JPH0632424B2

JPH0632424B2 - 電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート

Info

Publication number: JPH0632424B2
Application number: JP61252017A
Authority: JP
Inventors: 勉大林; 学井本
Original assignee: Hiraoka and Co Ltd
Current assignee: Hiraoka and Co Ltd
Priority date: 1986-10-24
Filing date: 1986-10-24
Publication date: 1994-04-27
Anticipated expiration: 2009-04-27
Also published as: JPS63107197A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層
シートに関するものである。更に詳しく述べるならば、
本発明は、柔軟でかつ適度な圧縮弾性を有する表面を有
し、かつ、電磁波シールド性にすぐれたアモルファス金
属薄膜積層シートに関するものである。

〔従来の技術〕

近年エレクトロニクス機器の発達および普及に伴い、こ
れらの機器および、磁気記録体などを、静電気、および
電磁波の悪影響から保護することが必要になり、この保
護材料として、シート材料、例えば、被覆用シート材料
および包装用シート材料の需要が大きくなってきてい
る。

従来エレクトロニクス機器を静電気の影響から保護する
ために、カーボン粉末、カーボン繊維、金属箔、又は金
属粉末を含有する導電性材料を含む導電性シートが用い
られている。しかし、このような従来の導電性シート
は、エレクトロニクス機器を電磁波の影響から保護する
目的には十分に効果があるとは云えないものあり、か
つ、その変形（柔軟）性が不十分で、保護すべき機器の
形状にフィットしにくいものであった。

また、電磁波シールド性を有する金属薄膜に、フィルム
を貼着した積層シートが、本発明の発明者らによって既
に開発されたが、従来の金属薄膜積層シートは、表面が
硬く弾性に乏しく、このため、この積層シートをエレク
トロニクス機器の被覆包装用に用いても、これらの機器
にフィットせず、また、ドレープ性やクッション性も不
十分であり、しかも屈曲、折り曲げにより金属薄膜が容
易に折損損したり、折り目が残留したり、積層成分層が
互に他から剥離したり、或は、部分的白化、筋むらを発
生するなどの問題点があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、従来の電磁波シールド性金属薄膜積層シート
の問題点、すなわち、表面の柔軟性および弾性の不足、
そのために発生する屈曲による金属薄膜の裂断・折損損
・および折れ目、折れ筋の形成、成分層間の剥離に伴う
白化、筋むらの発生などの問題点を解消し、形状変形に
対する柔軟な適応性、良好なドレープ性、表面の良好な
柔軟性および圧縮弾性を有し、機器被覆包装用として有
用な電磁波シールド性圧アモルファス金属薄膜層シート
を提供しようとするものである。

〔課題を解決するための手段および作用〕

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートは、上述の問題点を解消できるものであって、電磁
波シールド性金属薄膜層と、その少なくとも１面上に結
着され、かつ可撓性樹脂材料からなる１層以上の被覆層
からなり、前記金属薄膜層が、アモルファス金属からなるリボン状
薄膜基体と、その少なくとも１面を被覆している導電性
金属メッキ層とからなる複数枚の導電性金属メッキアモ
ルファス金属薄膜リボンを、互に平行に配列して形成さ
れたものであり、前記可撓性樹脂材料被覆層の少なくと１層が、0.5〜100
mmの厚さを有する可撓性発泡多孔質樹脂材料層である、
ことを特徴とするものである。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、上記金属薄膜層の両面に可撓性樹脂材料
被覆層が結着され、この被覆層の少なくとも１層が、可
撓性発泡多孔質樹脂材料層であるものであってもよい。

また、本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜
層シートは、上記金属薄膜層の１面上に結着された可撓
性樹脂材料被覆層が、可撓性発泡多孔質樹脂材料層であ
り、かつ、金属薄膜層の他の１面上に結着された可撓性
樹脂材料被覆層が、可撓性多孔質樹脂材料層であっても
よい。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、電磁波シールド性金属薄膜層を形成する
ために導電性金属によりメッキされたアモルファス金属
薄膜が使用される。

すなわち、この電磁波シールド性金属薄膜は、アモルフ
ァス金属からなるリボン状薄膜基体と、その少なくとも
１面を被覆している導電性金属のメッキ層とからなる複
数枚の導電性金属メッキアモルファス金属薄膜リボンか
らなり、かつこれらのリボンを互に平行に配列して形成
されたものある。

最近アモルファス金属を、その特性に基いて、種々の用
途に使用することが試みられている。一般にアモルファ
ス金属薄膜は、幅2.54〜10.16cmのリボン状材料として
供給されており、その幅の拡大に関しては近い将来、幅
20.32cmの小幅シートが、供給されることが期待されて
いる程度である。

従来は、上述のようなリボン状、又は小（細）幅材料
は、カードケース、或は小物用包装収納材料としてのみ
使用可能であって、これを100〜300cmの広幅が要求され
る被覆がシートなどに利用することは殆んど不可能と考
えられていた。

上述のエレクトロニクス機器の保護効果とは、電磁波シ
ールド手段により電磁波エネルギーを吸収したり、或は
反射したりして、エレクトロニクス機器に電磁波エネル
ギーの影響が及ばないようにする効果を云う。この電磁
波シールド手段による電磁波エネルギー減衰の程度は単
位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シールド材料として
はこの数値が大きい程減衰効果が大きく、好ましいこと
になる。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、その電磁波シールド効果は、それに含ま
れている金属薄膜層のシールド効果にほぼ依存し、一般
に、10dB以上であることが好ましく、300dB以上である
ことがより好ましく、60dB以上であることが更に好まし
い。

本発明に用いられるアモルファス金属薄膜としては、一
般には鉄を主成分とし、これにホウ素、硅素、炭素、ニ
ッケル、コバルト、およびモリブデンなどから選ばれた
１種以上を添加して得られるアモルファス金属から選ば
れることが好ましい。例えば、アライド社の商標：METG
LAS No. 2605SC(Fe：81％、Ｂ：13.5％、Si：3,5％、
Ｃ：２％のアモルファス合金）、No.2605S-2(Fe：78
％、Ｂ：13％、Si：９％のアモルファス合金）、No.260
5-CO(Fe：87部、Ｂ：14部、Si：１部、Co：18部のアモ
ルファス合金）、No.2826-MB(Fe：40％、Ni：38％、M
o：４％、Ｂ：18％のアモルファス合金）なとを用いる
ことができる。

また、上記の鉄を主成分とするアモルファス合金系の外
に、コバルトを主成分とするアモルファス合金系（例え
ば、Co₉₀Zr₁₀,Co₇₈Si₁₀B₁₂.Co₅₆Cr₂₆C₁₈.Co₄₄Mo₃₆C₂₀.C
o₃₄Cr₂₈Mo₂₀C₁₈）、ニッケルを主成分とするアモルファ
ス合金系（例えばNi₉₀Zr₁₀.Ni₇₈Si₁₀B₁₂.Ni₃₄Cr₂₄Mo₂₄C
₁₈）、およびその他の金属を主成分とするアモルファス
合金系（例えばPd₈₀Si₂₀.Cu₈₀Zr₂₀.Nb₅₀Ni₅₀.Ti₅₀C
u₅₀）等も利用できる。

また、アモルファス金属薄膜基体は、その電磁波シール
ド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜であって
もよい。

これらのアモルファス金属薄膜基体は、前述のようにリ
ボン又は細幅シートの形状で供給されているので、本発
明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート
に、これらを使用するとき、複数個のリボン状、又は、
細幅シート状のアモルファス金属薄膜基体の片面又は両
面に導電性金属メッキを施した後、得られた導電性金属
メッキアモルファス金属薄膜リボンを互いに並列に配列
して、広幅シート状体として使用する。この場合、必要
によりそれらの対向する側縁部を重ね合わせてもよく、
また接着剤又は半田により接合して、所望の幅を有する
広幅シート状体としてもよい。また、アモルファス金属
薄膜体は、アモルファス金属の粉末を利用して形成して
もよい。前述のようなアモルファス金属薄膜基体は磁
界に対し特にすぐれたシールド効果を有している。

本発明において、アモルファス金属薄膜基体をメッキす
るために用いられる導電性金属としては、例えば銅、ニ
ッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜
鉛およびこれらから選ばれた２種以上の合金などを用い
ることができる。このようにして、アモルファス金属薄
膜からなる基体の少なくとも１面上に導電性金属をメッ
キすると、得られる導電性金属メッキアモルファス金属
薄膜層は、前述アモルファス金属薄膜基体のすぐれた磁
界シールド性に、導電性金属メッキ層によるすぐれた電
界シールド性が加算され、全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
得られる導電性金属メッキアモルファス金属薄膜リボン
の半田接合性を向上させる効果も有している。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、アモルファス金属薄膜基本は、100μｍ
以下の厚さを有することが好ましく、１〜70μｍの厚さ
を有することがより好ましく、５〜50μｍの厚さを有す
ることが更に好ましく、10〜30μｍの厚さを有すること
が更に一層好ましい。

また、導電性金属メッキ層は、0.1μｍ以上の厚さを有
することが好ましく、0.1〜５μｍ程度の厚さを有する
ことがよるり好ましい。

アモルファス金属薄膜基体の厚さが100μｍより大きく
なると、その剛性が過大となり、変形しにくく、ドレー
プ性が不十分となり、鋭利な切断面を形成して作業上危
険を生ずることがある。また金属メッキ層の表面に、防
錆剤その他の薄い保護膜を形成してもよい。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜
層の少なくとも１面に、可撓性樹脂材料からなる被覆層
が結着され、その少なくとも１層は、可撓性発泡多孔質
樹脂材料層である。この可撓性発泡多孔質樹脂材料層
は、本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積
層層シートに、好ましい柔軟性、圧縮弾性、および衝撃
や押圧に対する緩衝性を付与するものである。

すなわち、電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層
シートに屈曲などの外力が作用したとき、可撓性発泡多
孔質樹脂材料層が変形することによって、この外力を吸
収して導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層の伸び
および圧縮を少なくし、これによって導電性金属メッキ
アモルファス金属薄膜層の裂断や折損を防止し、かつ永
久変形（折れ目の形成）を防止するという緩衝作用を発
揮する。このような電磁波シールド性アモルファス金属
薄膜積層シートは、エレクトロニクス機器の被覆用シー
ト、或は、包装収納用シートとして有用なものである。

可撓性発泡多孔質樹脂材料層を形成するに適した可撓性
重合体材料は、天然ゴム、合成ゴム（例えばSBR，NBR，
ニトリルゴム、ポリクロロプレンゴム、ポリイソブチレ
ンゴム、フッ素含有ゴム、およびシリコーンゴムなどで
あり、これらはラテックス状態で用いられることが多
い）、および可撓性合成樹脂（例えば、ポリエチレン、
ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、およびポリスチレン）
などから、任意に選択することができる。この発泡多孔
質樹脂材料層は、それが可撓性である限り硬質フォーム
層であってもよいが、一般に軟質フォーム層であること
が好ましい。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜層シー
トにおいて、可撓性発泡多孔質樹脂材料層の気孔率は、
50〜99％（発泡倍率：２〜100倍）であることが好まし
く、80〜98％（発泡倍率：５〜50倍）であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、可撓性発泡多孔質樹脂材料層の圧縮抵抗は、
25％圧縮において、10kg/cm²以下であれば用途によって
は実用可能であるが、一般に0.5kg/cm²以下であること
が好ましく、0.1kg／cm₂以下であることがより好まし
い。

可撓性発泡多孔質樹脂材料層の厚さは、当該電磁波シー
ルド性アモルファス金属薄膜積層シートの用途に応じ
て、0.5〜100mmの範囲内にあることが好ましく、１〜50
mmの範囲内にあることがより好ましい。このような厚さ
を有する発泡多孔質樹脂材料層は、導電性金属メッキア
モルファス金属薄膜層の屈曲の際にその曲率を大きくし
て、それが局部的に伸長され、それによって裂断又は折
損することを防止し、かつ、本発明の電磁波シールド性
アモルファス金属薄膜層シートが全体としてすぐれた柔
軟性、圧縮弾性および緩衝性を示すことができるように
する。

本発明において、発泡多孔質樹脂層は、導電性金属メッ
キアモルファス金属薄膜層に直接、又は可撓性樹脂材料
を介して結着されているが、発泡多孔質樹脂シートを予
じめ作成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよ
く、或は、発泡多孔質樹脂材料層の接着表面部分を熱溶
融して、融着してもよい。また、発泡多孔質樹脂材料層
は、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜上で可撓性
樹脂材料を化学発泡させて形成してもよいし、或は、気
泡を含有する重合体塗料を導電性金属メッキアモルファ
ス金属薄膜上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発
泡法により形成してもよい。

上述のような可撓性発泡多孔質樹脂材料層は、導電性金
属メッキアモルファス金属薄膜層の両面に形成されても
よく、或は、その片面のみに形成されてもよい。後者の
場合、この導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層の
他の片面に、前述のような可撓性非多孔質樹脂材料層を
含む被覆層が結着されていてもよい。

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜
層は、少なくとも１層の可撓性発泡多孔質樹脂材料層で
被覆されており、この可撓性発泡多孔質樹脂材料層は、
変形容易であり、かつ圧縮容易である。従って、例え
ば、この積層シートを屈曲変形させた場合、可撓性発泡
多孔質樹脂材料層が容易に変形して導電性金属メッキア
モルファス金属薄膜層の伸長および折損を防止し、か
つ、容易に圧縮変形して、被覆又は包装すべき機器の形
状にフィットすることができる。

以下に本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜
積層シートを実施例により更に説明する。

実施例１アモルファス合金薄膜(Fe：81％、Ｂ：13.5％、Si：3.5
％、Ｃ：２％、商標：METGLAS No.2605SC、アライド社
製、巾7.62cm、厚さ25μｍのリボン状体）の全表面に、
厚さ１μｍの銅メッキを施した。

この銅メッキされたアモルファス合金薄膜リボンの13枚
を、互に並列に配列し、それぞれの側縁端を１cmづつ重
ね合わせ、接着することなくシート状に形成した。

この巾広アモルファス合金シートの両面に合成ゴム系接
着剤（商標：SC 12N ソニーケミカル社製）を塗布し、
その上に、発泡倍率40倍、気孔率97.5％、厚さ５mmのポ
リウレタンフォームを貼着した。

得られた積層シートは、50dBの電磁波シールド性を示し
た。

この積層シートは、良好な柔軟性および適度の圧縮弾
性、緩衝性を示し、取り扱いの容易なものであった。

実施例２実施例１と同様の操作を行った。但し、実施例１に記載
されたものと同一の銅メッキされたアモルファス合金薄
膜11枚を並列により配列し、その隣接する側縁部を半田
で接合して広幅シートを作成した。得られた積層シート
は、50dBのすぐれた電磁波シールド効果を示し、その柔
軟性、圧縮弾性および緩衝性は好ましいものであった。

〔発明の効果〕

本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートは、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層によ
り良好な電磁波シールド性を示すとともに、可撓性発泡
多孔質樹脂材料層を上記導電性金属メッキアモルファス
金属薄膜層に積層することによって、良好な柔軟性、圧
縮弾性およびそれに伴う緩衝性が得られる。このような
発泡多孔質樹脂材料層の緩衝作用および弾性により導電
性金属メッキアモルファス金属薄膜層が部分的に異常に
伸長されて裂断、折損したり、或は鋭く折り曲げられて
折れすじが発生したりすることがなく、被覆シートとし
て、或は、包装用シートとして、有用なものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭61−146536（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−159598（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−161699（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−23397（ＪＰ，Ａ) 特開昭54−73300（ＪＰ，Ａ) 特開昭59−113695（ＪＰ，Ａ) 実開昭60−48290（ＪＰ，Ｕ) 実開昭59−171397（ＪＰ，Ｕ) 実開昭60−20195（ＪＰ，Ｕ) 実開昭58−81898（ＪＰ，Ｕ) 実開昭61−192498（ＪＰ，Ｕ) 実公昭55−6159（ＪＰ，Ｙ１)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電磁波シールド性金属薄膜層と、その少な
くとも１面上に結着され、かつ可撓性樹脂材料からなる
１層以上の被覆層からなり、前記金属薄膜層が、アモルファス金属からなるリボン状
薄膜基体と、その少なくとも１面を被覆している導電性
金属メッキ層とからなる複数枚の導電性金属メッキアモ
ルファス金属薄膜リボンを、互に並行に配列して形成さ
れたものであり、前記可撓性樹脂材料被覆層の少なくとも１層が、0.5〜1
00mmの厚さを有する可撓性発泡多孔質樹脂材料層であ
る、ことを特徴とする電磁波シールド性アモルファス金
属薄膜積層シート。
【請求項２】前記金属薄膜層の両面に可撓性樹脂材料被
覆層が結着され、この被覆層の少なくとも１層が可撓性
発泡多孔質樹脂材料層である、特許請求の範囲第１項記
載の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シー
ト。
【請求項３】前記金属薄膜層の１面上に結着された可撓
性樹脂材料被覆層が発泡多孔質樹脂材料層であり、か
つ、前記金属薄膜層の他の１面上に結着された可撓性樹
脂材料被覆層が可撓性非多孔質樹脂材料層である、特許
請求の範囲第１項記載の電磁波シールド性アモルファス
金属薄膜積層シート。
【請求項４】前記並列に配列された複数枚の導電性金属
メッキアモルファス金属薄膜リボンが、その互に隣接対
向している側縁部において互に接合されている、特許請
求の範囲第１項記載の電磁波シールド性アモルファス金
属薄膜積層シート。
【請求項５】前記導電性金属メッキアモルファス金属薄
膜リボンの接合が半田によりなされている、特許請求の
範囲第４項記載の電磁波シールド性アモルファス金属薄
膜積層シート。
【請求項６】前記導電性金属メッキアモルファス金属薄
膜リボンの接合が導電性接着剤によりなされている、特
許請求の範囲第４項記載の電磁波シールド性アモルファ
ス金属薄膜積層シート。
【請求項７】前記アモルファス金属薄膜基体が100μｍ
以下の厚さを有する、特許請求の範囲第１項記載の電磁
波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。
【請求項８】前記アモルファス金属薄膜基体が70μｍ以
下の厚さを有する、特許請求の範囲第７項記載の電磁波
シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。
【請求項９】前記導電性金属メッキ層が0.1μｍ以上の
厚さを有する、特許請求の範囲第１項記載の電磁波シー
ルド性アモルファス金属薄膜積層シート。
【請求項１０】前記アモルファス金属薄膜基体がFeを主
成分とし、これにＢ，Si，Ｃ，Co，NiおよびMoから選ば
れた少なくとも１種が添加されたアモルファス金属から
なる、特許請求の範囲第１項記載の電磁波シールド性ア
モルファス金属薄膜積層シート。
【請求項１１】前記可撓性発泡多孔質樹脂材料層が50〜
99％の気孔率を有する、特許請求の範囲第１項記載の電
磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。