JPH06331971A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
- Publication number
- JPH06331971A JPH06331971A JP5139580A JP13958093A JPH06331971A JP H06331971 A JPH06331971 A JP H06331971A JP 5139580 A JP5139580 A JP 5139580A JP 13958093 A JP13958093 A JP 13958093A JP H06331971 A JPH06331971 A JP H06331971A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid crystal
- thermal expansion
- pattern
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133354—Arrangements for aligning or assembling substrates
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶表示装置の上下基板に形成されたパタン
の位置ずれを防止する。 【構成】 液晶表示装置は、互いに熱膨張率の異なる一
対の基板１，２を所定の間隙を介して貼り合わせたセル
構造を有する。例えば、上側基板１は比較的大きな熱膨
張率を有するガラス材料からなり、下側基板２は比較的
小さな熱膨張率を有する石英材料からなる。各基板１，
２の内表面には互いに整合する所定のパタン４，５が夫
々設けられている。例えば、上側パタン４はブラックマ
スクからなり、下側パタン５はマトリクス状の画素電極
からなる。両基板１，２の間隙には液晶６が保持されて
いる。両基板１，２の熱膨張率の相異に基いて、予め一
方のパタン寸法は他方のパタン寸法に対して調整的に設
定されている。例えば、熱膨張率が大きい方の上側基板
１に設けられたパタン４は予め縮小的に形成されてい
る。
の位置ずれを防止する。 【構成】 液晶表示装置は、互いに熱膨張率の異なる一
対の基板１，２を所定の間隙を介して貼り合わせたセル
構造を有する。例えば、上側基板１は比較的大きな熱膨
張率を有するガラス材料からなり、下側基板２は比較的
小さな熱膨張率を有する石英材料からなる。各基板１，
２の内表面には互いに整合する所定のパタン４，５が夫
々設けられている。例えば、上側パタン４はブラックマ
スクからなり、下側パタン５はマトリクス状の画素電極
からなる。両基板１，２の間隙には液晶６が保持されて
いる。両基板１，２の熱膨張率の相異に基いて、予め一
方のパタン寸法は他方のパタン寸法に対して調整的に設
定されている。例えば、熱膨張率が大きい方の上側基板
１に設けられたパタン４は予め縮小的に形成されてい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に関する。
より詳しくは、互いに対向配置された基板の内表面に形
成されるパタンの寸法設計に関する。
より詳しくは、互いに対向配置された基板の内表面に形
成されるパタンの寸法設計に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明の背景を明らかにする為、図５を
参照して従来の液晶表示装置の一例を簡潔に説明する。
一方の基板１０１の内面にはマトリクス状の画素アレイ
が形成されている。個々の画素は透明導電膜をパタニン
グして得られた画素電極１０２と駆動用の薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）１０３とから構成されている。各ＴＦＴ
１０３のドレイン電極は対応する画素電極１０２に接続
され、ソース電極はデータ線１０４に接続され、ゲート
電極は走査線１０５に接続されている。この様にＴＦＴ
等が集積的に形成された基板１０１を以下ＴＦＴ基板と
呼ぶ事にする。ＴＦＴの半導体薄膜材料として例えば多
結晶シリコンを用いた場合、半導体製造プロセスにおい
て１０００℃程度の高温処理が加わる為、ＴＦＴ基板１
０１は耐熱性に優れた石英等から構成されている。他方
の基板１０６の内面にはＲＧＢ３原色セグメントからな
るカラーフィルタ（ＣＦ）１０７及び対向電極１０８が
積層して形成されている。個々のカラーフィルタセグメ
ントは画素に整合している。又、個々の画素の非有効部
分を遮閉しコントラストを改善する為にブラックマスク
１０９がパタニング形成されている。この様に、カラー
フィルタやブラックマスク等がパタニング形成された基
板（以下ＣＦ基板）１０６は製造プロセスにおいて特に
高温処理が加わらないのでガラス等の比較的安価な材料
が用いられる。ＴＦＴ基板１０１及びＣＦ基板１０６の
間隙内には液晶層１１０が充填されている。さらに、両
基板１０１，１０６の外面には各々偏光板１１１，１１
２が貼着されている。走査線１０５を介して行毎にＴＦ
Ｔ１０３を導通させると、データ線１０４から供給され
る画像信号が各画素電極１０２に書込まれる。書込まれ
た画像信号に応じて画素電極１０２と対向電極１０８と
の間に電圧が印加され液晶層１１０の分子配列が変化す
る。この変化は一対の偏光板１１１，１１２を介して透
過率の変化として取り出され画像表示が行なわれる。か
かる構造を有する液晶表示装置はアクティブマトリクス
型と呼ばれる。なお、本発明の対象となる液晶表示装置
は、この構造に限られるものではなく、単に例示にすぎ
ない。
参照して従来の液晶表示装置の一例を簡潔に説明する。
一方の基板１０１の内面にはマトリクス状の画素アレイ
が形成されている。個々の画素は透明導電膜をパタニン
グして得られた画素電極１０２と駆動用の薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）１０３とから構成されている。各ＴＦＴ
１０３のドレイン電極は対応する画素電極１０２に接続
され、ソース電極はデータ線１０４に接続され、ゲート
電極は走査線１０５に接続されている。この様にＴＦＴ
等が集積的に形成された基板１０１を以下ＴＦＴ基板と
呼ぶ事にする。ＴＦＴの半導体薄膜材料として例えば多
結晶シリコンを用いた場合、半導体製造プロセスにおい
て１０００℃程度の高温処理が加わる為、ＴＦＴ基板１
０１は耐熱性に優れた石英等から構成されている。他方
の基板１０６の内面にはＲＧＢ３原色セグメントからな
るカラーフィルタ（ＣＦ）１０７及び対向電極１０８が
積層して形成されている。個々のカラーフィルタセグメ
ントは画素に整合している。又、個々の画素の非有効部
分を遮閉しコントラストを改善する為にブラックマスク
１０９がパタニング形成されている。この様に、カラー
フィルタやブラックマスク等がパタニング形成された基
板（以下ＣＦ基板）１０６は製造プロセスにおいて特に
高温処理が加わらないのでガラス等の比較的安価な材料
が用いられる。ＴＦＴ基板１０１及びＣＦ基板１０６の
間隙内には液晶層１１０が充填されている。さらに、両
基板１０１，１０６の外面には各々偏光板１１１，１１
２が貼着されている。走査線１０５を介して行毎にＴＦ
Ｔ１０３を導通させると、データ線１０４から供給され
る画像信号が各画素電極１０２に書込まれる。書込まれ
た画像信号に応じて画素電極１０２と対向電極１０８と
の間に電圧が印加され液晶層１１０の分子配列が変化す
る。この変化は一対の偏光板１１１，１１２を介して透
過率の変化として取り出され画像表示が行なわれる。か
かる構造を有する液晶表示装置はアクティブマトリクス
型と呼ばれる。なお、本発明の対象となる液晶表示装置
は、この構造に限られるものではなく、単に例示にすぎ
ない。
【０００３】次に、図６を参照して図５に示した液晶表
示装置の組み立て工程を簡潔に説明する。先ず、工程Ａ
でＴＦＴ基板１０１及びＣＦ基板１０６を用意する。前
述した様に、ＴＦＴ基板１０１は耐熱性の石英等からな
り、その一面側には薄膜トランジスタや画素電極が集積
形成されている。なお、石英の熱膨張係数は比較的小さ
く５×１０-7cm／℃程度である。一方、ＣＦ基板１０６
はガラス等から構成されておりその一面側にはカラーフ
ィルタ、ブラックマスク、対向電極等が予め形成されて
いる。なお、用いられるガラス材料の熱膨張率は比較的
大きく４０×１０-7cm／℃程度である。従って、ＴＦＴ
基板１０１とＣＦ基板１０６とでは熱膨張率がワンオー
ダ程度異なる。なお、両基板の一面側は予め配向処理も
施されている。次に、工程ＢでＴＦＴ基板１０１の周辺
に沿ってシール材１１３を印刷塗布する。なお、ＴＦＴ
基板１０１に代えて、ＣＦ基板１０６にシール材を印刷
塗布しても良い。このシール材は熱硬化型接着剤からな
る。次に工程Ｃで両基板１０１，１０６の位置合わせを
行なう。即ち、ＴＦＴ基板１０１に形成された画素電極
パタンとＣＦ基板１０６に形成されたブラックマスクパ
タンとを互いに整合させる。最後に工程Ｄで、一定の荷
重をかけて１５０℃程度の加熱処理を行ない、熱硬化型
接着剤からなるシール材１１３を硬化させる。これによ
り、ＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０６は所定の間隙を
介して互いに貼り合わされ所謂セル構造が得られる。最
後に、該間隙内に液晶を封入充填して液晶表示装置が完
成する。なお、上述した例ではシール材として熱硬化型
接着剤を用いているが、これに代えて紫外線硬化型接着
剤を用いる事も可能であり、例えば特開昭６１−１１２
１２８号公報に開示されている。しかしながら、紫外線
硬化型接着剤は必ずしも十分な接着強度を得る事が難し
く、信頼性の点で問題が残されている。従って、紫外線
硬化型接着剤を用いた場合でも、後工程で加熱処理（例
えば９０℃程度）を行ない接着強度を高める事が行なわ
れている。
示装置の組み立て工程を簡潔に説明する。先ず、工程Ａ
でＴＦＴ基板１０１及びＣＦ基板１０６を用意する。前
述した様に、ＴＦＴ基板１０１は耐熱性の石英等からな
り、その一面側には薄膜トランジスタや画素電極が集積
形成されている。なお、石英の熱膨張係数は比較的小さ
く５×１０-7cm／℃程度である。一方、ＣＦ基板１０６
はガラス等から構成されておりその一面側にはカラーフ
ィルタ、ブラックマスク、対向電極等が予め形成されて
いる。なお、用いられるガラス材料の熱膨張率は比較的
大きく４０×１０-7cm／℃程度である。従って、ＴＦＴ
基板１０１とＣＦ基板１０６とでは熱膨張率がワンオー
ダ程度異なる。なお、両基板の一面側は予め配向処理も
施されている。次に、工程ＢでＴＦＴ基板１０１の周辺
に沿ってシール材１１３を印刷塗布する。なお、ＴＦＴ
基板１０１に代えて、ＣＦ基板１０６にシール材を印刷
塗布しても良い。このシール材は熱硬化型接着剤からな
る。次に工程Ｃで両基板１０１，１０６の位置合わせを
行なう。即ち、ＴＦＴ基板１０１に形成された画素電極
パタンとＣＦ基板１０６に形成されたブラックマスクパ
タンとを互いに整合させる。最後に工程Ｄで、一定の荷
重をかけて１５０℃程度の加熱処理を行ない、熱硬化型
接着剤からなるシール材１１３を硬化させる。これによ
り、ＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０６は所定の間隙を
介して互いに貼り合わされ所謂セル構造が得られる。最
後に、該間隙内に液晶を封入充填して液晶表示装置が完
成する。なお、上述した例ではシール材として熱硬化型
接着剤を用いているが、これに代えて紫外線硬化型接着
剤を用いる事も可能であり、例えば特開昭６１−１１２
１２８号公報に開示されている。しかしながら、紫外線
硬化型接着剤は必ずしも十分な接着強度を得る事が難し
く、信頼性の点で問題が残されている。従って、紫外線
硬化型接着剤を用いた場合でも、後工程で加熱処理（例
えば９０℃程度）を行ない接着強度を高める事が行なわ
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図７はアクティブマト
リクス型液晶表示装置の１画素部分を切り取って示した
断面図である。ＴＦＴ基板１０１の上に画素が形成され
ている。この画素は画素電極１０２とこれを駆動する薄
膜トランジスタ１０３等から構成されている。さらに薄
膜トランジスタ１０３に対して画像信号を供給する為の
データ線１０４と選択信号を供給する為の走査線１０５
も形成されている。このＴＦＴ基板１０１に対して所定
の間隙を介してＣＦ基板１０６が配置されている。ＣＦ
基板１０６の内面には対向電極１０８、ブラックマスク
１０９、カラーフィルタ１０７が形成されている。両基
板１０１，１０６の間には例えばツイストネマティック
配向された液晶層１１０が保持されている。ブラックマ
スク１０９には画素電極１０２に整合する開口１１４が
形成されている。即ち画素電極１０２上の有効表示領域
を露出させるとともに、非有効表示領域を入射光線から
遮閉する。この非有効表示領域には前述した薄膜トラン
ジスタ１０３、データ線１０４、走査線１０５等が含ま
れる。
リクス型液晶表示装置の１画素部分を切り取って示した
断面図である。ＴＦＴ基板１０１の上に画素が形成され
ている。この画素は画素電極１０２とこれを駆動する薄
膜トランジスタ１０３等から構成されている。さらに薄
膜トランジスタ１０３に対して画像信号を供給する為の
データ線１０４と選択信号を供給する為の走査線１０５
も形成されている。このＴＦＴ基板１０１に対して所定
の間隙を介してＣＦ基板１０６が配置されている。ＣＦ
基板１０６の内面には対向電極１０８、ブラックマスク
１０９、カラーフィルタ１０７が形成されている。両基
板１０１，１０６の間には例えばツイストネマティック
配向された液晶層１１０が保持されている。ブラックマ
スク１０９には画素電極１０２に整合する開口１１４が
形成されている。即ち画素電極１０２上の有効表示領域
を露出させるとともに、非有効表示領域を入射光線から
遮閉する。この非有効表示領域には前述した薄膜トラン
ジスタ１０３、データ線１０４、走査線１０５等が含ま
れる。
【０００５】この様に、ブラックマスク１０９は有効表
示領域のみに入射光を照射して表示コントラストを改善
する為に用いられる。従って、画素電極１０２のパタン
とブラックマスク１０９のパタンは互いに精密に整合さ
せる必要がある。仮に、両者の間に位置ずれが生じる
と、ブラックマスク１０９の開口１１４が非有効表示領
域におよび、所謂光抜けが生じ表示コントラストが低下
する。一般に、両パタンの位置合わせ精度は、１インチ
程度の小型表示装置の場合、高精細化が進むと１μｍ程
度が要求される。しかしながら、ＴＦＴ基板１０１とＣ
Ｆ基板１０６の間にはワンオーダ程度の熱膨張率の相異
があり、セル組み立て前に予め位置合わせを行なって
も、加熱処理を加えた組み立て後では位置ずれが生じて
しまい、誤差は例えば２μｍ程度におよぶ。従って、何
ら対策を施さないと光抜けの問題が生じ表示コントラス
トが悪化するという課題がある。
示領域のみに入射光を照射して表示コントラストを改善
する為に用いられる。従って、画素電極１０２のパタン
とブラックマスク１０９のパタンは互いに精密に整合さ
せる必要がある。仮に、両者の間に位置ずれが生じる
と、ブラックマスク１０９の開口１１４が非有効表示領
域におよび、所謂光抜けが生じ表示コントラストが低下
する。一般に、両パタンの位置合わせ精度は、１インチ
程度の小型表示装置の場合、高精細化が進むと１μｍ程
度が要求される。しかしながら、ＴＦＴ基板１０１とＣ
Ｆ基板１０６の間にはワンオーダ程度の熱膨張率の相異
があり、セル組み立て前に予め位置合わせを行なって
も、加熱処理を加えた組み立て後では位置ずれが生じて
しまい、誤差は例えば２μｍ程度におよぶ。従って、何
ら対策を施さないと光抜けの問題が生じ表示コントラス
トが悪化するという課題がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した従来の技術の課
題を解決する為以下の手段を講じた。即ち、本発明にか
かる液晶表示装置は基本的に、互いに熱膨張率の異なる
一対の基板を所定の間隙を介して貼り合わせたセル構造
を有する。各基板の内表面には互いに整合する所定のパ
タンが設けられており、該間隙には液晶が保持されてい
る。本発明の特徴事項として両基板の熱膨張率の相異に
基いて、予め一方のパタン寸法を他方のパタン寸法に対
して調整的に設定している。具体的には、熱膨張率が大
きい方の基板に設けられたパタンを予め縮小的に形成す
る。あるいは逆に、熱膨張率が小さい方の基板に設けら
れたパタンを予め拡大的に形成しても良い。かかる構成
は、例えばアクティブマトリクス型の液晶表示装置に適
用できる。この場合、熱膨張率が大きい方の基板にはブ
ラックマスクパタンが形成されており、熱膨張率が小さ
い方の基板には画素電極パタンが形成されている。熱膨
張率が大きい方の基板はガラスからなり、熱膨張率が小
さい方の基板は石英からなる。
題を解決する為以下の手段を講じた。即ち、本発明にか
かる液晶表示装置は基本的に、互いに熱膨張率の異なる
一対の基板を所定の間隙を介して貼り合わせたセル構造
を有する。各基板の内表面には互いに整合する所定のパ
タンが設けられており、該間隙には液晶が保持されてい
る。本発明の特徴事項として両基板の熱膨張率の相異に
基いて、予め一方のパタン寸法を他方のパタン寸法に対
して調整的に設定している。具体的には、熱膨張率が大
きい方の基板に設けられたパタンを予め縮小的に形成す
る。あるいは逆に、熱膨張率が小さい方の基板に設けら
れたパタンを予め拡大的に形成しても良い。かかる構成
は、例えばアクティブマトリクス型の液晶表示装置に適
用できる。この場合、熱膨張率が大きい方の基板にはブ
ラックマスクパタンが形成されており、熱膨張率が小さ
い方の基板には画素電極パタンが形成されている。熱膨
張率が大きい方の基板はガラスからなり、熱膨張率が小
さい方の基板は石英からなる。
【０００７】
【作用】本発明においては、互いに貼り合わされる両基
板の熱膨張率の差を吸収する様に、予め一方のパタン寸
法を他方のパタン寸法対して調整的に設定している。従
って、貼り合わせ前の状態では両パタン間に所定のずれ
が含まれている。この状態で位置合わせを行なった後、
熱処理を加え両基板を貼り合わせると、熱膨張が生じ上
述した初期のずれを吸収する様に両基板が相対移動す
る。両パタンが整合した状態で一対の基板が固定され
る。例えば、熱膨張率が大きい方の基板に設けられたパ
タンを予め縮小的に形成すれば、加熱処理後当該基板が
他の基板に比べて相対的に熱膨張し最終的に精密なパタ
ン整合が得られる。
板の熱膨張率の差を吸収する様に、予め一方のパタン寸
法を他方のパタン寸法対して調整的に設定している。従
って、貼り合わせ前の状態では両パタン間に所定のずれ
が含まれている。この状態で位置合わせを行なった後、
熱処理を加え両基板を貼り合わせると、熱膨張が生じ上
述した初期のずれを吸収する様に両基板が相対移動す
る。両パタンが整合した状態で一対の基板が固定され
る。例えば、熱膨張率が大きい方の基板に設けられたパ
タンを予め縮小的に形成すれば、加熱処理後当該基板が
他の基板に比べて相対的に熱膨張し最終的に精密なパタ
ン整合が得られる。
【０００８】
【実施例】以下図面を参照して本発明の好適な実施例を
詳細に説明する。図１は本発明にかかる液晶表示装置の
一実施例を示す模式図である。（Ａ）に示す様に、本液
晶表示装置は互いに熱膨張率の異なる上下一対の基板
１，２を所定の間隙を介して貼り合わせたセル構造を有
する。本例では、両基板は熱硬化型接着剤からなるシー
ル材３により互いに接合されている。なお、これに代え
て紫外線硬化と熱硬化を併用した接着剤材料を用いても
良い。上側基板１は比較的大きな熱膨張率を有するガラ
ス材料等から構成されており、下側基板２は比較的小さ
な熱膨張率を有する石英材料等から構成されている。両
基板１，２の内表面には互いに整合する所定のパタン
４，５が夫々設けられている。両基板１，２の間隙内に
は液晶６が保持されている。かかるセル構造を有する液
晶表示装置の具体例としては、例えばアクティブマトリ
クス型を挙げる事ができる。この場合には、上側基板１
はＣＦ基板となり、上側パタン４にはブラックマスク等
が含まれる。一方、下側基板２はＴＦＴ基板となり下側
パタン５には画素電極等が含まれる。但し、本発明はア
クティブマトリクス型液晶表示装置に限られるものでは
なく、基本的に熱膨張率の異なる一対の基板を貼り合わ
せたセル構造を有し各基板の内表面には互いに整合する
所定のパタンが設けられていれば適用可能である。
詳細に説明する。図１は本発明にかかる液晶表示装置の
一実施例を示す模式図である。（Ａ）に示す様に、本液
晶表示装置は互いに熱膨張率の異なる上下一対の基板
１，２を所定の間隙を介して貼り合わせたセル構造を有
する。本例では、両基板は熱硬化型接着剤からなるシー
ル材３により互いに接合されている。なお、これに代え
て紫外線硬化と熱硬化を併用した接着剤材料を用いても
良い。上側基板１は比較的大きな熱膨張率を有するガラ
ス材料等から構成されており、下側基板２は比較的小さ
な熱膨張率を有する石英材料等から構成されている。両
基板１，２の内表面には互いに整合する所定のパタン
４，５が夫々設けられている。両基板１，２の間隙内に
は液晶６が保持されている。かかるセル構造を有する液
晶表示装置の具体例としては、例えばアクティブマトリ
クス型を挙げる事ができる。この場合には、上側基板１
はＣＦ基板となり、上側パタン４にはブラックマスク等
が含まれる。一方、下側基板２はＴＦＴ基板となり下側
パタン５には画素電極等が含まれる。但し、本発明はア
クティブマトリクス型液晶表示装置に限られるものでは
なく、基本的に熱膨張率の異なる一対の基板を貼り合わ
せたセル構造を有し各基板の内表面には互いに整合する
所定のパタンが設けられていれば適用可能である。
【０００９】（Ｂ）に示す様に、アクティブマトリクス
型液晶表示装置の場合、下側基板２は下側パタン５とし
てマトリクス状に配列した画素電極７を含む。この画素
電極７は予め設定された寸法通りに一定のピッチ及び一
定の面積で配列されている。一方（Ｃ）に示す様に、上
側基板１の表面には上側パタン４としてブラックマスク
８が形成されている。このブラックマスク８はマトリク
ス状に配列した開口９を有している。この開口９は予め
設定されたピッチ及び面積よりも縮小した寸法で形成さ
れている。即ち、個々の開口９は上側基板１の中心に向
って縮小的に集められたパタン形状となっている。
型液晶表示装置の場合、下側基板２は下側パタン５とし
てマトリクス状に配列した画素電極７を含む。この画素
電極７は予め設定された寸法通りに一定のピッチ及び一
定の面積で配列されている。一方（Ｃ）に示す様に、上
側基板１の表面には上側パタン４としてブラックマスク
８が形成されている。このブラックマスク８はマトリク
ス状に配列した開口９を有している。この開口９は予め
設定されたピッチ及び面積よりも縮小した寸法で形成さ
れている。即ち、個々の開口９は上側基板１の中心に向
って縮小的に集められたパタン形状となっている。
【００１０】次に、図２を参照して液晶表示装置のセル
組み立て方法を詳細に説明する。先ず工程Ａで少なくと
も一方の基板の周辺に沿ってシール材３を印刷塗布す
る。本例では、下側基板２の内表面にシール材３を適用
している。この段階では、既に上側基板１の内表面には
図１の（Ｃ）で示したパタン４が形成されている。同様
に、下側基板２の内表面にも図１の（Ｂ）で示したパタ
ン５が形成されている。次に工程Ｂで両基板１，２を互
いに位置合わせする。前述した様に、上側パタン４は下
側パタン５に比べて相対的に中心に向って縮小されてい
るので、両者は整合していない。両パタン４，５の対応
関係を補助線１０で示してある。次に工程Ｃで加圧加熱
処理を行ない、シール材３を硬化させて上下一対の基板
１，２を互いに貼り合わせる。図は加圧加熱状態にある
セルを示している。前述した様に、上側基板１は下側基
板２に比べて大きな熱膨張率を有している。従って、上
側基板１は中心から周辺に向って相対的に延伸する。こ
の結果、上側基板１の内表面に形成された上側パタン４
も相対的に延伸される。この結果、補助線１０で示す様
に、上側パタン４と下側パタン５は互いに精密に整合す
る。この整合状態を保持したままシール材３は硬化し、
両基板１，２は互いに接合固定される。最後に工程Ｄで
両基板１，２の間隙に液晶を封入する。この段階ではセ
ルは常温に保持されており、上側基板１は下側基板２に
対して相対的に収縮する。しかしながら、両基板１，２
は既にシール材３により強固に接合固定されている。こ
の結果、歪が発生しセルは若干変形する可能性もある
が、補助線１０で示す様に上下パタン４，５の整合関係
はそのまま保持される。
組み立て方法を詳細に説明する。先ず工程Ａで少なくと
も一方の基板の周辺に沿ってシール材３を印刷塗布す
る。本例では、下側基板２の内表面にシール材３を適用
している。この段階では、既に上側基板１の内表面には
図１の（Ｃ）で示したパタン４が形成されている。同様
に、下側基板２の内表面にも図１の（Ｂ）で示したパタ
ン５が形成されている。次に工程Ｂで両基板１，２を互
いに位置合わせする。前述した様に、上側パタン４は下
側パタン５に比べて相対的に中心に向って縮小されてい
るので、両者は整合していない。両パタン４，５の対応
関係を補助線１０で示してある。次に工程Ｃで加圧加熱
処理を行ない、シール材３を硬化させて上下一対の基板
１，２を互いに貼り合わせる。図は加圧加熱状態にある
セルを示している。前述した様に、上側基板１は下側基
板２に比べて大きな熱膨張率を有している。従って、上
側基板１は中心から周辺に向って相対的に延伸する。こ
の結果、上側基板１の内表面に形成された上側パタン４
も相対的に延伸される。この結果、補助線１０で示す様
に、上側パタン４と下側パタン５は互いに精密に整合す
る。この整合状態を保持したままシール材３は硬化し、
両基板１，２は互いに接合固定される。最後に工程Ｄで
両基板１，２の間隙に液晶を封入する。この段階ではセ
ルは常温に保持されており、上側基板１は下側基板２に
対して相対的に収縮する。しかしながら、両基板１，２
は既にシール材３により強固に接合固定されている。こ
の結果、歪が発生しセルは若干変形する可能性もある
が、補助線１０で示す様に上下パタン４，５の整合関係
はそのまま保持される。
【００１１】図３は、図１に示した液晶表示装置の他の
パタン設計例を示す模式図である。対応する部分には対
応する参照番号を付して理解を容易にしている。図１の
例と異なる点は、（Ａ）に示す様に上側基板１に形成さ
れた上側パタン４を設定値通りに形成する一方、（Ｂ）
に示す様に下側基板２の下側パタン５を予め中心から周
辺に向って拡大的に形成している事である。この様にす
れば、セル組み立ての段階で加圧加熱処理を施す事によ
り、上側基板１が下側基板２に比べて相対的に延伸し、
上側パタン４が拡大して最終的に下側パタン５と整合す
る様になる。
パタン設計例を示す模式図である。対応する部分には対
応する参照番号を付して理解を容易にしている。図１の
例と異なる点は、（Ａ）に示す様に上側基板１に形成さ
れた上側パタン４を設定値通りに形成する一方、（Ｂ）
に示す様に下側基板２の下側パタン５を予め中心から周
辺に向って拡大的に形成している事である。この様にす
れば、セル組み立ての段階で加圧加熱処理を施す事によ
り、上側基板１が下側基板２に比べて相対的に延伸し、
上側パタン４が拡大して最終的に下側パタン５と整合す
る様になる。
【００１２】最後に図４は、以上の様にして組み立てら
れたアクティブマトリクス型液晶表示装置の構造を示す
模式的な断面図である。図示する様に、下側基板２（Ｔ
ＦＴ基板）の上にマトリクス状に配列された画素１１が
形成されている。図では３個の画素のみが示されてい
る。この画素１１は画素電極７とこれを駆動する薄膜ト
ランジスタ１２等から構成されている。この下側基板２
に対して所定の間隙を介して上側基板１（ＣＦ基板）が
配置されている。上側基板１の内面にはブラックマスク
８、カラーフィルタ１３、対向電極１４が形成されてい
る。カラーフィルタ１３はＲＧＢ３原色のセグメントを
含んでいる。両基板１，２の間には例えばツイストネマ
ティック配向された液晶６が保持されている。ブラック
マスク８には画素電極１１に整合する開口９が形成され
ている。セル組み立てが終った段階では、個々の開口９
は対応する画素１１に対して精密に整合している。即
ち、開口９は画素電極７の有効表示領域を露出させると
ともに、非有効表示領域を入射光線から遮閉している。
この非有効表示領域にはＴＦＴ１２等が含まれる。ブラ
ックマスク８は開口９を介して有効表示領域のみに入射
光を照射し表示コントラストを改善する。本発明によれ
ば、個々の開口９は対応する画素電極７に対して精密に
整合している。従って、光漏れの惧れがなく高い表示コ
ントラストを維持する事が可能である。
れたアクティブマトリクス型液晶表示装置の構造を示す
模式的な断面図である。図示する様に、下側基板２（Ｔ
ＦＴ基板）の上にマトリクス状に配列された画素１１が
形成されている。図では３個の画素のみが示されてい
る。この画素１１は画素電極７とこれを駆動する薄膜ト
ランジスタ１２等から構成されている。この下側基板２
に対して所定の間隙を介して上側基板１（ＣＦ基板）が
配置されている。上側基板１の内面にはブラックマスク
８、カラーフィルタ１３、対向電極１４が形成されてい
る。カラーフィルタ１３はＲＧＢ３原色のセグメントを
含んでいる。両基板１，２の間には例えばツイストネマ
ティック配向された液晶６が保持されている。ブラック
マスク８には画素電極１１に整合する開口９が形成され
ている。セル組み立てが終った段階では、個々の開口９
は対応する画素１１に対して精密に整合している。即
ち、開口９は画素電極７の有効表示領域を露出させると
ともに、非有効表示領域を入射光線から遮閉している。
この非有効表示領域にはＴＦＴ１２等が含まれる。ブラ
ックマスク８は開口９を介して有効表示領域のみに入射
光を照射し表示コントラストを改善する。本発明によれ
ば、個々の開口９は対応する画素電極７に対して精密に
整合している。従って、光漏れの惧れがなく高い表示コ
ントラストを維持する事が可能である。
【００１３】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、互
いに熱膨張率の異なる一対の基板を所定の間隙を介して
貼り合わせたセル構造を有し、各基板の内表面には互い
に整合する所定のパタンが設けられており、該間隙には
液晶が保持されている液晶表示装置において、両基板の
熱膨張率の相異に基いて予め一方のパタン寸法を他方の
パタン寸法に対して調整的に設定している。かかる構成
により、貼り合わせ加工後における両パタンの位置ずれ
を防止する事ができるという効果がある。例えば、一方
のパタンをブラックマスクとし他方のパタンを画素電極
とした場合、両者は互いに精密に整合し光抜けを防止す
る事ができ高い表示コントラストを維持する事ができる
という効果がある。さらには、本発明によれば熱膨張率
の異なる基板を採用でき、基板材料選択範囲が拡大し液
晶表示装置の製造コスト低減化に寄与できるという効果
がある。
いに熱膨張率の異なる一対の基板を所定の間隙を介して
貼り合わせたセル構造を有し、各基板の内表面には互い
に整合する所定のパタンが設けられており、該間隙には
液晶が保持されている液晶表示装置において、両基板の
熱膨張率の相異に基いて予め一方のパタン寸法を他方の
パタン寸法に対して調整的に設定している。かかる構成
により、貼り合わせ加工後における両パタンの位置ずれ
を防止する事ができるという効果がある。例えば、一方
のパタンをブラックマスクとし他方のパタンを画素電極
とした場合、両者は互いに精密に整合し光抜けを防止す
る事ができ高い表示コントラストを維持する事ができる
という効果がある。さらには、本発明によれば熱膨張率
の異なる基板を採用でき、基板材料選択範囲が拡大し液
晶表示装置の製造コスト低減化に寄与できるという効果
がある。
【図１】本発明にかかる液晶表示装置の実施例を示す模
式図である。
式図である。
【図２】図１に示した液晶表示装置の製造工程図であ
る。
る。
【図３】図１に示した実施例の他のパタン例を示す模式
図である。
図である。
【図４】図１に示した実施例の詳細断面図である。
【図５】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置を
示す模式的な斜視図である。
示す模式的な斜視図である。
【図６】液晶表示装置の一般的な組み立て工程を示す説
明図である。
明図である。
【図７】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置の
部分拡大断面図である。
部分拡大断面図である。
１ 上側基板 ２ 下側基板 ３ シール材 ４ 上側パタン ５ 下側パタン ６ 液晶 ７ 画素電極 ８ ブラックマスク ９ 開口
Claims (5)
- 【請求項１】 互いに熱膨張率の異なる一対の基板を所
定の間隙を介して貼り合わせたセル構造を有し、各基板
の内表面には互いに整合する所定のパタンが設けられて
おり、該間隙には液晶が保持されている液晶表示装置に
おいて、 両基板の熱膨張率の相異に基いて、予め一方のパタン寸
法を他方のパタン寸法に対して調整的に設定した事を特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 熱膨張率が大きい方の基板に設けられた
パタンを予め縮小的に形成する事を特徴とする請求項１
記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】 熱膨張率が小さい方の基板に設けられた
パタンを予め拡大的に形成する事を特徴とする請求項１
記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 熱膨張率が大きい方の基板にはブラック
マスクパタンが形成されており、熱膨張率が小さい方の
基板には画素電極パタンが形成されている事を特徴とす
る請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 熱膨張率が大きい方の基板はガラスから
なり、熱膨張率が小さい方の基板は石英からなる事を特
徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139580A JPH06331971A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶表示装置 |
| KR1019940009879A KR100315373B1 (ko) | 1993-05-18 | 1994-05-06 | 액정표시장치 |
| US08/242,602 US6043858A (en) | 1993-05-18 | 1994-05-13 | Liquid crystal display device capable of improving pattern aligment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5139580A JPH06331971A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06331971A true JPH06331971A (ja) | 1994-12-02 |
Family
ID=15248573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5139580A Pending JPH06331971A (ja) | 1993-05-18 | 1993-05-18 | 液晶表示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6043858A (ja) |
| JP (1) | JPH06331971A (ja) |
| KR (1) | KR100315373B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10325961A (ja) * | 1994-03-17 | 1998-12-08 | Hitachi Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
| KR100324110B1 (ko) * | 1999-07-31 | 2002-02-16 | 구본준, 론 위라하디락사 | 액정표시소자의 얼라인패턴 |
| JP4274249B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2009-06-03 | エプソンイメージングデバイス株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| CN102707474B (zh) * | 2012-05-11 | 2013-07-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种弯曲液晶显示屏及其制造方法和设备 |
| CN103984155B (zh) * | 2014-04-30 | 2017-09-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种曲面显示装置及其制作方法 |
| CN116532869B (zh) * | 2023-04-27 | 2026-01-30 | 苏州密卡特诺精密机械有限公司 | 一种压焊夹具尺寸的设计方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5583025A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of image display panel |
| JPS57191617A (en) * | 1981-05-22 | 1982-11-25 | Citizen Watch Co Ltd | Liquid crystal cell and its production |
| US4526818A (en) * | 1982-12-23 | 1985-07-02 | Epson Corporation | Liquid crystal display panel and process for the production thereof |
| JPS59119317A (ja) * | 1982-12-27 | 1984-07-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示体の製造方法 |
| JPH01200328A (ja) * | 1988-02-05 | 1989-08-11 | Seiko Epson Corp | 液晶表示装置の製造方法 |
| JPH02304527A (ja) * | 1989-05-19 | 1990-12-18 | Seiko Epson Corp | オーバーヘッドプロジェクター用液晶表示装置および曲面パネルの製造方法 |
| JPH04143733A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Pioneer Electron Corp | 光導電型液晶ライトバルブ |
| JP2809522B2 (ja) * | 1991-03-18 | 1998-10-08 | アルプス電気株式会社 | 液晶表示素子とフレキシブル基板の接続方法 |
| JPH05346579A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Olympus Optical Co Ltd | 画像表示素子 |
-
1993
- 1993-05-18 JP JP5139580A patent/JPH06331971A/ja active Pending
-
1994
- 1994-05-06 KR KR1019940009879A patent/KR100315373B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1994-05-13 US US08/242,602 patent/US6043858A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6043858A (en) | 2000-03-28 |
| KR100315373B1 (ko) | 2002-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4344725B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| KR100356603B1 (ko) | 액정표시장치 | |
| JP3239632B2 (ja) | カラーマトリクス表示パネル及びその製造方法 | |
| JP4987422B2 (ja) | 表示装置、及びその製造方法 | |
| JPH06331971A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH1039318A (ja) | 液晶表示素子 | |
| JP3859184B2 (ja) | カラー液晶パネル及びその製造方法 | |
| CN212647205U (zh) | 显示装置 | |
| JP2002107735A (ja) | 液晶表示パネルおよびその製造方法 | |
| JP2001222234A (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
| JP2001264723A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法並びに投射型表示装置 | |
| JP3915425B2 (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法および電子機器 | |
| KR100906410B1 (ko) | 블랙 씰 패턴과 그 둘레에 외곽 수지패턴을 형성한 액정표시 장치 | |
| JPH08313920A (ja) | カラー液晶装置の製造方法 | |
| WO2011080968A1 (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JP2002182242A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| KR100532261B1 (ko) | 액정 디스플레이 장치의 제조 방법 | |
| KR100566457B1 (ko) | 다양한 크기의 유리기판에 적용되는 포토 마스크 및 이를이용한 액정표시패널의 제조방법 | |
| KR20050046163A (ko) | 액정표시패널 및 그 제조방법 | |
| KR100759973B1 (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| KR100921898B1 (ko) | 액정표시장치 제조방법 | |
| JP2002357843A (ja) | 液晶表示パネル | |
| JPS61112128A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JPH08184816A (ja) | マイクロレンズアレイの付いた液晶パネル | |
| JP2005215610A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 |