JPH0635131A - 画像形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 113
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 53
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 40
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 35
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 27
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 17
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 86
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 66
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 32
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 29
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 29
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 23
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 23
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 23
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 23
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 23
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 20
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 19
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 16
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 15
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 13
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 10
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical class N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 5
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000416 hydrocolloid Substances 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 4
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 2-propanol Substances CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydro-1,2-thiazole Chemical class C1CC=NS1 GUUULVAMQJLDSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 3
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 3
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940006186 sodium polystyrene sulfonate Drugs 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1Br XIWRQEFBSZWJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYNPIRVEWMUJDE-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC(Cl)=C(O)C=C1Cl AYNPIRVEWMUJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C)C=C1O GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYMDDFRYORANCC-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-[bis(carboxymethyl)amino]-2-hydroxypropyl]-(carboxymethyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O WYMDDFRYORANCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GODCLGCOHHTLHX-UHFFFAOYSA-N 3,3-diphosphonopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O GODCLGCOHHTLHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N Dialdehyde 11678 Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C2=C1[C@H](C[C@H](/C(=C/O)C(=O)OC)[C@@H](C=C)C=O)NCC2 ZNZYKNKBJPZETN-WELNAUFTSA-N 0.000 description 2
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 2
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N ethane;2-ethenylsulfonylacetamide Chemical compound CC.NC(=O)CS(=O)(=O)C=C SAIGUZYNPDJAHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 2
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 2
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 2
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J sodium diphosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O FQENQNTWSFEDLI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 2
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BJWBFXNBFFXUCR-UHFFFAOYSA-M sodium;3,3,5,5-tetramethyl-2-(2-phenoxyethoxy)hexane-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(C)(C)CC(C)(C)C(C)(S([O-])(=O)=O)OCCOC1=CC=CC=C1 BJWBFXNBFFXUCR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- HXMRAWVFMYZQMG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-triethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)N(CC)CC HXMRAWVFMYZQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical class SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical class SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Br)=NC2=C1 PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQKPRZPVTQHVOY-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentanedial Chemical compound O=CC(C)CCC=O IQKPRZPVTQHVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRCPOVNFTXLBPI-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-5,6,7,8-tetrahydro-1h-quinazolin-4-one Chemical compound C1CCCC2=C1NC(=S)NC2=O BRCPOVNFTXLBPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 2h-triazolo[4,5-c]pyridazine Chemical class N1=NC=CC2=C1N=NN2 CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMHGANYTYAANX-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxy-2-methoxypentanedial Chemical compound CCOC(CC=O)C(OC)C=O YSMHGANYTYAANX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWRNOSGOYRPTIC-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-3-phosphonopropane-1,1,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C(C(O)=O)CC(O)(C(O)=O)P(O)(O)=O XWRNOSGOYRPTIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUNMJPAJHJAGIS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentanedial Chemical compound O=CCC(C)CC=O LUNMJPAJHJAGIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluorocyclohexan-1-one Chemical compound FC1(F)CCC(=O)CC1 NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOVXTYUYJRFSOG-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethylamino)phenol Chemical compound OCCNC1=CC=C(O)C=C1 SOVXTYUYJRFSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylamino)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NCC1=CC=CC=C1 SRYYOKKLTBRLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 4-amino-2-methylphenol Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1O HDGMAACKJSBLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBTVZVUYPVQEIF-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C=NN2 WBTVZVUYPVQEIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 5-butyl-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(CCCC)C=CC2=NNN=C21 ZCFMGIGLXOKMJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C=CC2=NNN=C21 PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXTZAAHDBOKXDI-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole-3-carbonitrile Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=C(C#N)C2=C1 WXTZAAHDBOKXDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 5h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound S=C1OCC=N1 GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORZRMRUXSPNQQL-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C=NNC2=C1 ORZRMRUXSPNQQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODNVUBFUBOOYAG-UHFFFAOYSA-N 7-nitroindazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=CN=N[C]12 ODNVUBFUBOOYAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N Chymopapain Chemical compound OC1=CC(S(O)(=O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1O XXAXVMUWHZHZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBJJZOQPCKUOR-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C[NH+](CC([O-])=O)CC[NH+](CC([O-])=O)CC([O-])=O OVBJJZOQPCKUOR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine Chemical compound OCCN(CCO)CC(O)=O FSVCELGFZIQNCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N N-(p-hydroxyphenyl)glycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(O)C=C1 WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150006989 NDEL1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- PCSMJKASWLYICJ-UHFFFAOYSA-N Succinic aldehyde Chemical compound O=CCCC=O PCSMJKASWLYICJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007541 Zn O Inorganic materials 0.000 description 1
- YRZBVIGIGZTWGT-UHFFFAOYSA-N [2-(diphosphonoamino)ethyl-phosphonoamino]phosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)N(P(O)(O)=O)CCN(P(O)(O)=O)P(O)(O)=O YRZBVIGIGZTWGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N [Ag].ICl Chemical compound [Ag].ICl HOLVRJRSWZOAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKBUQYWFFBCMFG-UHFFFAOYSA-N acetic acid propane-1,1-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CCC(N)N MKBUQYWFFBCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N aminothiocarboxamide Natural products NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 150000007860 aryl ester derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000022 bacteriostatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006317 cationic polymer Polymers 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 229940090960 diethylenetriamine pentamethylene phosphonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N diphosphonic acid Chemical compound OP(=O)OP(O)=O XQRLCLUYWUNEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- ZZGUZQXLSHSYMH-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diamine;propanoic acid Chemical compound NCCN.CCC(O)=O.CCC(O)=O ZZGUZQXLSHSYMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IFQUWYZCAGRUJN-UHFFFAOYSA-N ethylenediaminediacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCCNCC(O)=O IFQUWYZCAGRUJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000012010 growth Effects 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-oxo-phenyl-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003641 microbiacidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000004533 oil dispersion Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate dodecahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- VKDSBABHIXQFKH-UHFFFAOYSA-M potassium;4-hydroxy-3-sulfophenolate Chemical compound [K+].OC1=CC=C(O)C(S([O-])(=O)=O)=C1 VKDSBABHIXQFKH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical class SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940048086 sodium pyrophosphate Drugs 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M sodium;2-sulfanylidene-1,3-dihydrobenzimidazole-5-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C2NC(=S)NC2=C1 AMZPPWFHMNMIEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SYWDUFAVIVYDMX-UHFFFAOYSA-M sodium;4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-olate Chemical compound [Na+].[O-]C1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 SYWDUFAVIVYDMX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008279 sol Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000019818 tetrasodium diphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003232 water-soluble binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】自動現像機を用いたレーザースキャナー用ハロ
ゲン化銀感材の現像処理に於て、処理液の補充量を少く
しても写真特性が安定している画像形成方法を提供す
る。 【構成】レーザースキャナー用ハロゲン化銀感材を自動
現像機で現像処理する画像形成方法で下記条件を満す。 1)感材は透明支持体上に600nm以上に分光増感さ
れたAgCl含有率90モル%以上のハロゲン化銀乳剤
層を有する。 2)現像液及び定着液の補充量は感材1m2当り200ml
以下。 3)a)又はb)からなる帯電防止層を有する。 a):導電性金属酸化物及び/又は導電性ポリマー。 b):現像液及び定着液および水への溶解性が35℃で
0.01wt%以下のポリオキシエチレン系ノニオン界面
活性剤及び含フッ素界面活性剤。
ゲン化銀感材の現像処理に於て、処理液の補充量を少く
しても写真特性が安定している画像形成方法を提供す
る。 【構成】レーザースキャナー用ハロゲン化銀感材を自動
現像機で現像処理する画像形成方法で下記条件を満す。 1)感材は透明支持体上に600nm以上に分光増感さ
れたAgCl含有率90モル%以上のハロゲン化銀乳剤
層を有する。 2)現像液及び定着液の補充量は感材1m2当り200ml
以下。 3)a)又はb)からなる帯電防止層を有する。 a):導電性金属酸化物及び/又は導電性ポリマー。 b):現像液及び定着液および水への溶解性が35℃で
0.01wt%以下のポリオキシエチレン系ノニオン界面
活性剤及び含フッ素界面活性剤。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は自動現像機を用いて行う
レーザースキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の画像
形成方法に関するものであり感光材料の単位面積当りの
現像補充液量が少なくでき、かつ安定な写真性能を得る
ことができる画像形成方法に関するものである。
レーザースキャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の画像
形成方法に関するものであり感光材料の単位面積当りの
現像補充液量が少なくでき、かつ安定な写真性能を得る
ことができる画像形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】黒白ハロゲン化銀写真感光材料は、一般
に露光後、現像、定着、水洗、乾燥という工程で処理さ
れる。最近は、その殆んどが自動現像機(以下自現機と
略称する)を用いて処理される。そしてその際に感光材
料の面積に比例した一定量の現像液を補充しながら現像
処理されるのが普通である。かかる現像処理を行った時
安定した写真性能が得られることが望まれてきた。さら
に単位面積当りの補充液量をより少くして安定した写真
性能が得られることが望まれてきた。従来は、例えばX
−レイ写真やグラフィックアーツ感材のようないわゆる
シート状の写真材料1m2に対して現像補充液を250ml
以上、特に330ml以上を補充するのが一般的であっ
た。しかし写真現像廃液は高い化学的酸素要求量(いわ
ゆるC.O.D)又は生物的酸素要求量(いわゆるB.
O.D)を有しているため、現像廃液に化学的又は生物
的な処理等を施して無害化してから廃液することが行わ
れている。これらの廃液処理には多大な経済的負担がか
かるために現像補充液量の少ない現像方法が望まれてき
た。一方、写真感光材料の露光方法の一つに原図を走査
し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感光材料
上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像もしく
はポジ画像を形成する所謂スキャナー方式による画像形
成方法が知られている。スキャナー方式による画像形成
方法を実用した記録装置は種々あり、これらのスキャナ
ー方式記録装置の記録用光源の1つとして600nm以
上の波長のレーザーが使用されることが多い。また、写
真感光材料は一般に電気絶縁性を有する支持体および写
真層から成っているので写真感光材料の製造工程中なら
びに使用時に同種または異種物質の表面との間の接触摩
擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積され
ることが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害を
引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電電
荷が放電することによって感光性乳剤層が感光し写真フ
ィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹枝状や羽
毛状の線斑を生ずることである。またこれらの蓄積され
た静電電荷はフィルム表面へ塵埃が付着したり、撮影や
フィルム搬送機で搬送不良を生じたり、塗布が均一に行
なえないなどの第2次的な故障を誘起せしめる原因にも
なる。レーザーを用いるスキャナー方式においては、高
速且つ正確なフィルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像を得ることができなくな
り、誤った判断を与えて重大な問題を生じる。この対策
として、一般に写真感光材料は帯電防止剤が用いられて
いる。しかしながら、前述の処理液補充量を低減させる
と、写真感光材料中の帯電防止剤が処理液中に溶出し、
その蓄積量が増大して、不溶解物として析出する。これ
によって、現像液および定着液中の汚れ(フケ状の汚れ
など)や泡立ちが生じ、現像および定着不良の原因とな
る。このため、現像および定着補充液量が低減でき、か
つ安定な写真性能を得ることができる。画像形成方法が
望まれていた。
に露光後、現像、定着、水洗、乾燥という工程で処理さ
れる。最近は、その殆んどが自動現像機(以下自現機と
略称する)を用いて処理される。そしてその際に感光材
料の面積に比例した一定量の現像液を補充しながら現像
処理されるのが普通である。かかる現像処理を行った時
安定した写真性能が得られることが望まれてきた。さら
に単位面積当りの補充液量をより少くして安定した写真
性能が得られることが望まれてきた。従来は、例えばX
−レイ写真やグラフィックアーツ感材のようないわゆる
シート状の写真材料1m2に対して現像補充液を250ml
以上、特に330ml以上を補充するのが一般的であっ
た。しかし写真現像廃液は高い化学的酸素要求量(いわ
ゆるC.O.D)又は生物的酸素要求量(いわゆるB.
O.D)を有しているため、現像廃液に化学的又は生物
的な処理等を施して無害化してから廃液することが行わ
れている。これらの廃液処理には多大な経済的負担がか
かるために現像補充液量の少ない現像方法が望まれてき
た。一方、写真感光材料の露光方法の一つに原図を走査
し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感光材料
上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像もしく
はポジ画像を形成する所謂スキャナー方式による画像形
成方法が知られている。スキャナー方式による画像形成
方法を実用した記録装置は種々あり、これらのスキャナ
ー方式記録装置の記録用光源の1つとして600nm以
上の波長のレーザーが使用されることが多い。また、写
真感光材料は一般に電気絶縁性を有する支持体および写
真層から成っているので写真感光材料の製造工程中なら
びに使用時に同種または異種物質の表面との間の接触摩
擦または剥離をうけることによって静電電荷が蓄積され
ることが多い。この蓄積された静電電荷は多くの障害を
引起すが、重大な障害は現像処理前に蓄積された静電電
荷が放電することによって感光性乳剤層が感光し写真フ
ィルムを現像処理した際に点状スポット又は樹枝状や羽
毛状の線斑を生ずることである。またこれらの蓄積され
た静電電荷はフィルム表面へ塵埃が付着したり、撮影や
フィルム搬送機で搬送不良を生じたり、塗布が均一に行
なえないなどの第2次的な故障を誘起せしめる原因にも
なる。レーザーを用いるスキャナー方式においては、高
速且つ正確なフィルム搬送が必須であり、静電気による
搬送不良を生じると正しい画像を得ることができなくな
り、誤った判断を与えて重大な問題を生じる。この対策
として、一般に写真感光材料は帯電防止剤が用いられて
いる。しかしながら、前述の処理液補充量を低減させる
と、写真感光材料中の帯電防止剤が処理液中に溶出し、
その蓄積量が増大して、不溶解物として析出する。これ
によって、現像液および定着液中の汚れ(フケ状の汚れ
など)や泡立ちが生じ、現像および定着不良の原因とな
る。このため、現像および定着補充液量が低減でき、か
つ安定な写真性能を得ることができる。画像形成方法が
望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は自現機
を用いたレーザースキャナー用ハロゲン化銀写真感光材
料の現像処理において単位面積当りの現像および定着補
充液量の少ない画像形成方法を提供することにある。さ
らに現像および定着補充液量が少なくても写真特性の安
定性が良いものが得られる画像形成方法を提供すること
にある。
を用いたレーザースキャナー用ハロゲン化銀写真感光材
料の現像処理において単位面積当りの現像および定着補
充液量の少ない画像形成方法を提供することにある。さ
らに現像および定着補充液量が少なくても写真特性の安
定性が良いものが得られる画像形成方法を提供すること
にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザースキ
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料を1m2当り200ml
以下の割合で現像液および定着液を補充する自動現像機
を用いて画像形成する方法において、透明支持体の一方
側に600nm以上に分光増感された塩化銀含有率90
モル%のハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有し、導
電性金属酸化物および/または導電性ポリマー、および
/または現像液、定着液および水への溶解性が35℃で
0.01重量%以下であるポリオキシエチレン系ノニオ
ン界面活性剤および含フッ素界面活性剤を含有する写真
感光材料を用いることによって達成された。
ャナー用ハロゲン化銀写真感光材料を1m2当り200ml
以下の割合で現像液および定着液を補充する自動現像機
を用いて画像形成する方法において、透明支持体の一方
側に600nm以上に分光増感された塩化銀含有率90
モル%のハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有し、導
電性金属酸化物および/または導電性ポリマー、および
/または現像液、定着液および水への溶解性が35℃で
0.01重量%以下であるポリオキシエチレン系ノニオ
ン界面活性剤および含フッ素界面活性剤を含有する写真
感光材料を用いることによって達成された。
【0005】本発明に用いられる写真感光材料の写真乳
剤層に含有される高塩化銀は90モル%以上(平均値)
の塩化銀を含む、塩臭化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀もし
くは塩化銀である。沃化銀含有率は1モル%以下が好ま
しい。特に好ましいのは96モル%以上(平均値)の塩
化銀を含む塩臭化銀もしくは塩化銀である。これは次の
理由によっている。現像補充液量を低減させるにはハロ
ゲン化銀乳剤塗布量を減ずる必要があり、単純に減ずる
と処理後の最高黒化濃度が低下してしまう。これを解決
するためには、ハロゲン化銀乳剤の粒子サイズを低減さ
せればよいことが知られているが、処理後の銀色調が黄
色化してしまい、特に医療用途には不適である。特願平
4−107887には、ハロゲン化銀の塩化銀含有率が
少なくとも90モル%あると、処理後の銀色調の黄色化
が防げることが示されている。このため、現像補充量を
低減させ、なおかつ処理後の銀色調を黄色化させないた
めには、ハロゲン化銀の塩化銀含有率は少なくとも90
モル%である必要がある。さらに、本発明に用いる高塩
化銀乳剤は、そのハロゲン化銀粒子中に臭化銀含有率が
基質に比べて相対的に高い臭化銀局在層を有することが
好ましい。
剤層に含有される高塩化銀は90モル%以上(平均値)
の塩化銀を含む、塩臭化銀、沃塩化銀、沃塩臭化銀もし
くは塩化銀である。沃化銀含有率は1モル%以下が好ま
しい。特に好ましいのは96モル%以上(平均値)の塩
化銀を含む塩臭化銀もしくは塩化銀である。これは次の
理由によっている。現像補充液量を低減させるにはハロ
ゲン化銀乳剤塗布量を減ずる必要があり、単純に減ずる
と処理後の最高黒化濃度が低下してしまう。これを解決
するためには、ハロゲン化銀乳剤の粒子サイズを低減さ
せればよいことが知られているが、処理後の銀色調が黄
色化してしまい、特に医療用途には不適である。特願平
4−107887には、ハロゲン化銀の塩化銀含有率が
少なくとも90モル%あると、処理後の銀色調の黄色化
が防げることが示されている。このため、現像補充量を
低減させ、なおかつ処理後の銀色調を黄色化させないた
めには、ハロゲン化銀の塩化銀含有率は少なくとも90
モル%である必要がある。さらに、本発明に用いる高塩
化銀乳剤は、そのハロゲン化銀粒子中に臭化銀含有率が
基質に比べて相対的に高い臭化銀局在層を有することが
好ましい。
【0006】このような局在構造の好ましい例はハロゲ
ン化銀粒子の表面または表面に近い内部に局在相を有す
るものであり、特に粒子の結晶表面のエッジ部やコーナ
ー部、あるいは結晶面に突起状に局在相を有するものは
好ましい。局在相中のハロゲン組成は臭化銀含有率にお
いて10モル%以上95モル%以下であればよく、15
モル%以上90モル%以下であることが好ましい。更に
は20モル%以上60モル%以下であることが好まし
く、30モル%以上60モル%以下であることが最も好
ましい。局在相の残りのハロゲン化銀は塩化銀より成る
が、微量のヨー化銀を含むことも好ましい。但し、前述
のように全ハロゲン化銀量に対して1モル%を越えるこ
とは好ましくない。また、これらの局在相は当該乳剤の
全ハロゲン化銀粒子を構成するハロゲン化銀のうちの
0.03モル%以上10モル%以下を占めることが好ま
しく、更には0.1モル%以上5モル%以下を占めるこ
とが好ましい。
ン化銀粒子の表面または表面に近い内部に局在相を有す
るものであり、特に粒子の結晶表面のエッジ部やコーナ
ー部、あるいは結晶面に突起状に局在相を有するものは
好ましい。局在相中のハロゲン組成は臭化銀含有率にお
いて10モル%以上95モル%以下であればよく、15
モル%以上90モル%以下であることが好ましい。更に
は20モル%以上60モル%以下であることが好まし
く、30モル%以上60モル%以下であることが最も好
ましい。局在相の残りのハロゲン化銀は塩化銀より成る
が、微量のヨー化銀を含むことも好ましい。但し、前述
のように全ハロゲン化銀量に対して1モル%を越えるこ
とは好ましくない。また、これらの局在相は当該乳剤の
全ハロゲン化銀粒子を構成するハロゲン化銀のうちの
0.03モル%以上10モル%以下を占めることが好ま
しく、更には0.1モル%以上5モル%以下を占めるこ
とが好ましい。
【0007】局在相は単一のハロゲン組成から成る必要
はなく、明確に臭化銀含有率の異なる二つ以上の局在相
を有していてもよく、また局在相以外の他の相との界面
がハロゲン組成において連続的に変化しながら形成され
ているようなものでもよい。上述のような臭化銀局在相
を形成するには、既に形成されている塩化銀または高塩
化銀粒子を含む乳剤に水溶性銀塩と水溶性臭化物を含む
水溶性ハロゲン塩を同時混合法で反応させて沈積させた
り、同じく既に形成されている塩化銀または高塩化銀粒
子の一部をいわゆるハロゲン変換法を用いて臭化銀富有
相に変換したり、あるいは塩化銀または高塩化銀粒子よ
りも粒子サイズにおいて微粒子の臭化銀または高塩化銀
粒子、その他難溶性銀塩を添加して塩化銀または高塩化
銀粒子の表面に再結晶化によって結晶化させることで形
成させることもできる。このような製造法については、
例えば欧州特許出願公開第0,273,430A2号に
も記載されている。
はなく、明確に臭化銀含有率の異なる二つ以上の局在相
を有していてもよく、また局在相以外の他の相との界面
がハロゲン組成において連続的に変化しながら形成され
ているようなものでもよい。上述のような臭化銀局在相
を形成するには、既に形成されている塩化銀または高塩
化銀粒子を含む乳剤に水溶性銀塩と水溶性臭化物を含む
水溶性ハロゲン塩を同時混合法で反応させて沈積させた
り、同じく既に形成されている塩化銀または高塩化銀粒
子の一部をいわゆるハロゲン変換法を用いて臭化銀富有
相に変換したり、あるいは塩化銀または高塩化銀粒子よ
りも粒子サイズにおいて微粒子の臭化銀または高塩化銀
粒子、その他難溶性銀塩を添加して塩化銀または高塩化
銀粒子の表面に再結晶化によって結晶化させることで形
成させることもできる。このような製造法については、
例えば欧州特許出願公開第0,273,430A2号に
も記載されている。
【0008】局在相の臭化銀含有率は、X線回折法(例
えば「日本化学会編、新実験化学講座6、構造解析」丸
善、に記載)あるいはXPS法(例えば「表面分析、−
IMA、オージエ電子・光電子分光の応用−」講談社、
に記載)等を用いて分析することができる。また臭化銀
局在相を電子顕微鏡観察や前述の欧州特許出願公開第
0,273,430A2号に記載の方法によって知るこ
ともできる。
えば「日本化学会編、新実験化学講座6、構造解析」丸
善、に記載)あるいはXPS法(例えば「表面分析、−
IMA、オージエ電子・光電子分光の応用−」講談社、
に記載)等を用いて分析することができる。また臭化銀
局在相を電子顕微鏡観察や前述の欧州特許出願公開第
0,273,430A2号に記載の方法によって知るこ
ともできる。
【0009】このような方法の中で、本発明において特
に有用な高臭化銀層の形成方法は化学熟成する際に高塩
化銀乳剤の表面に臭化銀および/または塩臭化銀を形成
する方法であり、高感度、低カブリを得ることができる
点で好ましい。
に有用な高臭化銀層の形成方法は化学熟成する際に高塩
化銀乳剤の表面に臭化銀および/または塩臭化銀を形成
する方法であり、高感度、低カブリを得ることができる
点で好ましい。
【0010】本発明に用いるハロゲン化銀粒子には、銀
イオン以外の金属イオン(例えば周期率表第VIII族の金
属イオン、第II族の遷移金属イオン、第IV族の鉛イオ
ン、第I族の金属イオンや銅イオン等)あるいはその錯
イオンを含有させることが、本発明の効果を様々な条件
でより良く発揮させる上で好ましい。これ等の金属イオ
ンあるいはその錯イオンを含有させるのは、ハロゲン化
銀粒子全体であっても、前述の臭化銀局在相であって
も、その他の相であってもよい。前記の金属イオンある
いはその錯イオンのうち、イリジウムイオン、パラジウ
ムイオン、ロジウムイオン、亜鉛イオン、鉄イオン、白
金イオン、金イオン、銅イオン等から選ばれたものは特
に有用である。これ等の金属イオンあるいは錯イオンは
単独で用いるよりも併用することで望ましい写真性が得
られることも多く、特に局在相と粒子のその他の部分の
間で添加イオン種や添加量を変えることが好ましい。特
に、イリジウムイオンやロジウムイオンは局在相に含有
させることが好ましい。
イオン以外の金属イオン(例えば周期率表第VIII族の金
属イオン、第II族の遷移金属イオン、第IV族の鉛イオ
ン、第I族の金属イオンや銅イオン等)あるいはその錯
イオンを含有させることが、本発明の効果を様々な条件
でより良く発揮させる上で好ましい。これ等の金属イオ
ンあるいはその錯イオンを含有させるのは、ハロゲン化
銀粒子全体であっても、前述の臭化銀局在相であって
も、その他の相であってもよい。前記の金属イオンある
いはその錯イオンのうち、イリジウムイオン、パラジウ
ムイオン、ロジウムイオン、亜鉛イオン、鉄イオン、白
金イオン、金イオン、銅イオン等から選ばれたものは特
に有用である。これ等の金属イオンあるいは錯イオンは
単独で用いるよりも併用することで望ましい写真性が得
られることも多く、特に局在相と粒子のその他の部分の
間で添加イオン種や添加量を変えることが好ましい。特
に、イリジウムイオンやロジウムイオンは局在相に含有
させることが好ましい。
【0011】金属イオンあるいは錯イオンをハロゲン化
銀粒子の局在相および/または粒子のその他の部分に含
有させるには、この金属イオンあるいは錯イオンをハロ
ゲン化銀粒子の形成前、形成中あるいは形成後の物理熟
成時に反応容器に直接添加するか、水溶性ハロゲン塩ま
たは水溶性銀塩の添加液の中に予め添加しておけばよ
い。局在相を微粒子の臭化銀または高塩化銀で形成する
場合には上記と同様の方法で臭化銀または高塩化銀微粒
子中に含有させておいて、それを塩化銀または高塩化銀
乳剤に添加してもよい。また、銀塩以外の、例えば上記
のような金属イオンの比較的難溶性の臭化物を固体ある
いは粉末のまま添加することで、局在相を形成しつつ金
属イオンを含有させてもよい。
銀粒子の局在相および/または粒子のその他の部分に含
有させるには、この金属イオンあるいは錯イオンをハロ
ゲン化銀粒子の形成前、形成中あるいは形成後の物理熟
成時に反応容器に直接添加するか、水溶性ハロゲン塩ま
たは水溶性銀塩の添加液の中に予め添加しておけばよ
い。局在相を微粒子の臭化銀または高塩化銀で形成する
場合には上記と同様の方法で臭化銀または高塩化銀微粒
子中に含有させておいて、それを塩化銀または高塩化銀
乳剤に添加してもよい。また、銀塩以外の、例えば上記
のような金属イオンの比較的難溶性の臭化物を固体ある
いは粉末のまま添加することで、局在相を形成しつつ金
属イオンを含有させてもよい。
【0012】本発明のハロゲン化銀乳剤は(100)面
/(111)面比が5以上、好ましくは10以上のハロ
ゲン化銀粒子を50wt%以上含有し、より好ましくは、
60wt%以上、特に80wt%以上含有していることが好
ましい。
/(111)面比が5以上、好ましくは10以上のハロ
ゲン化銀粒子を50wt%以上含有し、より好ましくは、
60wt%以上、特に80wt%以上含有していることが好
ましい。
【0013】本発明に用いられるハロゲン化銀粒子の大
きさは0.4μm以下より大でなく、好ましくは0.3
5μm以下、さらに好ましくは0.3μm以下である。
これは粒子が小サイズの方が高被覆力が得られるため、
銀/バインダー比を低減できる点で望ましい。
きさは0.4μm以下より大でなく、好ましくは0.3
5μm以下、さらに好ましくは0.3μm以下である。
これは粒子が小サイズの方が高被覆力が得られるため、
銀/バインダー比を低減できる点で望ましい。
【0014】ハロゲン化銀粒子のサイズ分布は広くても
狭くてもよいが、いわゆる単分散乳剤のほうが潜像安定
性・耐圧力性等の写真特性や現像液pH依存性等の処理
安定性において好ましい。ハロゲン化銀粒子の投影面積
を円換算したときの直径の分布の標準偏差Sを平均直径
で割った値S/dが20%以下が好ましく、15%以下
であれば更に好ましい。本発明に用いる塩化銀、塩臭化
銀または塩沃臭化銀乳剤はP.Glafkides (グラフキデ)
著の「写真の化学と物理」(ポール・モンテル社、19
67年)、G.F.Duffin(ダフィン)著の「写真乳剤の化
学」(フォーカル・プレス社、1966年)、V.L.Zeli
kman(ツェリックマン)等著の「写真乳剤の調製と塗
布」(フォーカル・プレス社、1964年)等に記載さ
れた方法を応用して調製することができる。即ち、酸性
法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよいが、特に
酸性法、中性法は本発明においてカブリを少なくする点
で好ましい。また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応
させてハロゲン化銀乳剤を得るにはいわゆる片側混合
法、同時混合法またはそれらの組み合わせのいずれを用
いてもよい。粒子を銀イオン過剰の条件下において形成
させるいわゆる逆混合法を用いることもできる。本発明
に好ましい単分散粒子の乳剤を得るには同時混合法を用
いることが好ましい。同時混合法の一つの形式として、
ハロゲン化銀の生成する液相中の銀イオン濃度を一定に
保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル・ジェ
ット法を用いることは更に好ましい。この方法を用いる
と、ハロゲン化銀結晶形状が規則的で粒子サイズ分布が
狭い本発明に好ましいハロゲン化銀乳剤を得ることがで
きる。
狭くてもよいが、いわゆる単分散乳剤のほうが潜像安定
性・耐圧力性等の写真特性や現像液pH依存性等の処理
安定性において好ましい。ハロゲン化銀粒子の投影面積
を円換算したときの直径の分布の標準偏差Sを平均直径
で割った値S/dが20%以下が好ましく、15%以下
であれば更に好ましい。本発明に用いる塩化銀、塩臭化
銀または塩沃臭化銀乳剤はP.Glafkides (グラフキデ)
著の「写真の化学と物理」(ポール・モンテル社、19
67年)、G.F.Duffin(ダフィン)著の「写真乳剤の化
学」(フォーカル・プレス社、1966年)、V.L.Zeli
kman(ツェリックマン)等著の「写真乳剤の調製と塗
布」(フォーカル・プレス社、1964年)等に記載さ
れた方法を応用して調製することができる。即ち、酸性
法、中性法、アンモニア法等のいずれでもよいが、特に
酸性法、中性法は本発明においてカブリを少なくする点
で好ましい。また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応
させてハロゲン化銀乳剤を得るにはいわゆる片側混合
法、同時混合法またはそれらの組み合わせのいずれを用
いてもよい。粒子を銀イオン過剰の条件下において形成
させるいわゆる逆混合法を用いることもできる。本発明
に好ましい単分散粒子の乳剤を得るには同時混合法を用
いることが好ましい。同時混合法の一つの形式として、
ハロゲン化銀の生成する液相中の銀イオン濃度を一定に
保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル・ジェ
ット法を用いることは更に好ましい。この方法を用いる
と、ハロゲン化銀結晶形状が規則的で粒子サイズ分布が
狭い本発明に好ましいハロゲン化銀乳剤を得ることがで
きる。
【0015】このようなハロゲン化銀の粒子形成または
物理熟成の過程において、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛
塩、タリウム塩、あるいは前述のようなイリジウム塩ま
たはその錯塩、ロジウム塩またはその錯塩、鉄塩または
その錯塩を共存させてもよい。粒子形成時または形成後
に、ハロゲン化銀溶剤(例えば、公知のものとして、ア
ンモニア、チオシアン酸塩、米国特許第3,271,1
57号、特開昭51−12360号、特開昭53−82
408号、特開昭53−144319号、特開昭54−
100717号あるいは特開昭54−155828号等
に記載のチオエーテル類およびチオン化合物)を用いて
もよく、前述の方法と併用すると、ハロゲン化銀結晶形
状が規則的で粒子サイズ分布が狭い本発明に好ましいハ
ロゲン化銀乳剤を得ることができる。
物理熟成の過程において、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛
塩、タリウム塩、あるいは前述のようなイリジウム塩ま
たはその錯塩、ロジウム塩またはその錯塩、鉄塩または
その錯塩を共存させてもよい。粒子形成時または形成後
に、ハロゲン化銀溶剤(例えば、公知のものとして、ア
ンモニア、チオシアン酸塩、米国特許第3,271,1
57号、特開昭51−12360号、特開昭53−82
408号、特開昭53−144319号、特開昭54−
100717号あるいは特開昭54−155828号等
に記載のチオエーテル類およびチオン化合物)を用いて
もよく、前述の方法と併用すると、ハロゲン化銀結晶形
状が規則的で粒子サイズ分布が狭い本発明に好ましいハ
ロゲン化銀乳剤を得ることができる。
【0016】物理熟成後の乳剤から可溶性塩を除去する
には、ヌーデル水洗、フロキュレーション沈降法、また
は限外濾過法等を利用することができる。本発明に使用
する乳剤は硫黄増感あるいはセレン増感、還元増感、貴
金属増感等の単独もしくは併用により化学増感すること
ができる。即ち活性ゼラチンや、銀イオンと反応し得る
硫黄化合物を含む化合物(例えばチオ硫酸塩、チオ尿素
化合物、メルカプト化合物、ローダニン化合物等)を用
いる硫黄増感法や、還元性物質(例えば第一スズ塩、ア
ミン類、ヒドラジン誘導体、ホルムアミジンスルフィン
酸、シラン化合物等)を用いる還元増感法、そして金属
化合物(例えば前述の金錯塩、白金、イリジウム、パラ
ジウム、ロジウム、鉄等の周期率表第VIII族の金属塩ま
たはその錯塩等)を用いる貴金属増感法等を、単独また
は組み合わせて用いることができる。本発明の乳剤にお
いては、硫黄増感またはセレン増感が好ましく用いら
れ、更にこれらに金増感を併用することが好ましい。ま
たこれらの化学増感に際し、ヒドロキシアザインデン化
合物あるいは核酸を存在させることが、感度・階調を制
御する上で好ましい。
には、ヌーデル水洗、フロキュレーション沈降法、また
は限外濾過法等を利用することができる。本発明に使用
する乳剤は硫黄増感あるいはセレン増感、還元増感、貴
金属増感等の単独もしくは併用により化学増感すること
ができる。即ち活性ゼラチンや、銀イオンと反応し得る
硫黄化合物を含む化合物(例えばチオ硫酸塩、チオ尿素
化合物、メルカプト化合物、ローダニン化合物等)を用
いる硫黄増感法や、還元性物質(例えば第一スズ塩、ア
ミン類、ヒドラジン誘導体、ホルムアミジンスルフィン
酸、シラン化合物等)を用いる還元増感法、そして金属
化合物(例えば前述の金錯塩、白金、イリジウム、パラ
ジウム、ロジウム、鉄等の周期率表第VIII族の金属塩ま
たはその錯塩等)を用いる貴金属増感法等を、単独また
は組み合わせて用いることができる。本発明の乳剤にお
いては、硫黄増感またはセレン増感が好ましく用いら
れ、更にこれらに金増感を併用することが好ましい。ま
たこれらの化学増感に際し、ヒドロキシアザインデン化
合物あるいは核酸を存在させることが、感度・階調を制
御する上で好ましい。
【0017】本発明に用いる600nm以上の増感色素
は特開平3−11336号、特開昭64−40939
号、特願平2−266934号、同3−121798
号、同3−228741号、同3−266959号およ
び同3−311498号等に記載の増感色素を好ましく
用いることができる。これらの増感色素は単独に用いて
もよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の
組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増
感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示
す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Research Dis
closure)176巻17643(1978年12月発行)
第23頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−255
00、同43−4933、特開昭59−19032、同
59−192242等に記載されている。本発明の60
0nm以上の増感色素の含有量はハロゲン化銀乳剤の粒
子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化合物
を含有させる層とハロゲン化銀乳剤の関係、カブリ防止
化合物の種類などに応じて最適の量を選択することが望
ましく、その選択のため試験の方法は当業者のよく知る
ところである。通常は好ましくはハロゲン化銀1モル当
り10-7ないし1×10-2モル、特に10-6モルないし
5×10-3モルの範囲で用いられる。
は特開平3−11336号、特開昭64−40939
号、特願平2−266934号、同3−121798
号、同3−228741号、同3−266959号およ
び同3−311498号等に記載の増感色素を好ましく
用いることができる。これらの増感色素は単独に用いて
もよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の
組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。
増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増
感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示
す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Research Dis
closure)176巻17643(1978年12月発行)
第23頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−255
00、同43−4933、特開昭59−19032、同
59−192242等に記載されている。本発明の60
0nm以上の増感色素の含有量はハロゲン化銀乳剤の粒
子径、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、該化合物
を含有させる層とハロゲン化銀乳剤の関係、カブリ防止
化合物の種類などに応じて最適の量を選択することが望
ましく、その選択のため試験の方法は当業者のよく知る
ところである。通常は好ましくはハロゲン化銀1モル当
り10-7ないし1×10-2モル、特に10-6モルないし
5×10-3モルの範囲で用いられる。
【0018】本発明の感光材料には、感光材料の製造工
程、存在中あるいは写真処理中のカブリを防止しあるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類たとえばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベン
ズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メル
カプトテトラゾール類、メルカプトチアゾール類、メル
カプトベンゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール
類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニト
ロベンゾトリアゾール類、など;メルカプトピリミジン
類;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチ
オンのようなチオケト化合物;アザインデン類、たとえ
ばトリアザインデン類、テトラアザインデン類(特に4
−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラアザイン
デン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオス
ルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸;ベンゼンスルフォ
ン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として
知られた多くの化合物を加えることができる。これらの
ものの中で、好ましくはベンゾトリアゾール(例えば、
5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニトロインダゾ
ール類(例えば5−ニトロインダゾール)である。ま
た、これらの化合物を処理液に含有させてもよい。さら
に特開昭62−30243号に記載の現像中に抑制剤を
放出するような化合物を、安定剤の目的で含有させるこ
とができる。
程、存在中あるいは写真処理中のカブリを防止しあるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有
させることができる。すなわちアゾール類たとえばベン
ゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベン
ズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メル
カプトテトラゾール類、メルカプトチアゾール類、メル
カプトベンゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール
類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニト
ロベンゾトリアゾール類、など;メルカプトピリミジン
類;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチ
オンのようなチオケト化合物;アザインデン類、たとえ
ばトリアザインデン類、テトラアザインデン類(特に4
−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラアザイン
デン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオス
ルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸;ベンゼンスルフォ
ン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として
知られた多くの化合物を加えることができる。これらの
ものの中で、好ましくはベンゾトリアゾール(例えば、
5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニトロインダゾ
ール類(例えば5−ニトロインダゾール)である。ま
た、これらの化合物を処理液に含有させてもよい。さら
に特開昭62−30243号に記載の現像中に抑制剤を
放出するような化合物を、安定剤の目的で含有させるこ
とができる。
【0019】本発明の写真感光材料には安定剤、促進剤
等種々の目的でハイドロキノン誘導体、フェニドン誘導
体などの現像主薬を含有することができる。本発明の写
真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性コロイド層
に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えばクロ
ム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど)、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドな
ど)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素な
ど)、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物(1,3,
5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジ
ン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノールな
ど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒ
ドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類
(ムコクロル酸など)、などを単独または組合せて用い
ることができる。
等種々の目的でハイドロキノン誘導体、フェニドン誘導
体などの現像主薬を含有することができる。本発明の写
真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性コロイド層
に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えばクロ
ム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど)、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドな
ど)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素な
ど)、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物(1,3,
5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジ
ン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノールな
ど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒ
ドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類
(ムコクロル酸など)、などを単独または組合せて用い
ることができる。
【0020】本発明を用いて作られた白黒写真感光材料
には、親水性コロイド層にフィルター染料として、ある
いはイラジェーション防止その他種々の目的で水溶性染
料を含有していてもよい。このような染料には、オキソ
ノール染料、ヘミオキソノール染料、スチリル染料、メ
ロシアニン染料、シアニン染料及びアゾ染料が包含され
る。なかでもオキソノール染料;ヘミオキソノール染料
及びメロシアニン染料が有用である。
には、親水性コロイド層にフィルター染料として、ある
いはイラジェーション防止その他種々の目的で水溶性染
料を含有していてもよい。このような染料には、オキソ
ノール染料、ヘミオキソノール染料、スチリル染料、メ
ロシアニン染料、シアニン染料及びアゾ染料が包含され
る。なかでもオキソノール染料;ヘミオキソノール染料
及びメロシアニン染料が有用である。
【0021】本発明の写真感光材料の支持体としては、
150〜250μmの厚さを有している必要がある。こ
れは医療用シャーカステン上で観察する際の取扱い性の
点で必須である。また、材質としてはポリエチレンテレ
フタレートフィルムが好ましく、特に青色に着色してい
ることが好ましい。支持体は親水コロイド層との密着力
を向上せしめるために、その表面をコロナ放電処理、あ
るいはグロー放電処理あるいは紫外線照射処理する方法
が好ましい。あるいは、スチレンブタジエン系ラテック
ス、塩化ビニリデン系ラテックス等からなる下塗層を設
けてもよく、またその上層にゼラチン層を更に設けても
よい。また、ポリエチレン膨潤剤とゼラチンを含む有機
溶剤を用いた下塗層を設けてもよい。これらの下塗層は
表面処理を加えることで更に親水コロイド層との密着力
を向上することもできる。
150〜250μmの厚さを有している必要がある。こ
れは医療用シャーカステン上で観察する際の取扱い性の
点で必須である。また、材質としてはポリエチレンテレ
フタレートフィルムが好ましく、特に青色に着色してい
ることが好ましい。支持体は親水コロイド層との密着力
を向上せしめるために、その表面をコロナ放電処理、あ
るいはグロー放電処理あるいは紫外線照射処理する方法
が好ましい。あるいは、スチレンブタジエン系ラテック
ス、塩化ビニリデン系ラテックス等からなる下塗層を設
けてもよく、またその上層にゼラチン層を更に設けても
よい。また、ポリエチレン膨潤剤とゼラチンを含む有機
溶剤を用いた下塗層を設けてもよい。これらの下塗層は
表面処理を加えることで更に親水コロイド層との密着力
を向上することもできる。
【0022】本発明の支持体に対してハロゲン化銀乳剤
層側のゼラチン総塗布量としては3.5g/m2以下であ
ることが好ましく、より好ましくは3.3g/m2以下、
さらには3.0g/m2が好ましい。また、本発明のハロ
ゲン化銀乳剤の片面当りの塗布Ag量は、2.6g/m2
以下であり、好ましくは2.3g/m2以下、さらに好ま
しくは2.0g/m2以下である。さらに、ハロゲン化銀
乳剤層の銀とゼラチンの重量比率も迅速処理適性という
観点から重要な因子である。ハロゲン化銀乳剤層の銀と
ゼラチン比率を上げると、自動現像機で処理した際に、
ローラーの突起物によってハロゲン化銀写真感光材料が
剥離して、画像が見えにくくなるという、いわゆる乳剤
ピックオフが発生する。この観点からハロゲン化銀乳剤
層の銀とゼラチンの重量比率は、1.4以下が好ましく
より好ましくは1.2以下、さらには1.1以下が好ま
しい。
層側のゼラチン総塗布量としては3.5g/m2以下であ
ることが好ましく、より好ましくは3.3g/m2以下、
さらには3.0g/m2が好ましい。また、本発明のハロ
ゲン化銀乳剤の片面当りの塗布Ag量は、2.6g/m2
以下であり、好ましくは2.3g/m2以下、さらに好ま
しくは2.0g/m2以下である。さらに、ハロゲン化銀
乳剤層の銀とゼラチンの重量比率も迅速処理適性という
観点から重要な因子である。ハロゲン化銀乳剤層の銀と
ゼラチン比率を上げると、自動現像機で処理した際に、
ローラーの突起物によってハロゲン化銀写真感光材料が
剥離して、画像が見えにくくなるという、いわゆる乳剤
ピックオフが発生する。この観点からハロゲン化銀乳剤
層の銀とゼラチンの重量比率は、1.4以下が好ましく
より好ましくは1.2以下、さらには1.1以下が好ま
しい。
【0023】本発明に好ましく使用される帯電防止剤に
ついて記す。まず第1に、好ましく使用される導電性材
料は結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むも
の及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する
異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高
いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカ
ブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例とし
てZnO、TiO2 、SnO2 、Al2 O3 、In2 O
3 、SiO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O
5 等、あるいはこれらの複合酸化物が良く、特にZn
O、TiO2 及びSnO2 が好ましい。異種原子を含む
例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添
加、SnO2 に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素
等の添加、またTiO2 に対してはNb、Ta等の添加
が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01mo
l %〜30mol %の範囲が好ましいが、0.1mol %〜
10mol %であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散
性、透明性改良のために、微粒子作成時にケイ素化合物
を添加してもよい。本発明の金属酸化物微粒子は導電性
を有しており、その体積抵抗率は107 Ω−cm以下、特
に105 Ω−cm以下である。これらの酸化物については
特開昭56−143431号、同56−120519
号、同58−62647号などに記載されている。更に
又、特公昭59−6235号に記載のごとく、他の結晶
性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸化チタ
ン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用
してもよい。利用できる粒子サイズは1μ以下が好まし
いが、0.5μ以下であると分散後の安定性が良く使用
し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為に、
0.3μ以下の導電性粒子を利用すると透明感光材料を
形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性材
料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μm以
下で直径が1μ以下が好ましく、特に好ましいのは長さ
が10μm以下で直径0.3μ以下であり長さ/直径比
が3以上である。本発明のこれらの導電性を有する金属
酸化物は、バインダーなしで塗布液から塗布されてもよ
く、その場合更にその上にバインダーを塗布することが
好ましい。又、本発明の金属酸化物はバインダーと共に
塗布されることが更に好ましい。バインダーとしては、
特に制限されないが、前述の磁性体層に用いられるバイ
ンダーなども用いることができ、例えば、ゼラチンやデ
キストラン、ポリアクリルアミド、デンプン、ポリビニ
ルアルコールのような水溶性バインダーでもよいし、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、スチ
レン/ブタジエン共重合体、ポリスチレン、ポリエステ
ル、ポリエチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネートなどの合成重合体バインダー
を有機溶媒で使ってもよいし更にこれらの重合体バイン
ダーを水分散体の形体で用いてもよい。又、これらの金
属酸化物は球形状のものと繊維状のものを混合して使用
しても良い。本発明の金属酸化物の含有量は、0.00
051g/m2でありより好ましくは0.0009〜0.
5g/m2、特に好ましくは0.0012〜0.3g/m2
である。
ついて記す。まず第1に、好ましく使用される導電性材
料は結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むも
の及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する
異種原子を少量含むもの等は一般的に言って導電性が高
いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀乳剤にカ
ブリを与えないので特に好ましい。金属酸化物の例とし
てZnO、TiO2 、SnO2 、Al2 O3 、In2 O
3 、SiO2 、MgO、BaO、MoO3 、V2 O
5 等、あるいはこれらの複合酸化物が良く、特にZn
O、TiO2 及びSnO2 が好ましい。異種原子を含む
例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添
加、SnO2 に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素
等の添加、またTiO2 に対してはNb、Ta等の添加
が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01mo
l %〜30mol %の範囲が好ましいが、0.1mol %〜
10mol %であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散
性、透明性改良のために、微粒子作成時にケイ素化合物
を添加してもよい。本発明の金属酸化物微粒子は導電性
を有しており、その体積抵抗率は107 Ω−cm以下、特
に105 Ω−cm以下である。これらの酸化物については
特開昭56−143431号、同56−120519
号、同58−62647号などに記載されている。更に
又、特公昭59−6235号に記載のごとく、他の結晶
性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(例えば酸化チタ
ン)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用
してもよい。利用できる粒子サイズは1μ以下が好まし
いが、0.5μ以下であると分散後の安定性が良く使用
し易い。また光散乱性をできるだけ小さくする為に、
0.3μ以下の導電性粒子を利用すると透明感光材料を
形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性材
料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μm以
下で直径が1μ以下が好ましく、特に好ましいのは長さ
が10μm以下で直径0.3μ以下であり長さ/直径比
が3以上である。本発明のこれらの導電性を有する金属
酸化物は、バインダーなしで塗布液から塗布されてもよ
く、その場合更にその上にバインダーを塗布することが
好ましい。又、本発明の金属酸化物はバインダーと共に
塗布されることが更に好ましい。バインダーとしては、
特に制限されないが、前述の磁性体層に用いられるバイ
ンダーなども用いることができ、例えば、ゼラチンやデ
キストラン、ポリアクリルアミド、デンプン、ポリビニ
ルアルコールのような水溶性バインダーでもよいし、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、スチ
レン/ブタジエン共重合体、ポリスチレン、ポリエステ
ル、ポリエチレン、ポリエチレンオキサイド、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネートなどの合成重合体バインダー
を有機溶媒で使ってもよいし更にこれらの重合体バイン
ダーを水分散体の形体で用いてもよい。又、これらの金
属酸化物は球形状のものと繊維状のものを混合して使用
しても良い。本発明の金属酸化物の含有量は、0.00
051g/m2でありより好ましくは0.0009〜0.
5g/m2、特に好ましくは0.0012〜0.3g/m2
である。
【0024】又、本発明の効果を阻害しない範囲で本発
明の金属酸化物からなる層中に耐熱剤、耐候剤、無機粒
子、水溶性樹脂、エマルジョン等をマット化、膜質改良
のために添加しても良い。例えば、本発明の金属酸化物
からなる層中に無機微粒子を添加してもよい。添加する
無機微粒子の例としては、シリカ、コロイダルシリカ、
アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、
炭酸カルシウム等をあげることができる。微粒子は、平
均粒径0.01〜10μmが好ましく、より好ましくは
0.01〜5μm、塗布剤中の固型分に対して重量比で
0.05〜10倍が好ましく、特に好ましいのは0.1
〜5部である。
明の金属酸化物からなる層中に耐熱剤、耐候剤、無機粒
子、水溶性樹脂、エマルジョン等をマット化、膜質改良
のために添加しても良い。例えば、本発明の金属酸化物
からなる層中に無機微粒子を添加してもよい。添加する
無機微粒子の例としては、シリカ、コロイダルシリカ、
アルミナ、アルミナゾル、カオリン、タルク、マイカ、
炭酸カルシウム等をあげることができる。微粒子は、平
均粒径0.01〜10μmが好ましく、より好ましくは
0.01〜5μm、塗布剤中の固型分に対して重量比で
0.05〜10倍が好ましく、特に好ましいのは0.1
〜5部である。
【0025】次に本発明に好ましく用いられる導電性ポ
リマー、又はラテックスについて記す。用いられる導電
性ポリマーは特に限定されず、アニオン性、カチオン
性、ベタイン性及びノニオン性のいずれでも良いが、そ
の中でも好ましいのはアニオン性、カチオン性である。
より好ましいのはアニオン性であるスルホン酸系、カル
ボン酸系、リン酸系ポリマー又はラテックスであり、又
3級アミン系、4級アンモニウム系、ホスホニウム系で
ある。これらの導電性ポリマーは、例えば、特公昭52
−25251号、特開昭51−29923号、特公昭6
0−48024号、米国特許4701403号記載のア
ニオン系ポリマー又はラテックス、特公昭57−181
76号、同57−56059号、同58−56856
号、米国特許4118231号などに記載のカチオン系
ポリマー又はラテックスを挙げることができる。以下に
これらの導電性ポリマー又はラテックスについて具体例
を記すが、これに限定されるものではない。
リマー、又はラテックスについて記す。用いられる導電
性ポリマーは特に限定されず、アニオン性、カチオン
性、ベタイン性及びノニオン性のいずれでも良いが、そ
の中でも好ましいのはアニオン性、カチオン性である。
より好ましいのはアニオン性であるスルホン酸系、カル
ボン酸系、リン酸系ポリマー又はラテックスであり、又
3級アミン系、4級アンモニウム系、ホスホニウム系で
ある。これらの導電性ポリマーは、例えば、特公昭52
−25251号、特開昭51−29923号、特公昭6
0−48024号、米国特許4701403号記載のア
ニオン系ポリマー又はラテックス、特公昭57−181
76号、同57−56059号、同58−56856
号、米国特許4118231号などに記載のカチオン系
ポリマー又はラテックスを挙げることができる。以下に
これらの導電性ポリマー又はラテックスについて具体例
を記すが、これに限定されるものではない。
【0026】
【化1】
【0027】
【化2】
【0028】本発明のこれらの導電性を有するポリマー
又はラテックスはバインダーなしで塗布液から塗布され
てもよく、その場合更にその上にバインダーを塗布する
ことが好ましい。又、本発明の導電性を有するポリマー
又はラテックスはバインダーと共に塗布されることが更
に好ましい。バインダーとしては特に限定されないが、
好ましいのは前述したバインダーである。更に又、これ
らのバインダーと共に硬化剤も利用でき、それらの好ま
しい例は前述した硬化剤と同じである。本発明の導電性
を有するポリマー又はラテックスの含有量は、0.00
5〜5g/m2であり、好ましくは0.01〜3g/m2、
より好ましくは0.02〜1g/m2である。又、バイン
ダーは0.005〜5g/m2であり、好ましくは、0.
01〜3g/m2、特に好ましくは0.01〜2g/m2で
ある。導電性ポリマー又はラテックスとバインダーの比
は、重量比で99:1から10:90であり好ましいの
は95:5から15:85であり、特に好ましいのは9
0:10から20:80である。本発明に使用される導
電性金属酸化物、ポリマー及びラテックスの添加層は特
に限定されないが、例えば保護層、中間層、乳剤層、U
V層、アンチハレーション層、下塗り層、バック層、バ
ック保護層を挙げることができる。これらの中で好まし
いものとしては保護層、中間層、アンチハレーション
層、下塗り層、バック層、バック保護層であり、特に好
ましいのは下塗り層、バック層、中間層、アンチハレー
ション層である。
又はラテックスはバインダーなしで塗布液から塗布され
てもよく、その場合更にその上にバインダーを塗布する
ことが好ましい。又、本発明の導電性を有するポリマー
又はラテックスはバインダーと共に塗布されることが更
に好ましい。バインダーとしては特に限定されないが、
好ましいのは前述したバインダーである。更に又、これ
らのバインダーと共に硬化剤も利用でき、それらの好ま
しい例は前述した硬化剤と同じである。本発明の導電性
を有するポリマー又はラテックスの含有量は、0.00
5〜5g/m2であり、好ましくは0.01〜3g/m2、
より好ましくは0.02〜1g/m2である。又、バイン
ダーは0.005〜5g/m2であり、好ましくは、0.
01〜3g/m2、特に好ましくは0.01〜2g/m2で
ある。導電性ポリマー又はラテックスとバインダーの比
は、重量比で99:1から10:90であり好ましいの
は95:5から15:85であり、特に好ましいのは9
0:10から20:80である。本発明に使用される導
電性金属酸化物、ポリマー及びラテックスの添加層は特
に限定されないが、例えば保護層、中間層、乳剤層、U
V層、アンチハレーション層、下塗り層、バック層、バ
ック保護層を挙げることができる。これらの中で好まし
いものとしては保護層、中間層、アンチハレーション
層、下塗り層、バック層、バック保護層であり、特に好
ましいのは下塗り層、バック層、中間層、アンチハレー
ション層である。
【0029】他の具体例としては以下の方法がある。感
光材料の構成層の少なくとも一層に、少なくとも一層以
上のポリオキシエチレン系ノニオン界面活性剤を含有す
ることを特徴とする。本発明に用いられるポリオキシエ
チレン系界面活性剤は、現像液、定着液及び水への溶解
性が35℃で0.01重量%以下であることが特徴であ
る。本発明において用いられるポリオキシエチレン系界
面活性剤について以下に記す。本発明のポリオキシエチ
レン系界面活性剤はその溶解性が本発明の範囲にあれば
特に限定されないが、好ましくは炭素数が12以上のア
ルキル、アルケニル、アリル基を有する疎水部と重合度
5以上のポリオキシエチレン基の親水部から導かれる化
合物を挙げることができる。更に好ましくは炭素数16
以上のアルキル、アルケニル、アリル基を有する疎水部
と重合度7以上30以下のポリオキシエチレン基の親水
部から導かれる化合物である。これらのポリオキシエチ
レン系界面活性剤の合成は従来知られている方法で得る
ことができ、代表的な界面活性剤としては、ポリオキシ
エチレンアルキル(アルケニル、アリル)エーテル類、
ポリオキシエチレンアルキル(アルケニル、アリル)酸
エステル類、ポリオキシエチレンアルキル(アルケニ
ル、アリル)アミン又はアミド類、シリコーンのポリオ
キシエチレン類を挙げることができる。以下に本発明の
ポリオキシエチレン系界面活性剤を挙げる。
光材料の構成層の少なくとも一層に、少なくとも一層以
上のポリオキシエチレン系ノニオン界面活性剤を含有す
ることを特徴とする。本発明に用いられるポリオキシエ
チレン系界面活性剤は、現像液、定着液及び水への溶解
性が35℃で0.01重量%以下であることが特徴であ
る。本発明において用いられるポリオキシエチレン系界
面活性剤について以下に記す。本発明のポリオキシエチ
レン系界面活性剤はその溶解性が本発明の範囲にあれば
特に限定されないが、好ましくは炭素数が12以上のア
ルキル、アルケニル、アリル基を有する疎水部と重合度
5以上のポリオキシエチレン基の親水部から導かれる化
合物を挙げることができる。更に好ましくは炭素数16
以上のアルキル、アルケニル、アリル基を有する疎水部
と重合度7以上30以下のポリオキシエチレン基の親水
部から導かれる化合物である。これらのポリオキシエチ
レン系界面活性剤の合成は従来知られている方法で得る
ことができ、代表的な界面活性剤としては、ポリオキシ
エチレンアルキル(アルケニル、アリル)エーテル類、
ポリオキシエチレンアルキル(アルケニル、アリル)酸
エステル類、ポリオキシエチレンアルキル(アルケニ
ル、アリル)アミン又はアミド類、シリコーンのポリオ
キシエチレン類を挙げることができる。以下に本発明の
ポリオキシエチレン系界面活性剤を挙げる。
【0030】
【化3】
【0031】次に本発明で用いられる35℃での現像
液、定着液及び水への溶解度が0.01重量%以下の含
フッ素系界面活性剤について記す。本発明の含フッ素界
面活性剤は、その溶解性が本発明の範囲にあれば特に限
定されないが、好ましくは炭素数4以上のフッ素で一部
又は全部が置換されたアルキル、アルケニル、アリル基
を有するアニオン、カチオン、ベタイン、ノニオン性化
合物であり、更に好ましいのは炭素数6以上のパーフル
オロアルキル、パーフルオロアルケニル、パーフルオロ
アリル基を有するアニオン、カチオン、ベタイン、ノニ
オン性化合物である。以下に本発明で用いられる含フッ
素界面活性剤の具体例を記す。
液、定着液及び水への溶解度が0.01重量%以下の含
フッ素系界面活性剤について記す。本発明の含フッ素界
面活性剤は、その溶解性が本発明の範囲にあれば特に限
定されないが、好ましくは炭素数4以上のフッ素で一部
又は全部が置換されたアルキル、アルケニル、アリル基
を有するアニオン、カチオン、ベタイン、ノニオン性化
合物であり、更に好ましいのは炭素数6以上のパーフル
オロアルキル、パーフルオロアルケニル、パーフルオロ
アリル基を有するアニオン、カチオン、ベタイン、ノニ
オン性化合物である。以下に本発明で用いられる含フッ
素界面活性剤の具体例を記す。
【0032】
【化4】
【0033】
【化5】
【0034】本発明のポリオキシエチレン系界面活性剤
と含弗素界面活性剤は、現像処理されてもその溶解性が
小さいために感材中に残存する。このため、処理液中に
溶出しにくく、処理液を汚すことも泡立ちを低減でき
る。本発明のポリオキシエチレン系界面活性剤及び含フ
ッ素界面活性剤の添加場所は、写真感光材料のハロゲン
化銀乳剤層又はその他の構成層の少なくとも1層であり
その他の構成層としては例えば表面保護層、バック層、
中間層、下塗層などを挙げることが出来る。添加場所と
して特に好ましいのは表面保護層、バック層である。表
面保護層、あるいはバック層が2層から成る場合は、そ
のいずれの層でもよく、又、表面保護層の上に、さらに
オーバーコートして用いることも出来る。本発明のポリ
オキシエチレン系界面活性剤の含有量は好ましくは5〜
200mg/m2、更に好ましくは20〜100mg/m2特に
好ましくは30〜70mg/m2である。又、本発明の含弗
素界面活性剤の含有量は好ましくは0.5〜200mg/
m2、更に好ましくは1〜100mg/m2特に好ましくは1
〜60mg/m2である。
と含弗素界面活性剤は、現像処理されてもその溶解性が
小さいために感材中に残存する。このため、処理液中に
溶出しにくく、処理液を汚すことも泡立ちを低減でき
る。本発明のポリオキシエチレン系界面活性剤及び含フ
ッ素界面活性剤の添加場所は、写真感光材料のハロゲン
化銀乳剤層又はその他の構成層の少なくとも1層であり
その他の構成層としては例えば表面保護層、バック層、
中間層、下塗層などを挙げることが出来る。添加場所と
して特に好ましいのは表面保護層、バック層である。表
面保護層、あるいはバック層が2層から成る場合は、そ
のいずれの層でもよく、又、表面保護層の上に、さらに
オーバーコートして用いることも出来る。本発明のポリ
オキシエチレン系界面活性剤の含有量は好ましくは5〜
200mg/m2、更に好ましくは20〜100mg/m2特に
好ましくは30〜70mg/m2である。又、本発明の含弗
素界面活性剤の含有量は好ましくは0.5〜200mg/
m2、更に好ましくは1〜100mg/m2特に好ましくは1
〜60mg/m2である。
【0035】尚、本発明のポリエチレン系界面活性剤及
び含弗素界面活性剤はそれぞれ1種でもよいし、2種以
上の混合物でもよい。本発明に用いられるポリオキシエ
チレン系界面活性剤及び含フッ素界面活性剤を感材に適
用するに当っては、水混和性の有機溶剤に溶解して塗布
液中に添加し、しかる後に塗布して感材に含有せしめれ
ば良い。好ましい水混和性有機溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ホルムアルデヒ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メ
チルセロソルブ、アセトンなどを挙げることができ、場
合によっては水との混合液でもよい。更に本発明のポリ
オキシエチレン系界面活性剤及び含フッ素界面活性剤は
他の水可溶性界面活性剤の水溶液を用いて可溶化又は分
散して用いてもよい。この時場合によっては低沸点有機
溶媒中に予め本発明に用いられる界面活性剤を溶解しし
かる後に分散してもよい。この時好ましく用いられる低
沸点有機溶媒としては、蟻酸、酢酸、シュウ酸、マレイ
ン酸、炭酸などのアルキル(メチル、エチル、プロピル
など)、アリールエステルや塩化メチレン、クロロホル
ム、テトラハイドロフラン、ジエチルエーテルなどを挙
げることができる。又、分散剤として用いられる水可溶
性界面活性剤としては従来の公知の界面活性剤を利用で
き、好ましいものとして下記に記す。
び含弗素界面活性剤はそれぞれ1種でもよいし、2種以
上の混合物でもよい。本発明に用いられるポリオキシエ
チレン系界面活性剤及び含フッ素界面活性剤を感材に適
用するに当っては、水混和性の有機溶剤に溶解して塗布
液中に添加し、しかる後に塗布して感材に含有せしめれ
ば良い。好ましい水混和性有機溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ホルムアルデヒ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メ
チルセロソルブ、アセトンなどを挙げることができ、場
合によっては水との混合液でもよい。更に本発明のポリ
オキシエチレン系界面活性剤及び含フッ素界面活性剤は
他の水可溶性界面活性剤の水溶液を用いて可溶化又は分
散して用いてもよい。この時場合によっては低沸点有機
溶媒中に予め本発明に用いられる界面活性剤を溶解しし
かる後に分散してもよい。この時好ましく用いられる低
沸点有機溶媒としては、蟻酸、酢酸、シュウ酸、マレイ
ン酸、炭酸などのアルキル(メチル、エチル、プロピル
など)、アリールエステルや塩化メチレン、クロロホル
ム、テトラハイドロフラン、ジエチルエーテルなどを挙
げることができる。又、分散剤として用いられる水可溶
性界面活性剤としては従来の公知の界面活性剤を利用で
き、好ましいものとして下記に記す。
【0036】
【化6】
【0037】これらの分散剤の添加量は、本発明のポリ
オキシエチレン系界面活性剤あるいは含弗素界面活性剤
の固型分に対して0.5〜100重量%使用することが
好ましい。本発明の写真感光材料に用いられる各種添加
剤等については以下の該当箇所に記載のものを用いるこ
とができる。
オキシエチレン系界面活性剤あるいは含弗素界面活性剤
の固型分に対して0.5〜100重量%使用することが
好ましい。本発明の写真感光材料に用いられる各種添加
剤等については以下の該当箇所に記載のものを用いるこ
とができる。
【0038】 項 目 該 当 箇 所
【0039】 1)色調改良剤 特開昭62−276539号公報第2頁左下欄7行目 から同第10頁左下欄20行目、特開平3−9424 9号公報第6頁左下欄15行目から第11頁右上欄1 9行目。
【0040】 2)マット剤、滑り剤、 特開平2−68539号公報第12頁左上欄10行目 可塑剤 から同右上欄10行目、同第14頁左下欄10行目か ら同右下欄1行目。
【0041】 3)親水性コロイド 特開平2−68539号公報第12頁右上欄11行目 から同左下欄16行目。
【0042】 4)硬膜剤 特開平2−68539号公報第12頁左下欄17行目 から同第13頁右上欄6行目。
【0043】 5)ポリヒドロキシベ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から同第 ンゼン類 12頁左下欄、EP特許第452772A号公報。
【0044】 6)層構成 特開平3−198041号公報。
【0045】本発明の現像液に好ましく用いられる現像
主薬はジヒドロキシベンゼン系現像主薬である。ジヒド
ロキシベンゼン系現像主薬としては、ハイドロキノン、
クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプ
ロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジ
メチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノン
が好ましい。現像主薬は通常0.05モル/リットル〜
0.8モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
本発明では特に上記のジヒドロキシベンゼン系現像主薬
と共に1−フェニル−3−ピラゾリドン類またはp−ア
ミノフェノール類を併用するのが好ましい。
主薬はジヒドロキシベンゼン系現像主薬である。ジヒド
ロキシベンゼン系現像主薬としては、ハイドロキノン、
クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプ
ロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジ
メチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノン
が好ましい。現像主薬は通常0.05モル/リットル〜
0.8モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
本発明では特に上記のジヒドロキシベンゼン系現像主薬
と共に1−フェニル−3−ピラゾリドン類またはp−ア
ミノフェノール類を併用するのが好ましい。
【0046】1−フェニル−3−ピラゾリドン類として
は、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾ
リドンなどがある。p−アミノフェノール類としては、
N−メチル−p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロ
キシエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフ
ェノール、p−ベンジルアミノフェノールなどがある
が、なかでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ま
しい。
は、1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−4,4−ジヒドロキシメチル−3−
ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾ
リドンなどがある。p−アミノフェノール類としては、
N−メチル−p−アミノフェノール、N−(β−ヒドロ
キシエチル)−p−アミノフェノール、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)グリシン、2−メチル−p−アミノフ
ェノール、p−ベンジルアミノフェノールなどがある
が、なかでもN−メチル−p−アミノフェノールが好ま
しい。
【0047】ジヒドロキシベンゼン系現像主薬と1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類またはp−アミノフェノー
ル類等の補助現像主薬を組合せて使用する場合には前者
を0.05モル/リットル〜0.5モル/リットル、後
者を0.001〜0.06モル/リットル(特に0.0
03〜0.06モル/リットル)の量で用いるのが好ま
しい。
ェニル−3−ピラゾリドン類またはp−アミノフェノー
ル類等の補助現像主薬を組合せて使用する場合には前者
を0.05モル/リットル〜0.5モル/リットル、後
者を0.001〜0.06モル/リットル(特に0.0
03〜0.06モル/リットル)の量で用いるのが好ま
しい。
【0048】本発明に用いられる現像液は、0.012
モル/リットルが好ましい。本発明に用いる現像液の臭
化物イオン濃度が0.012モル/リットル以下である
理由は、通常の医療用途の現像液の臭化物イオン濃度は
0.016モル/リットル以上であり、この濃度では高
塩化銀含有写真感光材料にとっては現像抑制が大きく、
迅速処理には不敵であるからである。下限は0.000
4モル/リットル以上が好ましく、さらには0.001
モル/リットル以上が好ましい。この理由は臭化物イオ
ンが適度に存在することでカブリが低減できるからであ
る。本発明の現像液には亜硫酸塩を用いてもよい。亜硫
酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜
硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸
ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は0.01モル/リッ
トル以上、0.8モル/リットル以下が好ましい。本発
明に用いる現像液には現像促進のためにアミノ化合物を
含有してもよい。特に特開昭56−106244号、特
開昭61−267759号、特願平1−29418号に
記載のアミノ化合物を用いてもよい。
モル/リットルが好ましい。本発明に用いる現像液の臭
化物イオン濃度が0.012モル/リットル以下である
理由は、通常の医療用途の現像液の臭化物イオン濃度は
0.016モル/リットル以上であり、この濃度では高
塩化銀含有写真感光材料にとっては現像抑制が大きく、
迅速処理には不敵であるからである。下限は0.000
4モル/リットル以上が好ましく、さらには0.001
モル/リットル以上が好ましい。この理由は臭化物イオ
ンが適度に存在することでカブリが低減できるからであ
る。本発明の現像液には亜硫酸塩を用いてもよい。亜硫
酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜
硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウ
ム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸
ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は0.01モル/リッ
トル以上、0.8モル/リットル以下が好ましい。本発
明に用いる現像液には現像促進のためにアミノ化合物を
含有してもよい。特に特開昭56−106244号、特
開昭61−267759号、特願平1−29418号に
記載のアミノ化合物を用いてもよい。
【0049】本発明に用いられる現像液のpH値は1
0.8以下、さらに9.8以下が好ましい。pH値の設
定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アル
カリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム)を用いることができる。本発明の現像補充液にはそ
の他、ホウ酸、ホウ砂、第二リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸カリウム、第一リン酸ナトリウム、第一リン酸カリ
ウムの如きpH緩衝剤それ以外に特開昭60−9343
3号に記載のpH緩衝剤を用いることができる;臭化カ
リウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤;ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、
エタノール、メタノールの如き有機溶剤;ベンツトリア
ゾール誘導体としては5−メチルベンツトリアゾル、5
−ブロムベンツトリアゾール、5−クロルベンツトリア
ゾール、5−ブチルベンツトリアゾール、ベンツトリア
ゾール等があるが特に5−メチルベンツトリアゾールが
好ましいニトロインダゾールとしては5ニトロインダゾ
ール、6ニトロインダゾール、4ニトロインダゾール、
7ニトロインダゾール、3シアノ−5−ニトロインダゾ
ール等があるが特に5−ニトロインダゾールが好まし
い。特に5−ニトロインダゾール等の化合物を用いると
きはジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸塩保恒剤
を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解しておき使用
時に両部分を混合して水を加えること等が一般的であ
る。さらに5−ニトロインダゾールの溶解せしめる部分
をアルカリ性にしておくと黄色く着色し取扱い等に便利
である。更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬水軟
化剤、硬膜剤などを含んでもよい。
0.8以下、さらに9.8以下が好ましい。pH値の設
定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アル
カリ金属塩(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウ
ム)を用いることができる。本発明の現像補充液にはそ
の他、ホウ酸、ホウ砂、第二リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸カリウム、第一リン酸ナトリウム、第一リン酸カリ
ウムの如きpH緩衝剤それ以外に特開昭60−9343
3号に記載のpH緩衝剤を用いることができる;臭化カ
リウム、沃化カリウムの如き現像抑制剤;ジメチルホル
ムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、
エタノール、メタノールの如き有機溶剤;ベンツトリア
ゾール誘導体としては5−メチルベンツトリアゾル、5
−ブロムベンツトリアゾール、5−クロルベンツトリア
ゾール、5−ブチルベンツトリアゾール、ベンツトリア
ゾール等があるが特に5−メチルベンツトリアゾールが
好ましいニトロインダゾールとしては5ニトロインダゾ
ール、6ニトロインダゾール、4ニトロインダゾール、
7ニトロインダゾール、3シアノ−5−ニトロインダゾ
ール等があるが特に5−ニトロインダゾールが好まし
い。特に5−ニトロインダゾール等の化合物を用いると
きはジヒドロキシベンゼン系現像主薬や亜硫酸塩保恒剤
を含む部分とは別の部分にあらかじめ溶解しておき使用
時に両部分を混合して水を加えること等が一般的であ
る。さらに5−ニトロインダゾールの溶解せしめる部分
をアルカリ性にしておくと黄色く着色し取扱い等に便利
である。更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、硬水軟
化剤、硬膜剤などを含んでもよい。
【0050】現像液中のキレート剤の具体的化合物例と
しては、下記化合物が挙げられる。即ちエチレンジアミ
ンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジアミノプロパン
四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミン三酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、エチレン
ジアミン二酢酸、エチレンジアミン二プロピオン酸、イ
ミノ二酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒドロキシ
エチルイミノ二酢酸、1,3−ジアミノプロパノール四
酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、トランスシクロ
ヘキサンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グ
リコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテ
トラキスメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペ
ンタメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カルボン酸、2−
ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1−ヒ
ドロキシ−1−ホスホノプロパン−1,3,3−トリカ
ルボン酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸、ピロリ
ン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサ
メタリン酸ナトリウムが挙げられ、特に好ましくは例え
ばジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミ
ン六酢酸、1,3−ジアミノプロパノール四酢酸、グリ
コールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルエチ
レンジアミン三酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4
−トリカルボン酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カ
ルボン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、エチレン
ジアミンテトラホスホン酸、ジエチレントリアミンペン
タホスホン酸、1−ヒドロキシプロピリデン−1,1−
ジホスホン酸、1−アミノエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1 −ジホスホン
酸やこれらの塩がある。
しては、下記化合物が挙げられる。即ちエチレンジアミ
ンジオルトヒドロキシフェニル酢酸、ジアミノプロパン
四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミン三酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、エチレン
ジアミン二酢酸、エチレンジアミン二プロピオン酸、イ
ミノ二酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ヒドロキシ
エチルイミノ二酢酸、1,3−ジアミノプロパノール四
酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、トランスシクロ
ヘキサンジアミン四酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グ
リコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミンテ
トラキスメチレンホスホン酸、ジエチレントリアミンペ
ンタメチレンホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホ
ン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カルボン酸、2−
ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1−ヒ
ドロキシ−1−ホスホノプロパン−1,3,3−トリカ
ルボン酸、カテコール−3,5−ジスルホン酸、ピロリ
ン酸ナトリウム、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサ
メタリン酸ナトリウムが挙げられ、特に好ましくは例え
ばジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミ
ン六酢酸、1,3−ジアミノプロパノール四酢酸、グリ
コールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルエチ
レンジアミン三酢酸、2−ホスホノブタン−1,2,4
−トリカルボン酸、1,1−ジホスホノエタン−2−カ
ルボン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸、エチレン
ジアミンテトラホスホン酸、ジエチレントリアミンペン
タホスホン酸、1−ヒドロキシプロピリデン−1,1−
ジホスホン酸、1−アミノエチリデン−1,1−ジホス
ホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1 −ジホスホン
酸やこれらの塩がある。
【0051】本発明の現像液には銀汚れの目的のために
特公昭62−4702、特公昭62−4703、特願昭
63−24123、特願平3−94955、特願平3−
112275、特願平3−233718に記載の化合物
を用いることができる。
特公昭62−4702、特公昭62−4703、特願昭
63−24123、特願平3−94955、特願平3−
112275、特願平3−233718に記載の化合物
を用いることができる。
【0052】その他に本発明の現像液にはジアルデヒド
系硬膜剤またはその重亜硫酸塩付加物を含ませてもよ
い。その具体例を挙げればグルタルアルデヒド、α−メ
チルグルタルアルデヒド、β−メチルグルタルアルデヒ
ド、マレインジアルデヒド、サクシンジアルデヒド、メ
トキシサクシンジアルデヒド、メチルサクシンジアルデ
ヒド、α−メトキシ−β−エトキシグルタルアルデヒ
ド、α−n−ブトキシグルタルアルデヒド、α,α−ジ
メトキシサクシンジアルデヒド、β−イソプロピルサク
シンジアルデヒド、α,α−ジエチルサクシンジアルデ
ヒド、ブチルマレインジアルデヒド、又はこれらの重亜
硫酸塩付加物などがある。ジアルデヒド化合物は処理さ
れる写真層の感度が抑えられない程度に、また乾燥時間
が著しく長くならない程度の量で用いられる。具体的に
は現像液1リットル当り1〜50g、好ましくは3〜1
0gである。なかでもグルタルアルデヒドまたはその重
亜硫酸塩付加物が最も一般的に使用される。
系硬膜剤またはその重亜硫酸塩付加物を含ませてもよ
い。その具体例を挙げればグルタルアルデヒド、α−メ
チルグルタルアルデヒド、β−メチルグルタルアルデヒ
ド、マレインジアルデヒド、サクシンジアルデヒド、メ
トキシサクシンジアルデヒド、メチルサクシンジアルデ
ヒド、α−メトキシ−β−エトキシグルタルアルデヒ
ド、α−n−ブトキシグルタルアルデヒド、α,α−ジ
メトキシサクシンジアルデヒド、β−イソプロピルサク
シンジアルデヒド、α,α−ジエチルサクシンジアルデ
ヒド、ブチルマレインジアルデヒド、又はこれらの重亜
硫酸塩付加物などがある。ジアルデヒド化合物は処理さ
れる写真層の感度が抑えられない程度に、また乾燥時間
が著しく長くならない程度の量で用いられる。具体的に
は現像液1リットル当り1〜50g、好ましくは3〜1
0gである。なかでもグルタルアルデヒドまたはその重
亜硫酸塩付加物が最も一般的に使用される。
【0053】勿論、ジアルデヒド系硬膜剤の重亜硫酸塩
付加物が用いられた場合には、この付加物の重亜硫酸塩
も現像液中の亜硫酸塩として計算される。この他、L.
F.A.メイソン著「フォトグラフィック・プロセシン
グ・ケミストリー」、フォーカル・プレス刊(1966
年)の226〜229頁、米国特許第2,193,01
5号、同第2,592,364号、特開昭48−649
33号などに記載の添加剤を用いてもよい。
付加物が用いられた場合には、この付加物の重亜硫酸塩
も現像液中の亜硫酸塩として計算される。この他、L.
F.A.メイソン著「フォトグラフィック・プロセシン
グ・ケミストリー」、フォーカル・プレス刊(1966
年)の226〜229頁、米国特許第2,193,01
5号、同第2,592,364号、特開昭48−649
33号などに記載の添加剤を用いてもよい。
【0054】本発明では、上記のような現像液を感光材
料1m2あたり200ml以下、特に50ml〜200mlの範
囲で補充しながら現像処理を行う。現像当初に自現機の
現像槽に注入する現像液としては、上記の現像液と同じ
組成の液を用いてもよいし、一部の組成を変えた液を用
いてもよい。
料1m2あたり200ml以下、特に50ml〜200mlの範
囲で補充しながら現像処理を行う。現像当初に自現機の
現像槽に注入する現像液としては、上記の現像液と同じ
組成の液を用いてもよいし、一部の組成を変えた液を用
いてもよい。
【0055】本発明に用いる定着液はチオ硫酸塩を含む
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜
6.0を有する。定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどがある。定着剤の使用量は適
宜変えることができ、一般には約0.1〜約3モル/リ
ットルである。定着液には硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば塩
化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどが
ある。
水溶液であり、pH3.8以上、好ましくは4.2〜
6.0を有する。定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸アンモニウムなどがある。定着剤の使用量は適
宜変えることができ、一般には約0.1〜約3モル/リ
ットルである。定着液には硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩を含んでもよく、それらには、例えば塩
化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明ばんなどが
ある。
【0056】定着液には、酒石酸、クエン酸、グルコン
酸あるいはそれらの誘導体を単独であるいは2種以上用
いることができる。これらの化合物は定着液1リットル
につき0.005モル以上含むものが有効で、特に0.
01モル/リットル〜0.03モル/リットルがとくに
有効である。
酸あるいはそれらの誘導体を単独であるいは2種以上用
いることができる。これらの化合物は定着液1リットル
につき0.005モル以上含むものが有効で、特に0.
01モル/リットル〜0.03モル/リットルがとくに
有効である。
【0057】定着液には所望により保恒剤(例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のある
キレート剤や特開昭62−78551号記載の化合物を
含むことができる。本発明では、上記のような定着液を
感光材料1m2あたり200ml以下、特に50ml〜200
mlの範囲で補充しながら定着処理を行う。上記本発明に
おける処理方法では、現像、定着工程の後、水洗水また
は安定化液で処理され、次いで乾燥される。
硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸、硼
酸)、pH調整剤(例えば、硫酸)、硬水軟化能のある
キレート剤や特開昭62−78551号記載の化合物を
含むことができる。本発明では、上記のような定着液を
感光材料1m2あたり200ml以下、特に50ml〜200
mlの範囲で補充しながら定着処理を行う。上記本発明に
おける処理方法では、現像、定着工程の後、水洗水また
は安定化液で処理され、次いで乾燥される。
【0058】本発明に用いられる自現機としてはローラ
ー搬送型、ベルト搬送化等種々の形式のものを用いるこ
とができるが、ローラー搬送型の自現機が好ましい。ま
た特開平1−166040号や特願昭63−18631
号記載のような開口率が小さい現像タンクの自現機を用
いることにより、空気酸化や蒸発が少なく、処理環境に
安定な稼働が可能となり、さらに補充量を低減すること
ができる。水洗水の補充量を少なくする方法として、古
くより多段向流方式(例えば2段、3段など)が知られ
ている。この多段向流方式を本発明に適用すれば定着後
の感光材料は徐々に清浄な方向、つまり定着液で汚れて
いない処理液の方に順次接触して処理されていくので、
さらに効率の良い水洗がなされる。上記の節水処理また
は無配管処理には、水洗水または安定化液に防ばい手段
を施すことが好ましい。
ー搬送型、ベルト搬送化等種々の形式のものを用いるこ
とができるが、ローラー搬送型の自現機が好ましい。ま
た特開平1−166040号や特願昭63−18631
号記載のような開口率が小さい現像タンクの自現機を用
いることにより、空気酸化や蒸発が少なく、処理環境に
安定な稼働が可能となり、さらに補充量を低減すること
ができる。水洗水の補充量を少なくする方法として、古
くより多段向流方式(例えば2段、3段など)が知られ
ている。この多段向流方式を本発明に適用すれば定着後
の感光材料は徐々に清浄な方向、つまり定着液で汚れて
いない処理液の方に順次接触して処理されていくので、
さらに効率の良い水洗がなされる。上記の節水処理また
は無配管処理には、水洗水または安定化液に防ばい手段
を施すことが好ましい。
【0059】防ばい手段としては、特開昭60−263
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方
法、特開昭61−115154号、同62−15395
2号、特願昭61−63030号、同61−51396
号に記載の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
さらには、L.F.West,"Water Quality Criteria"Photo.S
ci.& Eng.Vol. 9 No.6(1965)、M.W.Beach,"Wic
robiological Growths in Motion-picture Processing"
SMPTE Journal Vol. 85、(1976)、R.D.Deega
n, "Phot Processing Wash Water Biocides "J.Imaging
Tech10、No. 6(1984)および特開昭57−8
542号、同57−58143号、同58−10514
5号、同57−132146号、同58−18631
号、同57−97530号、同57−157244号な
どに記載されている防菌剤、防ばい剤、界面活性剤など
を併用することもできる。
939号に記された紫外線照射法、同60−26394
0号に記された磁場を用いる方法、同61−13163
2号に記されたイオン交換樹脂を用いて純水にする方
法、特開昭61−115154号、同62−15395
2号、特願昭61−63030号、同61−51396
号に記載の防菌剤を用いる方法を用いることができる。
さらには、L.F.West,"Water Quality Criteria"Photo.S
ci.& Eng.Vol. 9 No.6(1965)、M.W.Beach,"Wic
robiological Growths in Motion-picture Processing"
SMPTE Journal Vol. 85、(1976)、R.D.Deega
n, "Phot Processing Wash Water Biocides "J.Imaging
Tech10、No. 6(1984)および特開昭57−8
542号、同57−58143号、同58−10514
5号、同57−132146号、同58−18631
号、同57−97530号、同57−157244号な
どに記載されている防菌剤、防ばい剤、界面活性剤など
を併用することもできる。
【0060】さらに、水洗浴または安定化浴には、R.T.
Kreiman 著、J.Image.Tech10、(6)242頁(19
84)に記載されたイソチアゾリン系化合物、Research
Disclosure 第205巻、No.20526(1981年
5月号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、同第2
28巻、No.22845(1983年4月号)に記載さ
れたイソチアゾリン系化合物、特願昭61−51396
号に記載された化合物などを防菌剤(Microbiocide) と
して併用することもできる。その他、「防菌防黴の化
学」堀口博著、三共出版(昭和57)、「防菌防黴技術
ハンドブック」日本防菌防黴学会・博報堂(昭和61)
に記載されているような化合物を含んでもよい。
Kreiman 著、J.Image.Tech10、(6)242頁(19
84)に記載されたイソチアゾリン系化合物、Research
Disclosure 第205巻、No.20526(1981年
5月号)に記載されたイソチアゾリン系化合物、同第2
28巻、No.22845(1983年4月号)に記載さ
れたイソチアゾリン系化合物、特願昭61−51396
号に記載された化合物などを防菌剤(Microbiocide) と
して併用することもできる。その他、「防菌防黴の化
学」堀口博著、三共出版(昭和57)、「防菌防黴技術
ハンドブック」日本防菌防黴学会・博報堂(昭和61)
に記載されているような化合物を含んでもよい。
【0061】本発明の方法において少量の水洗水で水洗
するときには特開昭63−18350号に記載のスクイ
ズローラー洗浄槽を設けることがより好ましい。また、
特開昭63−143548号のような水洗工程の構成を
とることが好ましい。さらに、本発明の方法で水洗また
は安定化浴に防ばい手段を施した水を処理に応じて補充
することによって生ずる水洗または安定化浴からのオー
バーフローの一部または全部は特開昭60−23513
3号に記載されているようにその前の処理工程である定
着能を有する処理液に利用することもできる。
するときには特開昭63−18350号に記載のスクイ
ズローラー洗浄槽を設けることがより好ましい。また、
特開昭63−143548号のような水洗工程の構成を
とることが好ましい。さらに、本発明の方法で水洗また
は安定化浴に防ばい手段を施した水を処理に応じて補充
することによって生ずる水洗または安定化浴からのオー
バーフローの一部または全部は特開昭60−23513
3号に記載されているようにその前の処理工程である定
着能を有する処理液に利用することもできる。
【0062】本発明において「現像工程時間」または
「現像時間」とは、処理する感光材料の先端が自現機の
現像タンク液に浸漬してから次の定着液に浸漬するまで
の時間、「定着時間」とは定着タンク液に浸漬してから
次の水洗タンク液(安定液)に浸漬するまでの時間、
「水洗時間」とは水洗タンク液に浸漬している時間をい
う。また「乾燥時間」とは、通常自現機には、35℃〜
100℃、好ましくは40℃〜80℃の熱風が吹きつけ
られる乾燥ゾーンが設置されており、その乾燥ゾーンに
入っている時間をいう。本発明における現像処理では、
現像時間が5秒〜30秒、好ましくは7秒〜17秒、そ
の現像温度は25℃〜50℃が好ましく、30℃〜40
℃がより好ましい。
「現像時間」とは、処理する感光材料の先端が自現機の
現像タンク液に浸漬してから次の定着液に浸漬するまで
の時間、「定着時間」とは定着タンク液に浸漬してから
次の水洗タンク液(安定液)に浸漬するまでの時間、
「水洗時間」とは水洗タンク液に浸漬している時間をい
う。また「乾燥時間」とは、通常自現機には、35℃〜
100℃、好ましくは40℃〜80℃の熱風が吹きつけ
られる乾燥ゾーンが設置されており、その乾燥ゾーンに
入っている時間をいう。本発明における現像処理では、
現像時間が5秒〜30秒、好ましくは7秒〜17秒、そ
の現像温度は25℃〜50℃が好ましく、30℃〜40
℃がより好ましい。
【0063】本発明によれば定着温度および時間は約2
0℃〜約50℃で5秒〜30秒が好ましく、25℃〜4
0℃で7秒〜17秒がより好ましい。この範囲内で十分
な定着ができ、残色を生じない程度に増感色素を溶出さ
せることができる。水洗(または安定浴)における温度
および時間は0〜50℃で5秒〜30秒が好ましく、1
5℃〜40℃で7秒〜17秒がより好ましい。
0℃〜約50℃で5秒〜30秒が好ましく、25℃〜4
0℃で7秒〜17秒がより好ましい。この範囲内で十分
な定着ができ、残色を生じない程度に増感色素を溶出さ
せることができる。水洗(または安定浴)における温度
および時間は0〜50℃で5秒〜30秒が好ましく、1
5℃〜40℃で7秒〜17秒がより好ましい。
【0064】本発明の方法によれば、現像、定着および
水洗(または安定化)された感光材料は水洗水をしぼり
切る。すなわちスクイズローラーを経て乾燥される。乾
燥は約40℃〜約100℃で行われ、乾燥時間は周囲の
状態によって適宜変えられるが、通常は約5秒〜40秒
でよく、特により好ましくは40〜80℃で約5秒〜3
0秒である。本発明の感材/処理システムで Dry to Dr
y で100秒以下の現像処理をするときには、迅速処理
特有の現像ムラを防止するために特開昭63−1519
43号公報に記載されているようなゴム材質のローラー
を現像タンク出口のローラーに適用することや、特開昭
63−151944号公報に記載されているように現像
液タンク内の現像液攪拌のための吐出流速を10m/分
以上にすることや、さらには、特開昭63−26475
8号公報に記載されているように、少なくとも現像処理
中は待機中より強い攪拌をすることがより好ましい。さ
らに迅速処理のためには、特に定着液タンクのローラー
の構成は、定着速度を速めるために、対向ローラーであ
ることがより好ましい。対向ローラーで構成することに
よって、ローラーの本数を少なくでき、処理タンクを小
さくできる。すなわち自現機をよりコンパクトにするこ
とが可能となる。
水洗(または安定化)された感光材料は水洗水をしぼり
切る。すなわちスクイズローラーを経て乾燥される。乾
燥は約40℃〜約100℃で行われ、乾燥時間は周囲の
状態によって適宜変えられるが、通常は約5秒〜40秒
でよく、特により好ましくは40〜80℃で約5秒〜3
0秒である。本発明の感材/処理システムで Dry to Dr
y で100秒以下の現像処理をするときには、迅速処理
特有の現像ムラを防止するために特開昭63−1519
43号公報に記載されているようなゴム材質のローラー
を現像タンク出口のローラーに適用することや、特開昭
63−151944号公報に記載されているように現像
液タンク内の現像液攪拌のための吐出流速を10m/分
以上にすることや、さらには、特開昭63−26475
8号公報に記載されているように、少なくとも現像処理
中は待機中より強い攪拌をすることがより好ましい。さ
らに迅速処理のためには、特に定着液タンクのローラー
の構成は、定着速度を速めるために、対向ローラーであ
ることがより好ましい。対向ローラーで構成することに
よって、ローラーの本数を少なくでき、処理タンクを小
さくできる。すなわち自現機をよりコンパクトにするこ
とが可能となる。
【0065】以下、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明がこれらによって限定されるものでは
ない。
明するが、本発明がこれらによって限定されるものでは
ない。
【0066】
実施例1 1.ハロゲン化銀乳剤の調製 a)ハロゲン化銀乳剤Aの調製 ゼラチン32gを蒸留水900mlに添加し、40℃にて
溶解後、硫酸でpHを3.8に調節し、塩化ナトリウム
3.3gを添加した。硝酸銀32gを蒸溜水200mlに
溶解した液と塩化ナトリウム11g、K2 IrCl6 を
完成ハロゲン化銀モルあたり1×10-7モルとなる量を
蒸留水200mlに溶解した液とを40℃の条件下で2分
間で前記の液に添加混合した。更に硝酸銀64gを蒸留
水280mlに溶解した液と塩化ナトリウム21.6gを
蒸留水275mlに溶解した液とを40℃の条件下で5分
間かけて添加混合した。引き続き、硝酸銀64gを蒸留
水280mlに溶解した液と塩化ナトリウム22.4g、
K4 Fe(CN)6・3H2Oをハロゲン化銀1モルあた
り1×10-4モルとなる量を蒸留水285mlに溶解した
液とを40℃の条件下でさらに5分間かけて添加混合し
た。得られた乳剤を電子顕微鏡にて観察したところ、投
影面積円相当直径約0.21μmの粒子サイズで粒子サ
イズ分布の変動係数として9.8%の値を有する立方体
の粒子から成る乳剤であった。
溶解後、硫酸でpHを3.8に調節し、塩化ナトリウム
3.3gを添加した。硝酸銀32gを蒸溜水200mlに
溶解した液と塩化ナトリウム11g、K2 IrCl6 を
完成ハロゲン化銀モルあたり1×10-7モルとなる量を
蒸留水200mlに溶解した液とを40℃の条件下で2分
間で前記の液に添加混合した。更に硝酸銀64gを蒸留
水280mlに溶解した液と塩化ナトリウム21.6gを
蒸留水275mlに溶解した液とを40℃の条件下で5分
間かけて添加混合した。引き続き、硝酸銀64gを蒸留
水280mlに溶解した液と塩化ナトリウム22.4g、
K4 Fe(CN)6・3H2Oをハロゲン化銀1モルあた
り1×10-4モルとなる量を蒸留水285mlに溶解した
液とを40℃の条件下でさらに5分間かけて添加混合し
た。得られた乳剤を電子顕微鏡にて観察したところ、投
影面積円相当直径約0.21μmの粒子サイズで粒子サ
イズ分布の変動係数として9.8%の値を有する立方体
の粒子から成る乳剤であった。
【0067】この乳剤と脱塩処理後、ゼラチン72g、
フェノキシエタノール2.6gを加え、pH6.7、塩
化ナトリウムにてpAg7.9合わせて、次の手順で化
学増感を58℃にて行った。まず、平均粒子サイズ0.
05μmの単分散臭化銀乳剤をハロゲン化銀で1.1モ
ル%相当加えて、次に化合物(1)を7.2mg、塩化金
酸9.2mg、トリエチルチオ尿素1.3mg、セレン増感
剤(A)0.72mg、さらに核酸0.29gを加えて、
最後に4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン162mgを加えて、急冷固化して乳
剤Aとした。
フェノキシエタノール2.6gを加え、pH6.7、塩
化ナトリウムにてpAg7.9合わせて、次の手順で化
学増感を58℃にて行った。まず、平均粒子サイズ0.
05μmの単分散臭化銀乳剤をハロゲン化銀で1.1モ
ル%相当加えて、次に化合物(1)を7.2mg、塩化金
酸9.2mg、トリエチルチオ尿素1.3mg、セレン増感
剤(A)0.72mg、さらに核酸0.29gを加えて、
最後に4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン162mgを加えて、急冷固化して乳
剤Aとした。
【0068】化合物(1)
【化7】
【0069】セレン増感剤(A)
【化8】
【0070】2.乳剤塗布液の調製 乳剤Aにハロゲン化銀1モルあたり、下記の薬品を添加
して、乳剤塗布液とした。
して、乳剤塗布液とした。
【0071】(乳剤塗布液処方)
【0072】 イ.分光増感色素〔2〕 5.5×10-5モル ロ.強色増感剤〔3〕 3.3×10-4モル ハ.ポリアクリルアミド(分子量4万) 9.2g ニ.トリメチロールプロパン 1.4g ホ.ポリ(エチルアクリレート/メタクリル酸) のラテックス 22g
【0073】分光増感色素〔2〕
【0074】
【化9】
【0075】強色増感剤〔3〕
【0076】
【化10】
【0077】3.乳剤層の表面保護層塗布液の調製 容器を40℃に加温し、下記に示す薬品を加えて塗布液
とした。 イ.ゼラチン 100g ロ.ポリアクリルアミド(分子量4万) 12.3g ハ.ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(分子量 60万) 0.6g ニ.ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子 サイズ2.5μm) 2.7g ホ.ポリアクリル酸ナトリウム 3.7g ヘ.t−オクチルフェノキシエトキシエタンスル ホン酸ナトリウム 1.5g ト.表−Iに記載の化合物および量 チ.化合物R−1 84mg リ.化合物R−4 84mg ヌ.NaOH 0.2g ル.メタノール 78cc ヲ.1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミ ド)エタン 乳剤層と表面保護 層の総ゼラチン量 に対して、2.5 重量%になるよう に調製。 ワ.化合物(4) 52mg
とした。 イ.ゼラチン 100g ロ.ポリアクリルアミド(分子量4万) 12.3g ハ.ポリスチレンスルホン酸ナトリウム(分子量 60万) 0.6g ニ.ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子 サイズ2.5μm) 2.7g ホ.ポリアクリル酸ナトリウム 3.7g ヘ.t−オクチルフェノキシエトキシエタンスル ホン酸ナトリウム 1.5g ト.表−Iに記載の化合物および量 チ.化合物R−1 84mg リ.化合物R−4 84mg ヌ.NaOH 0.2g ル.メタノール 78cc ヲ.1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミ ド)エタン 乳剤層と表面保護 層の総ゼラチン量 に対して、2.5 重量%になるよう に調製。 ワ.化合物(4) 52mg
【0078】
【化11】
【0079】4.バックの導電層 イ.ゼラチン量 50g ロ.表−Iに記載の化合物及び量 5.バック層塗布液の調製
【0080】容器を40℃に加温し、下記に示す薬品を
加えて、バック層塗布液とした。 イ.ゼラチン量 50g ロ.染料(A) 2.38g
加えて、バック層塗布液とした。 イ.ゼラチン量 50g ロ.染料(A) 2.38g
【0081】
【化12】
【0082】 ハ.ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 1.1g ニ.リン酸 0.55g ホ.ポリ(エチルアクリレート/メタクリル酸) ラテックス 2.9g ヘ.化合物(4) 46mg ト.染料(B)の特開昭61−285445記載 のオイル分散物 染料自身として 246mg 染料(B)
【0083】
【化13】
【0084】 チ.染料(C)の特開昭62−275639記載 のオリゴマー界面活性剤分散物 染料自身として 46mg 染料(C)
【0085】
【化14】
【0086】6.バック層の表面保護層塗布液の調製
【0087】容器を40℃に加温し、下記に示す薬品を
加えて塗布液とした。
加えて塗布液とした。
【0088】 イ.ゼラチン 100g ロ.ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 0.3g ハ.ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒子 サイズ3.5μm) 4.3g ニ.t−オクチルフェノキシエトキシエタンスル ホン酸ナトリウム 1.8g ホ.ポリアクリル酸ナトリウム 1.7g ヘ.表−Iに記載の化合物および量 ト.化合物R−1 268mg チ.化合物R−4 45mg リ.NaOH 0.3g ヌ.メタノール 131ml ル.1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミ ド)エタン バック層と表面保 護層の総ゼラチン 量に対して、2. 2%になるように 調製。 ヲ.化合物(4) 45mg
【0089】7.写真材料の作製 前述のバックの導電層、バック層塗布液をバック層の表
面保護層とともに青色着色されたポリエチレンテレフタ
レートの支持体の一方側に、バックの導電層、バック層
のゼラチン塗布量がそれぞれ1.35g/m2、バック層
の表面保護層のゼラチン量が1.13g/m2となるよう
に塗布した。これに続いて支持体の反対側に前述の乳剤
塗布液と表面保護層塗布液とを、塗布Ag量が1.85
g/m2で乳剤層のゼラチン塗布量が1.6g/m2でかつ
表面保護層のゼラチン塗布量が1.23g/m2となるよ
うに塗布した。このようにして写真材料1〜7を作製し
た。
面保護層とともに青色着色されたポリエチレンテレフタ
レートの支持体の一方側に、バックの導電層、バック層
のゼラチン塗布量がそれぞれ1.35g/m2、バック層
の表面保護層のゼラチン量が1.13g/m2となるよう
に塗布した。これに続いて支持体の反対側に前述の乳剤
塗布液と表面保護層塗布液とを、塗布Ag量が1.85
g/m2で乳剤層のゼラチン塗布量が1.6g/m2でかつ
表面保護層のゼラチン塗布量が1.23g/m2となるよ
うに塗布した。このようにして写真材料1〜7を作製し
た。
【0090】8.現像液の調製 水酸化カリウム 23g 亜硫酸ナトリウム 35g 亜硫酸カリウム 44g ジエチレントリアミン五酢酸 2g 硼酸 10g 炭酸カリウム 13g ハイドロキノン 35g ジエチレングリコール 50g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェ ニル−3−ピラゾリドン 4g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.06g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2− チオキソ−4(1H)キナゾリノン 0.1g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スル フォン酸ナトリウム 0.14g 臭化カリウム 1g (0.0084モル) 水を加えて 1000ml (pH 10.55に調整)
【0091】9.定着液の調整 チオ硫酸アンモニウム 140g 亜硫酸ナトリウム 15g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム二水塩 25mg 水酸化ナトリウム 6g 水を加えて 1000ml (pH 5.10に調整)
【0092】10.処理液汚れの評価 写真材料1〜7を25℃、65%RHの温湿度に保ちな
がら塗布後7日間放置し、780nmの波長の半導体レ
ーザーを用いて、現像処理後の濃度が1.0となるよう
な10-7秒のスキャニング露光を行った。このような均
一露光を400枚の各写真材料(サイズ25.7cm×3
6.4cm)について行った。露光後前述の現像と定着液
にて、富士写真フイルム(株)製FPM−2000の駆
動モーターとギヤ部を改造して搬送スピードを速めて、
表−Iに記載の補充量にて現像温度35℃で、定着、水
洗、乾燥を含めて30秒の処理を各写真材料400枚に
ついて行い、処理液汚れを評価した。その処理汚れの評
価は以下の3段階に分けて行った。 ○:現像液および/または定着液の汚れの発生ほとんど
認められない。 △:現像液および/または定着液にフケ状の汚れや泡だ
ちがわずかに認められるが実用上問題ないレベル。 ×:現像液および/または定着液にフケ状の汚れや泡だ
ちがかなり認められ、問題となるレベル。
がら塗布後7日間放置し、780nmの波長の半導体レ
ーザーを用いて、現像処理後の濃度が1.0となるよう
な10-7秒のスキャニング露光を行った。このような均
一露光を400枚の各写真材料(サイズ25.7cm×3
6.4cm)について行った。露光後前述の現像と定着液
にて、富士写真フイルム(株)製FPM−2000の駆
動モーターとギヤ部を改造して搬送スピードを速めて、
表−Iに記載の補充量にて現像温度35℃で、定着、水
洗、乾燥を含めて30秒の処理を各写真材料400枚に
ついて行い、処理液汚れを評価した。その処理汚れの評
価は以下の3段階に分けて行った。 ○:現像液および/または定着液の汚れの発生ほとんど
認められない。 △:現像液および/または定着液にフケ状の汚れや泡だ
ちがわずかに認められるが実用上問題ないレベル。 ×:現像液および/または定着液にフケ状の汚れや泡だ
ちがかなり認められ、問題となるレベル。
【0093】11.スタチックマークの評価 未露光の写真材料を25℃、10%RHで2時間調湿し
た後、同一空調条件の暗室中において、写真材料をスタ
チックマークがどのようになるかを調べるべくウレタン
ゴムローラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理し
た。そのスタチックマークの発生度の評価は以下の4段
階に分けて行った。 A:スタチックマークの発生が全く認められず。 B: 〃 少し認められる。 C: 〃 かなり認められる。 得られた結果を表−Iに示した。
た後、同一空調条件の暗室中において、写真材料をスタ
チックマークがどのようになるかを調べるべくウレタン
ゴムローラーで摩擦した後、前述の方法で現像処理し
た。そのスタチックマークの発生度の評価は以下の4段
階に分けて行った。 A:スタチックマークの発生が全く認められず。 B: 〃 少し認められる。 C: 〃 かなり認められる。 得られた結果を表−Iに示した。
【0094】
【表1】
【0095】表−Iの結果より、本発明が有効であるこ
とは明らかである。
とは明らかである。
【0096】実施例2 実施例1の写真材料5、6のバックの導電層を下記の第
一下塗層、第二下塗層に変更して、他は写真材料5、6
と同じにした写真材料8、9を作製した。 (第一下塗層)二軸延伸された厚さ180μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上にコロナ放電処理を行
い、ワイヤーバーコーター方式により、下記の組成より
なる第一下塗層を設けた。 ・ブタジエン−スチレン共重合体ラテックス ブタジエン/スチレン重量比=31/69 322mg/m2 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリ アジンナトリウム塩 8.4mg/m2 (第二下塗層)次に第一下塗層上に下記の組成からなる
第二下塗層をワイヤーバーコーター方式により設けた。 ・ゼラチン 160mg/m2 ・マット剤 平均粒径2.5μmのポリメチルメタクリレ ート 2.5mg/m2 ・SnO2 /Sb2 O3 =9:1 216mg/m2 処理汚れの評価、スタチックマークの評価は現像液を下
記のものに変えた以外はまったく同じにして評価した。
一下塗層、第二下塗層に変更して、他は写真材料5、6
と同じにした写真材料8、9を作製した。 (第一下塗層)二軸延伸された厚さ180μmのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上にコロナ放電処理を行
い、ワイヤーバーコーター方式により、下記の組成より
なる第一下塗層を設けた。 ・ブタジエン−スチレン共重合体ラテックス ブタジエン/スチレン重量比=31/69 322mg/m2 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリ アジンナトリウム塩 8.4mg/m2 (第二下塗層)次に第一下塗層上に下記の組成からなる
第二下塗層をワイヤーバーコーター方式により設けた。 ・ゼラチン 160mg/m2 ・マット剤 平均粒径2.5μmのポリメチルメタクリレ ート 2.5mg/m2 ・SnO2 /Sb2 O3 =9:1 216mg/m2 処理汚れの評価、スタチックマークの評価は現像液を下
記のものに変えた以外はまったく同じにして評価した。
【0097】 現像液 ハイドロキノン 20.0g 1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ チル−3−ピラゾリドン 2.0g 亜硫酸ナトリウム 35.0g 炭酸カリウム 25.0g ジエチレントリアミン五酢酸 2.0g ジエチレングリコール 20.0g ホウ酸 9.0g 5−メチルベンツトリアゾール 0.1g 臭化カリウム 0.6g (0.005モル) 水を加えて 1リットル 水酸化カリウムで pH=9.50に合せる。
【0098】得られた結果は、実施例1の写真材料5、
6と同様であり、バックの導電層を下塗層中にしても同
様な効果があることがわかった。
6と同様であり、バックの導電層を下塗層中にしても同
様な効果があることがわかった。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年9月9日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】本発明の写真感光材料の支持体としては、
医療用途の場合には150〜250μmの厚さを有して
いる必要がある。これは医療用シャーカステン上で観察
する際の取扱い性の点で必須である。また、材質として
はポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、特
に青色に着色していることが好ましい。支持体は親水コ
ロイド層との密着力を向上せしめるために、その表面を
コロナ放電処理、あるいはグロー放電処理あるいは紫外
線照射処理する方法が好ましい。あるいは、スチレンブ
タジエン系ラテックス、塩化ビニリデン系ラテックス等
からなる下塗層を設けてもよく、またその上層にゼラチ
ン層を更に設けてもよい。また、ポリエチレン膨潤剤と
ゼラチンを含む有機溶剤を用いた下塗層を設けてもよ
い。これらの下塗層は表面処理を加えることで更に親水
コロイド層との密着力を向上することもできる。
医療用途の場合には150〜250μmの厚さを有して
いる必要がある。これは医療用シャーカステン上で観察
する際の取扱い性の点で必須である。また、材質として
はポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、特
に青色に着色していることが好ましい。支持体は親水コ
ロイド層との密着力を向上せしめるために、その表面を
コロナ放電処理、あるいはグロー放電処理あるいは紫外
線照射処理する方法が好ましい。あるいは、スチレンブ
タジエン系ラテックス、塩化ビニリデン系ラテックス等
からなる下塗層を設けてもよく、またその上層にゼラチ
ン層を更に設けてもよい。また、ポリエチレン膨潤剤と
ゼラチンを含む有機溶剤を用いた下塗層を設けてもよ
い。これらの下塗層は表面処理を加えることで更に親水
コロイド層との密着力を向上することもできる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0045
【補正方法】変更
【補正内容】
【0045】本発明の現像液に好ましく用いられる現像
主薬はジヒドロキシベンゼン系現像主薬である。ジヒド
ロキシベンゼン系現像主薬としては、ハイドロキノン、
クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプ
ロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジ
メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホン酸
カリウムなどがあるが特にハイドロキノンが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/リットル〜0.8モル/
リットルの量で用いられるのが好ましい。本発明では特
に上記のジヒドロキシベンゼン系現像主薬と共に1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類またはp−アミノフェノー
ル類を併用するのが好ましい。
主薬はジヒドロキシベンゼン系現像主薬である。ジヒド
ロキシベンゼン系現像主薬としては、ハイドロキノン、
クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプ
ロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2,3
−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジクロロハイドロ
キノン、2,3−ジブロモハイドロキノン、2,5−ジ
メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホン酸
カリウムなどがあるが特にハイドロキノンが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/リットル〜0.8モル/
リットルの量で用いられるのが好ましい。本発明では特
に上記のジヒドロキシベンゼン系現像主薬と共に1−フ
ェニル−3−ピラゾリドン類またはp−アミノフェノー
ル類を併用するのが好ましい。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0048
【補正方法】変更
【補正内容】
【0048】本発明に用いられる現像液は、現像液の臭
化物イオンの濃度が0.012モル/リットル以下が好
ましい。本発明に用いる現像液の臭化物イオン濃度が
0.012モル/リットル以下である理由は、通常の医
療用途の現像液の臭化物イオン濃度は0.016モル/
リットル以上であり、この濃度では高塩化銀含有写真感
光材料にとっては現像抑制が大きく、迅速処理には不適
であるからである。下限は0.0004モル/リットル
以上が好ましく、さらには0.001モル/リットル以
上が好ましい。この理由は臭化物イオンが適度に存在す
ることでカブリが低減できるからである。本発明の現像
液には亜硫酸塩を用いてもよい。亜硫酸塩としては、亜
硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜
硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸
カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが
ある。亜硫酸塩は0.01モル/リットル以上、0.8
モル/リットル以下が好ましい。本発明に用いる現像液
には現像促進のためにアミノ化合物を含有してもよい。
特に特開昭56−106244号、特開昭61−267
759号、特願平1−29418号に記載のアミノ化合
物を用いてもよい。
化物イオンの濃度が0.012モル/リットル以下が好
ましい。本発明に用いる現像液の臭化物イオン濃度が
0.012モル/リットル以下である理由は、通常の医
療用途の現像液の臭化物イオン濃度は0.016モル/
リットル以上であり、この濃度では高塩化銀含有写真感
光材料にとっては現像抑制が大きく、迅速処理には不適
であるからである。下限は0.0004モル/リットル
以上が好ましく、さらには0.001モル/リットル以
上が好ましい。この理由は臭化物イオンが適度に存在す
ることでカブリが低減できるからである。本発明の現像
液には亜硫酸塩を用いてもよい。亜硫酸塩としては、亜
硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜
硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸
カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが
ある。亜硫酸塩は0.01モル/リットル以上、0.8
モル/リットル以下が好ましい。本発明に用いる現像液
には現像促進のためにアミノ化合物を含有してもよい。
特に特開昭56−106244号、特開昭61−267
759号、特願平1−29418号に記載のアミノ化合
物を用いてもよい。
Claims (2)
- 【請求項1】 透明支持体の一方側に600nm以上に
分光増感された塩化銀含有率が少なくとも90モル%の
ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有するレーザース
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機で処
理して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀写真
材料中に、導電性金属酸化物および/または、導電性ポ
リマーを含有し、該写真感光材料1m2当り200ml以下
の割合で現像液および定着液を補充する自動現像機にて
処理することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項2】 透明支持体の一方側に600nm以上に
分光増感された塩化銀含有率が少なくとも90モル%の
ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも一層有するレーザース
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料を自動現像機で処
理して画像形成する方法において、該ハロゲン化銀写真
材料中に、自動現像機に用いる現像液、定着液および水
への溶解性が35℃で0.01重量%以下である、ポリ
オキシエチレン系ノニオン界面活性剤および含フッ素界
面活性剤を含有し、該写真感光材料1m2当り200ml以
下の割合で現像液および定着液を補充する自動現像機に
て処理することを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4195314A JPH0635131A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 画像形成方法 |
| US08/485,141 US5582959A (en) | 1992-07-22 | 1995-06-07 | Method for forming an image |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4195314A JPH0635131A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0635131A true JPH0635131A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16339103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4195314A Pending JPH0635131A (ja) | 1992-07-22 | 1992-07-22 | 画像形成方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5582959A (ja) |
| JP (1) | JPH0635131A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0924562A1 (en) * | 1997-12-16 | 1999-06-23 | Eastman Kodak Company | Electrically-conductive overcoat for photographic elements |
| JP2008545162A (ja) * | 2005-07-05 | 2008-12-11 | トムソン ライセンシング | カラー・フィルム現像剤組成物及びカラー・フィルム現像のための方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5827630A (en) * | 1997-11-13 | 1998-10-27 | Eastman Kodak Company | Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing metal antimonate and non-conductive metal-containing colloidal particles and a transparent magnetic recording layer |
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