JPH06320659A - 透明導電性フィルム - Google Patents
透明導電性フィルムInfo
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- JPH06320659A JPH06320659A JP5110813A JP11081393A JPH06320659A JP H06320659 A JPH06320659 A JP H06320659A JP 5110813 A JP5110813 A JP 5110813A JP 11081393 A JP11081393 A JP 11081393A JP H06320659 A JPH06320659 A JP H06320659A
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Abstract
ル,オーバーヘッドプロジェクターに用いられる電子写
真記録用シートや第二原図,マイクロフィルム,スライ
ドポジフィルム、写真感光基材フィルム等に用いること
のできる透明導電性フィルムである。 【構成】プラスチックフィルムの片面または両面に、金
属酸化物として完全には酸化されていない絶縁性金属酸
化物層、表面抵抗106 Ω/cm2以下の導電性金属酸化物
層、および金属酸化物として完全には酸化されていない
絶縁性金属酸化物層を順次設けてなる透明導電性フィル
ムである。
Description
チ,ELパネル,オーバーヘッドプロジェクターに用い
られる電子写真記録用シートや第二原図,マイクロフィ
ルム,スライドポジフィルム、写真感光基材フィルム等
に用いることのできる透明導電性フィルムに関する。
明性の高いプラスチックフィルムに金、白金、銀、パラ
ジウム、アルミニウム等の金属薄膜あるいは、酸化イン
ジウム、酸化錫、酸化カドミウム等の導電性金属酸化物
の薄膜を形成した物が知られている。これらはディスプ
レイ用透明電極、透明発熱体、静電シールド透明窓、光
導電体や蛍光体等の半導体材料と接触して使用する透明
電極、光選択透過フィルム等に使用されている。しかし
このプラスチックフィルムと、金属薄膜や導電性金属酸
化物薄膜からなる透明導電性膜との密着力が十分でない
ため、透明電極を作る種々の加工工程で透明導電性膜が
剥離したり欠落する欠点があった。またシート状キーボ
ードとして指圧により屈曲を反復して使用する場合、特
に透明導電性膜が剥離するため耐久性に乏しい欠点があ
り、このような用途への利用の道は阻害されていた。こ
れらの欠点を解決する方法として、金属薄膜あるいは導
電性金属酸化物薄膜とプラスチックフィルムとの間に易
接着性をしめす有機化合物あるいは無機化合物を設ける
方法が提案されている(例えば、特開昭60−1312
38号,特開平01−9729号,同04−16314
1号など)。しかしながら、これらの方法では、プラス
チックフィルムと透明導電性膜との密着性は必ずしも十
分でない。また酸化インジウム系等の導電性金属酸化物
は酸やアルカリに対する化学耐久性がなく、また水溶液
系電解質中で使用可能電位の範囲の狭さ等が大きな欠点
であった。これらの欠点を解決する方法として、プラス
チックフィルム層上に金属薄膜あるいは導電性金属酸化
物薄膜層を設け、更にその上に酸化チタン層を設ける方
法がある(特開昭54−61696号)。しかしながら
この酸化チタン層は、耐傷性の点で問題があった。
を解決し、プラスチックフィルムの片面または両面に、
金属酸化物層を設け、その上に導電性金属酸化物層、更
に金属酸化物層を設ける事により、導電性はもとより、
プラスチックフィルムと透明導電層との接着性に優れ、
化学耐久性、耐傷性に優れた透明導電性フィルムを提供
するものである。
フィルムの片面または両面に、金属酸化物層を設け、そ
の上に導電性金属酸化物層、更に金属酸化物層を設ける
事により、導電性はもとより、プラスチックフィルムと
透明導電層との接着性に優れ、化学耐久性、耐傷性に優
れた透明導電性フィルムである。すなわち、本発明は、
プラスチックフィルムの片面または両面に、金属酸化物
として完全には酸化されていない、表面抵抗106 Ω/cm2
を超える絶縁性金属酸化物層、表面抵抗106 Ω/cm2以下
の導電性金属酸化物層、および金属酸化物として完全に
は酸化されていない、表面抵抗106 Ω/cm2を超える絶縁
性金属酸化物層を順次設けてなる透明導電性フィルムで
ある。絶縁性金属酸化物層としては、表面抵抗1011Ω/c
m2ないし106 Ω/cm2であり、導電性金属酸化物層として
は、表面抵抗106 Ω/cm2ないし102 Ω/cm2が好ましく、
金属酸化物層全体としては導電性を有している。本発明
においてプラスチックフィルムとは、延伸フィルムや未
延伸フィルムの限定は特に無いが、液晶関係に使用する
にあたっては一軸延伸フィルムが望ましい。またその組
成としては、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオ
レフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン
−2,6ナフタレート等のポリエステル、ナイロン6や
ナイロン12等のポリアミド、ポリイミド、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンスルフィド、ポリカーボネート、セ
ルローストリアセテートなどあるいはモノマー(原料)
組成的にこれらの重合体の構造単位を主成分として含む
共重合やブレンドポリマー等がある。本発明の透明プラ
スチックフィルムの光線透過率は一般論として高い方が
望ましいが、液晶関係はその活用分野によってその要求
特性は異なる。これらの事を配慮しても白色自然光での
全光線透過率は少なくとも50%以上、好ましくは70
%以上である。本発明のプラスチックフィルムに金属酸
化物層を設けるにあたり、プラスチックフィルム表面に
コロナ放電処理、プラズマ処理、火炎処理、グロー放電
処理、粗面化処理等の表面処理が施されてもよい。プラ
スチックフィルムに金属酸化物層を形成する方法として
は、蒸着中にスプラッシュといわれる蒸着飛沫を発生し
ないまたは少ない方法なら特に制限はなく、真空蒸着,
イオンプレーティング,スパッタリングなどを用いる事
ができる。さらに真空蒸着の加熱方法としては特に制限
はなく、高周波誘導加熱、抵抗加熱、電子線加熱等の従
来公知の加熱方法を用いることができる。プラスチック
フィルムへの金属酸化物層の付与方法は特に限定はな
く、巻取り連続方式、枚葉式いずれでも構わない。巻取
り連続方式で行う場合は、プラスチックフィルムの伸
び,しわ,亀裂の発生防止の面からプラスチックフィル
ムの厚みは5〜500ミクロン(μ)であることが望ま
しい。本発明による透明導電性フィルムの形成方法は以
下に示すとおりである。まずプラスチックフィルムの片
面または両面に金属酸化物層を形成し、その上に導電性
金属酸化物層、更にその上に金属酸化物層を形成する。
プラスチックフィルムと導電性金属酸化物の間の金属酸
化物層および最外層にある金属酸化物は、主に最終的に
得られるプラスチックフィルムとの易接着性、耐傷性の
他に、寸法安定性,ガスバリヤー性を付与するものであ
る。ここで金属酸化物層は共に完全に酸化されていない
酸素欠乏状態であることが望ましい。例えばけい素酸化
物の場合SiO2が完全な酸化状態であるが、前記の酸
素欠乏状態とは以下の様に表すことができる。 SiOX 〔X=1〜1.9〕 この金属酸化物層が完全に酸化させてしまうと、フレキ
シブル性や導電性が悪化し、最終的にできあがった透明
導電性フィルムにクラックが発生し接着性に問題が生じ
たり、フィルム中に絶縁層が存在してしまうため、抵抗
値が大きくなる。金属酸化物層としてはけい素酸化物、
アルミニウム酸化物等があげられるが、中でも、けい素
酸化物が望ましい。また導電性金属酸化物としては、I
TO(インジウム・スズ・オキサイド),インジウム酸
化物,錫酸化物等の導電性を示す一種またはそれ以上の
導電性金属酸化物があげられる。またプラスチックフィ
ルム上に形成される金属酸化物、及び導電性金属酸化物
は結果的に酸化物の状態であればよく、原料は金属酸化
物,金属,有機金属化合物等何れでも構わない。つまり
真空蒸着等の方法により金属酸化物を原料とし直接プラ
スチックフィルム上に金属酸化物層を形成させても、ま
た金属または有機金属酸化物のような金属を含む化合物
を酸化させながら金属酸化物層としても、また金属をプ
ラスチックフィルム上に蒸着層として形成させ、後工程
でその蒸着層を酸化処理して、金属酸化物としても構わ
ない。酸化処理の方法としてはプラスチックフィルムの
使用可能温度範囲内で処理を行う方法なら特に限定され
ず、蒸着中の酸素ガス導入法、放電処理法、酸素プラズ
マ法、熱酸化法等があげられる。金属酸化物層及び導電
性金属酸化物層の厚さは使用するプラスチックフィルム
のに合わせて選定されるが、本発明においては50〜2
000オングストロームが望ましい。またこの積層を2
回以上に分けて行ってもよく、その時異種類の金属酸化
物を積層しても構わない。また金属酸化物層とプラスチ
ックフィルムとの間に下塗り接着層をまた最外層の金属
酸化物層の外側には表面保護層や界面活性剤系及び高分
子電解質系の帯電防止剤を設けても構わない。また金属
酸化物層及び導電性金属酸化物層を設けた反対側面に
は、常法により下塗り層と感光性乳剤層の2層または感
光性乳剤層だけを直接設けても構わない。
または両面に、金属酸化物層を設け、その上に導電性金
属酸化物層、更に金属酸化物層を設ける事により、表面
導電性はもとより、体積導電性、プラスチックフィルム
と透明導電層との接着性に優れ、化学耐久性、耐傷性に
優れた透明導電性フィルムを得ることができたものであ
る。さらに、本発明により寸法安定性,ガスバリヤー性
も同時に高めることができる。
に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。また各実施例、比
較例における性能評価方法は以下の通りである。 (けい素酸化物の酸化度測定法)ESCA(PHI−5
400、パーキンエルマー社製)及びアルゴンエッチン
グ装置を用いて、Si2P軌道のスペクトルを測定し、結
合エネルギーピークの位置により、けい素酸化物の酸化
度を測定した。(蒸着膜の密着力)サンプル表面に1mm
角クロスカット後、セロハン粘着テープ(ニチバン製、
JIS-Z 1522規格品)で180゜剥離テストを行った。5
級:剥離無し、4級:25%剥離、3級:50%剥離、
2級:75%剥離、1級:全面剥離。 (蒸着膜の耐傷性) 試料を粘着テ
ープにて導電層が上になる様に5mm厚のアクリル板に両
面粘着テープで接着し、試験サンプルを作成した。この
試験サンプルを試料台に固定した後、導電層上をガーゼ
で被覆した4φ鋼球を摺動させた。荷重は110g、摺
動速度は15mm/secである。耐摩耗性は、表面抵抗が摺
動前の値の1.1倍となる摺動回数(往復回数)と定義
した。
い、厚さ100μの二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム(PET)の表面にまず一酸化けい素を酸素
ガス導入しないで加熱真空蒸着した(厚み約500オン
グストローム)。その蒸着表面にITO(インジウム・
スズ・オキサイド、Snを5重量%添加)を酸素ガス導
入しながら、加熱真空蒸着を行った(厚み約500オン
グストローム)。その時の酸素ガス分圧は2×10-4to
rrであった。更にその上に再び一酸化けい素を酸素ガス
導入しないで加熱真空蒸着した(厚み約500オングス
トローム)。形成された透明導電性フィルムについて、
表面抵抗(Ω/cm2)、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムとITOの間、及び最外層のけい素酸化物の酸化
度、蒸着膜の密着力、蒸着膜の耐傷性について評価を行
った。結果を表1に示す。
チレンテレフタレートフィルム(PET)用いて、実施
例1の最外層のけい素酸化物の蒸着を行わずに、あとは
実施例1と同様にして蒸着フィルムを得た。形成された
透明導電性フィルムについて、表面抵抗、ポリエチレン
テレフタレートフィルムとITOの間のけい素酸化物の
酸化度、蒸着膜の密着力、蒸着膜の耐傷性について評価
を行った。結果を表1に示す。
チレンテレフタレートフィルム(PET)用いて、実施
例1のポリエチレンテレフタレートフィルムとITOの
間のけい素酸化物層の蒸着を行わずに、あとは実施例1
と同様にして蒸着フィルムを得た。形成された透明導電
性フィルムについて、表面抵抗、最外層のけい素酸化物
の酸化度、蒸着膜の密着力、蒸着膜の耐傷性について評
価を行った。結果を表1に示す。
チレンテレフタレートフィルム(PET)用いて、真空
蒸着を行った。まずポリエチレンテレフタレートフィル
ムの表面に一酸化けい素を酸素ガス導入しながら加熱真
空蒸着した(厚み約500オングストローム)。その時
の酸素ガス分圧は9×10-4torrであった。その蒸着表
面にITOを酸素ガス導入しながら、加熱真空蒸着を行
った(厚み約500オングストローム)。その時の酸素
ガス分圧は2×10-4torrであった。更にその上に再び
一酸化けい素を酸素ガス導入しながら加熱真空蒸着した
(厚み約500オングストローム)。その時の酸素ガス
分圧は9×10-4torrであった。形成された透明導電性
フィルムについて、表面抵抗、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムとITOの間及び最外層のけい素酸化物の
酸化度、蒸着膜の密着力、蒸着膜の耐傷性について評価
を行った。結果を表1に示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 プラスチックフィルムの片面または両面
に、金属酸化物として完全には酸化されていない絶縁性
金属酸化物層、表面抵抗106 Ω/cm2以下の導電性金属酸
化物層、および金属酸化物として完全には酸化されてい
ない絶縁性金属酸化物層を順次設けてなる透明導電性フ
ィルム。 - 【請求項2】 絶縁性金属酸化物層がけい素酸化物であ
る請求項1記載の透明導電性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11081393A JP3328994B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 透明導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11081393A JP3328994B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 透明導電性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06320659A true JPH06320659A (ja) | 1994-11-22 |
| JP3328994B2 JP3328994B2 (ja) | 2002-09-30 |
Family
ID=14545314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11081393A Expired - Lifetime JP3328994B2 (ja) | 1993-05-13 | 1993-05-13 | 透明導電性フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3328994B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0997551A3 (de) * | 1998-10-26 | 2003-04-16 | Applied Films GmbH & Co. KG | Transparentes Barriereschichtensystem |
-
1993
- 1993-05-13 JP JP11081393A patent/JP3328994B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0997551A3 (de) * | 1998-10-26 | 2003-04-16 | Applied Films GmbH & Co. KG | Transparentes Barriereschichtensystem |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3328994B2 (ja) | 2002-09-30 |
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