JPH0631332A - 立体模様を現出した化粧型材とその型材の成形方法 - Google Patents
立体模様を現出した化粧型材とその型材の成形方法Info
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- JPH0631332A JPH0631332A JP21559492A JP21559492A JPH0631332A JP H0631332 A JPH0631332 A JP H0631332A JP 21559492 A JP21559492 A JP 21559492A JP 21559492 A JP21559492 A JP 21559492A JP H0631332 A JPH0631332 A JP H0631332A
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- decorative
- wall
- mold material
- decorative wall
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES, PROFILES OR LIKE SEMI-MANUFACTURED PRODUCTS OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C23/00—Extruding metal; Impact extrusion
- B21C23/02—Making uncoated products
- B21C23/04—Making uncoated products by direct extrusion
- B21C23/14—Making other products
- B21C23/142—Making profiles
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Door And Window Frames Mounted To Openings (AREA)
- Extrusion Of Metal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多様な立体模様を安定して現出する化粧型材
と、その化粧型材の成形方法を提供することにある。 【構成】 化粧型材は空部3を有する基本型材10の化粧
壁2を通常壁4より薄肉にし、該化粧壁に型材の内外方
向に凹凸を繰返し、押出し方向に連続した立体模様5を
二次加工せずに現出する。立体模様は平板状化粧壁21と
弧状化粧壁22の何れにも現出し、不規則な間隔で押出し
方向に連続するか、左右に蛇行しながら押出し方向に連
続するものである。化粧型材の成形方法は、化粧壁形成
ランドRの金属通過抵抗を、通常壁形成ランドNの金属
通過抵抗より著しく小さくし、その抵抗差によって化粧
壁2に、型材の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に
連続する立体模様5を現出し得るようにしたものであ
る。
と、その化粧型材の成形方法を提供することにある。 【構成】 化粧型材は空部3を有する基本型材10の化粧
壁2を通常壁4より薄肉にし、該化粧壁に型材の内外方
向に凹凸を繰返し、押出し方向に連続した立体模様5を
二次加工せずに現出する。立体模様は平板状化粧壁21と
弧状化粧壁22の何れにも現出し、不規則な間隔で押出し
方向に連続するか、左右に蛇行しながら押出し方向に連
続するものである。化粧型材の成形方法は、化粧壁形成
ランドRの金属通過抵抗を、通常壁形成ランドNの金属
通過抵抗より著しく小さくし、その抵抗差によって化粧
壁2に、型材の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に
連続する立体模様5を現出し得るようにしたものであ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、空部を有するアルミ
基本型材の化粧壁に、内外方向に凹凸を繰返し、押出し
方向に連続する立体模様を形成した化粧型材と、その化
粧型材の成形方法に関する。
基本型材の化粧壁に、内外方向に凹凸を繰返し、押出し
方向に連続する立体模様を形成した化粧型材と、その化
粧型材の成形方法に関する。
【0002】
【従来の技術】押出し型材の化粧壁に立体模様を形成す
る手段として、(イ)押出し成形後の型材表面に彫刻し
た転圧ロールやプレス成形型を押圧し、化粧壁に所定の
刻線や凹凸を圧刻するエンボス法と、(ロ)押出し成形
後の型材表面に写真製版の手法を用いて薬品でエッチン
グし、原画を蝕刻する腐蝕法が考えられる。(例えば実
開昭53-143881 号公報、特開昭53-127872 号公報)
る手段として、(イ)押出し成形後の型材表面に彫刻し
た転圧ロールやプレス成形型を押圧し、化粧壁に所定の
刻線や凹凸を圧刻するエンボス法と、(ロ)押出し成形
後の型材表面に写真製版の手法を用いて薬品でエッチン
グし、原画を蝕刻する腐蝕法が考えられる。(例えば実
開昭53-143881 号公報、特開昭53-127872 号公報)
【0003】又先に出願人が発明した特公昭56-4324 号
公報の如く、ダイスの外面形成ランドに切欠を設け、外
面形成ランド長さを内面形成ランドより短くし、化粧壁
の中央部で型材の押出し方向に波状を成し、横縞の立体
模様を形成する化粧型材と、化粧壁の中央部で型材の押
出し方向に稍膨出し、両側が反対方向に彎曲する三日月
状の立体模様を形成する化粧型材も知られている。
公報の如く、ダイスの外面形成ランドに切欠を設け、外
面形成ランド長さを内面形成ランドより短くし、化粧壁
の中央部で型材の押出し方向に波状を成し、横縞の立体
模様を形成する化粧型材と、化粧壁の中央部で型材の押
出し方向に稍膨出し、両側が反対方向に彎曲する三日月
状の立体模様を形成する化粧型材も知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】エンボス法にあって
は、押出し型材の化粧壁に刻印ダイスを強く押圧する
か、刻印ダイスで強く挾圧しなければならないため、平
板状化粧壁に対しては有効であるが、彎曲状化粧壁には
適用しにくく、且つ刻印ダイスの製作に多くの労力と経
費を要する問題点がある。又腐蝕法にあっては手間がか
かり、後処理をも必要とする問題点がある。しかも両手
段を用いる場合、何れも押出し成形機とは別個の機械設
備を必要とするし、殊に複雑な形状の押出し型材には使
用しにくい問題点があった。
は、押出し型材の化粧壁に刻印ダイスを強く押圧する
か、刻印ダイスで強く挾圧しなければならないため、平
板状化粧壁に対しては有効であるが、彎曲状化粧壁には
適用しにくく、且つ刻印ダイスの製作に多くの労力と経
費を要する問題点がある。又腐蝕法にあっては手間がか
かり、後処理をも必要とする問題点がある。しかも両手
段を用いる場合、何れも押出し成形機とは別個の機械設
備を必要とするし、殊に複雑な形状の押出し型材には使
用しにくい問題点があった。
【0005】先に出願人が発明した特公昭56-4324 号公
報にあっては、化粧壁の中央部で型材の押出し方向に波
状を成す横縞立体模様と、化粧壁の中央部で型材の押出
し方向に稍膨出し、両側が反対方向に彎曲する三日月状
立体模様の成形は可能であるが、更に多用な立体模様の
現出が望まれるに至った。そこでこの発明は、出願人が
先に発明した特公昭56-4324 号公報の着想を発展し、多
様な立体模様を安定して現出する化粧型材と、その化粧
型材の成形方法を提供することにある。
報にあっては、化粧壁の中央部で型材の押出し方向に波
状を成す横縞立体模様と、化粧壁の中央部で型材の押出
し方向に稍膨出し、両側が反対方向に彎曲する三日月状
立体模様の成形は可能であるが、更に多用な立体模様の
現出が望まれるに至った。そこでこの発明は、出願人が
先に発明した特公昭56-4324 号公報の着想を発展し、多
様な立体模様を安定して現出する化粧型材と、その化粧
型材の成形方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の化粧型材は、空部を有する基本型材の化粧
壁厚さを通常壁厚さより薄肉にし、その化粧壁に型材の
内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に連続する立体模
様を二次加工せずに現出したものである。立体模様を平
板状化粧壁と弧状化粧壁の少なくとも一方に現出し、且
つ押出し方向に波状を成す縄目状立体模様と、左右に蛇
行しながら押出し方向に連続するS字状立体模様に現出
する。
に、本発明の化粧型材は、空部を有する基本型材の化粧
壁厚さを通常壁厚さより薄肉にし、その化粧壁に型材の
内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に連続する立体模
様を二次加工せずに現出したものである。立体模様を平
板状化粧壁と弧状化粧壁の少なくとも一方に現出し、且
つ押出し方向に波状を成す縄目状立体模様と、左右に蛇
行しながら押出し方向に連続するS字状立体模様に現出
する。
【0007】又本発明による化粧型材の成形方法は、化
粧壁形成ランドの金属通過抵抗を通常壁形成ランドの金
属通過抵抗より著しく小さくし、それによって化粧壁形
成ランドの金属流れを通常壁形成ランドの金属流れより
早くし、金属流れの差により化粧壁に型材の内外方向に
凹凸を繰返し、押出し方向に連続する立体模様を現出し
得るようにしたものである。
粧壁形成ランドの金属通過抵抗を通常壁形成ランドの金
属通過抵抗より著しく小さくし、それによって化粧壁形
成ランドの金属流れを通常壁形成ランドの金属流れより
早くし、金属流れの差により化粧壁に型材の内外方向に
凹凸を繰返し、押出し方向に連続する立体模様を現出し
得るようにしたものである。
【0008】化粧壁表面に触れる外面形成ランドの後部
に、押出し方向に広口となる逃口を設け、化粧壁裏面に
触れる内面形成ランドの前部に、前方に向けて広口とな
る誘導口を設け、化粧壁形成ランドの金属通過抵抗を通
常壁形成ランドの金属通過抵抗より著しく小さくすると
共に、内外面形成ランドに沿った金属の流れに差を付
け、金属流れの差によって立体模様を現出し得るように
したものである。
に、押出し方向に広口となる逃口を設け、化粧壁裏面に
触れる内面形成ランドの前部に、前方に向けて広口とな
る誘導口を設け、化粧壁形成ランドの金属通過抵抗を通
常壁形成ランドの金属通過抵抗より著しく小さくすると
共に、内外面形成ランドに沿った金属の流れに差を付
け、金属流れの差によって立体模様を現出し得るように
したものである。
【0009】
【実施例】先ず本発明による化粧型材の構造を実施例の
図面に基づき説明すると、化粧型材1は空部3を有する
ホーロー、又はセミホーロー状基本型材10の化粧壁2の
壁厚さtを通常壁4の壁厚さTより薄肉にし、薄肉化粧
壁2に型材10の内外方向に交互に凹凸を繰返し、押出し
方向に連続する立体模様5を、化学的や機械的な二次加
工をせずに現出したものである。立体模様5は図1の如
く平板状の板状化粧壁21に連続して現出する場合と、図
2の如く外部に向けて円弧状に膨出する弧状化粧壁22に
現出する場合がある。
図面に基づき説明すると、化粧型材1は空部3を有する
ホーロー、又はセミホーロー状基本型材10の化粧壁2の
壁厚さtを通常壁4の壁厚さTより薄肉にし、薄肉化粧
壁2に型材10の内外方向に交互に凹凸を繰返し、押出し
方向に連続する立体模様5を、化学的や機械的な二次加
工をせずに現出したものである。立体模様5は図1の如
く平板状の板状化粧壁21に連続して現出する場合と、図
2の如く外部に向けて円弧状に膨出する弧状化粧壁22に
現出する場合がある。
【0010】図3の化粧型材は、化粧壁2と底壁1aの間
に、左右の側壁1b,1cに平行する仕切壁11、又は略平行
する仕切壁11を設け、仕切壁11にて空部3を二空室31,
32に区分し、その化粧壁21,22の少なくとも一方に立体
模様5を現出するもである。図5の化粧型材は、空部3
の仕切壁11を設け、空部3を三空室31,32,33に区分し、
その化粧壁21,22,23の少なくとも一方に立体模様5を現
出したものである。
に、左右の側壁1b,1cに平行する仕切壁11、又は略平行
する仕切壁11を設け、仕切壁11にて空部3を二空室31,
32に区分し、その化粧壁21,22の少なくとも一方に立体
模様5を現出するもである。図5の化粧型材は、空部3
の仕切壁11を設け、空部3を三空室31,32,33に区分し、
その化粧壁21,22,23の少なくとも一方に立体模様5を現
出したものである。
【0011】弧状化粧壁22に現出する立体模様5には、
基本型材10の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に波
状を成す縄目状立体模様15と、基本型材10の内外方向に
凹凸を繰返し、左右に蛇行しながら押出し方向に連続す
るS字状立体模様25がある。縄目状立体模様15は図5の
如く弧状化粧壁22の頂部に押出し方向と交差する横凹部
5aが略一定間隔で現出し、S字状立体模様25は押出し方
向に順次傾斜するように重なり、且つその半幅に押出し
方向に蛇行しながら連続する。
基本型材10の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に波
状を成す縄目状立体模様15と、基本型材10の内外方向に
凹凸を繰返し、左右に蛇行しながら押出し方向に連続す
るS字状立体模様25がある。縄目状立体模様15は図5の
如く弧状化粧壁22の頂部に押出し方向と交差する横凹部
5aが略一定間隔で現出し、S字状立体模様25は押出し方
向に順次傾斜するように重なり、且つその半幅に押出し
方向に蛇行しながら連続する。
【0012】次に本発明化粧型材の成形方法を説明すれ
ば、押型d1と雌型d2より構成するダイスDにおいて、ポ
ートPに連続するランドの内、化粧壁形成ランドRの隙
間mを化粧壁厚さtに合わせ、通常壁形成ランドNの隙
間Mを通常壁厚さTに合わせて形成し、且つ化粧壁形成
ランドRを通過する金属の流れ抵抗が、通常壁形成ラン
ドNを通過する金属の流れ抵抗よりより著しく小さくな
るように形成する。例えば化粧壁形成ランド長さhを通
常壁形成ランド長さHより短くする。
ば、押型d1と雌型d2より構成するダイスDにおいて、ポ
ートPに連続するランドの内、化粧壁形成ランドRの隙
間mを化粧壁厚さtに合わせ、通常壁形成ランドNの隙
間Mを通常壁厚さTに合わせて形成し、且つ化粧壁形成
ランドRを通過する金属の流れ抵抗が、通常壁形成ラン
ドNを通過する金属の流れ抵抗よりより著しく小さくな
るように形成する。例えば化粧壁形成ランド長さhを通
常壁形成ランド長さHより短くする。
【0013】又化粧壁形成ランドRの後部に、押出し方
向に向けて広口に傾斜開口する逃口6を、前部に前方に
向けて広口に傾斜開口する誘導口7を、例えば傾斜角30
度で設け、化粧壁表面2aに触れる外面形成ランドr1と、
化粧壁裏面2bに触れる内面形成ランドr2のランド長さh
を短くしする。逃口6をダイス雌型d2に形成し、誘導口
7をダイス押型d1に形成するか、反対に逃口6をダイス
押型d1に、誘導口7をダイス雌型d2に形成し、逃口6と
誘導口7を食違いに形成することが望ましい。
向に向けて広口に傾斜開口する逃口6を、前部に前方に
向けて広口に傾斜開口する誘導口7を、例えば傾斜角30
度で設け、化粧壁表面2aに触れる外面形成ランドr1と、
化粧壁裏面2bに触れる内面形成ランドr2のランド長さh
を短くしする。逃口6をダイス雌型d2に形成し、誘導口
7をダイス押型d1に形成するか、反対に逃口6をダイス
押型d1に、誘導口7をダイス雌型d2に形成し、逃口6と
誘導口7を食違いに形成することが望ましい。
【0014】本発明にて化粧型材を押出し成形するに
は、従来と同様にビレットをコンテナに入れ、コンテナ
で加熱したビレットをダイスDに向けて押出すと、ダイ
スDに設けた通常壁形成ランドNと化粧壁形成ランドR
では金属流動抵抗が異なり、両ランドN,Rを通過する
金属の流れに差が生じるため、化粧壁形成ランドRより
押出される化粧壁2には、基本型材1の内外方向に凹凸
を繰返し、押出し方向に連続する立体模様5が自然に現
出する。
は、従来と同様にビレットをコンテナに入れ、コンテナ
で加熱したビレットをダイスDに向けて押出すと、ダイ
スDに設けた通常壁形成ランドNと化粧壁形成ランドR
では金属流動抵抗が異なり、両ランドN,Rを通過する
金属の流れに差が生じるため、化粧壁形成ランドRより
押出される化粧壁2には、基本型材1の内外方向に凹凸
を繰返し、押出し方向に連続する立体模様5が自然に現
出する。
【0015】化粧壁形成ランドRを通過する金属は、前
部に誘導口7を設けた内面形成ランドr2と、後部に逃口
6を設けた外面形成ランドr1に沿って流れるため、両ラ
ンドr1,r2に沿った金属の流と、通常壁形成ランドNに
沿った金属の流に差が生じ、その差によって化粧壁2に
立体模様5が明確に現出する。
部に誘導口7を設けた内面形成ランドr2と、後部に逃口
6を設けた外面形成ランドr1に沿って流れるため、両ラ
ンドr1,r2に沿った金属の流と、通常壁形成ランドNに
沿った金属の流に差が生じ、その差によって化粧壁2に
立体模様5が明確に現出する。
【0016】本発明による化粧型材と、その成形方法を
実験例に基ずいて説明する。実験に用いる基本型材10の
形状は、図6の如く長さ70mmの底壁1aの左側に、高さ28
mmで幅20mmの第一空室31を形成し、該第一空室31の左側
に、高さ20mmから高さ10mmの右側壁1bまで下降傾斜する
第二空室32と第三空室33を形成し、第一空室31に板状化
粧壁21を設け、第二空室32に半径7mmで膨出する大弧状
化粧壁22を、第三空室33に半径5mmで膨出する小弧状化
粧壁23を形成するものである。
実験例に基ずいて説明する。実験に用いる基本型材10の
形状は、図6の如く長さ70mmの底壁1aの左側に、高さ28
mmで幅20mmの第一空室31を形成し、該第一空室31の左側
に、高さ20mmから高さ10mmの右側壁1bまで下降傾斜する
第二空室32と第三空室33を形成し、第一空室31に板状化
粧壁21を設け、第二空室32に半径7mmで膨出する大弧状
化粧壁22を、第三空室33に半径5mmで膨出する小弧状化
粧壁23を形成するものである。
【0017】実験例 1 通常壁形成ランドN の隙間Mを2.0mm、ランド
長さHを13mm、大弧状化粧壁形成ランドR1 の隙間m1を
0.8mm、ランド長さh1を3mm、小弧状化粧壁形成ランド
R2 の隙間m2を0.8mm、ランド長さh2を3mmに形成した
ダイスD1 を製作し、該ダイスD1 を用いて純アルミビ
レットを480 ℃に加熱して押出した所、何れの化粧壁2
1,22,23にも立体模様5は現出しなかった。
長さHを13mm、大弧状化粧壁形成ランドR1 の隙間m1を
0.8mm、ランド長さh1を3mm、小弧状化粧壁形成ランド
R2 の隙間m2を0.8mm、ランド長さh2を3mmに形成した
ダイスD1 を製作し、該ダイスD1 を用いて純アルミビ
レットを480 ℃に加熱して押出した所、何れの化粧壁2
1,22,23にも立体模様5は現出しなかった。
【0018】実験例 2 前記ダイスD1 の通常壁形成ランドNに加工を施し、該
ランド隙間Mを2.0mmより1.2mmに変更すると共に、底
壁形成ランドnの入口側のダイス雌型d2に抵抗部Eを突
設し、底壁形成ランドnの流れを悪くしたダイスD2 を
製作する。改良ダイスD2 を用いて純アルミビレットを
480 ℃に加熱して押出した所、各化粧壁21,22,23に立体
模様5が僅かに現出した。しかし押出し速度を早くする
と大弧状化粧壁22と小弧状化粧壁23に立体模様5は現出
しなかった。遅くすると右側壁1cの所々に切れを生じ
た。
ランド隙間Mを2.0mmより1.2mmに変更すると共に、底
壁形成ランドnの入口側のダイス雌型d2に抵抗部Eを突
設し、底壁形成ランドnの流れを悪くしたダイスD2 を
製作する。改良ダイスD2 を用いて純アルミビレットを
480 ℃に加熱して押出した所、各化粧壁21,22,23に立体
模様5が僅かに現出した。しかし押出し速度を早くする
と大弧状化粧壁22と小弧状化粧壁23に立体模様5は現出
しなかった。遅くすると右側壁1cの所々に切れを生じ
た。
【0019】実験例 3 上記ダイスD2 の通常壁形成ランドNを加工し、該ラン
ド長さHの一部、具体的には側壁形成ランドnの長さを
13mmより7mmに変更する一方、ダイス雄型d1の小弧状化
粧壁形成ランドR2 の手前にアンダーカットKを設け、
且つ底壁形成ランドnに通じる下部ポートp1に流量減少
板Fを取付けたダイスD3 を製作する。改良ダイスD3
を用いて純アルミビレットを480 ℃に加熱して押出した
所、各化粧壁21,22,23に立体模様5は現出した。押出し
速度を早くしても立体模様5は現出したが、立体模様の
現出は少なかった。
ド長さHの一部、具体的には側壁形成ランドnの長さを
13mmより7mmに変更する一方、ダイス雄型d1の小弧状化
粧壁形成ランドR2 の手前にアンダーカットKを設け、
且つ底壁形成ランドnに通じる下部ポートp1に流量減少
板Fを取付けたダイスD3 を製作する。改良ダイスD3
を用いて純アルミビレットを480 ℃に加熱して押出した
所、各化粧壁21,22,23に立体模様5は現出した。押出し
速度を早くしても立体模様5は現出したが、立体模様の
現出は少なかった。
【0020】実験例 4 上記ダイスD3 の小弧状化粧壁形成ランドR2 を加工
し、該ランド長さh2を3mmより1.5mmに変更する一方、
右側壁形成ランドnの入口側のダイス雌型d2に抵抗部E
を追加したダイスD4 を製作する。改良ダイスD4 に純
アルミビレットを500 ℃に加熱して押出した所、小弧状
化粧壁23に密で非常に複雑な縄目状立体模様5が現出
し、大弧状化粧壁22に小さな凹凸立体模様5が現出し
た。大弧状化粧壁22の立体模様5は、押出し速度を早く
すると立体模様5のピッチは一定するが、波は小さくな
り、反対に押出し速度を遅くすると立体模様5の波は大
きくなるが、ピッチが一定しなかった。
し、該ランド長さh2を3mmより1.5mmに変更する一方、
右側壁形成ランドnの入口側のダイス雌型d2に抵抗部E
を追加したダイスD4 を製作する。改良ダイスD4 に純
アルミビレットを500 ℃に加熱して押出した所、小弧状
化粧壁23に密で非常に複雑な縄目状立体模様5が現出
し、大弧状化粧壁22に小さな凹凸立体模様5が現出し
た。大弧状化粧壁22の立体模様5は、押出し速度を早く
すると立体模様5のピッチは一定するが、波は小さくな
り、反対に押出し速度を遅くすると立体模様5の波は大
きくなるが、ピッチが一定しなかった。
【0021】実験例 5 上記ダイスD4 の大弧状化粧壁形成ランドR1 を加工
し、該ランド長さh1を3mmより2mmに変更したダイスD
5 を製作する。改良ダイスD5 に純アルミビレットを60
0 ℃に加熱して押出した所、大弧状化粧壁22に波打ちが
大きく、しかも複雑な立体模様5が現出した。小弧状化
粧壁23の波打ちピッチは一定しなかった。
し、該ランド長さh1を3mmより2mmに変更したダイスD
5 を製作する。改良ダイスD5 に純アルミビレットを60
0 ℃に加熱して押出した所、大弧状化粧壁22に波打ちが
大きく、しかも複雑な立体模様5が現出した。小弧状化
粧壁23の波打ちピッチは一定しなかった。
【0022】上記実験例1乃至5の結果を表1に示す。
【表1】
【0023】尚、立体模様5の現出要因については、未
だ完全に解明した訳ではないが、内面形成ランドr2と外
面形成ランドr1のランド長さhを種々換えて実験したと
所、ビレットの押出し速度が一定の状態において、内外
面形成ランドr2,r1のランド長さhが同一の場合(従来
ダイスのランドは総て同じ長さに形成されていた)、平
滑な壁面を有する型材が得られた。
だ完全に解明した訳ではないが、内面形成ランドr2と外
面形成ランドr1のランド長さhを種々換えて実験したと
所、ビレットの押出し速度が一定の状態において、内外
面形成ランドr2,r1のランド長さhが同一の場合(従来
ダイスのランドは総て同じ長さに形成されていた)、平
滑な壁面を有する型材が得られた。
【0024】
【発明の効果】本発明による化粧型材とその成形方法は
上記のとおりであるから、次に記載する効果を奏する。
化粧壁形成ランドを通過する金属の流れ抵抗を、通常壁
形成ランドを通過する金属の流れ抵抗より著しく小さく
し、それにより化粧壁に化学的な処理や機械的な二次加
工を用いづに立体模様を現出し得る。しかも化粧壁に現
出した立体模様は光を微妙に乱反射するので、印刷や着
色では表わし得ない格調の高い美感を醸し出す。
上記のとおりであるから、次に記載する効果を奏する。
化粧壁形成ランドを通過する金属の流れ抵抗を、通常壁
形成ランドを通過する金属の流れ抵抗より著しく小さく
し、それにより化粧壁に化学的な処理や機械的な二次加
工を用いづに立体模様を現出し得る。しかも化粧壁に現
出した立体模様は光を微妙に乱反射するので、印刷や着
色では表わし得ない格調の高い美感を醸し出す。
【0025】化粧壁が円弧状を成す弧状化粧壁であって
も、板状化粧壁と同様に型材の内外方向に凹凸を繰返
し、押出し方向に波状を成す縄目状立体模様と、内外方
向に凹凸を繰返し左右に蛇行しながら押出し方向に連続
するS字状立体模様等を、押出し成形により連続して現
出し得る。その結果、立体模様を現出した化粧型材を従
来より著しく簡単にしかも容易に製造し得るし、その生
産性も飛躍的に向上するばかりか、安価に提供できる。
も、板状化粧壁と同様に型材の内外方向に凹凸を繰返
し、押出し方向に波状を成す縄目状立体模様と、内外方
向に凹凸を繰返し左右に蛇行しながら押出し方向に連続
するS字状立体模様等を、押出し成形により連続して現
出し得る。その結果、立体模様を現出した化粧型材を従
来より著しく簡単にしかも容易に製造し得るし、その生
産性も飛躍的に向上するばかりか、安価に提供できる。
【0026】又本発明の化粧型材とその成形方法は、主
にダイスに設ける通常壁形成ランド間隔と化粧壁形成ラ
ンド間隔、或いはランド長さを変え、ビレットの押出し
速度を加減調整するだけで押出し形成し得るため、従来
設備をそのまま利用することができるし、実用化も極め
て容易である等、本発明は化粧型材の利用分野に新しい
意匠的表現を提供するものである。
にダイスに設ける通常壁形成ランド間隔と化粧壁形成ラ
ンド間隔、或いはランド長さを変え、ビレットの押出し
速度を加減調整するだけで押出し形成し得るため、従来
設備をそのまま利用することができるし、実用化も極め
て容易である等、本発明は化粧型材の利用分野に新しい
意匠的表現を提供するものである。
【図1】本発明による化粧型材の斜視図である。
【図2】立体模様を現出した化粧型材の斜視図である。
【図3】板状化粧壁に立体模様を現出した化粧型材の斜
視図である。
視図である。
【図4】弧状化粧壁に立体模様を現出した化粧型材の斜
視図である。
視図である。
【図5】立体模様を現出した化粧型材の斜視図である。
【図6】基本型材の構造例を示す側面図である。
【図7】本発明化粧型材の押出しに用いるダイスの断面
図である。
図である。
【図8】の(A)(B)通常壁形成ランドと化粧壁形成
ランドの構造例を示す要部拡大断面図である。
ランドの構造例を示す要部拡大断面図である。
【図9】の(A)(B)化粧壁形成ランドの構造例を示
す要部拡大断面図である。
す要部拡大断面図である。
【図10】ダイスの断面図である。
【図11】アンダーカットしたダイス押型の側面図であ
る。
る。
【図12】ランドとポートの関係を示すダイスの側面図
である。
である。
【図13】抵抗部と流量減少板の配置例を示すダイスの
側面図である。
側面図である。
1 化粧型材 2,21,22,23 化粧壁、2a 化粧壁表面、2b 化粧壁裏
面 3 空部、31,32,33 空室 4 通常壁 5 立体模様、5a 凹部、15 縄目状立体模様、25 S
字状立体模様 6 逃口 7 誘導口 10 基本型材 D ダイス、d1 ダイス押型、d2 ダイス雌型、P,p1
ポート E 抵抗部、F 流量減少板、K アンダーカット N,n 通常壁形成ランド、R,R1,R2 化粧壁形成
ランド r1 外面形成ランド、r2 内面形成ランド H 通常壁形成ランド長さ、h,h1,h2 化粧壁形成ラン
ド長さ M 通常壁形成ランド隙間、m,m1,m2 化粧壁形成ラン
ド隙間 T 通常壁厚さ、t 化粧壁厚さ
面 3 空部、31,32,33 空室 4 通常壁 5 立体模様、5a 凹部、15 縄目状立体模様、25 S
字状立体模様 6 逃口 7 誘導口 10 基本型材 D ダイス、d1 ダイス押型、d2 ダイス雌型、P,p1
ポート E 抵抗部、F 流量減少板、K アンダーカット N,n 通常壁形成ランド、R,R1,R2 化粧壁形成
ランド r1 外面形成ランド、r2 内面形成ランド H 通常壁形成ランド長さ、h,h1,h2 化粧壁形成ラン
ド長さ M 通常壁形成ランド隙間、m,m1,m2 化粧壁形成ラン
ド隙間 T 通常壁厚さ、t 化粧壁厚さ
Claims (7)
- 【請求項1】 空部(3)を有する基本型材(10)の化
粧壁(2)に、型材の内外方向に凹凸を繰返し、押出し
方向に連続する立体模様(5)を二次加工せずに現出し
た化粧型材。 - 【請求項2】 基本型材(10)の空部(3)が仕切壁
(11)にて数空室に区分され、その少なくとも一空室の
化粧壁(2)に立体模様(5)を現出した請求項1記載
の化粧型材。 - 【請求項3】 化粧壁(2)が平板状を成し、しかも化
粧壁厚さ(t)が通常壁(4)の壁厚さ(T)より薄肉
の板状化粧壁(21)に形成され、その板状化粧壁に、型
材の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向に連続する立
体模様(5)を現出した請求項1又は2記載の化粧型
材。 - 【請求項4】 化粧壁厚さ(t)が通常壁厚さ(T)よ
り薄肉で、しかも外部に向けて円弧状に膨出する弧状化
粧壁(22)に形成され、その弧状化粧壁に型材の内外方
向に凹凸を繰返し、押出し方向に波状を成す縄目状立体
模様(15)を現出した請求項1又は2記載の化粧型材。 - 【請求項5】 化粧壁厚さ(t)が通常壁(4)より薄
肉で、しかも外部に向けて膨出する弧状化粧壁(22)
に、型材の内外方向に凹凸を繰返し、左右に蛇行しなが
ら押出し方向に連続するS字状立体模様(25)を現出し
た請求項1又は2記載の化粧型材。 - 【請求項6】 ダイス(D)に形成する型材ランドにお
いて、化粧壁形成ランド(R)を通過する金属の流れ抵
抗を、通常壁形成ランド(N)を通過する金属の流れ抵
抗より著しく小さくし、その抵抗差により型材の化粧壁
(2)に、型材の内外方向に凹凸を繰返し、押出し方向
に連続蛇行する立体模様(5)を現出し得るようにした
化粧型材の成形方法。 - 【請求項7】 化粧壁表面(2a)に触れる外面形成ラン
ド(r1)の後部に、押出し方向に向けて広口に傾斜開口
する逃口(6)を設け、化粧壁裏面(2b)に触れる内面
形成ランド(r2)の前部に、前方に向けて広口に傾斜開
口する誘導口(7)を形成し、両形成ランドに沿った金
属の流れに差を付け、その差によって立体模様(5)を
現出する請求項6記載の化粧型材の成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21559492A JPH0631332A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 立体模様を現出した化粧型材とその型材の成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21559492A JPH0631332A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 立体模様を現出した化粧型材とその型材の成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0631332A true JPH0631332A (ja) | 1994-02-08 |
Family
ID=16675020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21559492A Pending JPH0631332A (ja) | 1992-07-20 | 1992-07-20 | 立体模様を現出した化粧型材とその型材の成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0631332A (ja) |
-
1992
- 1992-07-20 JP JP21559492A patent/JPH0631332A/ja active Pending
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