JPH06339620A - ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法 - Google Patents
ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法Info
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- JPH06339620A JPH06339620A JP29807593A JP29807593A JPH06339620A JP H06339620 A JPH06339620 A JP H06339620A JP 29807593 A JP29807593 A JP 29807593A JP 29807593 A JP29807593 A JP 29807593A JP H06339620 A JPH06339620 A JP H06339620A
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- polysulfone
- membrane
- semipermeable membrane
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和溶解
した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしく
は膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造し
たポリスルホン系樹脂半透膜に，放射線処理を施すこと
により、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポ
リスルホン系樹脂半透膜の処理方法。 【効果】本発明の処理を行なえば、ブレンドした親水性
高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜を得る
ことができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけで透水
性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドライ膜と
しての用途に容易に展開できる。また、この効果はほぼ
永久的に持続される。
した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒もしく
は膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製造し
たポリスルホン系樹脂半透膜に，放射線処理を施すこと
により、該親水性高分子を架橋することを特徴とするポ
リスルホン系樹脂半透膜の処理方法。 【効果】本発明の処理を行なえば、ブレンドした親水性
高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜を得る
ことができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけで透水
性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドライ膜と
しての用途に容易に展開できる。また、この効果はほぼ
永久的に持続される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリスルホン系樹脂半
透膜の処理方法に関する。
透膜の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半透膜の素材としては、セルロー
スアセテート・ポリアクリロニトリル・ポリメタクリル
酸メチル・ポリアミド等多くの高分子化合物が用いられ
てきた。一方、ポリスルホン系樹脂は、元来エンジニア
リングプラスチックスとして使用されてきたが、その耐
熱安定性、耐酸・耐アルカリ性、そして生体適合性、耐
汚染性が良好であることから、半透膜素材として注目さ
れている。
スアセテート・ポリアクリロニトリル・ポリメタクリル
酸メチル・ポリアミド等多くの高分子化合物が用いられ
てきた。一方、ポリスルホン系樹脂は、元来エンジニア
リングプラスチックスとして使用されてきたが、その耐
熱安定性、耐酸・耐アルカリ性、そして生体適合性、耐
汚染性が良好であることから、半透膜素材として注目さ
れている。
【０００３】ポリスルホン系樹脂を用いた半透膜を得る
方法として従来より例えば、ジャーナル・オブ・アプラ
イド・ポリマー・サイエンス（20巻、2377〜2394頁、19
76年）及び、（同21巻、1883〜1900頁、1977年）、特開
昭５８−１０４９４０号公報等が提案されている。しか
し該樹脂は、分子間凝集力が強すぎて、表面の孔や貫通
すべき内部の孔を閉塞してしまうため孔形成の制御が困
難となる。このため、分画分子量が１０万以下と小さく
かつ透水性も小さいものしか得られていない。一方、近
年、ポリスルホン系樹脂を用いた膜で、表面に大きな孔
をあける試みとして、次のような手段が提案されてい
る。
方法として従来より例えば、ジャーナル・オブ・アプラ
イド・ポリマー・サイエンス（20巻、2377〜2394頁、19
76年）及び、（同21巻、1883〜1900頁、1977年）、特開
昭５８−１０４９４０号公報等が提案されている。しか
し該樹脂は、分子間凝集力が強すぎて、表面の孔や貫通
すべき内部の孔を閉塞してしまうため孔形成の制御が困
難となる。このため、分画分子量が１０万以下と小さく
かつ透水性も小さいものしか得られていない。一方、近
年、ポリスルホン系樹脂を用いた膜で、表面に大きな孔
をあける試みとして、次のような手段が提案されてい
る。
【０００４】 異種ポリマー間のミクロ相分離を利用
する方法。（特公昭４８−１７６号公報、特開昭５４−
１４４４５６号公報、同５７−５０５０６号公報、同５
７−５０５０７号公報、同５７−５０５０８号公報） 製膜後、抽出・溶出操作を有する方法。（特開昭５
４−２６２８３号公報、同５７−３５９０６号公報、同
５８−９１８２２号公報） 製膜原液の準安定液体分散状態で製膜する方法。
（特開昭５６−１５４０５１号公報、同５９−５８０４
１号公報、同５９−１８３７６１号公報、同５９−１８
９９０３号公報） 紡糸時に工夫をこらす方法（特開昭５９−２２８０
１６号公報） しかし、の方法ではポリマー間の凝固速度の違いを利
用しているのみで、分画分子量１０万以上の大きな孔を
得るに至っていない。その上、大量にブレンドするた
め、ポリスルホン系樹脂の本来の良好な性能が失われや
すい。
する方法。（特公昭４８−１７６号公報、特開昭５４−
１４４４５６号公報、同５７−５０５０６号公報、同５
７−５０５０７号公報、同５７−５０５０８号公報） 製膜後、抽出・溶出操作を有する方法。（特開昭５
４−２６２８３号公報、同５７−３５９０６号公報、同
５８−９１８２２号公報） 製膜原液の準安定液体分散状態で製膜する方法。
（特開昭５６−１５４０５１号公報、同５９−５８０４
１号公報、同５９−１８３７６１号公報、同５９−１８
９９０３号公報） 紡糸時に工夫をこらす方法（特開昭５９−２２８０
１６号公報） しかし、の方法ではポリマー間の凝固速度の違いを利
用しているのみで、分画分子量１０万以上の大きな孔を
得るに至っていない。その上、大量にブレンドするた
め、ポリスルホン系樹脂の本来の良好な性能が失われや
すい。
【０００５】また、の方法は、ブレンドポリマーの抽
出と無機顆粒を溶出する大きく２つの方法に分類され
る。前者においては、ポリエチレングリコール、ポリビ
ニルピロリドンが主たるポリマーであるが、十分な孔径
を得ることや抽出操作が困難であった。後者の例では、
前記特開昭５８−９１８２２号公報で、シリカパウダー
を混入して製膜後、アルカリを用いて溶出させ、０．０
５μm 以上の大きな孔をあけるのに成功しているが、こ
の製造方法では同一製膜原液から他の孔径分布をとる膜
を製造することはできない。
出と無機顆粒を溶出する大きく２つの方法に分類され
る。前者においては、ポリエチレングリコール、ポリビ
ニルピロリドンが主たるポリマーであるが、十分な孔径
を得ることや抽出操作が困難であった。後者の例では、
前記特開昭５８−９１８２２号公報で、シリカパウダー
を混入して製膜後、アルカリを用いて溶出させ、０．０
５μm 以上の大きな孔をあけるのに成功しているが、こ
の製造方法では同一製膜原液から他の孔径分布をとる膜
を製造することはできない。
【０００６】の方法は製膜原液にポリスルホン系樹脂
の非溶媒もしくは膨潤剤を大量に混合し、該製膜原液が
相分離する直前のところで製膜するものである。かかる
方法では、凝固浴の温度効果を有利に利用できない欠点
がある。
の非溶媒もしくは膨潤剤を大量に混合し、該製膜原液が
相分離する直前のところで製膜するものである。かかる
方法では、凝固浴の温度効果を有利に利用できない欠点
がある。
【０００７】の方法は、製膜時に高湿度の風を吹きつ
けることで、該表面での孔径拡大を実現しているが、該
方法では片面にしかその効果はなく、特に中空糸膜に至
っては、分画分子量は小さい範囲のものしか得られな
い。
けることで、該表面での孔径拡大を実現しているが、該
方法では片面にしかその効果はなく、特に中空糸膜に至
っては、分画分子量は小さい範囲のものしか得られな
い。
【０００８】特に，ポリビニルピロリドン，ポリエチレ
ングリコール，ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマ
ーをブレンドした半透膜は，該水溶性ポリマーの溶出問
題や，該水溶性ポリマーの膨潤層のため，透水性能が低
いものしかできない欠点を有していた。
ングリコール，ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマ
ーをブレンドした半透膜は，該水溶性ポリマーの溶出問
題や，該水溶性ポリマーの膨潤層のため，透水性能が低
いものしかできない欠点を有していた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記欠
点を解析し、鋭意検討した結果本発明に到達した。特
に、ブレンドポリマーの溶出がなく，透水性能の極めて
高い半透膜を得るための、ポリスルホン系樹脂半透膜の
処理方法を提供することを目的とする。
点を解析し、鋭意検討した結果本発明に到達した。特
に、ブレンドポリマーの溶出がなく，透水性能の極めて
高い半透膜を得るための、ポリスルホン系樹脂半透膜の
処理方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は次の構成を有す
る。すなわち、「ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を
混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶
媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液とし
て製造したポリスルホン系樹脂半透膜に，放射線処理を
施すことにより該親水性高分子を架橋することを特徴と
するポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。」本発明に
おいてポリスルホン系樹脂半透膜を製造するために用い
る製膜原液は、基本的にはポリスルホン系樹脂（Ｉ）、
親水性高分子（II）、溶媒（III ）および添加剤（IV）
からなる４成分系で構成される。ここで言うポリスルホ
ン系樹脂（Ｉ）は、通常式（１）、または式（２）
る。すなわち、「ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を
混和溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶
媒もしくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液とし
て製造したポリスルホン系樹脂半透膜に，放射線処理を
施すことにより該親水性高分子を架橋することを特徴と
するポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。」本発明に
おいてポリスルホン系樹脂半透膜を製造するために用い
る製膜原液は、基本的にはポリスルホン系樹脂（Ｉ）、
親水性高分子（II）、溶媒（III ）および添加剤（IV）
からなる４成分系で構成される。ここで言うポリスルホ
ン系樹脂（Ｉ）は、通常式（１）、または式（２）
【化１】 の繰り返し単位からなるものであるが、官能基を含んで
いたり、アルキル系のものであってもよく、特に限定す
るものではない。
いたり、アルキル系のものであってもよく、特に限定す
るものではない。
【００１１】親水性高分子（II）は、ポリスルホン系樹
脂（Ｉ）と相溶性があり、かつ親水性を持つ高分子であ
る。ポリビニルピロリドンが一番良く、他に変性ポリビ
ニルピロリドン、共重合ポリビニルピロリドン、ポリ酢
酸ビニル、ポリエチレングリコール等が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
脂（Ｉ）と相溶性があり、かつ親水性を持つ高分子であ
る。ポリビニルピロリドンが一番良く、他に変性ポリビ
ニルピロリドン、共重合ポリビニルピロリドン、ポリ酢
酸ビニル、ポリエチレングリコール等が挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【００１２】溶媒（III ）は、ポリスルホン系樹脂
（Ｉ）及び親水性高分子（II）を共に溶解する溶媒であ
る。ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジ
オキサン等多種の溶媒が用いられるが、特にジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが望ましい。
（Ｉ）及び親水性高分子（II）を共に溶解する溶媒であ
る。ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジ
オキサン等多種の溶媒が用いられるが、特にジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンが望ましい。
【００１３】添加剤（IV）は、溶媒（III ）と相溶性を
持ち、親水性高分子（II）の良溶媒となり、かつ、ポリ
スルホン系樹脂（Ｉ）の非溶媒又は膨潤剤となるもので
あれば何でも良く、例えば、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ヘキサノール、１，４−ブタン
ジオール等がある。生産コストを考えると水が最も望ま
しい。添加剤（IV）は、ポリスルホン系樹脂（Ｉ）に対
する凝固性を考え合わせた上で選択すれば良い。
持ち、親水性高分子（II）の良溶媒となり、かつ、ポリ
スルホン系樹脂（Ｉ）の非溶媒又は膨潤剤となるもので
あれば何でも良く、例えば、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ヘキサノール、１，４−ブタン
ジオール等がある。生産コストを考えると水が最も望ま
しい。添加剤（IV）は、ポリスルホン系樹脂（Ｉ）に対
する凝固性を考え合わせた上で選択すれば良い。
【００１４】これらのおのおのの組合せは任意であり、
上記の性質をもつ組合せを考えるのは、同業者にとって
容易なことである。また、溶媒（III ）・添加剤（IV）
は、２種類以上の化合物の混合系でも良い。
上記の性質をもつ組合せを考えるのは、同業者にとって
容易なことである。また、溶媒（III ）・添加剤（IV）
は、２種類以上の化合物の混合系でも良い。
【００１５】該製膜原液の組成として、ポリスルホン系
樹脂（Ｉ）は、製膜可能でかつ膜としての特性を有する
濃度範囲であれば良く、５〜５０重量％である。高い透
水性、大きな分画分子量を得るためにはポリマー濃度は
下げるべきで、この場合望ましくは５〜２０重量％であ
る。５重量％未満では、製膜原液の十分な粘度を得るこ
とができず、膜を形成できなくなる。また、５０重量％
を越えると貫通孔を形成しにくくなる。親水性高分子
（II）は、特にポリビニルピロリドンの場合、分子量３
６万、１６万、４万、１万のものが市販されており、こ
れを使うのが便利であるが、もちろんそれ以外の分子量
のものを使用してもかまわない。ただし、親水性高分子
（II）の添加の理由の１つとして増粘効果もあるため、
添加量は高分子量のものを用いるほど少量で良く、製膜
性を向上できる。ポリビニルピロリドンの添加量は、１
〜２０重量％、特に３〜１０重量％が望ましいが、用い
るポリビニルピロリドンの分子量に左右される。一般に
添加量が少なすぎる場合、分子量が低すぎると製膜性が
悪く、またポリマー濃度が高く、ポリマー分子量が大き
すぎると、製膜後の洗浄が困難となる。それ故、分子量
の異なるものを混合して役割分担して用いるのも一つの
方法となる。
樹脂（Ｉ）は、製膜可能でかつ膜としての特性を有する
濃度範囲であれば良く、５〜５０重量％である。高い透
水性、大きな分画分子量を得るためにはポリマー濃度は
下げるべきで、この場合望ましくは５〜２０重量％であ
る。５重量％未満では、製膜原液の十分な粘度を得るこ
とができず、膜を形成できなくなる。また、５０重量％
を越えると貫通孔を形成しにくくなる。親水性高分子
（II）は、特にポリビニルピロリドンの場合、分子量３
６万、１６万、４万、１万のものが市販されており、こ
れを使うのが便利であるが、もちろんそれ以外の分子量
のものを使用してもかまわない。ただし、親水性高分子
（II）の添加の理由の１つとして増粘効果もあるため、
添加量は高分子量のものを用いるほど少量で良く、製膜
性を向上できる。ポリビニルピロリドンの添加量は、１
〜２０重量％、特に３〜１０重量％が望ましいが、用い
るポリビニルピロリドンの分子量に左右される。一般に
添加量が少なすぎる場合、分子量が低すぎると製膜性が
悪く、またポリマー濃度が高く、ポリマー分子量が大き
すぎると、製膜後の洗浄が困難となる。それ故、分子量
の異なるものを混合して役割分担して用いるのも一つの
方法となる。
【００１６】以上２つの高分子を溶媒（III ）に混合溶
解する。ここへ、添加剤（IV）を添加するが、特に水の
場合、ポリスルホン系樹脂にとって凝固性が高いため、
１５重量％以下、好ましくは１〜１２重量％、特に１〜
５重量％が望ましい。凝固性が小さな添加剤を用いると
きは添加量が多くなることは容易に推測される。本発明
では、この第４成分が、添加されるため、親水性高分子
の量を少なくすることができる。
解する。ここへ、添加剤（IV）を添加するが、特に水の
場合、ポリスルホン系樹脂にとって凝固性が高いため、
１５重量％以下、好ましくは１〜１２重量％、特に１〜
５重量％が望ましい。凝固性が小さな添加剤を用いると
きは添加量が多くなることは容易に推測される。本発明
では、この第４成分が、添加されるため、親水性高分子
の量を少なくすることができる。
【００１７】以上の条件のもとでポリスルホン系樹脂半
透膜が得られる。製膜操作は、公知技術を用いれば良
い。平膜については、該製膜原液を平坦な基板上に流展
し、その後凝固浴中に浸漬する。中空糸膜については、
中空形態を保つため、注入液を用いる。注入液は、製膜
原液に対して凝固性の高いものより、低いものを用いた
方が紡糸安定性は良いが、凝固浴温度・相分離温度・口
金温度との相関で中空糸膜内壁の平滑性が変化するの
で、適宜最良組成を決めれば良い。ポリスルホン系樹脂
に不活性なデカン・オクタン・ウンデカン等の炭化水素
を用いても良い。また気体を注入して中空形態を保持さ
せてもよい。乾式長は０．１〜２０cmであり、特に０．
５〜５cmが紡糸安定性も良く、さらに望ましい。同一組
成、同一条件で製膜した場合、中空糸膜より平膜の方が
表面に開孔する孔の直径は大きくなる傾向がある。
透膜が得られる。製膜操作は、公知技術を用いれば良
い。平膜については、該製膜原液を平坦な基板上に流展
し、その後凝固浴中に浸漬する。中空糸膜については、
中空形態を保つため、注入液を用いる。注入液は、製膜
原液に対して凝固性の高いものより、低いものを用いた
方が紡糸安定性は良いが、凝固浴温度・相分離温度・口
金温度との相関で中空糸膜内壁の平滑性が変化するの
で、適宜最良組成を決めれば良い。ポリスルホン系樹脂
に不活性なデカン・オクタン・ウンデカン等の炭化水素
を用いても良い。また気体を注入して中空形態を保持さ
せてもよい。乾式長は０．１〜２０cmであり、特に０．
５〜５cmが紡糸安定性も良く、さらに望ましい。同一組
成、同一条件で製膜した場合、中空糸膜より平膜の方が
表面に開孔する孔の直径は大きくなる傾向がある。
【００１８】かかる方法で得たポリスルホン系樹脂半透
膜は、膜中に親水性高分子を残存させることによって、
水濡れ性を改善することができる。しかし残存親水性高
分子が水溶性の場合、該親水性高分子の溶出が避けられ
ず，かつ，また，孔径の割りに高い透水性を得難いとい
う欠点を有している。本発明は，この欠点を十二分に補
うもので，まず得られた該ポリスルホン系半透膜をポリ
スルホン系樹脂が，変型，変質，または実用不能になら
ない程度の放射線を照射することで、架橋による親水性
高分子の水不溶化処理をするものである。該ポリスルホ
ン系樹脂半透膜は、平膜，中空糸膜を問わずかかる処理
を行なえる形態であれば，いかなる形態を有していても
かまわない。また，ここでいう放射線処理とは，α線，
β線，γ線，Ｘ線，電子線があげられるが，物質浸透性
の観点から，γ線が最も望ましい。
膜は、膜中に親水性高分子を残存させることによって、
水濡れ性を改善することができる。しかし残存親水性高
分子が水溶性の場合、該親水性高分子の溶出が避けられ
ず，かつ，また，孔径の割りに高い透水性を得難いとい
う欠点を有している。本発明は，この欠点を十二分に補
うもので，まず得られた該ポリスルホン系半透膜をポリ
スルホン系樹脂が，変型，変質，または実用不能になら
ない程度の放射線を照射することで、架橋による親水性
高分子の水不溶化処理をするものである。該ポリスルホ
ン系樹脂半透膜は、平膜，中空糸膜を問わずかかる処理
を行なえる形態であれば，いかなる形態を有していても
かまわない。また，ここでいう放射線処理とは，α線，
β線，γ線，Ｘ線，電子線があげられるが，物質浸透性
の観点から，γ線が最も望ましい。
【００１９】放射線処理で特にγ線処理については，該
半透膜が水に濡れた状態でγ線照射するのが最も好まし
い。線量としては，０．５Ｍｒａｄから５０Ｍｒａｄが
好ましく，特に該半透膜の機械的特性保持の観点から，
０．５Ｍｒａｄから１０Ｍｒａｄが好ましい。
半透膜が水に濡れた状態でγ線照射するのが最も好まし
い。線量としては，０．５Ｍｒａｄから５０Ｍｒａｄが
好ましく，特に該半透膜の機械的特性保持の観点から，
０．５Ｍｒａｄから１０Ｍｒａｄが好ましい。
【００２０】なお、本発明のポリスルホン系樹脂半透膜
について、人工臓器基準溶出物試験法に基づき、以下の
評価を行なった。
について、人工臓器基準溶出物試験法に基づき、以下の
評価を行なった。
【００２１】膜０．５ｇを７０℃温水５０ccで１時間加
熱した溶液は、波長３５０〜２２０μm におけるＵＶ吸
収が０．１以下、０．０１ＮKMnO4 水溶液の消費量１．
０ml以下を示し、該試験に合格することができる。
熱した溶液は、波長３５０〜２２０μm におけるＵＶ吸
収が０．１以下、０．０１ＮKMnO4 水溶液の消費量１．
０ml以下を示し、該試験に合格することができる。
【００２２】
【実施例】以下の実施例によって本発明をさらに詳細に
説明する。
説明する。
【００２３】以下、用いた測定法は次のとおりである。
【００２４】透水性 中空糸膜の場合は、両端に環流液用の孔を備えたガラス
製のケースに該中空糸膜を挿入し、市販のポッティング
剤を用いて小型モジュールを作製し、３７℃に保って中
空糸内側に水圧をかけ膜を通して外側へ透過する一定時
間の水の量と有効膜面積および膜間圧力差から算出する
方法で透水性能を測定した。
製のケースに該中空糸膜を挿入し、市販のポッティング
剤を用いて小型モジュールを作製し、３７℃に保って中
空糸内側に水圧をかけ膜を通して外側へ透過する一定時
間の水の量と有効膜面積および膜間圧力差から算出する
方法で透水性能を測定した。
【００２５】実施例１ ポリスルホン１５部、ポリビニルピロリドン（Ｋ９０）
８部、水２．４部をジメチルアセトアミド７５部に８０
℃で加熱溶解した。この製膜原液は、６５℃で相分離す
る低温溶解型原液となった。注入液にジメチルスルホキ
シド／グリセリン／ポリビニルピロリドン（Ｋ３０）＝
６３／７／３０を用いて、外径１．０mm、内径０．７mm
の環状オリフィスからなる口金孔内から吐出させ、口金
面から１．０cm下方に設置した８０℃に保温した水を有
する凝固浴に通過させ、通常の方法で水洗後カセにまき
取り、中空糸状膜を得た。口金は４９℃に保温した。該
膜に２．５Ｍｒａｄのγ線照射処理を行ったところ、透
水性４８００ml/hr/ｍ2 /mmHg 、溶出物の吸光度０．０
９８であった。
８部、水２．４部をジメチルアセトアミド７５部に８０
℃で加熱溶解した。この製膜原液は、６５℃で相分離す
る低温溶解型原液となった。注入液にジメチルスルホキ
シド／グリセリン／ポリビニルピロリドン（Ｋ３０）＝
６３／７／３０を用いて、外径１．０mm、内径０．７mm
の環状オリフィスからなる口金孔内から吐出させ、口金
面から１．０cm下方に設置した８０℃に保温した水を有
する凝固浴に通過させ、通常の方法で水洗後カセにまき
取り、中空糸状膜を得た。口金は４９℃に保温した。該
膜に２．５Ｍｒａｄのγ線照射処理を行ったところ、透
水性４８００ml/hr/ｍ2 /mmHg 、溶出物の吸光度０．０
９８であった。
【００２６】比較例１ 実施例１の中空糸膜をγ線照射処理しないで透水性を測
定すると７３０であった。また、溶出物の吸光度は、
１．５８であった。
定すると７３０であった。また、溶出物の吸光度は、
１．５８であった。
【００２７】
【発明の効果】本発明の処理を行なえば、ブレンドした
親水性高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜
を得ることができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけ
で透水性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドラ
イ膜としての用途に容易に展開できる。また、この効果
はほぼ永久的に持続される。
親水性高分子の溶出がなく、透水性の極めて高い半透膜
を得ることができる。さらに、常圧で水に浸漬するだけ
で透水性能を回復するその水濡れ性の良さから完全ドラ
イ膜としての用途に容易に展開できる。また、この効果
はほぼ永久的に持続される。
【００２８】この処理により得られたポリスルホン系樹
脂半透膜は、目づまり、汚れに対して強いため、逆浸透
膜から、高性能限外濾過膜（あるいは精密濾過膜）ま
で、一般産業用途及びメディカル分野の血液処理膜とし
て使用することができる。
脂半透膜は、目づまり、汚れに対して強いため、逆浸透
膜から、高性能限外濾過膜（あるいは精密濾過膜）ま
で、一般産業用途及びメディカル分野の血液処理膜とし
て使用することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】ポリスルホン系樹脂と親水性高分子を混和
溶解した溶液に該ポリスルホン系樹脂に対して非溶媒も
しくは膨潤剤なる添加剤を加えた系を製膜原液として製
造したポリスルホン系樹脂半透膜に，放射線処理を施す
ことにより、該親水性高分子を架橋することを特徴とす
るポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法。 - 【請求項２】親水性高分子が、ポリビニルピロリドンも
しくはポリエチレングリコールである請求項１記載のポ
リスルホン系樹脂半透膜の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29807593A JPH06339620A (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29807593A JPH06339620A (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61243176A Division JPS6397205A (ja) | 1986-10-15 | 1986-10-15 | ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06339620A true JPH06339620A (ja) | 1994-12-13 |
Family
ID=17854829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29807593A Pending JPH06339620A (ja) | 1993-11-29 | 1993-11-29 | ポリスルホン系樹脂半透膜の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06339620A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS6238205A (ja) * | 1985-08-12 | 1987-02-19 | Daicel Chem Ind Ltd | 分離用半透膜 |
-
1993
- 1993-11-29 JP JP29807593A patent/JPH06339620A/ja active Pending
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