JPH0895007A

JPH0895007A - 液晶光学素子の製造法

Info

Publication number: JPH0895007A
Application number: JP6229317A
Authority: JP
Inventors: Masao Yamamoto; 雅夫山本; Kazuo Inoue; 一生井上; Hisahide Wakita; 尚英脇田
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1994-09-26
Filing date: 1994-09-26
Publication date: 1996-04-12

Abstract

(57)【要約】【目的】真空注入工程における低沸点材料の揮発を抑
えて重合性材料と液晶とを一対の電極付き基板からなる
液晶パネルに充填することにより、均一な散乱−透過性
能の液晶光学素子を再現よくえることができる製造法を
提供する。【構成】揮発性材料の多量体１１を含む重合性材料と
液晶とからなるＰＤＬＣ形成材料１２を一対の電極付き
基板からなる液晶パネル１３の開口部１４から真空注入
法により充填を行う。充填完了後、開口部１４を封止し
た後、多量体１１から揮発性材料１５を再生する。完全
に揮発性材料１５を再生した後、重合性材料の硬化を行
い、液晶１６が高分子マトリクス１７中に分散保持され
た液晶光学素子を完成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶光学素子の製造法
に関する。詳しくは液晶が高分子マトリクス中に分散保
持された高分子分散型液晶（以下ＰＤＬＣと記述する）
を用いた液晶光学素子の製造法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶分子の屈折率と同じ屈折率を
有する高分子に、ネマチック液晶を分散保持させた高分
子分散型液晶を、電極を有する上下一対の基板間に挟み
込み、電界の有無により、液晶の屈折率を変化させ、散
乱状態と透過状態とを切り換える液晶光学素子が多くの
研究、開発者の注目を集めている（特開昭６０−２５２
６８７号公報）。

【０００３】図４は、この液晶光学素子の表示原理を示
す概略図である。図４（ａ）に示すように、電圧無印加
状態では、液晶４４の分子軸がランダムな方向を向くた
め、液晶領域の屈折率が周囲の高分子層４５の屈折率と
異なり、液晶光学素子に入った入射光４２は散乱光４３
となり、その結果、散乱状態が得られる。一方、図４
（ｂ）に示すように、透明電極層４１に電界を印加する
と、液晶４４の分子軸が電界方向に配列し、基板に垂直
に入射した光に対しては、液晶領域の屈折率が周囲の高
分子層４５の屈折率とほぼ一致するため、光の散乱が生
じず透過光４６となり、その結果、透過状態が得られ
る。

【０００４】このＰＤＬＣを用いた液晶光学素子は、光
の散乱を利用するため、偏光板を使用する必要がなく、
従来のツイステッドネマチック（ＴＮ）型の液晶光学素
子のように、直線偏光を得るために、偏光板を使用しな
ければならない液晶光学素子に比べ、明るく、視野角の
広い表示が可能になる。さらに、従来のＴＮ型等の液晶
光学素子は、配向処理や上下基板間隔を正確に制御する
必要があり、大面積の表示に関しては、表示むらが出易
いという課題を有していたが、ＰＤＬＣを用いた液晶光
学素子は、配向処理が不要で基板間隔の制御も厳密でな
く、大面積の液晶光学素子も容易に作製できるという特
徴を有する。

【０００５】ＰＤＬＣの製造法には、高分子と液晶を共
通の溶媒に溶解し、基板上にキャストする溶媒キャスト
法（J.Membrance Sci.,vol.11,p.39-52,Jan.,1982)、高
分子多孔質膜の空孔中に、液晶を含浸させる含浸法（Ap
plied physics Letters,vol.48,no.1,p22-24,Jan.198
2)、高分子の水溶液に液晶を乳化、分散させてキャスト
する乳化法（SID Int.Symp.Dig.Tech.,vol.16.p68,198
5）、液晶と重合性材料の均一溶液を作り、均一溶液を
液晶パネルに充填した後、重合によって相分離し、相分
離構造を形成する重合法（Applied physics Letters,vo
l.48,no.4,p269-271,Jan.1985)等がある。これらの製造
法のうち、含浸法は、工業的に応用した例は少ない。乳
化法、溶媒キャスト法、重合法は、応用例はあるが、Ｐ
ＤＬＣを液晶光学素子等のディスプレイ用に応用する場
合、ＰＤＬＣを電極を有する基板上に形成し、精密に上
下一対の基板の位置を合わせる必要があり、分散溶媒で
ある水や溶剤を基板上で揮発する必要のある乳化法、溶
媒キャスト法では、基板の貼り合わせが困難である。従
って、ディスプレイに応用する際には、溶媒を必要とし
ない重合法が適しており、特に、重合時間が短く、製造
が極めて簡単に行える光重合法がよく用いられている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶と
重合性材料の均一溶液を液晶パネル中に充填する際に、
従来からＴＮモード等で用いられている真空注入法を利
用した場合、重合性材料中に含まれるモノマー等沸点の
低い成分が均一溶液から徐々に揮発する。その結果、液
晶パネル内で溶液の組成比（液晶と重合性材料の組成比
や重合性材料中での各種材料の組成比）にむらが生じ、
パネル全面にわたり均一な散乱性能を示す液晶光学素子
の製造は困難であった。

【０００７】本発明の目的は、真空注入工程における低
沸点材料の揮発を抑える手段を提供し、均一な散乱性能
を示す液晶光学素子を再現性よく製造できる製造法を提
供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明の請求項１記載の液晶光学素子の製造法は、一対
の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成物を
充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工程を
有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物を充
填する工程においては、重合性材料中に含まれる揮発性
成分が予め多量体化されており、重合性材料を硬化せし
める工程においては、前記多量体化された成分から揮発
性成分が再生されていることを要旨とする。

【０００９】また前記構成において、揮発性成分を再生
する手段が解重合反応であることが好ましい。また前記
構成において、解重合反応が超音波による解重合である
ことが好ましい。

【００１０】さらに本発明の液晶光学素子の製造法は、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、重合性材料中に含まれる揮
発性成分が予め高分子材料に内包されており、重合性材
料を硬化せしめる工程においては、前記高分子材料が破
壊されていることを特徴とする。

【００１１】さらに本発明の液晶光学素子の製造法は、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、該組成物が予め高分子材料
に内包されており、内包された状態で重合性材料を硬化
せしめることを特徴とする。

【００１２】また前記構成において、内包する手段とし
てマイクロカプセルを利用することが好ましい。さらに
本発明の液晶光学素子の製造法は、一対の電極付き基板
間に液晶と重合性材料からなる組成物を充填する工程
と、前記重合性材料を硬化せしめる工程を有する液晶光
学素子の製造法であって、前記組成物を充填する工程に
おいては、重合性材料中に含まれる揮発性成分が予め高
分子材料に吸着されており、重合性材料を硬化せしめる
工程においては、前記高分子材料が破壊されていること
を特徴とする。

【００１３】さらに本発明の液晶光学素子の製造法は、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、該組成物が予め高分子材料
に吸着されており、吸着された状態で重合性材料を硬化
せしめることを特徴とする。

【００１４】前記記構成において、吸着する手段が多孔
質材料を利用したものであることが好ましい。また前記
構成において、液晶と重合性材料からなる組成物の一対
の電極付き基板間への充填を真空状態で行うことが好ま
しい。

【００１５】

【作用】本発明の液晶光学素子の製造法は、一対の電極
付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成物を充填す
る工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工程を有する
液晶光学素子の製造法であって、前記組成物を充填する
工程においては、重合性材料中に含まれる揮発性成分が
予め多量体化されており、重合性材料を硬化せしめる工
程においては、前記多量体化された成分から揮発性成分
が再生されているので、多量体化された材料を利用する
ことにより揮発を抑制するもので、真空注入工程では、
揮発性材料は予め多量体化されており、揮発することな
く液晶パネル中に充填できる。その結果、液晶パネル内
での組成比（液晶と重合性材料の組成比や重合性材料中
での各種材料の組成比）でＰＤＬＣ形成材料を充填でき
る。そして充填後、解重合反応により多量体化材料の再
生を行った後、光照射等により重合を完了することで、
均一な組成比でＰＤＬＣを形成することができ、パネル
全面にわたり均一な散乱性能を示す液晶光学素子が再現
性よく製造できる。

【００１６】また前記揮発性成分を再生する手段が解重
合反応であるので、揮発性材料が容易に再生でき、光照
射等により重合を完了することで、均一な組成比を有す
るＰＤＬＣを形成することができる。

【００１７】また前記解重合反応が超音波による解重合
であることにより、光、熱を用いた解重合に比べ、材料
の劣化は少なく、解重合が迅速にでき、揮発性材料が再
現性よく再生できるので、均一な組成比を有するＰＤＬ
Ｃを形成することができる。

【００１８】さらに本発明の液晶光学素子の、一対の電
極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成物を充填
する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工程を有す
る液晶光学素子の製造法であって、前記組成物を充填す
る工程においては、重合性材料中に含まれる揮発性成分
が予め高分子材料に内包されており、重合性材料を硬化
せしめる工程においては、前記高分子材料が破壊されて
いる構成によれば、真空注入工程では揮発性成は予め高
分子材料に取り込まれており、揮発することなく液晶パ
ネル中に充填できるので、液晶パネルに均一な組成比
（液晶と重合性材料の組成比や重合性材料中での各種材
料の組成比）でＰＤＬＣ形成材料の充填ができる。その
後の重合性材料の硬化工程では高分子材料を破壊して照
射等により硬化を完了することで、均一な組成比を有す
るＰＤＬＣを形成することができ、液晶パネル全面にわ
たり均一な散乱性能を示す液晶光学素子が再現性よく製
造できる。

【００１９】尚、多量体は、使用する材料の沸点や真空
注入時の真空度合いに併せて適宜選択して利用できる
が、液晶パネルへの充填に先立ち、予め多量体化の程度
と沸点上昇の関係、揮発の程度を調べておくとよい。

【００２０】さらに本発明の液晶光学素子の製造法の、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、該組成物が予め高分子材料
に内包されており、内包された状態で重合性材料を硬化
せしめる構成によれば、液晶と重合性材料の組成物は真
空注入の段階で高分子材料に内包されており、揮発する
ことなく液晶パネル中に充填できるので、液晶パネル内
での組成比（液晶と重合性材料の組成比や重合性材料中
での各種材料の組成比）は均一にできる。充填後、重合
性材料を前記高分子材料に内包したまま光照射等により
重合を完了することで、揮発性材料の揮発が抑制でき、
均一な組成比でＰＤＬＣを形成することができ、パネル
全面にわたり均一な散乱性能を示す液晶光学素子が再現
よく製造できる。

【００２１】また前記内包する手段がマイクロカプセル
を利用しているので、重合性材料は揮発することなく液
晶パネル中に容易に均一に充填でき、揮発性材料の揮発
が抑制でき、均一な散乱性能を得ることができる。

【００２２】さらに本発明の液晶光学素子の製造法の、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、重合性材料中に含まれる揮
発性成分が予め高分子材料に吸着されており、重合性材
料を硬化せしめる工程においては、前記高分子材料が破
壊されている構成によれば、揮発性成分が予め高分子材
料に吸着された状態で封入されるので、揮発することな
く均一な組成比で液晶パネル中に充填でき、その後高分
子材料が破壊された状態で重合性材料を硬化せしめるの
で、液晶と重合性材料の均一な溶液が実現でき、光照射
等により重合を完了することで、液晶パネル全面にわた
り均一な散乱性能を示す液晶光学素子を再現性よく製造
することができる。

【００２３】本発明は揮発性材料を多孔質材料に吸着さ
せる現象を利用したものであり、モノマー等の低沸点の
揮発性成分は、高分子材料に吸着されて真空注入により
充填されるので、充填工程で揮発して組成が変わること
がない。また充填後に重合性材料を硬化せしめる工程に
おいては、前記高分子材料が破壊されているので、重合
性材料は液晶に均一に溶け込み、均一な溶液状態で硬化
でき、液晶パネル全面にわたり均一な散乱性能を示す液
晶光学素子が再現性よく製造できる。

【００２４】さらに本発明の液晶光学素子の製造法の、
一対の電極付き基板間に液晶と重合性材料からなる組成
物を充填する工程と、前記重合性材料を硬化せしめる工
程を有する液晶光学素子の製造法であって、前記組成物
を充填する工程においては、該組成物が予め高分子材料
に吸着されており、吸着された状態で重合性材料を硬化
せしめる構成によれば、揮発性の低沸点材料は、真空注
入の段階で高分子材料に吸着された状態であり、揮発す
ることなく均一な組成比で液晶パネル中に充填できる。
また吸着された状態で重合性材料の硬化を行うことで液
晶と重合性材料の均一組成の状態で硬化でき、均一な散
乱性能を得ることができる。

【００２５】また前記吸着する手段が多孔質材料を利用
したので、低沸点の材料またはＰＤＬＣ形成材料全体を
よく吸着でき、注入の段階で材料が脱離することなく、
液晶パネルへの注入ができ、吸着された状態で重合性材
料の硬化を容易に行うことができ、均一な散乱性能を得
ることができる。

【００２６】また前記液晶と重合性材料からなる組成物
の一対の電極付き基板間への充填を真空状態で行うの
で、迅速に確実に均一な組成比で充填でき、均一な散乱
性能をえることができるとともに、パネル製造時間を大
幅に削減できる。

【００２７】上述のように、多量体化する代わりに低沸
点の材料を予め高分子材料に内包（マイクロカプセル
化）したり、あるいは吸着させても同様の効果が実現で
きる。揮発性のモノマー等の低沸点材料、重合性材料等
は、真空注入の段階で高分子材料に取り込まれており、
揮発することなく液晶パネル中に充填できる。また内包
した材料を高分子材料（マイクロカプセル）で内包した
まま硬化するので、液晶パネル全面にわたり均一な散乱
性能を示す液晶光学素子が再現性よく製造することがで
きる。

【００２８】

【実施例】以下、本発明の液晶光学素子の製造法につい
て、図面を参照しながら説明する。図１は、請求項１記
載の液晶表示素子の製造法の発明の一実施例の工程の概
略を示す図である。

【００２９】図１（ａ）に示すように、揮発性材料の多
量体１１を含む重合性材料と液晶とからなるＰＤＬＣ形
成材料１２を液晶パネル１３にその開口部１４から真空
注入法により充填する。充填完了後、開口部１４を封止
した後、多量体１１から揮発性材料１５を再生する（図
１（ｂ））。完全に揮発性材料１５を再生した後、重合
性材料の硬化を行い、液晶１６が高分子マトリクス１７
中に分散保持された液晶光学素子を完成する（図１
（ｃ））。

【００３０】図２は、請求項４記載の液晶光学素子の製
造法の発明の他の実施例の工程の概略を示す図である。
図２（ａ）に示すように、透明電極２８を有する一方の
液晶支持基板２１上に重合性材料中に含まれる揮発性材
料２２を高分子材料で内包したマイクロカプセル２３と
揮発性材料以外のＰＤＬＣ形成材料２４からなる溶液を
滴下する。ついで透明電極２８を有する対向基板２５と
貼り合わせ、減圧、圧着した後、重合性材料の硬化を行
い、液晶２６が高分子マトリクス２７中に分散保持され
た液晶光学素子を完成する。

【００３１】さらに請求項５に記載されている液晶光学
素子の製造法の発明は、マイクロカプセルに内包する材
料をＰＤＬＣ形成材料全体に代えたものであり、製造法
は前記請求項４記載の液晶光学素子の製造法の他の実施
例に類似するものである。

【００３２】さらに請求項７及び８に記載されている液
晶光学素子の製造法の発明は、揮発性材料またはＰＤＬ
Ｃ形成材料全体を多孔質材料に吸着したものを滴下する
ものであり、請求項４に記載されている液晶光学素子の
製造法の発明に類似するものである。

【００３３】以下、具体的実施例をあげさらに詳しく説
明する。（実施例１）インジウム・錫酸化物よりなる透明電極を
形成したガラスを２枚用意し、図３に示すように、その
片方の支持板（例えば上側基板３１）の表面にスペーサ
兼シール樹脂３３として直径１３μｍのガラス繊維を分
散した酸無水物硬化型エポキシ樹脂を１辺のみ開口部３
４として５ｍｍの幅を残して他の周辺に０．２ｍｍ幅で
印刷した上で、上側基板３１と下側基板３２を電極面を
対向させた状態で加圧し、１４０℃で４時間加熱して硬
化接着し、空パネルを完成した。

【００３４】次に、ＰＤＬＣ形成材料として下記の材料
を用意した。液晶材料として、メルク（株）製液晶（商
品名：ＴＬ２０５）を８．２００ｇ、高分子形成モノマ
ーとして、メチルメタクリレートを０．９５４ｇ、オリ
ゴマーとしてポリウレタンアクリレートを０．８０８
ｇ、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（日
本化薬（株）製）を０．０３８ｇを用意した。真空注入
に先立ち、メチルメタクリレートを予め重合し多量体化
した後、この多量体化したメチルメタクリレートとメチ
ルメタクリレート以外の前記ＰＤＬＣ形成材料からなる
組成物を３０℃で撹拌し、３０℃で上記の製造法により
作製した空パネルにその開口部から真空注入により注入
を行った。注入完了後、開口部を封止した後、液晶パネ
ル中の溶液に超音波を照射した。超音波の照射は、３０
℃で強度は２０ワット／ｃｍ²の条件で行った。照射開
始から１５分で液晶パネル中の溶液は均一溶液状態を示
した。続いて、３０℃で紫外線（２４．５ｍＷ／ｃ
ｍ^２）を１８０秒照射し、ＰＤＬＣからなる液晶光学素
子を作製した。こうして完成した液晶光学素子は均一な
散乱性を示し、また、電界印加により均一な透明状態が
得られ、パネル全体にわたりむらの無い均一な散乱−透
過特性を示した。

【００３５】（実施例２）液晶材料として、メルク
（株）製液晶（商品名：ＴＬ２０５）を８．２００ｇ、
高分子形成モノマーとして、２エチルヘキシルアクリレ
ートを０．９５４ｇ、オリゴマーとしてポリウレタンア
クリレートを０．８０８ｇ、光重合開始剤としてベンジ
ルジメチルケタール（日本化薬（株）製）を０．０３８
ｇを用意した。前記ＰＤＬＣ形成材料の液晶パネルへの
充填に先立ち、２エチルヘキシルアクリレートのマイク
ロカプセル化を下記の方法により行った。５５℃のアラ
ビアゴム水溶液と、同じく５５℃のゼラチン水溶液を別
々に用意し、アラビアゴム水溶液中に２エチルヘキシル
アクリレートを加え、乳化した。こうして生成したエマ
ルジョンに前記ゼラチン水溶液をかき混ぜながら添加し
た後、塩酸でＰＨを４．５に調節した後、水酸化ナトリ
ウム溶液でＰＨを９に調節しながらホルムアルデヒドを
添加することにより２エチルヘキシルアクリレートが封
入されたゼラチン−アラビアゴム複合体を得た。この２
エチルヘキシルアクリレートが封入されたゼラチン−ア
ラビアゴム複合体を２エチルヘキシルアクリレート以外
の前記ＰＤＬＣ形成材料に加え十分に撹拌した溶液を液
晶パネルを構成する一方の電極（インジウム・錫酸化物
よりなる透明電極）付き基板上に滴下した。滴下にはデ
ィスペンサーを用いた。引き続いて、対向の基板を貼り
合わせ、真空引きし、上下基板を加圧、圧着した。加圧
することでマイクロカプセルは破壊され、２エチルヘキ
シルアクリレートがＰＤＬＣ形成材料中に溶け出し、３
０℃に加熱することで均一溶液が得られた。引き続き３
０℃で紫外線（２４．５ｍＷ／ｃｍ^２）を１８０秒照射
し、ＰＤＬＣからなる液晶光学素子を作製した。こうし
て完成した液晶光学素子は均一な散乱性を示し、また、
電界印加により均一な透明状態が得られ、パネル全体に
わたりむらの無い均一な散乱−透過特性を示した。

【００３６】（実施例３）液晶材料として、メルク
（株）製液晶（商品名：ＴＬ２０５）を８．２００ｇ、
高分子形成モノマーとして、２エチルヘキシルアクリレ
ートを０．９５４ｇ、オリゴマーとしてポリウレタンア
クリレートを０．８０８ｇ、光重合開始剤としてベンジ
ルジメチルケタール（日本化薬（株）製）を０．０３８
ｇを用意した。前記したＰＤＬＣ形成材料を実施例２に
記載した同様の操作によりゼラチン−アラビアゴム複合
体に封入した。作製したゼラチン−アラビアゴム複合体
を液晶パネルを構成する一方の電極（インジウム・錫酸
化物よりなる透明電極）付き基板上に滴下した。滴下に
はディスペンサーを用いた。引き続いて、対向した基板
を貼り合わせ、真空引きし、上下基板を加圧、圧着した
後、３０℃に加熱し紫外線（２４．５ｍＷ／ｃｍ^２）を
１８０秒照射し、ＰＤＬＣからなる液晶光学素子を作製
した。こうして完成した液晶光学素子は均一な散乱性を
示し、また、電界印加により均一な透明状態が得られ、
パネル全体にわたりむらの無い均一な散乱−透過特性を
示した。

【００３７】（実施例４）液晶材料として、メルク
（株）製液晶（商品名：ＴＬ２０５）を８．２００ｇ、
高分子形成モノマーとして、２エチルヘキシルアクリレ
ートを０．９５４ｇ、オリゴマーとしてビスコート８２
８（大阪有機化学工業（株）製）を０．８０８ｇ、光重
合開始剤としてベンジルジメチルケタール（日本化薬
（株）製）を０．０３８ｇを用意した。前記ＰＤＬＣ形
成材料の液晶パネルへの充填に先立ち、２エチルヘキシ
ルアクリレートの多孔質材料への吸着を下記の手段で行
った。ポリウレタンのジメチルホルムアミド溶液を水中
で凝固させ２〜３μｍの均一気泡を含む弾性体（ポロメ
リック材料）を得た。このようにして作製したポロメリ
ック材料を２エチルヘキシルアクリレート溶液中に浸漬
し、気泡中に２エチルヘキシルアクリレートを含浸し
た。この２エチルヘキシルアクリレートを含浸した多孔
質材料を２エチルヘキシルアクリレート以外の前記した
ＰＤＬＣ形成材料中に加え十分に撹拌した溶液を、液晶
パネルを構成する一方の電極（インジウム・錫酸化物よ
りなる透明電極）付き基板上に滴下した。滴下にはディ
スペンサーを用いた。引き続いて、対向の基板を貼り合
わせ、真空引きし、上下基板を加圧、圧着した後、３０
℃に加熱し紫外線（２４．５ｍＷ／ｃｍ^２）を１８０秒
照射し、高分子分散型液晶からなる液晶光学素子を作製
した。こうして完成した液晶光学素子は均一な散乱性を
示し、また、電界印加により均一な透明状態が得られ、
パネル全体にわたりむらの無い均一な散乱−透過特性を
示した。

【００３８】（実施例５）実施例４に示したＰＤＬＣ形
成材料を用いて、ポロメリック材料に吸着させる材料を
ＰＤＬＣ形成材料全体に代え、実施例４に記載した同様
の操作により液晶光学素子を作製した。こうして完成し
た液晶光学素子は均一な散乱性を示し、また、電界印加
により均一な透明状態が得られ、パネル全体にわたりむ
らの無い均一な散乱−透過特性を示した。

【００３９】（比較例１）実施例１記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び重合開始剤を使用し、
メチルメタクリレートを多量体化することなく実施例１
と同様の操作によりＰＤＬＣからなる液晶光学素子を作
製したが、完成した液晶光学素子の散乱性はパネル内で
むらが目立ち、また、電界印加により液晶パネル全面に
わたり均一な透過状態が得られず、良好な散乱−透過特
性は得られなかった。

【００４０】（比較例２）実施例２記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤を使用
し、２エチルヘキシルアクリレートを高分子材料でマイ
クロカプセル化することなく実施例２と同様の操作によ
りＰＤＬＣからなる液晶光学素子を作製したが、完成し
た液晶光学素子の散乱性はパネル内でむらが目立ち、ま
た、電界印加により液晶パネル全面にわたり均一な透過
状態が得られず、良好な散乱−透過特性は得られなかっ
た。

【００４１】（比較例３）実施例４記載と同種、同量の
液晶、モノマー、オリゴマー及び光重合開始剤を使用
し、２エチルヘキシルアクリレートを高分子材料に吸着
する操作を施さずに実施例４と同様の操作によりＰＤＬ
Ｃからなる液晶光学素子を作製したが、完成した液晶光
学素子の散乱性はパネル内でむらが目立ち、また、電界
印加により液晶パネル全面にわたり均一な透過状態が得
られず、良好な散乱−透過特性は得られなかった。

【００４２】上記した実施例及び比較例から、ＰＤＬＣ
形成材料の液晶パネルへの充填を従来から用いられてい
る真空注入等、真空状態を利用して行った場合、真空過
程で低沸点の材料が揮発し、液晶パネル内で液晶と重合
性材料の組成にむらが生じ液晶パネル全面に渡り均一な
散乱−透過特性を示す液晶光学素子の製造は困難である
ことがわかる。真空状態で低沸点材料の揮発を抑制でき
る本発明の液晶光学素子の製造法はＰＤＬＣ形成材料の
真空注入を可能にし、むらの無い良好な散乱−透過特性
を示す液晶光学素子を再現良く製造するのに有効な製造
法である。尚、使用する液晶材料は記載したＴＬ２０５
に限定されるものでなく種々のネマチック液晶等が利用
できる。また、重合性材料も本実施例に示した材料に限
定されるものでない。ＰＤＬＣ中の液晶割合も本実施例
の８２重量％に限定されるものでない。

【００４３】本実施例では光重合性の樹脂を用いている
が、これに限定されるものでなく熱重合性樹脂であって
もよい。本発明の実施例１において、解重合の方法とし
て超音波を利用しているが、熱や光による解重合反応も
利用可能である。

【００４４】また、実施例２〜実施例５において、液晶
支持基板を貼り合わせる際にシール材を用いていない
が、片側の基板上にシール部を設けて液晶光学素子の製
造を行っても構わない。

【００４５】また、マイクロカプセル材料は、本発明の
実施例に記載したものに限定されるものでなく、カゼイ
ン、アルブミン等の水溶性タンパク質や寒天、セルロー
ス誘導体等の合成高分子が利用可能である。また、マイ
クロカプセル化法としては、界面重合法に限定されず、
液中硬化被覆法、真空蒸着被覆法が利用可能である。

【００４６】

【発明の効果】上述したように、低沸点の揮発性材料を
予め多量体化した材料や揮発性材料を高分子材料で内包
するためマイクロカプセル等を利用することにより、あ
るいは揮発性材料の多孔質材料への吸着現象を利用する
ことにより真空注入工程での材料の揮発を抑制すること
ができ、液晶パネル全体にわたりむらの無い均一な散乱
−透過特性を示す液晶光学素子が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶光学素子の製造法の一実施例の工
程を示す概略図である。

【図２】本発明の液晶光学素子の製造法の他の実施例の
工程を示す概略図である。

【図３】本発明の実施例に用いた空パネルの構成を示す
斜視図である。

【図４】高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ）を利用した液晶
光学素子の表示原理を示す説明図である。

【符号の説明】

１１多量体１２ＰＤＬＣ形成材料１３液晶パネル１４開口部１５揮発性材料１６液晶１７高分子マトリクス２１液晶支持基板２２揮発性材料２３マイクロカプセル２４ＰＤＬＣ形成材料２５対向基板２６液晶２７高分子マトリクス２８透明電極３１上側基板３２下側基板３３スペーサ兼シール樹脂３４開口部４１透明電極４２入射光４３散乱光４４液晶分子４５高分子層４６透過光

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の電極付き基板間に液晶と重合性材
料からなる組成物を充填する工程と、前記重合性材料を
硬化せしめる工程を有する液晶光学素子の製造法であっ
て、前記組成物を充填する工程においては、重合性材料
中に含まれる揮発性成分が予め多量体化されており、重
合性材料を硬化せしめる工程においては、前記多量体化
された成分から揮発性成分が再生されていることを特徴
とする液晶光学素子の製造法。
【請求項２】前記揮発性成分を再生する手段が解重合
反応である請求項１記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項３】前記解重合反応が超音波による解重合で
ある請求項１記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項４】一対の電極付き基板間に液晶と重合性材
料からなる組成物を充填する工程と、前記重合性材料を
硬化せしめる工程を有する液晶光学素子の製造法であっ
て、前記組成物を充填する工程においては、重合性材料
中に含まれる揮発性成分が予め高分子材料に内包されて
おり、重合性材料を硬化せしめる工程においては、前記
高分子材料が破壊されていることを特徴とする液晶光学
素子の製造法。
【請求項５】一対の電極付き基板間に液晶と重合性材
料からなる組成物を充填する工程と、前記重合性材料を
硬化せしめる工程を有する液晶光学素子の製造法であっ
て、前記組成物を充填する工程においては、該組成物が
予め高分子材料に内包されており、内包された状態で重
合性材料を硬化せしめることを特徴とする液晶光学素子
の製造法。
【請求項６】前記内包する手段がマイクロカプセルを
利用したことを特徴とする請求項４または５記載の液晶
光学素子の製造法。
【請求項７】一対の電極付き基板間に液晶と重合性材
料からなる組成物を充填する工程と、前記重合性材料を
硬化せしめる工程を有する液晶光学素子の製造法であっ
て、前記組成物を充填する工程においては、重合性材料
中に含まれる揮発性成分が予め高分子材料に吸着されて
おり、重合性材料を硬化せしめる工程においては、前記
高分子材料が破壊されていることを特徴とする液晶光学
素子の製造法。
【請求項８】一対の電極付き基板間に液晶と重合性材
料からなる組成物を充填する工程と、前記重合性材料を
硬化せしめる工程を有する液晶光学素子の製造法であっ
て、前記組成物を充填する工程においては、該組成物が
予め高分子材料に吸着されており、吸着された状態で重
合性材料を硬化せしめることを特徴とする液晶光学素子
の製造法。
【請求項９】前記吸着する手段が多孔質材料を利用し
た請求項７または８記載の液晶光学素子の製造法。
【請求項１０】前記液晶と重合性材料からなる組成物
の一対の電極付き基板間への充填を真空状態で行うこと
を特徴とする請求項１、４、５、７または８記載の液晶
光学素子の製造法。