JPH06324207A - ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法Info
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- JPH06324207A JPH06324207A JP11037293A JP11037293A JPH06324207A JP H06324207 A JPH06324207 A JP H06324207A JP 11037293 A JP11037293 A JP 11037293A JP 11037293 A JP11037293 A JP 11037293A JP H06324207 A JPH06324207 A JP H06324207A
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- dispersant
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Abstract
(57)【要約】
【構成】基板６上に、常法を用いて第一遮光層１、第二
遮光層２、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，４，５を
形成し、３色のカラーフィルタを得た。このときの第一
遮光層に用いられる感光性樹脂は、アクリル樹脂をエチ
ルセロソルブで希釈し、カーボン顔料、光重合モノマ
ー、分散剤を添加し、４．４’ジエチルアミノベンゾフ
ェノンを加えたもので、第二遮光層に用いられる感光性
樹脂は、希釈アクリル樹脂に酸化チタン、光重合モノマ
ー、分散剤を添加して三本ロールで十分混練し、４．
４’ジエチルアミノベンゾフェノンを加えたものであ
る。 【効果】遮光性・解像性・絶縁性に優れたブラックマト
リクスを製造する事ができる。
遮光層２、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，４，５を
形成し、３色のカラーフィルタを得た。このときの第一
遮光層に用いられる感光性樹脂は、アクリル樹脂をエチ
ルセロソルブで希釈し、カーボン顔料、光重合モノマ
ー、分散剤を添加し、４．４’ジエチルアミノベンゾフ
ェノンを加えたもので、第二遮光層に用いられる感光性
樹脂は、希釈アクリル樹脂に酸化チタン、光重合モノマ
ー、分散剤を添加して三本ロールで十分混練し、４．
４’ジエチルアミノベンゾフェノンを加えたものであ
る。 【効果】遮光性・解像性・絶縁性に優れたブラックマト
リクスを製造する事ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に用いる
コントラスト向上のためのブラックマリトクス基板、及
びその製造方法及びカラー液晶表示装置に用いる色分解
用カラーフィルタ及びその製造方法に関する。
コントラスト向上のためのブラックマリトクス基板、及
びその製造方法及びカラー液晶表示装置に用いる色分解
用カラーフィルタ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、カラーフィルタ用等のブラックマ
トリクスは、基板上にスパッタ法等を用いて金属Ｃｒ膜
を形成する工程と前記Ｃｒ膜上にポジレジストを塗布
し、露光・現像して所定のパターンを形成する工程と、
前記ポジレジストパターンをマスクにして、Ｃｒ膜をエ
ッチングする工程で形成するのが一般的だった。
トリクスは、基板上にスパッタ法等を用いて金属Ｃｒ膜
を形成する工程と前記Ｃｒ膜上にポジレジストを塗布
し、露光・現像して所定のパターンを形成する工程と、
前記ポジレジストパターンをマスクにして、Ｃｒ膜をエ
ッチングする工程で形成するのが一般的だった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記金属Ｃｒを用いる
ブラックマトリクスは、解像性や遮光性に優れている
が、工程が複雑であり、コスト的に不利である事、又Ｃ
ｒ膜に導電性が有る為、Ｘ−Ｙ方式のパネルの場合、上
ＩＴＯパターンとの間に絶縁層が必要であり、更に絶縁
層にピンホール等の不良が有った場合、上ＩＴＯの短絡
が生じ、線欠陥を発生する問題が有った。又、Ｃｒを用
いる事で、環境問題の上でも改善が必要であった。
ブラックマトリクスは、解像性や遮光性に優れている
が、工程が複雑であり、コスト的に不利である事、又Ｃ
ｒ膜に導電性が有る為、Ｘ−Ｙ方式のパネルの場合、上
ＩＴＯパターンとの間に絶縁層が必要であり、更に絶縁
層にピンホール等の不良が有った場合、上ＩＴＯの短絡
が生じ、線欠陥を発生する問題が有った。又、Ｃｒを用
いる事で、環境問題の上でも改善が必要であった。
【０００４】前記Ｃｒ膜を用いたブラックマトリクスの
問題点を解決する為に点アクリル樹脂・顔料・分散剤・
感光剤溶剤より成る感光性着色樹脂を用いたブラックマ
トリクスの形成方法が検討されている（特開平０４−１
９０３６２、特開昭６３−１７２２２１、特開昭６３−
１７２２２２参照）。
問題点を解決する為に点アクリル樹脂・顔料・分散剤・
感光剤溶剤より成る感光性着色樹脂を用いたブラックマ
トリクスの形成方法が検討されている（特開平０４−１
９０３６２、特開昭６３−１７２２２１、特開昭６３−
１７２２２２参照）。
【０００５】前記顔料を用いたブラックマトリクスの形
成方法は工程が簡便で有る点で優れているが、良好な遮
光性を得る為には、ブラックマトリクスの膜厚を厚くす
る必要が有り、後工程でパターン化される色フィルタと
のオーバーラップが大きくなりＩＴＯの断線配向膜の配
向不良等の問題を生じ易くなる。又、光硬化を持ってパ
ターン化する場合、遮光性が高い故に、光による硬化が
進みにくく、光量が多く必要であり、結果的に解像度が
低下するといった問題点が有る。
成方法は工程が簡便で有る点で優れているが、良好な遮
光性を得る為には、ブラックマトリクスの膜厚を厚くす
る必要が有り、後工程でパターン化される色フィルタと
のオーバーラップが大きくなりＩＴＯの断線配向膜の配
向不良等の問題を生じ易くなる。又、光硬化を持ってパ
ターン化する場合、遮光性が高い故に、光による硬化が
進みにくく、光量が多く必要であり、結果的に解像度が
低下するといった問題点が有る。
【０００６】更に顔料として最も遮光性の高いものはカ
ーボンであるが、カーボン顔料には導電性が有る為、金
属Ｃｒを用いたブラックマトリクス同様に、上ＩＴＯ短
絡の問題生じる恐れもある。
ーボンであるが、カーボン顔料には導電性が有る為、金
属Ｃｒを用いたブラックマトリクス同様に、上ＩＴＯ短
絡の問題生じる恐れもある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明では、前記課題を
解決する為に検討を行ない、請求項１では、基板上に、
アクリル樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤を主成分とす
る第一遮光層と、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と
感光剤を主成分とする第二遮光層が順に積層されている
ブラックマトリクス基板を提供するものである。
解決する為に検討を行ない、請求項１では、基板上に、
アクリル樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤を主成分とす
る第一遮光層と、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と
感光剤を主成分とする第二遮光層が順に積層されている
ブラックマトリクス基板を提供するものである。
【０００８】また、請求項２では、基板上に、アクリル
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする
感光性樹脂をパターン化して第一遮光層を設ける工程
と、前記第一遮光層上に、アクリル樹脂と酸化チタンと
分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパタ
ーン化して第一遮光層を設ける工程よりなる事を特徴と
するブラックマリトクス基板の製造方法を提供するもの
である。
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする
感光性樹脂をパターン化して第一遮光層を設ける工程
と、前記第一遮光層上に、アクリル樹脂と酸化チタンと
分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパタ
ーン化して第一遮光層を設ける工程よりなる事を特徴と
するブラックマリトクス基板の製造方法を提供するもの
である。
【０００９】また、請求項３では、基板上に、アクリル
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤を主成分とする第一遮
光層と、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と感光剤を
主成分とする第二遮光層と、所望の色フィルタが順に積
層されている事を特徴とするカラーフィルタを提供する
ものである。
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤を主成分とする第一遮
光層と、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と感光剤を
主成分とする第二遮光層と、所望の色フィルタが順に積
層されている事を特徴とするカラーフィルタを提供する
ものである。
【００１０】また、請求項４では、基板上に、アクリル
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする
感光性樹脂をパターン化して第一遮光層を設ける工程
と、前記第一遮光層上に、アクリル樹脂と酸化チタンと
分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパタ
ーン化して第一遮光層を設ける工程と、所望の色フィル
タを形成する工程よりなる事を特徴とするカラーフィル
タの製造方法を提供するものである。
樹脂と黒色顔料と分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする
感光性樹脂をパターン化して第一遮光層を設ける工程
と、前記第一遮光層上に、アクリル樹脂と酸化チタンと
分散剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパタ
ーン化して第一遮光層を設ける工程と、所望の色フィル
タを形成する工程よりなる事を特徴とするカラーフィル
タの製造方法を提供するものである。
【００１１】第一遮光層に用いられるアクリル樹脂とし
ては、特開平２−１８１７０４や特開平２−１９９４０
３に示される様なものが用いられ、顔料としては、カー
ボン酸化チタン等の黒色顔料、又は、ベンチジンイエロ
ーＧ、ベンチジンイエローＧＲ、リソールファーストオ
レンジ３ＧＬ、バルカンファーストオレンジＧＣ、ピグ
メントスカーレット３Ｂ、チオクンジゴマルーン、フタ
ロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、イソダン
スレンブルー、グリーンゴールド、マカライトグリーン
レーキなどを混合して用いる事ができる。
ては、特開平２−１８１７０４や特開平２−１９９４０
３に示される様なものが用いられ、顔料としては、カー
ボン酸化チタン等の黒色顔料、又は、ベンチジンイエロ
ーＧ、ベンチジンイエローＧＲ、リソールファーストオ
レンジ３ＧＬ、バルカンファーストオレンジＧＣ、ピグ
メントスカーレット３Ｂ、チオクンジゴマルーン、フタ
ロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、イソダン
スレンブルー、グリーンゴールド、マカライトグリーン
レーキなどを混合して用いる事ができる。
【００１２】本発明に係わる分散剤は有機色素の誘導体
であり、母体となる有機色素としてはアゾ系、フタロシ
アニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ペリレ
ン系、ペリノン系、チオインジコ系、ジオキサジン系、
イソインドリノン系、キノフタロン系、トリフェニルメ
タン系、金属錯塩系などである。これらの有機色素に置
換基を有し、色素の分散に有効な誘導体が用いられる。
置換基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、あるいは下
記一般式で示されるいずれかの置換基である。これらの
置換基から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する誘
導体が用いられる。
であり、母体となる有機色素としてはアゾ系、フタロシ
アニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、ペリレ
ン系、ペリノン系、チオインジコ系、ジオキサジン系、
イソインドリノン系、キノフタロン系、トリフェニルメ
タン系、金属錯塩系などである。これらの有機色素に置
換基を有し、色素の分散に有効な誘導体が用いられる。
置換基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、あるいは下
記一般式で示されるいずれかの置換基である。これらの
置換基から選ばれる少なくとも１種の置換基を有する誘
導体が用いられる。
【００１３】感光剤としては、特開平２−１８１７０４
に示す様な各種アジド化合物、又は各種ジアゾ化合物が
使用できる更に、特開平２−１９９４０３に示す様な光
重合性モノマー及び光重合開始剤を併用する事も可能で
ある。
に示す様な各種アジド化合物、又は各種ジアゾ化合物が
使用できる更に、特開平２−１９９４０３に示す様な光
重合性モノマー及び光重合開始剤を併用する事も可能で
ある。
【００１４】溶剤としては、前記アクリル樹脂、感光剤
等を良く溶解させる物から選ばれ、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、キシ
レン、エチルベンゼン、シクロヘキサノン、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル等が用いら
れる。
等を良く溶解させる物から選ばれ、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、キシ
レン、エチルベンゼン、シクロヘキサノン、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル等が用いら
れる。
【００１５】第二遮光層に用いられる感光性樹脂として
は、前記第一遮光層に用いられる感光性樹脂の組成のう
ち、顔料として酸化チタンを用いたものである。このと
き酸化チタンとしては、電気抵抗の大きいものを選定す
るのがより良好な特性を持たせる事ができる。
は、前記第一遮光層に用いられる感光性樹脂の組成のう
ち、顔料として酸化チタンを用いたものである。このと
き酸化チタンとしては、電気抵抗の大きいものを選定す
るのがより良好な特性を持たせる事ができる。
【００１６】各々の感光性樹脂の固形分中の顔料比、酸
化チタン比は用いる顔料、酸化チタン比に応じて自由に
決定する事ができるが、より良い解像性を得る為に、第
一遮光層に用いられる感光性樹脂の顔料分は、塗膜の透
過率が１０％以上となる様に低くする事が好ましく、遮
光性を高くする為に、第二遮光層に用いられる感光性樹
脂の酸化チタン分は、塗膜の透過率が１％以下とする様
に高くする事がより好ましい。
化チタン比は用いる顔料、酸化チタン比に応じて自由に
決定する事ができるが、より良い解像性を得る為に、第
一遮光層に用いられる感光性樹脂の顔料分は、塗膜の透
過率が１０％以上となる様に低くする事が好ましく、遮
光性を高くする為に、第二遮光層に用いられる感光性樹
脂の酸化チタン分は、塗膜の透過率が１％以下とする様
に高くする事がより好ましい。
【００１７】又、各層の膜厚も任意に設定する事が可能
であるが、色フィルタとのオーバーラップを低減する
為、感光性樹脂はともに０．５μｍ以下の膜厚とするの
がより好ましい。
であるが、色フィルタとのオーバーラップを低減する
為、感光性樹脂はともに０．５μｍ以下の膜厚とするの
がより好ましい。
【００１８】
【作用】遮光性や解像性や絶縁性に優れ、端面形状も良
好で、ＩＴＯの断線や配向不良の生じにくいブラックマ
トリクス基板や、遮光性や解像性や絶縁性に優れ、且つ
色フィルタとのオーバーラップが小さく、ＩＴＯの断線
や配向不良の生じにくいカラーフィルタを形成する事が
可能でになる。
好で、ＩＴＯの断線や配向不良の生じにくいブラックマ
トリクス基板や、遮光性や解像性や絶縁性に優れ、且つ
色フィルタとのオーバーラップが小さく、ＩＴＯの断線
や配向不良の生じにくいカラーフィルタを形成する事が
可能でになる。
【００１９】
【実施例】以下本発明による実施例を示すアクリル樹脂
（メタクリル酸２０部、ヒドロキシメタクリレート１５
部、メチルメタクリレート１０部、ブチルメタクリレー
ト５５部を、エチルセロソルブ３００部に溶解し、窒素
雰囲気下でアゾビスニトリル０．７５部を加えて７０
℃、５時間反応させ得られたアクリル樹脂）を、樹脂濃
度１０％になるようにエチルセロソルブで希釈した。こ
の希釈樹脂８０．０ｇに対し、カーボン顔料１４．０
ｇ、光重合モノマー（ペンタエリスリトールトリアクリ
レート）５．１ｇ、分散剤０．９ｇを添加して三本で十
分混練し、４．４’ジエチルアミノベンゾフェノン１．
０ｇを加え、第一遮光層に用いられる感光性樹脂を作成
した。
（メタクリル酸２０部、ヒドロキシメタクリレート１５
部、メチルメタクリレート１０部、ブチルメタクリレー
ト５５部を、エチルセロソルブ３００部に溶解し、窒素
雰囲気下でアゾビスニトリル０．７５部を加えて７０
℃、５時間反応させ得られたアクリル樹脂）を、樹脂濃
度１０％になるようにエチルセロソルブで希釈した。こ
の希釈樹脂８０．０ｇに対し、カーボン顔料１４．０
ｇ、光重合モノマー（ペンタエリスリトールトリアクリ
レート）５．１ｇ、分散剤０．９ｇを添加して三本で十
分混練し、４．４’ジエチルアミノベンゾフェノン１．
０ｇを加え、第一遮光層に用いられる感光性樹脂を作成
した。
【００２０】次に、前記希釈アクリル樹脂６０．０ｇに
酸化チタン３０．０ｇ、光重合モノマー（ペンタエリス
リトールトリアクリレート）９．１ｇ、分散剤０．９ｇ
を添加して三本ロールで十分混練し、４．４’ジエチル
アミノベンゾフェノン１．０ｇを加え、第二遮光層に用
いられる感光性樹脂を作成した。
酸化チタン３０．０ｇ、光重合モノマー（ペンタエリス
リトールトリアクリレート）９．１ｇ、分散剤０．９ｇ
を添加して三本ロールで十分混練し、４．４’ジエチル
アミノベンゾフェノン１．０ｇを加え、第二遮光層に用
いられる感光性樹脂を作成した。
【００２１】次にアクリル樹脂（メタクリル酸２０部、
ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メチルメタク
リレート１０部、ブチルメタクリレート５５部を、エチ
ルセロソルブ３００部に溶解し、窒素雰囲気下でアソビ
スニトリル０．７５部を加えて７０℃５時間反応させ得
られたアクリル樹脂を樹脂濃度１０％になるようにエチ
ルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂８０．０ｇに対
し、顔料１４．０ｇ光重合モノマー（ペンタエリスリト
ールトリアクリレート）５．１ｇ、分散剤０．９ｇを添
加して三本ロールで十分混練し、赤、緑、青色の着色樹
脂を作成した。以下用いた顔料及び分散剤を示す。
ヒドロキシエチルメタクリレート１５部、メチルメタク
リレート１０部、ブチルメタクリレート５５部を、エチ
ルセロソルブ３００部に溶解し、窒素雰囲気下でアソビ
スニトリル０．７５部を加えて７０℃５時間反応させ得
られたアクリル樹脂を樹脂濃度１０％になるようにエチ
ルセロソルブで希釈した。この希釈樹脂８０．０ｇに対
し、顔料１４．０ｇ光重合モノマー（ペンタエリスリト
ールトリアクリレート）５．１ｇ、分散剤０．９ｇを添
加して三本ロールで十分混練し、赤、緑、青色の着色樹
脂を作成した。以下用いた顔料及び分散剤を示す。
【００２２】（赤色フィルタ用） （１）顔料 リオノゲンレッドＧＤ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．
Ｉ．ピグメントレッド１６８）６．７５ｇとリオノーゲ
ンオレンジＲ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．Ｉピグメン
トオレンジ３６）２．２５ｇとの混合物
Ｉ．ピグメントレッド１６８）６．７５ｇとリオノーゲ
ンオレンジＲ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．Ｉピグメン
トオレンジ３６）２．２５ｇとの混合物
【００２３】（２）分散剤 下記構造式の化合物
【００２４】
【化１】
【００２５】（緑色フィルター用） （１）顔料 リオノールグリーン２ＹＳ（東洋インキ製造（株）製
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）６．７５ｇとリオノ
ーゲンエロー３Ｇ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．Ｉ．ピ
グメントエロー１５４）２．２５ｇとの混合物
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）６．７５ｇとリオノ
ーゲンエロー３Ｇ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．Ｉ．ピ
グメントエロー１５４）２．２５ｇとの混合物
【００２６】（２）分散剤 下記の銅フタロシアニン誘導体 ＣｕＰＣ〔ＳＯ2 Ｎ（Ｃ18Ｈ37）2 〕2
【００２７】（青色フィルター用） （１）顔料 リオノールブルーＥＳ（東洋インキ製造（株）製Ｃ．
Ｉ．ピグメントブルー１５：６）７．２ｇとリオノーゲ
ンバイオレットＨＲ（東洋インキ製造（株）Ｃ．Ｉ．ピ
グメントパイオレット２３）１．８ｇとの混合物 （２）分散剤 下記の銅フタロシアニン誘導体
Ｉ．ピグメントブルー１５：６）７．２ｇとリオノーゲ
ンバイオレットＨＲ（東洋インキ製造（株）Ｃ．Ｉ．ピ
グメントパイオレット２３）１．８ｇとの混合物 （２）分散剤 下記の銅フタロシアニン誘導体
【００２８】
【化２】
【００２９】各着色樹脂１００ｇに対して、４．４’−
ジエチルアミノベンゾフェノン１．０ｇを加えて十分に
攪拌し、感光性着色樹脂組成物とした。
ジエチルアミノベンゾフェノン１．０ｇを加えて十分に
攪拌し、感光性着色樹脂組成物とした。
【００３０】＃７０５９材ガラスである基板６上に、第
一遮光層に用いられる感光性樹脂を、１．５００ｒｐｍ
×１０ｓｅｃの条件でスピンコートし、７０℃で２０分
間加熱乾燥した。次に、感光性樹脂上に、ポリビニルア
ルコール５％水溶液をコートし、７０℃で２０分間加熱
乾燥した。
一遮光層に用いられる感光性樹脂を、１．５００ｒｐｍ
×１０ｓｅｃの条件でスピンコートし、７０℃で２０分
間加熱乾燥した。次に、感光性樹脂上に、ポリビニルア
ルコール５％水溶液をコートし、７０℃で２０分間加熱
乾燥した。
【００３１】続いて、開口幅２３μｍ、ピッチ１００μ
ｍのストライプパターンマスクを介して、超高圧水銀燈
を用いて１００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像した。
ｍのストライプパターンマスクを介して、超高圧水銀燈
を用いて１００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像した。
【００３２】更に、２３０℃で１．０時間加熱焼成し、
ストライプパターンの第一遮光層１を得た。この時パタ
ーン線巾は２５μｍであり、膜厚は０．４μｍであっ
た。又、パターンの透過率は１０％であった。
ストライプパターンの第一遮光層１を得た。この時パタ
ーン線巾は２５μｍであり、膜厚は０．４μｍであっ
た。又、パターンの透過率は１０％であった。
【００３３】次に、第一遮光層１のパターンを形成した
基板上に第二遮光層に用いられる感光性樹脂を、１．５
００ｒｐｍ×１０ｓｅｃの条件でスピンコートし、７０
℃で２０分間加熱乾燥した。次に、感光性樹脂２の上
に、ポリビニルアルコール５％水溶液をコートし、７０
℃で２０分間加熱乾燥した。
基板上に第二遮光層に用いられる感光性樹脂を、１．５
００ｒｐｍ×１０ｓｅｃの条件でスピンコートし、７０
℃で２０分間加熱乾燥した。次に、感光性樹脂２の上
に、ポリビニルアルコール５％水溶液をコートし、７０
℃で２０分間加熱乾燥した。
【００３４】続いて、開口幅１５μｍ、ピッチ１００μ
ｍのストライプパターンマスクを介して、感光性樹脂１
のパターンと、正確にアライメントを行なった上で、超
高圧水銀燈を用いて、２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１
％炭酸ナトリウム水溶液で現像した。
ｍのストライプパターンマスクを介して、感光性樹脂１
のパターンと、正確にアライメントを行なった上で、超
高圧水銀燈を用いて、２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１
％炭酸ナトリウム水溶液で現像した。
【００３５】更に、２３０℃で１．０時間加熱焼成し、
ストライプパターンの第二遮光層２を得た。この時、パ
ターンの線巾は１９μｍであり、膜厚は０．４μｍであ
った。又、第二遮光層２は第一遮光層１の上にパターン
合わせされて積層されており、両側に３μｍずつの余裕
があった。また、積層された合計の膜厚は０．８μｍで
あり、透過率は０．１％以下であった。
ストライプパターンの第二遮光層２を得た。この時、パ
ターンの線巾は１９μｍであり、膜厚は０．４μｍであ
った。又、第二遮光層２は第一遮光層１の上にパターン
合わせされて積層されており、両側に３μｍずつの余裕
があった。また、積層された合計の膜厚は０．８μｍで
あり、透過率は０．１％以下であった。
【００３６】上記工程で得られたブラックマトリクス上
に、常法を用いて、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，
４，５を形成し、３色のカラーフィルタを得た。この
時、各色フィルタ３，４，５とブラックマトリクスは各
々３μｍずつオーバーラップした。オーバーラップ部の
高さは、色フィルタ中心部に対して、０．３μｍであっ
た。
に、常法を用いて、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，
４，５を形成し、３色のカラーフィルタを得た。この
時、各色フィルタ３，４，５とブラックマトリクスは各
々３μｍずつオーバーラップした。オーバーラップ部の
高さは、色フィルタ中心部に対して、０．３μｍであっ
た。
【００３７】又、得られたカラーフィルタ上にＩＴＯ膜
を成膜し、フォトリソ法を用いてエッチングし、ストラ
イプのＩＴＯパターンを得た。この時、各ＩＴＯストラ
イプに短絡断線等は見られなかった。
を成膜し、フォトリソ法を用いてエッチングし、ストラ
イプのＩＴＯパターンを得た。この時、各ＩＴＯストラ
イプに短絡断線等は見られなかった。
【００３８】＜比較例＞＃７０５９材ガラス上に、感光
性樹脂を８００ｒｐｍ×１０ｓｅｃの条件でスピンコー
トし、７０℃で２０分間加熱乾燥した。次に、感光性樹
脂上に、ポリビニルアルコール５％水溶液をコートし、
７０℃で２０分間加熱乾燥した。
性樹脂を８００ｒｐｍ×１０ｓｅｃの条件でスピンコー
トし、７０℃で２０分間加熱乾燥した。次に、感光性樹
脂上に、ポリビニルアルコール５％水溶液をコートし、
７０℃で２０分間加熱乾燥した。
【００３９】続いて、開口幅２３μｍ、ピッチ１００μ
ｍのストライプパターンマスクを介して、超高圧水銀燈
を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像した。
ｍのストライプパターンマスクを介して、超高圧水銀燈
を用いて２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光し、１％炭酸ナトリ
ウム水溶液で現像した。
【００４０】更に、２３０℃で１．０時間加熱焼成し、
ストライプパターンの遮光層７を得た。この時パターン
線巾は２７μｍであり膜厚は１．２μｍであった。又、
パターンの透過率は０．１％以下であった。更に、遮光
層７の形状はオーバー露光の為に、ギザつきが発生して
いた。
ストライプパターンの遮光層７を得た。この時パターン
線巾は２７μｍであり膜厚は１．２μｍであった。又、
パターンの透過率は０．１％以下であった。更に、遮光
層７の形状はオーバー露光の為に、ギザつきが発生して
いた。
【００４１】上記工程で得られた遮光層７の上に、常法
を用いて、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，４，５を
形成し３色のカラーフィルタを得た。この時、各色フィ
ルタ３，４，５と遮光層は各々３μｍずつオーバーラッ
プした。オーバーラップ部の高さは、色フィルタ中心部
に対して、１．０μｍであった。
を用いて、赤色、緑色、青色の色フィルタ３，４，５を
形成し３色のカラーフィルタを得た。この時、各色フィ
ルタ３，４，５と遮光層は各々３μｍずつオーバーラッ
プした。オーバーラップ部の高さは、色フィルタ中心部
に対して、１．０μｍであった。
【００４２】又、得られたカラーフィルタ上にＩＴＯ膜
を成膜し、フォトリソ法を用いてエッチングし、ストラ
イプのＩＴＯパターンを得た。この時、ＩＴＯストライ
プに短絡及び、色フィルタオーバーラップ部での断線が
見られた。
を成膜し、フォトリソ法を用いてエッチングし、ストラ
イプのＩＴＯパターンを得た。この時、ＩＴＯストライ
プに短絡及び、色フィルタオーバーラップ部での断線が
見られた。
【００４３】
【発明の効果】即ち、本発明により、遮光性・解像性・
絶縁性・に優れ且つ、端面形状もしくは色フィルタとの
オーバーラップが小さく、配向不良、ＩＴＯ断線の生じ
にくいブラックマトリクスを提供する事が可能である。
絶縁性・に優れ且つ、端面形状もしくは色フィルタとの
オーバーラップが小さく、配向不良、ＩＴＯ断線の生じ
にくいブラックマトリクスを提供する事が可能である。
【００４４】更に、本発明によるブラックマトリクスを
用いてカラーフィルタ等を製造する事により、表示コン
トラストが良く、欠陥の少ないカラー液晶表示装置を提
供する事が可能である。
用いてカラーフィルタ等を製造する事により、表示コン
トラストが良く、欠陥の少ないカラー液晶表示装置を提
供する事が可能である。
【００４５】
【図１】本発明によるカラーフィルタの断面図
【図２】比較例によるカラーフィルタの断面図
１ 第一遮光層 ２ 第二遮光層 ３ 色フィルタ層（赤色） ４ 色フィルタ層（緑色） ５ 色フィルタ層（青色） ６ ガラス基板 ７ 遮光層
Claims (4)
- 【請求項１】基板上に、アクリル樹脂と黒色顔料と分散
剤と感光剤を主成分とする第一遮光層と、アクリル樹脂
と酸化チタンと分散剤と感光剤を主成分とする第二遮光
層が順に積層されているブラックマトリクス基板。 - 【請求項２】基板上に、アクリル樹脂と黒色顔料と分散
剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパターン
化して第一遮光層を設ける工程と、前記第一遮光層上
に、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と感光剤と溶剤
を主成分とする感光性樹脂をパターン化して第一遮光層
を設ける工程よりなる事を特徴とするブラックマリトク
ス基板の製造方法。 - 【請求項３】基板上に、アクリル樹脂と黒色顔料と分散
剤と感光剤を主成分とする第一遮光層と、アクリル樹脂
と酸化チタンと分散剤と感光剤を主成分とする第二遮光
層と、所望の色フィルタが順に積層されている事を特徴
とするカラーフィルタ。 - 【請求項４】基板上に、アクリル樹脂と黒色顔料と分散
剤と感光剤と溶剤を主成分とする感光性樹脂をパターン
化して第一遮光層を設ける工程と、前記第一遮光層上
に、アクリル樹脂と酸化チタンと分散剤と感光剤と溶剤
を主成分とする感光性樹脂をパターン化して第一遮光層
を設ける工程と、所望の色フィルタを形成する工程より
なる事を特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11037293A JPH06324207A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11037293A JPH06324207A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06324207A true JPH06324207A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=14534137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11037293A Pending JPH06324207A (ja) | 1993-05-12 | 1993-05-12 | ブラックマトリクス基板およびその製造方法およびカラーフィルタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06324207A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5783338A (en) * | 1996-02-09 | 1998-07-21 | Lc Electronics Inc. | Method for manufacturing black matrix of active matrix liquid crystal display |
| EP2112182A1 (en) * | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
| WO2014129320A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル |
| US10338470B2 (en) * | 2014-03-20 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Photosensitive laminate, transfer material, patterned photosensitive laminate, method for manufacturing the same, touch panel, and image display device |
-
1993
- 1993-05-12 JP JP11037293A patent/JPH06324207A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5783338A (en) * | 1996-02-09 | 1998-07-21 | Lc Electronics Inc. | Method for manufacturing black matrix of active matrix liquid crystal display |
| EP2112182A1 (en) * | 2008-04-25 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition, light-shielding color filter, black curable composition, light-shielding color filter for solid-state image pickup device and method of producing the same, and solid-state image pickup device |
| WO2014129320A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2014-08-28 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル |
| JPWO2014129320A1 (ja) * | 2013-02-19 | 2017-02-02 | 東レ株式会社 | 樹脂ブラックマトリクス基板およびタッチパネル |
| US10338470B2 (en) * | 2014-03-20 | 2019-07-02 | Fujifilm Corporation | Photosensitive laminate, transfer material, patterned photosensitive laminate, method for manufacturing the same, touch panel, and image display device |
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