JPH06320099A - 洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置 - Google Patents
洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置Info
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- JPH06320099A JPH06320099A JP10629093A JP10629093A JPH06320099A JP H06320099 A JPH06320099 A JP H06320099A JP 10629093 A JP10629093 A JP 10629093A JP 10629093 A JP10629093 A JP 10629093A JP H06320099 A JPH06320099 A JP H06320099A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来のガラス基板等の基板洗浄に使用される
基板洗浄装置は、例えば、ＬＣＤ用ガラス基板へのレジ
スト塗布後の基板の端縁部の洗浄において、余剰洗浄液
吸引装置により吸引しきれない洗浄液の霧が発生してし
まう。この霧が、基板表面に付着することによって、付
着部分のレジストが溶解してしまい、製品の歩留まりが
低下するという問題があった。本発明は、有機溶剤の霧
が基板表面に付着しない洗浄ノズル及びこれを用いた基
板洗浄装置を提供することを目的とする。 【構成】 本発明による洗浄ノズルは、被洗浄物の基板
の端縁部に向かって洗浄液を吐出する洗浄液吐出孔部
と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、前記洗浄液吐出孔
部と前記基板の間に気体噴出孔部とを具備していること
を特徴とする。また、本発明による基板洗浄装置は、前
記洗浄ノズルと、この洗浄ノズルが被洗浄物の端縁部に
沿って移動自在な移動装置と、前記移動装置に沿って配
設され余剰洗浄液分を吸引する余剰洗浄液吸引装置とを
具備することを特徴とする。
基板洗浄装置は、例えば、ＬＣＤ用ガラス基板へのレジ
スト塗布後の基板の端縁部の洗浄において、余剰洗浄液
吸引装置により吸引しきれない洗浄液の霧が発生してし
まう。この霧が、基板表面に付着することによって、付
着部分のレジストが溶解してしまい、製品の歩留まりが
低下するという問題があった。本発明は、有機溶剤の霧
が基板表面に付着しない洗浄ノズル及びこれを用いた基
板洗浄装置を提供することを目的とする。 【構成】 本発明による洗浄ノズルは、被洗浄物の基板
の端縁部に向かって洗浄液を吐出する洗浄液吐出孔部
と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、前記洗浄液吐出孔
部と前記基板の間に気体噴出孔部とを具備していること
を特徴とする。また、本発明による基板洗浄装置は、前
記洗浄ノズルと、この洗浄ノズルが被洗浄物の端縁部に
沿って移動自在な移動装置と、前記移動装置に沿って配
設され余剰洗浄液分を吸引する余剰洗浄液吸引装置とを
具備することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、洗浄ノズルとこれを
用いた基板洗浄装置に関する。
用いた基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス基板等の基板洗浄に使用される基
板洗浄装置は、従来次のような用途に用いられる。例え
ば、液晶表示パネルに使用されるガラス基板は、ＰＥＰ
工程において、図６（ａ）に示すようにスピンコートに
よりレジスト１８を塗布するので、ガラス基板１７の端
面にレジスト１８の盛り上がりが生じる。このため、現
像時に影響が生じ、製品の歩留まりが低下する。従っ
て、図６（ｂ）に示すように基板１７の端縁部１７ａの
レジスト１８を除去する必要があった。
板洗浄装置は、従来次のような用途に用いられる。例え
ば、液晶表示パネルに使用されるガラス基板は、ＰＥＰ
工程において、図６（ａ）に示すようにスピンコートに
よりレジスト１８を塗布するので、ガラス基板１７の端
面にレジスト１８の盛り上がりが生じる。このため、現
像時に影響が生じ、製品の歩留まりが低下する。従っ
て、図６（ｂ）に示すように基板１７の端縁部１７ａの
レジスト１８を除去する必要があった。
【０００３】以下、従来の基板洗浄装置（以下、洗浄装
置と記す）の構成と作動を図３、図８を参照して説明す
る。図３に示すように、この洗浄装置は洗浄液を吐出す
る洗浄ノズル１３と、この洗浄ノズル１３が被洗浄物の
端縁部に沿って移動自在な移動装置１４と、前記移動装
置１４に沿って配設され余剰洗浄液分を吸引する余剰洗
浄液吸引装置１５と、被洗浄物を所定角度回動自在に支
持する回転装置１６とから構成されており、次のように
作動する。図８に示すように、レジスト塗布後の基板１
７は、回転装置１６に載置され、真空密着により回転装
置１６に固定される。待機部Ａにある洗浄ノズル１３
が、矢印方向Ｐに移動しながら有機溶剤の洗浄液を吐出
することによって、基板１７の一辺の端縁部のレジスト
１８が除去される。この時、余剰洗浄吸引装置１５が余
剰の有機溶剤を吸引する。そして、一辺の基板１７の端
縁部のレジスト１８が除去されると回転装置１６が回転
し、基板１７の他辺が洗浄位置にセットされ、洗浄ノズ
ル１３が矢印方向Ｐと逆方向に移動しながら有機溶剤を
吐出することによって、基板の縁のレジスト１８が除去
される。同様に、他の二辺の基板端面も洗浄される。
置と記す）の構成と作動を図３、図８を参照して説明す
る。図３に示すように、この洗浄装置は洗浄液を吐出す
る洗浄ノズル１３と、この洗浄ノズル１３が被洗浄物の
端縁部に沿って移動自在な移動装置１４と、前記移動装
置１４に沿って配設され余剰洗浄液分を吸引する余剰洗
浄液吸引装置１５と、被洗浄物を所定角度回動自在に支
持する回転装置１６とから構成されており、次のように
作動する。図８に示すように、レジスト塗布後の基板１
７は、回転装置１６に載置され、真空密着により回転装
置１６に固定される。待機部Ａにある洗浄ノズル１３
が、矢印方向Ｐに移動しながら有機溶剤の洗浄液を吐出
することによって、基板１７の一辺の端縁部のレジスト
１８が除去される。この時、余剰洗浄吸引装置１５が余
剰の有機溶剤を吸引する。そして、一辺の基板１７の端
縁部のレジスト１８が除去されると回転装置１６が回転
し、基板１７の他辺が洗浄位置にセットされ、洗浄ノズ
ル１３が矢印方向Ｐと逆方向に移動しながら有機溶剤を
吐出することによって、基板の縁のレジスト１８が除去
される。同様に、他の二辺の基板端面も洗浄される。
【０００４】このような洗浄装置に用いられる洗浄ノズ
ル１３は、図７に示すように被洗浄物１７の板面に所定
角度傾斜してレジスト除去部に向かって洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出孔部１１が設けられている。
ル１３は、図７に示すように被洗浄物１７の板面に所定
角度傾斜してレジスト除去部に向かって洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出孔部１１が設けられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような洗浄ノズル
及び基板洗浄装置は、以下のような欠点があった。即
ち、洗浄ノズルより吐出された有機溶剤は、基板の端縁
部のレジストを除去することはできるが、余剰洗浄吸引
装置により吸引しきれない有機溶剤の霧が基板の非洗浄
部付近に発生してしまう。この霧が、基板表面に付着す
ることによって、付着部分のレジストが溶解してしま
い、製品の歩留まりが低下するという欠点があった。本
発明は、上記欠点に鑑みなされたもので、有機溶剤の霧
が基板表面に付着しない洗浄ノズル及びこれを用いた基
板洗浄装置を提供することを目的とする。
及び基板洗浄装置は、以下のような欠点があった。即
ち、洗浄ノズルより吐出された有機溶剤は、基板の端縁
部のレジストを除去することはできるが、余剰洗浄吸引
装置により吸引しきれない有機溶剤の霧が基板の非洗浄
部付近に発生してしまう。この霧が、基板表面に付着す
ることによって、付着部分のレジストが溶解してしま
い、製品の歩留まりが低下するという欠点があった。本
発明は、上記欠点に鑑みなされたもので、有機溶剤の霧
が基板表面に付着しない洗浄ノズル及びこれを用いた基
板洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による洗浄ノズル
は、被洗浄物の基板の端縁部に向かって洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出孔部と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、
前記洗浄液吐出孔部と前記基板の間に気体噴出孔部とを
具備していることを特徴とする。
は、被洗浄物の基板の端縁部に向かって洗浄液を吐出す
る洗浄液吐出孔部と、この洗浄液吐出孔部と隣接して、
前記洗浄液吐出孔部と前記基板の間に気体噴出孔部とを
具備していることを特徴とする。
【０００７】また、本発明による基板洗浄装置は、洗浄
液吐出孔部と気体噴出孔部とを具備した上記洗浄ノズル
と、この洗浄ノズルが被洗浄物の端縁部に沿って移動自
在な移動装置と、この移動装置に沿って配設され余剰洗
浄液を吸引する余剰洗浄液吸引装置とを具備することを
特徴とし、さらにはこの基板洗浄装置に、被洗浄物を所
定角度回動自在に支持し、被洗浄物端縁部を任意に選択
し得る回転装置とを具備していることを特徴とする。
液吐出孔部と気体噴出孔部とを具備した上記洗浄ノズル
と、この洗浄ノズルが被洗浄物の端縁部に沿って移動自
在な移動装置と、この移動装置に沿って配設され余剰洗
浄液を吸引する余剰洗浄液吸引装置とを具備することを
特徴とし、さらにはこの基板洗浄装置に、被洗浄物を所
定角度回動自在に支持し、被洗浄物端縁部を任意に選択
し得る回転装置とを具備していることを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明によれば、洗浄液吐出孔部に隣接して気
体噴出孔部を設け、被洗浄物の非洗浄部に気体を噴出す
ることによって、洗浄液吐孔部から洗浄液を吐出する際
に生じる霧の発生を防ぐことができる。その結果、霧が
基板表面に付着することによるレジストの溶解を防止で
きる。
体噴出孔部を設け、被洗浄物の非洗浄部に気体を噴出す
ることによって、洗浄液吐孔部から洗浄液を吐出する際
に生じる霧の発生を防ぐことができる。その結果、霧が
基板表面に付着することによるレジストの溶解を防止で
きる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の各実施例について、図１乃至
図５を参照して説明する。尚、従来例と同一箇所は、同
一符号を付す。 （実施例１）この発明の洗浄ノズルの一実施例につい
て、図１、図２、図３を参照して説明する。
図５を参照して説明する。尚、従来例と同一箇所は、同
一符号を付す。 （実施例１）この発明の洗浄ノズルの一実施例につい
て、図１、図２、図３を参照して説明する。
【００１０】図１は、本実施例の洗浄ノズルとこのノズ
ルを使用する状態を示す縦断面図、図２は、図１の線ａ
−ａに沿って切断した横断面図である。この洗浄ノズル
１３は、隣接して洗浄液吐出孔部１１と気体噴出孔部１
２を設けている。そして、洗浄の際、気体噴出孔部１２
から気体を噴出することによって、洗浄液吐出孔部１１
から洗浄液を吐出する際に生じる霧の発生を防ぐことが
できる。この際、使用する気体は、例えばＮ2 、Ａｒ等
の不活性気体が望ましいが、基板に塗布されているレジ
スト１９が化学反応を起こさない気体であれば良い。
ルを使用する状態を示す縦断面図、図２は、図１の線ａ
−ａに沿って切断した横断面図である。この洗浄ノズル
１３は、隣接して洗浄液吐出孔部１１と気体噴出孔部１
２を設けている。そして、洗浄の際、気体噴出孔部１２
から気体を噴出することによって、洗浄液吐出孔部１１
から洗浄液を吐出する際に生じる霧の発生を防ぐことが
できる。この際、使用する気体は、例えばＮ2 、Ａｒ等
の不活性気体が望ましいが、基板に塗布されているレジ
スト１９が化学反応を起こさない気体であれば良い。
【００１１】（実施例２）第２及び第３の発明の基板洗
浄装置は、図１、図３に示すように、洗浄液吐出孔部１
１と気体噴出孔部１２とを具備する洗浄ノズル１３と、
この洗浄ノズル１３が被洗浄物のガラス基板の端縁部１
７ａに沿って移動自在な移動装置１４と、この移動装置
１４に沿って配設され図示しない余剰洗浄液を吸引する
余剰洗浄液吸引装置１５と、被洗浄物を所定角度回動自
在に支持し、被洗浄物端縁部を任意に選択し得る回転装
置１６とから構成される。
浄装置は、図１、図３に示すように、洗浄液吐出孔部１
１と気体噴出孔部１２とを具備する洗浄ノズル１３と、
この洗浄ノズル１３が被洗浄物のガラス基板の端縁部１
７ａに沿って移動自在な移動装置１４と、この移動装置
１４に沿って配設され図示しない余剰洗浄液を吸引する
余剰洗浄液吸引装置１５と、被洗浄物を所定角度回動自
在に支持し、被洗浄物端縁部を任意に選択し得る回転装
置１６とから構成される。
【００１２】ここでは、第３の発明の基板洗浄装置につ
いて述べたが、第２の発明の基板洗浄装置は、第３の発
明の基板洗浄装置の構成のうち、回転装置を除いた基板
洗浄装置を示している。このように第３の発明の基板洗
浄装置は、洗浄液吐出孔部１１から洗浄液を吐出する際
に生じる余剰洗浄液吸引装置１５により吸引しきれない
洗浄液の霧の発生を防ぐことができる。その結果、霧
が、基板表面に付着することによるレジストの溶解を防
止でき、製品の歩留まりが向上する上に、更に移動装置
１４及び回転装置１６を具備しているので、基板洗浄の
自動化が実現できる利点がある。
いて述べたが、第２の発明の基板洗浄装置は、第３の発
明の基板洗浄装置の構成のうち、回転装置を除いた基板
洗浄装置を示している。このように第３の発明の基板洗
浄装置は、洗浄液吐出孔部１１から洗浄液を吐出する際
に生じる余剰洗浄液吸引装置１５により吸引しきれない
洗浄液の霧の発生を防ぐことができる。その結果、霧
が、基板表面に付着することによるレジストの溶解を防
止でき、製品の歩留まりが向上する上に、更に移動装置
１４及び回転装置１６を具備しているので、基板洗浄の
自動化が実現できる利点がある。
【００１３】（実施例３）この発明の他の実施例につい
て、図４、図５を参照して説明する。図４は、本実施例
の洗浄ノズルと、ノズルを使用する状態を示す縦断面
図、図５（ａ）は、図４の線ｂ−ｂに沿って切断した横
断面図である。この洗浄ノズル１３は、気体噴出孔部１
２が、洗浄吐出孔部１１を挟む構造をしているものであ
る。この構造のものは（実施例１）の洗浄ノズル１３に
対し洗浄液吐出孔部１１の周囲により多く気体が供給さ
れるので、より一層霧の発生を防ぐことができる。
て、図４、図５を参照して説明する。図４は、本実施例
の洗浄ノズルと、ノズルを使用する状態を示す縦断面
図、図５（ａ）は、図４の線ｂ−ｂに沿って切断した横
断面図である。この洗浄ノズル１３は、気体噴出孔部１
２が、洗浄吐出孔部１１を挟む構造をしているものであ
る。この構造のものは（実施例１）の洗浄ノズル１３に
対し洗浄液吐出孔部１１の周囲により多く気体が供給さ
れるので、より一層霧の発生を防ぐことができる。
【００１４】また、このノズル構造は、図４の線ｂ−ｂ
に沿って切断して示す断面図が、図５（ｂ）、図５
（ｃ）に示すように洗浄溝または円状溝からなる洗浄液
吐出孔部１１と、この洗浄液吐出孔部１１の回りに環状
溝からなる気体噴出孔部１２としても良い。この場合、
気体噴出孔部１２が、洗浄吐出孔部１１を囲む構造なの
で、図５（ａ）の構造の洗浄ノズル１３よりも、より一
層霧を防止でき、製品の歩留まりを向上することができ
る。
に沿って切断して示す断面図が、図５（ｂ）、図５
（ｃ）に示すように洗浄溝または円状溝からなる洗浄液
吐出孔部１１と、この洗浄液吐出孔部１１の回りに環状
溝からなる気体噴出孔部１２としても良い。この場合、
気体噴出孔部１２が、洗浄吐出孔部１１を囲む構造なの
で、図５（ａ）の構造の洗浄ノズル１３よりも、より一
層霧を防止でき、製品の歩留まりを向上することができ
る。
【００１５】以上のような本発明の洗浄ノズル及び基板
洗浄装置は、適用例として液晶表示パネルのガラス基板
へのレジスト塗布後の基板の端縁部の洗浄について適用
する場合を説明したが、これに限らず、半導体部品のシ
リコンウェハーへのレジスト塗布後の基板の端縁部の洗
浄、その他基板洗浄に広く用いることができる。
洗浄装置は、適用例として液晶表示パネルのガラス基板
へのレジスト塗布後の基板の端縁部の洗浄について適用
する場合を説明したが、これに限らず、半導体部品のシ
リコンウェハーへのレジスト塗布後の基板の端縁部の洗
浄、その他基板洗浄に広く用いることができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、洗浄液吐出孔部に隣接
して気体噴出孔部を設け、被洗浄物の非洗浄部に気体を
噴出することによって、洗浄液吐孔部から洗浄液を吐出
する際に生じる霧の発生を防ぐことができる。その結
果、霧が、基板表面に付着することによるレジストの溶
解を防止でき、製品の歩留まりを向上することができ
る。
して気体噴出孔部を設け、被洗浄物の非洗浄部に気体を
噴出することによって、洗浄液吐孔部から洗浄液を吐出
する際に生じる霧の発生を防ぐことができる。その結
果、霧が、基板表面に付着することによるレジストの溶
解を防止でき、製品の歩留まりを向上することができ
る。
【図１】 本発明の洗浄ノズルの一実施例の使用状態を
示す縦断面図。
示す縦断面図。
【図２】 図１の線ａ−ａに沿って切断した横断面図。
【図３】 本発明の基板洗浄装置の一実施例を示す縦断
面図。
面図。
【図４】 本発明の洗浄ノズルの他の実施例の使用状態
を示す縦断面図。
を示す縦断面図。
【図５】（ａ） 図４の線ｂ−ｂに沿って切断した横断
面図。 （ｂ） 図４の線ｂ−ｂに沿って切断した他の実施例の
洗浄ノズルの横断面図。 （ｃ） 図４の線ｂ−ｂに沿って切断した更に他の洗浄
ノズルの横断面図。
面図。 （ｂ） 図４の線ｂ−ｂに沿って切断した他の実施例の
洗浄ノズルの横断面図。 （ｃ） 図４の線ｂ−ｂに沿って切断した更に他の洗浄
ノズルの横断面図。
【図６】 本発明の基板洗浄装置を説明するためのレジ
スト塗布後の基板端縁部を示す断面図であり、（ａ）
は、基板洗浄前、（ｂ）は、基板洗浄後を示す。
スト塗布後の基板端縁部を示す断面図であり、（ａ）
は、基板洗浄前、（ｂ）は、基板洗浄後を示す。
【図７】 従来の洗浄ノズルと、従来の基板洗浄方法を
説明するための基板端縁部のレジスト除去前を示す断面
図。
説明するための基板端縁部のレジスト除去前を示す断面
図。
【図８】 本発明の基板洗浄装置の一実施例を示す図。
１１…洗浄液吐出孔部 １２…気体噴出孔部 １３…洗浄ノズル １４…移動装置 １５…余剰洗浄吸引装置 １６…回転装置 １７…基板
Claims (3)
- 【請求項１】被洗浄物の基板の端縁部に向かって洗浄液
を吐出する洗浄液吐出孔部と、この洗浄液吐出孔部と隣
接して、前記洗浄液吐出孔部と前記基板の間に気体噴出
孔部とを具備した洗浄ノズル。 - 【請求項２】請求項１記載の洗浄ノズルと、前記洗浄ノ
ズルが被洗浄物の端縁部に沿って移動自在な移動装置
と、この移動装置に沿って配設され余剰洗浄液を吸引す
る余剰洗浄液吸引装置とを具備した基板洗浄装置。 - 【請求項３】被洗浄物を所定角度回動自在に支持し、被
洗浄物端縁部を任意に選択し得る回転装置を具備した請
求項２記載の基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629093A JPH06320099A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10629093A JPH06320099A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06320099A true JPH06320099A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=14429931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10629093A Pending JPH06320099A (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 洗浄ノズルとこれを用いた基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06320099A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6444047B1 (en) | 1999-01-04 | 2002-09-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of cleaning a semiconductor substrate |
| JP2006339209A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | レジスト除去装置及び方法 |
| KR101041052B1 (ko) * | 2004-07-28 | 2011-06-13 | 삼성전자주식회사 | 기판처리장치 |
| KR101447875B1 (ko) * | 2014-06-09 | 2014-10-08 | 강귀동 | 압력 용기 방식의 다용도 고압 세척 장치 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP10629093A patent/JPH06320099A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6444047B1 (en) | 1999-01-04 | 2002-09-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of cleaning a semiconductor substrate |
| US6832616B2 (en) | 1999-01-04 | 2004-12-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Substrate treating apparatus |
| KR101041052B1 (ko) * | 2004-07-28 | 2011-06-13 | 삼성전자주식회사 | 기판처리장치 |
| JP2006339209A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | レジスト除去装置及び方法 |
| KR101447875B1 (ko) * | 2014-06-09 | 2014-10-08 | 강귀동 | 압력 용기 방식의 다용도 고압 세척 장치 |
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