JPH06325340A - 磁気ヘッド装置用スライダの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 イオンエッチングによって磁気ヘッド素子形
成面に再付着物が生じないようにした磁気ヘッド装置用
スライダの製造方法を提供する。 【構成】 磁気媒体と対向する面側へのイオンエッチン
グ工程を有する磁気ヘッド装置用スライダの製造方法で
ある。この製造方法は、イオンエッチング工程の前に実
施されスライダの少なくとも磁気ヘッド素子形成面１２
を保護膜１６で被覆する保護膜形成工程と、イオンエッ
チング工程の後に実施され保護膜１６を除去する除去工
程とを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、浮上型磁気ヘッド装置
用スライダの製造方法に関し、特にスライダの磁気媒体
と対向する面側にイオンエッチングにより所定パターン
の形成を行う工程を有している製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】浮上型磁気ヘッド装置のスライダは、そ
の後端に記録再生用磁気ヘッド素子を有しており、磁気
ディスク等の高速で移動する磁気媒体表面とこのスライ
ダの浮上面（ＡＢＳ面）との間に押し込まれる空気流に
よって浮上力を発生する。スライダの浮上量は、この浮
上力と外部からスライダに印加されるばね力とを釣り合
わせて適切な値に調節される。

【０００３】この種のスライダを一方の端部を支点とし
て回動するスウィングアームの他端部に取り付けて支持
しようとすると、スライダに対する磁気ディスクの相対
的移動速度の相違やスキューによって、ディスクの内周
部と外周部とでは浮上量が異なってしまう。スライダの
磁気媒体と対向する面側に設けられたこの磁気媒体走行
方向に延びる浮上用レールのＡＢＳ面に浅い段差平面を
形成することにより、横方向圧力を発生させてこのよう
なスキュー及び周速による浮上量の差を補償し、磁気デ
ィスクの内周部と外周部とで同一浮上量となるようにし
たＴＰＣと称せられる技術が公知である（例えば、米国
特許第４，６７３，９９６号（特開昭６１−２７８０８
７号に対応）、米国特許第４，８７０，５１９号及び特
公昭６３−２１２７１号）。

【０００４】また、スライダを磁気媒体表面方向に引き
寄せる負圧を発生させるべく、スライダのＡＢＳ面を部
分的に加工して負圧発生用凹部を形成するようにした負
圧スライダ形成技術も公知である（例えば、米国特許第
４，５６４，５８５号（特公平５−８４８８号に対
応））。負圧スライダは、外部からスライダに印加され
るばね力が小さくてもすむように空気流によって負圧力
を発生させ、これによって始動時における磁気媒体とス
ライダとの摩擦を小さくするためのものである。

【０００５】さらにまた、上述した浮上量補償用の段差
平面（以下ＴＰＣ段差と称する）に類似しているが、浮
上用レールのＡＢＳ面を部分的に研削してその形状を所
定のパターンに加工することによりスライダの浮上特性
を制御するシェイプトレール形成技術も既に知られてい
る。

【０００６】上述したＴＰＣ段差、負圧発生用凹部又は
シェイプトレールは、薄膜技術によって形成された複数
の磁気ヘッド素子を一列状に並べたバーのＡＢＳ面側に
機械研削によって浮上用レールを形成した後、ＡＢＳ面
側からイオンエッチング（イオンミリング）を行うこと
によって通常は形成される。イオンエッチング加工を用
いる理由は、研削すべき深さが非常に浅くしかも高精度
のパターン形成が要求されるためである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなイオンエッチングによりスライダ加工を行うと、エ
ッチングによって生じたマスク材、ミリング治具構成材
料等の混合物の一部がスライダの側面にまわり込み、再
付着してしまって簡単に除去することが不可能となる。
特に、スライダの後端面には磁気ヘッド素子やボンディ
ング用パッドが形成されているため、このような再付着
物が形成されてしまうとパッドへのボンディングが不可
能となったりすることから大きな問題となる。

【０００８】従って本発明は、イオンエッチングによっ
て磁気ヘッド素子形成面に再付着物が生じないようにし
た磁気ヘッド装置用スライダの製造方法を提供するもの
である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気媒
体と対向する面側にイオンエッチングにより所定パター
ンの形成を行うイオンエッチング工程を有する磁気ヘッ
ド装置用スライダの製造方法であって、イオンエッチン
グ工程より前に実施されスライダの少なくとも磁気ヘッ
ド素子形成面を保護膜で被覆する保護膜形成工程と、イ
オンエッチング工程より後に実施され上述の保護膜を除
去する除去工程とを備えた磁気ヘッド装置用スライダの
製造方法が提供される。

【００１０】保護膜形成工程が、Ｃｕ膜を蒸着で形成す
る工程であることが望ましい。

【００１１】その場合、除去工程が、過硫酸アンモニウ
ムによってＣｕ膜を除去する工程であることが好まし
い。

【００１２】保護膜形成工程は、ＤＬＣ（ダイヤモンド
ライクカーボン）膜又はレジスト膜を形成する工程であ
ってもよい。

【００１３】

【作用】薄膜技術によって複数の磁気ヘッド素子をウエ
ハ上に形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並
ぶように各バーに切断する。このバーのＡＢＳ面側に機
械研削によって浮上用レールを形成し、磁気ヘッド素子
形成面にＣｕ膜、ＤＬＣ膜又はレジスト膜等の保護膜を
形成した後、ＡＢＳ面側からイオンエッチングして所定
パターンの形成を行う。保護膜で被覆されているからイ
オンエッチングによる再付着物が磁気ヘッド素子形成面
に直接形成されるようなことはない。イオンエッチング
工程の後、この保護膜は除去される。

【００１４】

【実施例】図１（Ａ）〜（Ｃ）、図２（Ｄ）〜（Ｆ）及
び図３（Ｇ）は、本発明による磁気ヘッド装置用スライ
ダの製造方法の一実施例を示す工程図である。

【００１５】Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣ等のセラミック材によ
るウエハ上に薄膜技術によって多数の磁気ヘッド素子を
形成した後、これら磁気ヘッド素子が一列状に並ぶよう
にこのウエハを複数のバーに切断する。図１（Ａ）はこ
のように切断して得られた１つのバー１０を示してお
り、１１はスライダの後端面となる面１２に形成された
複数の磁気ヘッド素子、１１ａは各磁気ヘッド素子の例
えばＡｕによって形成されたボンディング用パッド、１
３はＡＢＳ面をそれぞれ表している。

【００１６】切断されたバー１０は、図１（Ｂ）に示す
ごとく、専用の研削用治具１４の平坦な面にそのＡＢＳ
面１３が上面となるように接着固定される。この状態で
ＡＢＳ面１３表面の研削が行われ、スロートハイト調整
がなされる。次いで、ＡＢＳ面１３側から溝加工が行わ
れ、図１（Ｃ）の拡大斜視図に示すように、レール部１
５が形成される。

【００１７】ＡＢＳ面１３の研磨（ポリシング）が行わ
れた後、バー１０は研削用治具１４から剥離されて洗浄
される。次いで、図２（Ｄ）に示すごとく、バー１０の
磁気ヘッド形成面１２上のみ又はこの磁気ヘッド形成面
１２上とＡＢＳ面１３を除くその他の必要な面上とに保
護膜としてのＣｕ膜１６が蒸着によって形成される。

【００１８】Ｃｕ膜１６の厚さは、イオンエッチング量
に応じて制御されるが、エッチングにより削られる厚さ
が例えば約１μｍの場合はＣｕ膜厚が１０００〜３００
０オングストローム程度、約３μｍの場合はＣｕ膜厚が
６０００〜１００００オングストローム程度である。こ
の程度の膜厚のＣｕ膜は短時間で形成することができる
ので、蒸着法を用いれば、成膜速度が非常に速くしかも
膜厚制御が非常に容易という利便が得られる。なお、Ｃ
ｕ膜蒸着の最大の利点は、成膜時のＣｕの直進性が優れ
ていて側面（特にＡＢＳ面１３）への回り込みがほとん
どないため、磁気ヘッド形成面１２のみに保護膜を形成
できるという点にある。Ｃｕ膜形成は、蒸着が上述の理
由で最も望ましいが、イオンビームスパッタ等によって
も可能であることは明らかである。

【００１９】次いでこのバー１０を図示しない露光用治
具に取り付け、図２（Ｅ）に示すごとく、所定の抜きパ
ターンを有するレジスト膜１７をレール部１５のＡＢＳ
面に形成する。例えば、ドライフィルムレジストをバー
１０の固着された露光用治具にラミネートし、所定パタ
ーンのマスクを介して紫外線を照射することによりマス
クのパターンをバー上に露光し、これを現像、水洗及び
乾燥することにより、エッチングすべきパターン１８が
抜きパターンとして開口しているレジスト膜１７が形成
される。

【００２０】次いで、バー１０が露光用治具から取り外
されて図示しないミリング用治具に取り付けられ、レー
ル部１５のＡＢＳ面のイオンエッチングが行われる。イ
オンエッチングは、エッチングすべき面に対して垂直で
はなくある程度の傾けた、例えば０〜６０°程度傾けた
イオンビームによって行われ、しかもミリング用治具は
エッチングすべき面に垂直な軸について回転せしめられ
る。このミリングにより、図２（Ｆ）に示すごとく、抜
きパターン１８の部分が削り取られ、レール部１５上に
浮上特性制御用の段差平面１９が得られる。

【００２１】その後、図３（Ｇ）に示すごとく、保護膜
であるＣｕ膜１６が除去される。このＣｕ膜１６の除去
は、スライダの構成材であるＡｌ₂ Ｏ₃ やＡｕを侵さな
い過硫酸アンモニウムによって行われる。同様の機能を
有する他の方法でＣｕ膜除去を行ってもよいことはもち
ろんである。

【００２２】次いで、レジスト膜１７の剥離及び乾燥を
行った後、バー１０をミリング治具より取り外して洗浄
する。次いでバー１０を図示しない研削用治具に接着固
定して個々のスライダに切断した後、各スライダをこの
研削用治具から取り外して洗浄することにより最終的な
スライダが得られる。

【００２３】このように本実施例によれば、イオンエッ
チング加工前に磁気ヘッド素子形成面等の再付着防止面
に保護膜が直接的に被着形成されるので、イオンエッチ
ングによって飛ばされた物質のその面への再付着を確実
に防止することができる。また、イオンエッチング加工
後にスライダ材及びスライダの他の構成部材を侵すこと
のない剥離剤でこの保護膜を除去するようにしているた
め、他のスライダ構成部材への悪影響も生じない。

【００２４】上述の実施例は、浮上特性制御用の段差平
面をレール部上に形成するためのイオンミリング工程を
有する場合について述べているが、前述したＴＰＣ段差
又は負圧発生用凹部を形成用のイオンミリング工程を有
する場合にも同様に適用することができることはもちろ
んである。

【００２５】以上述べた実施例では保護膜としてＣｕ膜
を用いているが、その他にアモルファス水素添加炭素
（特開平４−２７６３６７号参照）等のＤＬＣ（ダイヤ
モンドライクカーボン）膜やレジスト膜を保護膜に用い
ることもできる。ＤＬＣ膜は、例えばイオンビームスパ
ッタ、スパッタリング又はプラズマＣＶＤによって形成
することができ、酸素プラズマアッシングによって除去
され。レジスト膜は、例えばディップ又はスピンコート
によって塗布され、例えばアセトン等の溶剤で除去され
る。

【００２６】なお、保護膜の形成を、ウエハからバーに
切断した後ではなく、ウエハ状態において磁気ヘッド素
子等を形成した、その表面及び裏面に被覆形成してもよ
いことは明らかである。

【００２７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、イオンエッチング工程の前に実施されスライダの少
なくとも磁気ヘッド素子形成面を保護膜で被覆する保護
膜形成工程と、イオンエッチング工程の後に実施され上
述の保護膜を除去する除去工程とを備えているため、イ
オンエッチングによって飛ばされた物質が磁気ヘッド素
子形成面に再付着するような不都合が生じない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による製造方法の一実施例における工程
の一部を示す斜視図である。

【図２】本発明による製造方法の一実施例における工程
の一部を示す斜視図である。

【図３】本発明による製造方法の一実施例における工程
の一部を示す斜視図である。

【符号の説明】

１０ バー １１ 磁気ヘッド素子 １１ａ ボンディング用パッド １３ ＡＢＳ面 １４ 研削用治具 １５ レール部 １６ Ｃｕ膜 １７ レジスト膜 １８ 抜きパターン １９ 段差平面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 種村 茂樹 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティー ディーケイ株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気媒体と対向する面側にイオンエッチ
   ングにより所定パターンの形成を行うイオンエッチング
   工程を有する磁気ヘッド装置用スライダの製造方法であ
   って、前記イオンエッチング工程の前に実施され該スラ
   イダの少なくとも磁気ヘッド素子形成面を保護膜で被覆
   する保護膜形成工程と、該イオンエッチング工程の後に
   実施され該保護膜を除去する除去工程とを備えたことを
   特徴とする磁気ヘッド装置用スライダの製造方法。
2. 【請求項２】 前記保護膜形成工程が、Ｃｕ膜を蒸着で
   形成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の
   製造方法。
3. 【請求項３】 前記除去工程が、過硫酸アンモニウムに
   よって該Ｃｕ膜を除去する工程であることを特徴とする
   請求項２に記載の製造方法。
4. 【請求項４】 前記保護膜形成工程が、ＤＬＣ膜を形成
   する工程であることを特徴とする請求項１に記載の製造
   方法。
5. 【請求項５】 前記保護膜形成工程が、レジスト膜を形
   成する工程であることを特徴とする請求項１に記載の製
   造方法。