JPH06325341A - 磁気ヘッド装置用スライダの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド装置用スライダの製造方法Info
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- JPH06325341A JPH06325341A JP5138998A JP13899893A JPH06325341A JP H06325341 A JPH06325341 A JP H06325341A JP 5138998 A JP5138998 A JP 5138998A JP 13899893 A JP13899893 A JP 13899893A JP H06325341 A JPH06325341 A JP H06325341A
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジストパターンの作成が簡単でありかつ安
価に行える磁気ヘッド装置用スライダの製造方法を提供
する。 【構成】 所定パターンの開口窓２０を有するレジスト
膜１７を磁気媒体と対向する面側に形成するレジストパ
ターン形成工程が、磁気媒体と対向する面の全面にレジ
スト膜１７を被着する工程と、レジスト膜１７の吸収波
長に整合した波長を有するエキシマレーザ光１９の照射
によってレジスト膜１７ａを部分的に蒸発せしめてパタ
ーニングする工程とを含んでいる。
価に行える磁気ヘッド装置用スライダの製造方法を提供
する。 【構成】 所定パターンの開口窓２０を有するレジスト
膜１７を磁気媒体と対向する面側に形成するレジストパ
ターン形成工程が、磁気媒体と対向する面の全面にレジ
スト膜１７を被着する工程と、レジスト膜１７の吸収波
長に整合した波長を有するエキシマレーザ光１９の照射
によってレジスト膜１７ａを部分的に蒸発せしめてパタ
ーニングする工程とを含んでいる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、浮上型磁気ヘッド装置
用スライダの製造方法に関し、特に所定パターンの開口
窓を有するレジスト膜をスライダの磁気媒体と対向する
面側に形成するレジストパターン形成工程を有している
製造方法に関する。
用スライダの製造方法に関し、特に所定パターンの開口
窓を有するレジスト膜をスライダの磁気媒体と対向する
面側に形成するレジストパターン形成工程を有している
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】浮上型磁気ヘッド装置のスライダは、そ
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量は、この浮
上力と外部からスライダに印加されるばね力とを釣り合
わせて適切な値に調節される。
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量は、この浮
上力と外部からスライダに印加されるばね力とを釣り合
わせて適切な値に調節される。
【０００３】この種のスライダを一方の端部を支点とし
て回動するスウィングアームの他端部に取り付けて支持
しようとすると、スライダに対する磁気ディスクの相対
的移動速度の相違やスキューによって、ディスクの内周
部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。スライダの
磁気媒体と対向する面側に設けられたこの磁気媒体走行
方向に延びる浮上用レールのＡＢＳ面に浅い段差平面を
形成することにより、横方向圧力を発生させてこのよう
なスキュー及び周速による浮上量の差を補償し、磁気デ
ィスクの内周部と外周部とで同一浮上量となるようにし
たＴＰＣと称せられる技術が公知である（例えば、米国
特許第４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８
７号に対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特
公昭６３−２１２７１号）。
て回動するスウィングアームの他端部に取り付けて支持
しようとすると、スライダに対する磁気ディスクの相対
的移動速度の相違やスキューによって、ディスクの内周
部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。スライダの
磁気媒体と対向する面側に設けられたこの磁気媒体走行
方向に延びる浮上用レールのＡＢＳ面に浅い段差平面を
形成することにより、横方向圧力を発生させてこのよう
なスキュー及び周速による浮上量の差を補償し、磁気デ
ィスクの内周部と外周部とで同一浮上量となるようにし
たＴＰＣと称せられる技術が公知である（例えば、米国
特許第４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８
７号に対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特
公昭６３−２１２７１号）。
【０００４】また、スライダを磁気媒体表面方向に引き
寄せる負圧を発生させるべく、スライダのＡＢＳ面を部
分的に加工して負圧発生用凹部を形成するようにした負
圧スライダ形成技術も公知である（例えば、特公平５−
８４８８号）。負圧スライダは、外部からスライダに印
加されるばね力が小さくてもすむように空気流によって
負圧力を発生させ、これによって始動時における磁気媒
体とスライダとの摩擦を小さくするためのものである。
寄せる負圧を発生させるべく、スライダのＡＢＳ面を部
分的に加工して負圧発生用凹部を形成するようにした負
圧スライダ形成技術も公知である（例えば、特公平５−
８４８８号）。負圧スライダは、外部からスライダに印
加されるばね力が小さくてもすむように空気流によって
負圧力を発生させ、これによって始動時における磁気媒
体とスライダとの摩擦を小さくするためのものである。
【０００５】さらにまた、上述した浮上量補償用の段差
平面（以下ＴＰＣ段差と称する）に類似しているが、浮
上用レールのＡＢＳ面を部分的に研削してその形状を所
定のパターンに加工することによりスライダの浮上特性
を制御するシェイプトレール形成技術も既に知られてい
る。
平面（以下ＴＰＣ段差と称する）に類似しているが、浮
上用レールのＡＢＳ面を部分的に研削してその形状を所
定のパターンに加工することによりスライダの浮上特性
を制御するシェイプトレール形成技術も既に知られてい
る。
【０００６】上述したようなＴＰＣ段差、負圧発生用凹
部又はシェイプトレールは、薄膜技術によって形成され
た複数の磁気ヘッド素子を一列状に並べたバーのＡＢＳ
面側に機械研削によって浮上用レールを形成した後、Ａ
ＢＳ面側からイオンエッチング（イオンミリング）を行
うことによって通常は形成される。イオンエッチング加
工を用いる理由は、研削すべき深さが非常に浅くしかも
高精度のパターン形成が要求されるためである。
部又はシェイプトレールは、薄膜技術によって形成され
た複数の磁気ヘッド素子を一列状に並べたバーのＡＢＳ
面側に機械研削によって浮上用レールを形成した後、Ａ
ＢＳ面側からイオンエッチング（イオンミリング）を行
うことによって通常は形成される。イオンエッチング加
工を用いる理由は、研削すべき深さが非常に浅くしかも
高精度のパターン形成が要求されるためである。
【０００７】このようなイオンエッチングによりスライ
ダ加工を行う場合、研削すべきパターン部分が開口した
レジスト膜を、イオンミリング前に形成することが当然
のことながら必要とされる。レジスト膜を形成するに
は、一般に、バーのＡＢＳ面の全面にドライフィルムレ
ジストをラミネートし、ステッパ等を用いることによ
り、このドライフィルムレジスト上にマスクパターンを
紫外線露光し、紫外線の照射されなかった部分（ネガ型
レジストの場合）を現像して除去し、乾燥するという多
くの工程が実施される。
ダ加工を行う場合、研削すべきパターン部分が開口した
レジスト膜を、イオンミリング前に形成することが当然
のことながら必要とされる。レジスト膜を形成するに
は、一般に、バーのＡＢＳ面の全面にドライフィルムレ
ジストをラミネートし、ステッパ等を用いることによ
り、このドライフィルムレジスト上にマスクパターンを
紫外線露光し、紫外線の照射されなかった部分（ネガ型
レジストの場合）を現像して除去し、乾燥するという多
くの工程が実施される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来技術によると、こ
のような紫外線露光、現像及び乾燥という複数の工程が
必ず必要とされ、さらに、ステッパ等の高価な露光設備
を用いる必要があることから製造コストが高くなってし
まう。また、精度を向上させるために、露光工程等で用
いるバー取り付け用治具の精度を高めたり、マスクとの
距離精度を高める等の困難な作業が要求される。
のような紫外線露光、現像及び乾燥という複数の工程が
必ず必要とされ、さらに、ステッパ等の高価な露光設備
を用いる必要があることから製造コストが高くなってし
まう。また、精度を向上させるために、露光工程等で用
いるバー取り付け用治具の精度を高めたり、マスクとの
距離精度を高める等の困難な作業が要求される。
【０００９】従って本発明は、レジストパターンの作成
が簡単でありかつ安価に行える磁気ヘッド装置用スライ
ダの製造方法を提供するものである。
が簡単でありかつ安価に行える磁気ヘッド装置用スライ
ダの製造方法を提供するものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、所定パ
ターンの開口窓を有するレジスト膜を磁気媒体と対向す
る面側に形成するレジストパターン形成工程が、磁気媒
体と対向する面の全面にレジスト膜を被着する工程と、
レジスト膜の吸収波長に整合した波長を有するエキシマ
レーザの照射によってレジスト膜を部分的に蒸発せしめ
てパターニングする工程とを含んでいる磁気ヘッド装置
用スライダの製造方法が提供される。
ターンの開口窓を有するレジスト膜を磁気媒体と対向す
る面側に形成するレジストパターン形成工程が、磁気媒
体と対向する面の全面にレジスト膜を被着する工程と、
レジスト膜の吸収波長に整合した波長を有するエキシマ
レーザの照射によってレジスト膜を部分的に蒸発せしめ
てパターニングする工程とを含んでいる磁気ヘッド装置
用スライダの製造方法が提供される。
【００１１】
【作用】薄膜技術によって複数の磁気ヘッド素子をウエ
ハ上に形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並
ぶように各バーに切断する。このバーのＡＢＳ面側に機
械研削によって浮上用レールを形成し、レジストパター
ンを形成した後、ＡＢＳ面側からイオンエッチングして
所定パターンの形成を行う。このレジストパターンを形
成するには、ＡＢＳ面の全面にレジスト膜を被着し、被
着したレジスト膜の吸収波長に整合した波長を有するエ
キシマレーザの照射によってレジスト膜を部分的に蒸発
せしめてパターニングする。紫外線露光、現像及び乾燥
等の工程を行うことなく、エキシマレーザの照射のみに
よってレジスト膜の不要部分を直接的に除去しているた
め、工程数を低減できるから製造コストが安価となる。
また、直進性のよいエキシマレーザを用いているため、
パターン精度が大幅に向上する。
ハ上に形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並
ぶように各バーに切断する。このバーのＡＢＳ面側に機
械研削によって浮上用レールを形成し、レジストパター
ンを形成した後、ＡＢＳ面側からイオンエッチングして
所定パターンの形成を行う。このレジストパターンを形
成するには、ＡＢＳ面の全面にレジスト膜を被着し、被
着したレジスト膜の吸収波長に整合した波長を有するエ
キシマレーザの照射によってレジスト膜を部分的に蒸発
せしめてパターニングする。紫外線露光、現像及び乾燥
等の工程を行うことなく、エキシマレーザの照射のみに
よってレジスト膜の不要部分を直接的に除去しているた
め、工程数を低減できるから製造コストが安価となる。
また、直進性のよいエキシマレーザを用いているため、
パターン精度が大幅に向上する。
【００１２】
【実施例】図１（Ａ）〜（Ｃ）及び図２（Ｄ）は、磁気
ヘッド装置用スライダの製造方法の一実施例を示す工程
図である。
ヘッド装置用スライダの製造方法の一実施例を示す工程
図である。
【００１３】Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等のセラミック材によ
るウエハ上に薄膜技術によって多数の磁気ヘッド素子を
形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並ぶよう
にこのウエハを複数のバーに切断する。図１（Ａ）はこ
のように切断して得られた１つのバー１０を示してお
り、１１はスライダの後端面となる面１２に形成された
複数の磁気ヘッド素子、１３はＡＢＳ面をそれぞれ表し
ている。
るウエハ上に薄膜技術によって多数の磁気ヘッド素子を
形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並ぶよう
にこのウエハを複数のバーに切断する。図１（Ａ）はこ
のように切断して得られた１つのバー１０を示してお
り、１１はスライダの後端面となる面１２に形成された
複数の磁気ヘッド素子、１３はＡＢＳ面をそれぞれ表し
ている。
【００１４】切断されたバー１０は、図１（Ｂ）に示す
ごとく、専用の研削用治具１４の平坦な面にそのＡＢＳ
面１３が上面となるように接着固定される。この状態で
ＡＢＳ面１３表面の研削が行われ、スロートハイト調整
がなされる。次いで、ＡＢＳ面１３側から溝加工が行わ
れ、図１（Ｃ）の拡大斜視図に示すように、レール部１
５が形成される。
ごとく、専用の研削用治具１４の平坦な面にそのＡＢＳ
面１３が上面となるように接着固定される。この状態で
ＡＢＳ面１３表面の研削が行われ、スロートハイト調整
がなされる。次いで、ＡＢＳ面１３側から溝加工が行わ
れ、図１（Ｃ）の拡大斜視図に示すように、レール部１
５が形成される。
【００１５】ＡＢＳ面１３の研磨（ポリシング）が行わ
れた後、バー１０は研削用治具１４から剥離されて洗浄
される。次いで、ＡＢＳ面のイオンエッチングが行わ
れ、図２（Ｄ）に示すごとくレール部１５上に浮上特性
制御用の段差平面１６が形成される。
れた後、バー１０は研削用治具１４から剥離されて洗浄
される。次いで、ＡＢＳ面のイオンエッチングが行わ
れ、図２（Ｄ）に示すごとくレール部１５上に浮上特性
制御用の段差平面１６が形成される。
【００１６】図３（Ａ）〜（Ｃ）は、このイオンエッチ
ング工程の前にＡＢＳ面上にレジストパターンを形成す
る工程をそれぞれ示す断面図である。
ング工程の前にＡＢＳ面上にレジストパターンを形成す
る工程をそれぞれ示す断面図である。
【００１７】まず、バー１０を図示しない露光用治具に
取り付け、図３（Ａ）に示すごとく、例えば１５μｍの
厚さのドライフィルムレジスト１７をレール部１５のＡ
ＢＳ面全面にラミネートする。このドライフィルムレジ
スト１７は、図４に示すような吸収波長特性を有する市
販のものである。
取り付け、図３（Ａ）に示すごとく、例えば１５μｍの
厚さのドライフィルムレジスト１７をレール部１５のＡ
ＢＳ面全面にラミネートする。このドライフィルムレジ
スト１７は、図４に示すような吸収波長特性を有する市
販のものである。
【００１８】次いで、図３（Ｂ）に示すごとく、イオン
エッチングで削り取るべき位置が開口したパターンを有
するマスク１８をドライフィルムレジスト１７の上方に
設置し、エキシマレーザを照射することによってそのマ
スク投影を行う。エキシマレーザとしては、図４に示す
ごとく、ドライフィルムレジスト１７の感度レベルが高
い部分に発振波長を有するＸｅＦの希ガスハライドレー
ザを用いることが好ましい。
エッチングで削り取るべき位置が開口したパターンを有
するマスク１８をドライフィルムレジスト１７の上方に
設置し、エキシマレーザを照射することによってそのマ
スク投影を行う。エキシマレーザとしては、図４に示す
ごとく、ドライフィルムレジスト１７の感度レベルが高
い部分に発振波長を有するＸｅＦの希ガスハライドレー
ザを用いることが好ましい。
【００１９】これにより、エキシマレーザ光１９の照射
された部分のレジスト１７ａが蒸発して除去される。レ
ジスト１７ａの下層のセラミック材によるレール部１５
は、蒸発するに要するエネルギがレジストよりはるかに
大きいため、エキシマレーザ光１９によっては侵され
ず、その上のレジスト１７ａのみが蒸発する。その結
果、図３（Ｃ）に示すごとく、イオンエッチングで削り
取るべき位置に開口窓２０を有するレジスト膜１７が形
成されることとなる。
された部分のレジスト１７ａが蒸発して除去される。レ
ジスト１７ａの下層のセラミック材によるレール部１５
は、蒸発するに要するエネルギがレジストよりはるかに
大きいため、エキシマレーザ光１９によっては侵され
ず、その上のレジスト１７ａのみが蒸発する。その結
果、図３（Ｃ）に示すごとく、イオンエッチングで削り
取るべき位置に開口窓２０を有するレジスト膜１７が形
成されることとなる。
【００２０】次いで、バー１０が露光用治具から取り外
されて図示しないミリング用治具に取り付けられ、レー
ル部１５のＡＢＳ面のイオンエッチングが行われる。イ
オンエッチングは、エッチングすべき面に対して垂直で
はなくある程度の傾けた、例えば〜２０°程度傾けたイ
オンビームによって行われことが好ましく、しかもミリ
ング用治具はエッチングすべき面に垂直な軸について回
転せしめられる。このミリングにより開口窓２０の部分
が削り取られ、図２（Ｄ）に示すごとく、レール部１５
上に浮上特性制御用の段差平面１６が得られる。
されて図示しないミリング用治具に取り付けられ、レー
ル部１５のＡＢＳ面のイオンエッチングが行われる。イ
オンエッチングは、エッチングすべき面に対して垂直で
はなくある程度の傾けた、例えば〜２０°程度傾けたイ
オンビームによって行われことが好ましく、しかもミリ
ング用治具はエッチングすべき面に垂直な軸について回
転せしめられる。このミリングにより開口窓２０の部分
が削り取られ、図２（Ｄ）に示すごとく、レール部１５
上に浮上特性制御用の段差平面１６が得られる。
【００２１】その後、レジスト膜１７の剥離及び乾燥を
行った後、バー１０をミリング治具より取り外して洗浄
する。次いでバー１０を図示しない研削用治具に接着固
定して個々のスライダに切断した後、各スライダをこの
研削用治具から取り外して洗浄することにより最終的に
個々のスライダが得られる。
行った後、バー１０をミリング治具より取り外して洗浄
する。次いでバー１０を図示しない研削用治具に接着固
定して個々のスライダに切断した後、各スライダをこの
研削用治具から取り外して洗浄することにより最終的に
個々のスライダが得られる。
【００２２】このように本実施例によれば、紫外線露
光、現像及び乾燥等の複数の工程を行うことなく、エキ
シマレーザ光１９の照射によって直接的にレジスト膜の
不要部分を蒸発せしめてパターニングしているため、工
程数を低減することができ、しかもステッパ等の露光用
機器を用いることが不要である。その結果、製造コスト
が大幅に安価となる。また、直進性のよいエキシマレー
ザを用いているため、例えば１００μｍのレジスト幅を
±５μｍの精度で加工することができるからパターン精
度が大幅に向上する。
光、現像及び乾燥等の複数の工程を行うことなく、エキ
シマレーザ光１９の照射によって直接的にレジスト膜の
不要部分を蒸発せしめてパターニングしているため、工
程数を低減することができ、しかもステッパ等の露光用
機器を用いることが不要である。その結果、製造コスト
が大幅に安価となる。また、直進性のよいエキシマレー
ザを用いているため、例えば１００μｍのレジスト幅を
±５μｍの精度で加工することができるからパターン精
度が大幅に向上する。
【００２３】上述の実施例は、浮上特性制御用の段差平
面をレール部上に形成するためのイオンミリング工程を
有する場合について述べているが、前述したＴＰＣ段差
又は負圧発生用凹部を形成用のイオンミリング工程を有
する場合にも同様に適用することができ、さらに、その
他のレジストパターン形成にも適用することができるこ
とはもちろんである。
面をレール部上に形成するためのイオンミリング工程を
有する場合について述べているが、前述したＴＰＣ段差
又は負圧発生用凹部を形成用のイオンミリング工程を有
する場合にも同様に適用することができ、さらに、その
他のレジストパターン形成にも適用することができるこ
とはもちろんである。
【００２４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、所定パターンの開口窓を有するレジスト膜を磁気媒
体と対向する面側に形成するレジストパターン形成工程
が、磁気媒体と対向する面の全面にレジスト膜を被着す
る工程と、レジスト膜の吸収波長に整合した波長を有す
るエキシマレーザの照射によってレジスト膜を部分的に
蒸発せしめてパターニングする工程とを含んでいるた
め、工程数を低減することができ、しかもステッパ等の
機器を用いることが不要である。その結果、製造コスト
が大幅に安価となる。また、直進性のよいエキシマレー
ザを用いているため、パターン精度が大幅に向上する。
ば、所定パターンの開口窓を有するレジスト膜を磁気媒
体と対向する面側に形成するレジストパターン形成工程
が、磁気媒体と対向する面の全面にレジスト膜を被着す
る工程と、レジスト膜の吸収波長に整合した波長を有す
るエキシマレーザの照射によってレジスト膜を部分的に
蒸発せしめてパターニングする工程とを含んでいるた
め、工程数を低減することができ、しかもステッパ等の
機器を用いることが不要である。その結果、製造コスト
が大幅に安価となる。また、直進性のよいエキシマレー
ザを用いているため、パターン精度が大幅に向上する。
【図１】スライダ製造方法の一実施例における工程の一
部を示す斜視図である。
部を示す斜視図である。
【図２】スライダ製造方法の一実施例における工程の一
部を示す斜視図である。
部を示す斜視図である。
【図３】本発明によるレジストパターン形成工程の一部
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図４】ドライフィルムレジストの吸収波長特性を示す
図である。
図である。
１０ バー １１ 磁気ヘッド素子 １３ ＡＢＳ面 １４ 研削用治具 １５ レール部 １６ 段差平面 １７ ドライフィルムレジスト １８ マスク １９ エキシマレーザ光 ２０ 開口窓
Claims (1)
- 【請求項１】 所定パターンの開口窓を有するレジスト
膜を磁気媒体と対向する面側に形成するレジストパター
ン形成工程を備えた磁気ヘッド装置用スライダの製造方
法であって、前記レジストパターン形成工程が、磁気媒
体と対向する面の全面にレジスト膜を被着する工程と、
該レジスト膜の吸収波長に整合した波長を有するエキシ
マレーザの照射によって該レジスト膜を部分的に蒸発せ
しめてパターニングする工程とを含んでいることを特徴
とする磁気ヘッド装置用スライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5138998A JPH06325341A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5138998A JPH06325341A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06325341A true JPH06325341A (ja) | 1994-11-25 |
Family
ID=15235093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5138998A Withdrawn JPH06325341A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 磁気ヘッド装置用スライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06325341A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004025118A2 (en) | 2002-09-11 | 2004-03-25 | The Regents Of The University Of California | Ion thruster grids and methods for making |
| JP2006201212A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Shinka Jitsugyo Kk | 面形状形成方法及び装置、磁気ヘッドの浮上面形成方法及び装置 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP5138998A patent/JPH06325341A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004025118A2 (en) | 2002-09-11 | 2004-03-25 | The Regents Of The University Of California | Ion thruster grids and methods for making |
| JP2006201212A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Shinka Jitsugyo Kk | 面形状形成方法及び装置、磁気ヘッドの浮上面形成方法及び装置 |
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