JPH06334311A - 回路体の製造方法 - Google Patents

回路体の製造方法

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JPH06334311A
JPH06334311A JP11574793A JP11574793A JPH06334311A JP H06334311 A JPH06334311 A JP H06334311A JP 11574793 A JP11574793 A JP 11574793A JP 11574793 A JP11574793 A JP 11574793A JP H06334311 A JPH06334311 A JP H06334311A
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JP
Japan
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current circuit
etching
resist
conductive layer
plating
Prior art date
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JP11574793A
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English (en)
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Takeshi Oshima
毅 大島
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Yazaki Corp
Original Assignee
Yazaki Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回路基板に厚みの異なる大電流回路と小電流
回路とを効率的に形成させ得る回路体の製造方法を提供
する。 【構成】 基板1表面に形成された導電層上に大電流回
路予定部を除きメッキレジストを被着させ、導電層上の
大電流回路予定部に高速電解メッキを積層させ、高速電
解メッキ上に第一エッチングレジスト7を被着させ、メ
ッキレジストをエッチングにより剥離して導電層を露出
させ、導電層上の小電流回路予定部に第二エッチングレ
ジストを被着させ、導電層を第二エッチングレジストと
第一エッチングレジストとに被着された部位を除いてエ
ッチングにより剥離させて、膜厚の異なる大電流回路1
0と小電流回路11とを形成させる。前記エッチングレ
ジストとして電解ハンダメッキを使用してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、回路基板に厚みの異な
る大電流回路と小電流回路とを形成させる回路体の製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図11〜13は、特開昭60−1821
88号公報に記載された従来の回路体の製造方法を示す
ものである。この製造方法は、絶縁基板15の表面に予
め形成された銅箔層を図11の如く回路部16,17を
除いてエッチングにより剥離させ、信号用の小電流回路
17はそのままにして電源用の大電流回路16に遮蔽板
18を被着させ、該絶縁基板15上に図12の如くエポ
キシ絶縁樹脂19を充填して該小電流回路17を該絶縁
樹脂19で埋没させた後に該遮蔽板18を外し、該大電
流回路16上に無電解メッキ20を施して大電流回路1
6を厚膜化させ、最後に該絶縁樹脂19を取り除いて図
13の如く薄膜の小電流回路17と厚膜の大電流回路1
6′とを有する回路体21を完成させるものである。
【0003】しかしながら、上記従来の製造方法にあっ
ては、各種回路体21の大電流回路パターンに合う形状
の遮蔽板18を一々作製しなければならず、遮蔽板18
の汎用性に乏しく生産効率が悪いという問題や、無電解
メッキ20の析出速度が0.1μm/min 程度と遅いた
め、大電流回路16を厚膜化させるのに多くの時間を要
するという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した点
に鑑み、遮蔽板を用いることなく、厚膜の大電流回路と
薄膜の小電流回路とを効率的に形成することのできる回
路体の製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板表面に形成された導電層上に大電流
回路予定部を除きメッキレジストを被着させ、該導電層
上の該大電流回路予定部に高速電解メッキを積層させ、
該高速電解メッキ上に第一エッチングレジストを被着さ
せ、該メッキレジストをエッチングにより剥離して該導
電層を露出させ、該導電層上の小電流回路予定部に第二
エッチングレジストを被着させ、該導電層を該第二エッ
チングレジストと該第一エッチングレジストとに被着さ
れた部位を除いてエッチングにより剥離させて、膜厚の
異なる大電流回路と小電流回路とを形成させる回路体の
製造方法を基本を特徴とする。
【0006】
【作用】導電層上にメッキレジストを被着させて大電流
回路予定部が溝状にパターン形成される。そしてこの溝
内に高速電解メッキが施されて大電流回路がパターン化
される。該高速電解メッキ上に被着された第一エッチン
グレジストはメッキレジストのエッチングの際に高速電
解メッキを保護する。そして導電層のエッチングにより
導電層上の第二エッチングレジストのパターン形状に薄
膜の小電流回路が形成されると共に、高速電解メッキ下
側の導電層が残存されて厚膜の大電流回路が形成され
る。
【0007】
【実施例】図1〜10は本発明に係る回路体の製造方法
の一実施例を示すものである。この製造方法は、先ず図
1の如くガラスエポキシ樹脂等の絶縁基板1の表面に導
電層としての銅箔(35 〜70μm)2を貼着させ、図2の如
く電源回路用等の大電流回路予定部3を除き該銅箔2上
にUV硬化型レジスト剤等のメッキレジスト層4を印刷
により被着させる。該大電流回路予定部3はメッキレジ
スト層4内に溝状にパターン形成される。
【0008】次いで図3の如く該大電流回路予定部3す
なわち銅箔露出部上に高速電解メッキ5を施し積層させ
る。該高速電解メッキ5は図9の如く予め基板1上に電
極6を形成させておき、陰極と陽極との間に10〜80A/
dm2 の電流密度で通電し、10μm/min 程度の高速で金属
導体(Cu)を析出させるものである。
【0009】図4の如く該電解メッキ5上には第一のエ
ッチングレジストとしてのハンダメッキ7を施す。該ハ
ンダメッキ7は電解メッキにより2 〜3 μm 厚を数秒で
析出させ得る。そして図5の如くアルカリ液等を用いて
メッキレジスト層4をエッチングし剥離させる。電解メ
ッキ5はハンダメッキ7によりエッチングの影響を受け
ない。
【0010】さらに図6の如く露出した銅箔2上の信号
回路用等の小電流回路予定部8に第二のエッチングレジ
スト9を印刷等によりパターン形成させる。該第二のエ
ッチングレジスト9として上記第一のエッチングレジス
ト7と同様のハンダメッキを用いてもよい。なおエッチ
ングレジスト7,9を印刷するよりもハンダを電解メッ
キで付着させる方が工程が容易で印刷ムラもなくむしろ
好ましい。
【0011】そして図7の如くエッチングレジスト(ハ
ンダメッキ)7,9を被着させた部位を除いて銅箔2を
エッチングにより剥離させる。その結果、絶縁基板1上
に厚膜の大電流回路10と薄膜の小電流回路11とが形
成される。最後に図8の如くエッチングレジスト9を除
去し、回路10,11表面にUV硬化型レジスト等の図
示しない絶縁コーティングをスプレー等により被着さ
せ、前述の電極部6′を切り離して図10のような膜厚
の異なる二種の回路10,11を有する回路体12を得
る。
【0012】
【発明の効果】以上の如くに、本発明によれば、銅箔等
の導電層上に高速電解メッキにより大電流回路を形成さ
せ得るから、従来の無電解メッキに較べて製造時間が大
幅に短縮される。また汎用性に乏しい遮蔽板が不要であ
るから種類の異なる回路体の生産効率がアップする。さ
らに大電流回路をパターン形成した後で該導電層をエッ
チングにより剥離させて小電流回路を残存形成させるか
ら、回路設計の自由度が拡がる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の回路体の製造方法において絶縁基板に
銅箔を貼着した状態を示す縦断面図である。
【図2】同じく銅箔上に大電流回路予定部を除きメッキ
レジストを被着させた状態を示す縦断面図である。
【図3】同じく大電流回路予定部に電解メッキを鍍着さ
せた状態を示す縦断面図である。
【図4】同じく電解メッキ上にエッチングレジストを被
着させた状態を示す縦断面図である。
【図5】同じくメッキレジストを剥離させた状態を示す
縦断面図である。
【図6】同じく銅箔上の小電流回路予定部にエッチング
レジストを被着させた状態を示す縦断面図である。
【図7】同じく銅箔を剥離させて大電流回路と小電流回
路とを形成させた状態を示す縦断面図である。
【図8】回路上のエッチングレジストを剥離させた状態
を示す縦断面図である。
【図9】前記大電流回路を形成する電解メッキ用の電極
を形成した状態を示す平面図である。
【図10】完成した回路体を示す斜視図である。
【図11】従来の製造方法において回路上に遮蔽板を被
着させる状態を示す分解斜視図である。
【図12】同じく基板上に絶縁樹脂を充填して遮蔽板を
取り外した状態を示す分解斜視図である。
【図13】同じく無電解メッキにより大電流回路を厚膜
化させた状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板 2 銅箔 3 大電流回路予定部 4 メッキレジスト 5 高速電解メッキ 7,9 エッチングレジスト 8 小電流回路予定部 10 大電流回路 11 小電流回路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板表面に形成された導電層上に大電流
    回路予定部を除きメッキレジストを被着させ、該導電層
    上の該大電流回路予定部に高速電解メッキを積層させ、
    該高速電解メッキ上に第一エッチングレジストを被着さ
    せ、該メッキレジストをエッチングにより剥離して該導
    電層を露出させ、該導電層上の小電流回路予定部に第二
    エッチングレジストを被着させ、該導電層を該第二エッ
    チングレジストと該第一エッチングレジストとに被着さ
    れた部位を除いてエッチングにより剥離させて、膜厚の
    異なる大電流回路と小電流回路とを形成させることを特
    徴とする回路体の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記エッチングレジストとして電解ハン
    ダメッキを使用した請求項1記載の回路体の製造方法。
JP11574793A 1993-05-18 1993-05-18 回路体の製造方法 Withdrawn JPH06334311A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002246714A (ja) * 2001-02-21 2002-08-30 Kyocera Corp セラミック回路基板
JP2002246713A (ja) * 2001-02-21 2002-08-30 Kyocera Corp セラミック回路基板
JP2010056576A (ja) * 2009-12-07 2010-03-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 配線基板及びその製造方法
US7714232B2 (en) 2004-02-24 2010-05-11 Sanyo Electric Co., Ltd. Circuit device and method of manufacturing the same
CN110650587A (zh) * 2018-06-26 2020-01-03 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 柔性线路板及所述柔性线路板的制作方法

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