説明する
ための図である。
ための図である。
【図3】渦電流を利用してセンサ部と金属盤との間の距
離を測定する原理を説明するための図である。
離を測定する原理を説明するための図である。
【図4】静電容量方式における厚み計の原理を説明する
ための図である。
ための図である。
【図5】従来例における測定方法で、移動中の金属板上
に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための説明図
である。
に形成された絶縁性被膜の厚さを測定するための説明図
である。
【図6】従来例における測定方法で、金属板上に形成さ
れた幅広の絶縁性被膜の厚さを測定するための説明図で
ある。
れた幅広の絶縁性被膜の厚さを測定するための説明図で
ある。
11・・・センサ部 12・・・静電容量電極 13・・・渦電流電極 14・・・基台 14′・・・金属製基台 15・・・金属板 16・・・絶縁性被膜 16′・・・絶縁部材 17・・・出力 21、22・・・ホルダ 23・・・測定電極用支持部材 24・・・ケーブル
Claims (4)
- 【請求項1】 金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ
を測定する装置において、 静電容量電極と渦電流電極とを一組としたセンサ部と、 当該センサ部における渦電流電極によって金属板の表面
とセンサ部との変位を測定し、金属板の表面とセンサ部
との補正距離を得る補正値設定部と、 前記センサ部における静電容量電極によって金属板の表
面とセンサ部との間の静電容量を測定する静電容量検出
部と、 当該静電容量検出部から得られた値を前記補正値設定部
から得られた補正値によって上記金属板上の絶縁性被膜
の厚さを演算する厚さ演算部と、 を備えたことを特徴とする金属板上に形成された絶縁性
被膜の厚さを測定する装置。 - 【請求項2】 絶縁部材の厚さを測定する装置におい
て、 静電容量電極と渦電流電極とを一組としたセンサ部と、 当該センサ部における渦電流電極によって金属製基台表
面とセンサ部との変位を測定し、金属製基台表面とセン
サ部との距離を得る距離設定部と、 前記センサ部における静電容量電極によって金属製基台
表面とセンサ部との間の静電容量を測定する静電容量検
出部と、 当該静電容量検出部から得られた値を前記距離設定部か
ら得られた値によって上記金属製基台とセンサ部間に存
在する絶縁部材の厚さを演算する厚さ演算部と、 を備えたことを特徴とする絶縁部材の厚さを測定する装
置。 - 【請求項3】 金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ
を測定する方法において、 渦電流計によってセンサ部と被測定部分における金属板
の表面との変位、および静電容量計によってセンサ部と
金属板の表面との静電容量を測定した後、渦電流計によ
って計測されたセンサ部と金属板の表面との変位に基づ
いて前記静電容量を補正することを特徴とする金属板上
に形成された絶縁性被膜の厚さを測定する方法。 - 【請求項4】 絶縁部材の厚さを測定する方法におい
て、 渦電流計によってセンサ部と金属製基台の表面との変
位、および静電容量計によってセンサ部と金属製基台表
面との間の静電容量を測定した後、渦電流計によるセン
サ部と金属製基台表面との変位によって、前記静電容量
を補正することを特徴とする絶縁部材の厚さを測定する
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11235493A JPH06300509A (ja) | 1993-02-22 | 1993-04-16 | 絶縁性被膜または絶縁部材の厚さを測定する装置およびその測定方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-54612 | 1993-02-22 | ||
| JP5461293 | 1993-02-22 | ||
| JP11235493A JPH06300509A (ja) | 1993-02-22 | 1993-04-16 | 絶縁性被膜または絶縁部材の厚さを測定する装置およびその測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06300509A true JPH06300509A (ja) | 1994-10-28 |
Family
ID=26395390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11235493A Pending JPH06300509A (ja) | 1993-02-22 | 1993-04-16 | 絶縁性被膜または絶縁部材の厚さを測定する装置およびその測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06300509A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2752294A1 (fr) * | 1996-08-12 | 1998-02-13 | Lorraine Laminage | Procede et dispositif de mesure en continu d'epaisseur de revetement isolant |
| JP2009276279A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Fujikura Ltd | 位置検出装置 |
| JP2012122834A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Lasertec Corp | 電池用電極材の厚さ測定装置、及び厚さ測定方法 |
| US8547116B2 (en) | 2008-11-11 | 2013-10-01 | Fujikura Ltd. | Position detector |
| CN105806206A (zh) * | 2016-03-25 | 2016-07-27 | 威海华菱光电股份有限公司 | 厚度检测装置 |
| CN109269392A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-01-25 | 清华大学 | 电接触反馈的绝缘材料表面高度测量装置及方法 |
| JP2022516576A (ja) * | 2019-01-08 | 2022-02-28 | フォームファクター, インコーポレイテッド | 容量性高さセンシング測定値を較正するプローブシステム及び方法 |
| WO2024111062A1 (ja) * | 2022-11-22 | 2024-05-30 | ファナック株式会社 | 制御装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
1993
- 1993-04-16 JP JP11235493A patent/JPH06300509A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2752294A1 (fr) * | 1996-08-12 | 1998-02-13 | Lorraine Laminage | Procede et dispositif de mesure en continu d'epaisseur de revetement isolant |
| WO1998006999A1 (fr) * | 1996-08-12 | 1998-02-19 | Sollac | Procede et dispositif de mesure en continu d'epaisseur de revetement isolant |
| US6120833A (en) * | 1996-08-12 | 2000-09-19 | Sollac | Method and device for measuring the thickness of an insulating coating |
| JP2009276279A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Fujikura Ltd | 位置検出装置 |
| US8547116B2 (en) | 2008-11-11 | 2013-10-01 | Fujikura Ltd. | Position detector |
| JP2012122834A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Lasertec Corp | 電池用電極材の厚さ測定装置、及び厚さ測定方法 |
| CN105806206A (zh) * | 2016-03-25 | 2016-07-27 | 威海华菱光电股份有限公司 | 厚度检测装置 |
| CN109269392A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-01-25 | 清华大学 | 电接触反馈的绝缘材料表面高度测量装置及方法 |
| CN109269392B (zh) * | 2018-10-31 | 2019-10-29 | 清华大学 | 电接触反馈的绝缘材料表面高度测量装置及方法 |
| JP2022516576A (ja) * | 2019-01-08 | 2022-02-28 | フォームファクター, インコーポレイテッド | 容量性高さセンシング測定値を較正するプローブシステム及び方法 |
| WO2024111062A1 (ja) * | 2022-11-22 | 2024-05-30 | ファナック株式会社 | 制御装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JPWO2024111062A1 (ja) * | 2022-11-22 | 2024-05-30 |
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