JPH0635190A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体 - Google Patents
感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体Info
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- JPH0635190A JPH0635190A JP18795692A JP18795692A JPH0635190A JP H0635190 A JPH0635190 A JP H0635190A JP 18795692 A JP18795692 A JP 18795692A JP 18795692 A JP18795692 A JP 18795692A JP H0635190 A JPH0635190 A JP H0635190A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 光感度が高く、レジスト画像の密着性、解像
性、保存安定性にすぐれすそ長さの短いレジスト画像を
形成する感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (A)カルボキシル基含有ポリマー、(B)
少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物、
(C)一般式(I)等で表わされる光開始剤 (R1はヘキシレン基等)を含有してなるアルカリ性水
溶液に対して可溶又は膨潤可能な感光性樹脂組成物及び
これを支持体上に塗布、乾燥した積層体。
性、保存安定性にすぐれすそ長さの短いレジスト画像を
形成する感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (A)カルボキシル基含有ポリマー、(B)
少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物、
(C)一般式(I)等で表わされる光開始剤 (R1はヘキシレン基等)を含有してなるアルカリ性水
溶液に対して可溶又は膨潤可能な感光性樹脂組成物及び
これを支持体上に塗布、乾燥した積層体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂組成物及びこ
れを用いた積層体に関する。
れを用いた積層体に関する。
【0002】
【従来の技術】印刷回路板の製造に用いられるレジスト
として、感光性樹脂組成物が広く用いられ、また、この
感光性樹脂組成物を支持体層に積層した感光性積層体
(以下感光性フィルムという)も広く用いられている。
として、感光性樹脂組成物が広く用いられ、また、この
感光性樹脂組成物を支持体層に積層した感光性積層体
(以下感光性フィルムという)も広く用いられている。
【0003】これら感光性フィルムは未硬化部をアルカ
リ性水溶液で除去するアルカリ現像型が主流となってお
り、研磨や薬品処理した印刷回路板用基板に感光性フィ
ルムの感光層を積層し、次いでフォトツールを通して露
光した後、支持体を除去し0.5〜2.0重量%の炭酸
ナトリウム水溶液等のアルカリ性水溶液を用いて現像
し、基板上にレジスト画像が形成される。
リ性水溶液で除去するアルカリ現像型が主流となってお
り、研磨や薬品処理した印刷回路板用基板に感光性フィ
ルムの感光層を積層し、次いでフォトツールを通して露
光した後、支持体を除去し0.5〜2.0重量%の炭酸
ナトリウム水溶液等のアルカリ性水溶液を用いて現像
し、基板上にレジスト画像が形成される。
【0004】従来、印刷回路板の製造法には、テンティ
ング法とめっき法という2つの方法がある。テンティン
グ法は、レジスト画像の露出銅面を酸性又はアルカリ性
エッチング液でエッチングした後、レジストを水酸化ナ
トリウム等のアルカリ性水溶液を用いて剥離し、印刷回
路板を製造する。また、めっき法は、露出銅面に銅めっ
きおよび半田めっきを施した後、レジストを水酸化ナト
リウム等のアルカリ性水溶液を用いて剥離し次いで露出
銅面をアルカリ性エッチング液でエッチングし、印刷回
路板を製造する。
ング法とめっき法という2つの方法がある。テンティン
グ法は、レジスト画像の露出銅面を酸性又はアルカリ性
エッチング液でエッチングした後、レジストを水酸化ナ
トリウム等のアルカリ性水溶液を用いて剥離し、印刷回
路板を製造する。また、めっき法は、露出銅面に銅めっ
きおよび半田めっきを施した後、レジストを水酸化ナト
リウム等のアルカリ性水溶液を用いて剥離し次いで露出
銅面をアルカリ性エッチング液でエッチングし、印刷回
路板を製造する。
【0005】近年、印刷回路板の高密度化の傾向が強ま
り、2つのスルーホール間(中心間距離:2.54m
m)に3〜5本のラインを形成することが一般的となっ
ており、この要求を満足するためには、現像後、50〜
80μmのライン幅を有するレジスト画像を形成しなけ
ればならない。
り、2つのスルーホール間(中心間距離:2.54m
m)に3〜5本のラインを形成することが一般的となっ
ており、この要求を満足するためには、現像後、50〜
80μmのライン幅を有するレジスト画像を形成しなけ
ればならない。
【0006】ところが、従来の感光性樹脂組成物、或い
は感光性フィルムを用いると、露光時感光層を透過した
紫外線が銅金属面上で乱反射し、銅金属面上の感光層を
硬化させることがしばしば観察され、レジストは、通常
10〜20μmのすそを有することになる。特にライン
とラインの間(スペース)が狭い場合、このすそは、レ
ジスト画像の解像不足の原因となり、最終的には、印刷
回路のショート、めっき工程の場合は、断線を誘発する
ことになる。
は感光性フィルムを用いると、露光時感光層を透過した
紫外線が銅金属面上で乱反射し、銅金属面上の感光層を
硬化させることがしばしば観察され、レジストは、通常
10〜20μmのすそを有することになる。特にライン
とラインの間(スペース)が狭い場合、このすそは、レ
ジスト画像の解像不足の原因となり、最終的には、印刷
回路のショート、めっき工程の場合は、断線を誘発する
ことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の欠点を解決し、光感度が高く、しかも現像後に全
くすそのない形状のレジスト画像を形成し解像性に優れ
る感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体を提供する
ものである。
技術の欠点を解決し、光感度が高く、しかも現像後に全
くすそのない形状のレジスト画像を形成し解像性に優れ
る感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体を提供する
ものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、(A)カルボ
キシル基含有ポリマー40〜80重量部、(B)少なく
とも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物20〜6
0重量部((A)と(B)との総量が100重量部とな
るようにする)、(C)一般式(I)で表示される光開
始剤を前記(A)と(B)との総量100重量部に対し
0.05〜1.0重量部、
キシル基含有ポリマー40〜80重量部、(B)少なく
とも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物20〜6
0重量部((A)と(B)との総量が100重量部とな
るようにする)、(C)一般式(I)で表示される光開
始剤を前記(A)と(B)との総量100重量部に対し
0.05〜1.0重量部、
【化4】 (式中、R1は炭素原子数6〜12のアルキレン基を表
わす) (D)一般式(II)で表わされる光開始剤を前記
(A)と(B)との総量100重量部に対し1.0〜1
0.0重量部
わす) (D)一般式(II)で表わされる光開始剤を前記
(A)と(B)との総量100重量部に対し1.0〜1
0.0重量部
【化5】 (式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立して、無置換フ
ェニル基又は炭素原子1〜3のアルキル基若しくは炭素
原子数1〜3のアルコキシ基で置換されたフェニル基を
表わし、R2およびR3はそれぞれ独立して、炭素原子数
1〜9のアルキル基を表わす)及び(E)一般式(II
I)で表わされる光開始剤を前記(A)と(B)との総
量100重量部に対し0.01〜3.0重量部含有して
なるアルカリ性水溶液に対して可溶又は膨潤可能な感光
性樹脂組成物
ェニル基又は炭素原子1〜3のアルキル基若しくは炭素
原子数1〜3のアルコキシ基で置換されたフェニル基を
表わし、R2およびR3はそれぞれ独立して、炭素原子数
1〜9のアルキル基を表わす)及び(E)一般式(II
I)で表わされる光開始剤を前記(A)と(B)との総
量100重量部に対し0.01〜3.0重量部含有して
なるアルカリ性水溶液に対して可溶又は膨潤可能な感光
性樹脂組成物
【化6】 (式中、R4、R5、R6及びR7はそれぞれ独立して水素
原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基を表わす)及び
支持体上に前記感光性樹脂組成物を塗布、乾燥してなる
積層体に関する。
原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基を表わす)及び
支持体上に前記感光性樹脂組成物を塗布、乾燥してなる
積層体に関する。
【0009】次に、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る成分について詳述する。本発明に(A)成分として用
いられるカルボキシル基含有ポリマーとしては、例え
ば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル〔(メタ)ア
クリル酸とはメタクリル酸及びアクリル酸を意味する。
以下同じ〕と(メタ)アクリル酸とこれらと共重合しう
るビニルモノマーとの共重合体等が挙げられる。これら
の共重合体は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用することができる。
る成分について詳述する。本発明に(A)成分として用
いられるカルボキシル基含有ポリマーとしては、例え
ば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル〔(メタ)ア
クリル酸とはメタクリル酸及びアクリル酸を意味する。
以下同じ〕と(メタ)アクリル酸とこれらと共重合しう
るビニルモノマーとの共重合体等が挙げられる。これら
の共重合体は、単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用することができる。
【0010】(メタ)アクリル酸アルキルエステルとし
ては、例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、
(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル
酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、(メタ)アクリル
酸アルキルエステルや(メタ)アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、(メタ)アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、(メタ)アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)
アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピ
ル(メタ)アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
ては、例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、
(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル
酸ブチルエステル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキ
シルエステル等が挙げられる。また、(メタ)アクリル
酸アルキルエステルや(メタ)アクリル酸と共重合しう
るビニルモノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル
酸テトラヒドロフルフリルエステル、(メタ)アクリル
酸ジメチルアミノエチルエステル、(メタ)アクリル酸
ジエチルアミノエチルエステル、メタクリル酸グリシジ
ルエステル、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)
アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピ
ル(メタ)アクリレートアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、スチレン、ビニルトルエン等が挙げられ
る。
【0011】本発明に(B)成分として用いられる少な
くとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物として
は、公知のものが使用出来、特に制限はない。このよう
な化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート(エチレン基の数が2〜14のも
の)、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリ(メ
タ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メ
タ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート(プロピレン基の数が2〜14のも
の)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート等の多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を
反応させて得られる化合物、ビスフェノールAテトラオ
キシエチレンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール
Aヘキサオキシエチレンジ(メタ)アクリレート、ビス
フェノールAデカオキシエチレンジ(メタ)アクリレー
ト等のビスフェノールAポリオキシエチレンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリルレート、ビスフェノールAジグリ
シジルエーテルアクリレート等のグリシジル基含有化合
物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合
物、無水フタル酸等の多価カルボン酸とβ−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート等の水酸基及びエチレン性
不飽和基を有する物質とのエステル化物、(メタ)アク
リル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエス
テル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)ア
クリル酸2−エチルヘキシルエステル等の(メタ)アク
リル酸のアルキルエステル、トリレンジイソシアネート
と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸エステルと
の反応物、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート
とシクロヘキサンジメタノールと2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリル酸エステルとの反応物等のウレタン
(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
くとも1個のエチレン性不飽和基を有する化合物として
は、公知のものが使用出来、特に制限はない。このよう
な化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート(エチレン基の数が2〜14のも
の)、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アク
リレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリ(メ
タ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メ
タ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート(プロピレン基の数が2〜14のも
の)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート等の多価アルコールにα、β−不飽和カルボン酸を
反応させて得られる化合物、ビスフェノールAテトラオ
キシエチレンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノール
Aヘキサオキシエチレンジ(メタ)アクリレート、ビス
フェノールAデカオキシエチレンジ(メタ)アクリレー
ト等のビスフェノールAポリオキシエチレンジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジル
エーテルトリアクリルレート、ビスフェノールAジグリ
シジルエーテルアクリレート等のグリシジル基含有化合
物にα、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合
物、無水フタル酸等の多価カルボン酸とβ−ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート等の水酸基及びエチレン性
不飽和基を有する物質とのエステル化物、(メタ)アク
リル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸エチルエス
テル、(メタ)アクリル酸ブチルエステル、(メタ)ア
クリル酸2−エチルヘキシルエステル等の(メタ)アク
リル酸のアルキルエステル、トリレンジイソシアネート
と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸エステルと
の反応物、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート
とシクロヘキサンジメタノールと2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリル酸エステルとの反応物等のウレタン
(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
【0012】本発明における(A)成分の配合量は40
〜80重量部とする必要があり、55〜65重量部が特
に好ましい。この配合量が40重量部未満では、光硬化
物が脆くなり易く、また感光性フィルムとして用いた場
合、塗膜性に劣る。この配合量が80重量部を越える
と、充分な感度が得られない。
〜80重量部とする必要があり、55〜65重量部が特
に好ましい。この配合量が40重量部未満では、光硬化
物が脆くなり易く、また感光性フィルムとして用いた場
合、塗膜性に劣る。この配合量が80重量部を越える
と、充分な感度が得られない。
【0013】また、(B)成分の配合量は20〜60重
量部とする必要があり、35〜45重量部が特に好まし
い。この配合量が20重量部未満では充分な感度が得ら
れず、60重量部を越えると光硬化物が脆くなり易い。
量部とする必要があり、35〜45重量部が特に好まし
い。この配合量が20重量部未満では充分な感度が得ら
れず、60重量部を越えると光硬化物が脆くなり易い。
【0014】また、(B)成分として、二個以上のエチ
レン性不飽和基を有する化合物を用いることが、感度の
向上の面から好ましい。
レン性不飽和基を有する化合物を用いることが、感度の
向上の面から好ましい。
【0015】本発明における(C)成分としては、例え
ば、1,6−ビス(9−アクリジニル)ヘキサン、1,
7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,8−ビス
(9−アクリジニル)オクタン、1,9−ビス(9−ア
クリジニル)ノナン、1,10−ビス(9−アクリジニ
ル)デカン、1,11−ビス(9−アクリジニル)ウン
デカン、1,12−ビス(9−アクリジニル)ドデカン
等があげられる。これらは単独で又は2種以上を組み合
わせて使用できる。
ば、1,6−ビス(9−アクリジニル)ヘキサン、1,
7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,8−ビス
(9−アクリジニル)オクタン、1,9−ビス(9−ア
クリジニル)ノナン、1,10−ビス(9−アクリジニ
ル)デカン、1,11−ビス(9−アクリジニル)ウン
デカン、1,12−ビス(9−アクリジニル)ドデカン
等があげられる。これらは単独で又は2種以上を組み合
わせて使用できる。
【0016】(C)成分である前記一般式(I)で表わ
される光開始剤(アクリジン化合物)は、例えば、ジフ
ェニルアミンと二価カルボン酸を金属酸化物の存在下に
反応させることによって容易に製造することができる。
される光開始剤(アクリジン化合物)は、例えば、ジフ
ェニルアミンと二価カルボン酸を金属酸化物の存在下に
反応させることによって容易に製造することができる。
【0017】前記(C)成分は、前記(A)成分と
(B)成分の総量100重量部に対し0.05〜1.0
重量部、好ましくは0.1〜0.5重量部の範囲で用い
られる。0.05重量部未満では充分な光感度が得られ
ないとともに解像性が低下する。また1.0重量部を越
えて使用した場合、それ以上の感度の向上は期待出来な
いとともに感光層の紫外線透過率が低下し正常なレジス
ト画像が得られない。
(B)成分の総量100重量部に対し0.05〜1.0
重量部、好ましくは0.1〜0.5重量部の範囲で用い
られる。0.05重量部未満では充分な光感度が得られ
ないとともに解像性が低下する。また1.0重量部を越
えて使用した場合、それ以上の感度の向上は期待出来な
いとともに感光層の紫外線透過率が低下し正常なレジス
ト画像が得られない。
【0018】また、本発明の(D)成分として用いられ
る一般式(II)で表わされる光開始剤としては、例え
ば、1−(4−メトキシフェニル)−2,2−ジメトキ
シ−2−フェニル−1−エタノン、1−(4−メトキシ
フェニル)−2−メトキシ−2−エトキシ−2−フェニ
ル−1−エタノン、1−(4−メトキシフェニル)−2
−メトキシ−2−プロポキシ−2−フェニル−1−エタ
ノン、下記の式
る一般式(II)で表わされる光開始剤としては、例え
ば、1−(4−メトキシフェニル)−2,2−ジメトキ
シ−2−フェニル−1−エタノン、1−(4−メトキシ
フェニル)−2−メトキシ−2−エトキシ−2−フェニ
ル−1−エタノン、1−(4−メトキシフェニル)−2
−メトキシ−2−プロポキシ−2−フェニル−1−エタ
ノン、下記の式
【化7】 で示される2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニル−
1−エタノン(通称ベンジルジメチルケタール)等があ
げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせ
て使用できる。これらの中でもベンジルジメチルケター
ルが好ましい。
1−エタノン(通称ベンジルジメチルケタール)等があ
げられる。これらは、単独で又は2種以上を組み合わせ
て使用できる。これらの中でもベンジルジメチルケター
ルが好ましい。
【0019】成分(D)は、前記(A)成分と(B)成
分の総量100重量部に対し1.0〜10.0重量部好
ましくは2.0〜5.0重量部の範囲で用いられる。
1.0重量部未満では十分な光感度が得られないととも
に解像性が低下する。また10.0重量部を越えて使用
した場合、感光性樹脂組成物の保存安定性が低下し、実
用に供しえない。
分の総量100重量部に対し1.0〜10.0重量部好
ましくは2.0〜5.0重量部の範囲で用いられる。
1.0重量部未満では十分な光感度が得られないととも
に解像性が低下する。また10.0重量部を越えて使用
した場合、感光性樹脂組成物の保存安定性が低下し、実
用に供しえない。
【0020】また本発明における(E)成分の一般式
(III)で表わされる光開始剤としては、例えばp,
p−ジメチルアミノベンゾフェノン、p,p−ジエチル
アミノベンゾフェノン、p,p−ジプロピルアミノベン
ゾフェノンなどが挙げられる。
(III)で表わされる光開始剤としては、例えばp,
p−ジメチルアミノベンゾフェノン、p,p−ジエチル
アミノベンゾフェノン、p,p−ジプロピルアミノベン
ゾフェノンなどが挙げられる。
【0021】成分(E)は前記(A)成分と(B)成分
の総量100重量部に対し、0.01〜3.0重量部好
ましくは0.03〜1.0重量部の範囲で用いられる。
0.01重量部未満では解像性が低下する。また3.0
重量部を越えて使用した場合には、感光層の紫外線透過
率が低下し、正常なレジスト画像が得られない。
の総量100重量部に対し、0.01〜3.0重量部好
ましくは0.03〜1.0重量部の範囲で用いられる。
0.01重量部未満では解像性が低下する。また3.0
重量部を越えて使用した場合には、感光層の紫外線透過
率が低下し、正常なレジスト画像が得られない。
【0022】本発明の感光性樹脂組成物には、例えば、
p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロー
ル、ナフチルアミン、フェノチアジン、t−ブチルカテ
コール等の熱重合抑制剤を含有させることができる。
p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロー
ル、ナフチルアミン、フェノチアジン、t−ブチルカテ
コール等の熱重合抑制剤を含有させることができる。
【0023】また、本発明の感光性樹脂組成物には、染
料、顔料等の着色剤を含有させてもよい。着色剤として
は、例えば、フクシン、オーラミン塩基、クリスタルバ
イオレット、ビクトリアピアブルー、マラカイトグリー
ン、メチルオレンジ、アシッドバイオレットRRH等が
用いられる。
料、顔料等の着色剤を含有させてもよい。着色剤として
は、例えば、フクシン、オーラミン塩基、クリスタルバ
イオレット、ビクトリアピアブルー、マラカイトグリー
ン、メチルオレンジ、アシッドバイオレットRRH等が
用いられる。
【0024】さらに、本発明の感光性樹脂組成物には、
可塑剤、接着促進剤、タルク等の公知の添加剤を添加し
てもよく、また、露光部が変色するように四臭化炭素等
のハロゲン化合物とロイコ染料との組合せを添加しても
よい。
可塑剤、接着促進剤、タルク等の公知の添加剤を添加し
てもよく、また、露光部が変色するように四臭化炭素等
のハロゲン化合物とロイコ染料との組合せを添加しても
よい。
【0025】本発明の感光性樹脂組成物は、これを支持
体上に塗布、乾燥し、積層体(感光性フィルム)として
使用することもできる。支持体としては、重合体フィル
ム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピ
レン、ポリエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポ
リエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これら
の重合体フィルムは、後に感光層から除去可能でなくて
はならないため、除去が不可能となるような材質であっ
たり、除去が不可能となるような表面処理が施されたも
のであってはならない。これらの重合体フィルムの厚さ
は、通常5〜100μm、好ましくは10〜30μmで
ある。これらの重合体フィルムの一つは感光層の支持フ
ィルムとして、他の一つは感光層の保護フィルムとして
感光層の両面に積層してもよい。
体上に塗布、乾燥し、積層体(感光性フィルム)として
使用することもできる。支持体としては、重合体フィル
ム、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピ
レン、ポリエチレン等からなるフィルムが用いられ、ポ
リエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。これら
の重合体フィルムは、後に感光層から除去可能でなくて
はならないため、除去が不可能となるような材質であっ
たり、除去が不可能となるような表面処理が施されたも
のであってはならない。これらの重合体フィルムの厚さ
は、通常5〜100μm、好ましくは10〜30μmで
ある。これらの重合体フィルムの一つは感光層の支持フ
ィルムとして、他の一つは感光層の保護フィルムとして
感光層の両面に積層してもよい。
【0026】感光性フィルムを製造するに際しては、ま
ず、(A)〜(E)成分を含む感光性樹脂組成物を溶剤
に均一に溶解する。溶剤は、感光性樹脂組成物を溶解す
る溶剤であればよく、例えば、アセトン、メチルエチメ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶
剤、ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素
系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール等のアル
コール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は単独で
又は2種以上を組み合わせて用いられる。
ず、(A)〜(E)成分を含む感光性樹脂組成物を溶剤
に均一に溶解する。溶剤は、感光性樹脂組成物を溶解す
る溶剤であればよく、例えば、アセトン、メチルエチメ
ルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶
剤、ジクロルメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素
系溶剤、メチルアルコール、エチルアルコール等のアル
コール系溶剤などが用いられる。これらの溶剤は単独で
又は2種以上を組み合わせて用いられる。
【0027】次いで、溶液状となった感光性樹脂組成物
を前記支持フィルム層としての重合体フィルム上に均一
に塗布した後、加熱及び/又は熱風吹き付けにより溶剤
を除去し、乾燥被膜とする。乾燥被膜の厚さには特に制
限はなく、通常10〜100μm、好ましくは20〜6
0μmとされる。このようにして得られる感光層と重合
体フィルムとの2層からなる本発明の感光性フィルム
は、そのままで又は感光層の他の面に保護フィルムをさ
らに積層してロール状に巻き取って貯蔵される。
を前記支持フィルム層としての重合体フィルム上に均一
に塗布した後、加熱及び/又は熱風吹き付けにより溶剤
を除去し、乾燥被膜とする。乾燥被膜の厚さには特に制
限はなく、通常10〜100μm、好ましくは20〜6
0μmとされる。このようにして得られる感光層と重合
体フィルムとの2層からなる本発明の感光性フィルム
は、そのままで又は感光層の他の面に保護フィルムをさ
らに積層してロール状に巻き取って貯蔵される。
【0028】本発明の感光性フィルムを用いてフォトレ
ジスト画像を製造するに際しては、前記保護フィルムが
存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光層
を加熱しながら基板に圧着させることにより積層する。
積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制限は
ない。感光層の加熱、圧着は、通常、90〜130℃、
圧着圧力3kgf/cm2で行われるが、これらの条件
には特に制限はない。
ジスト画像を製造するに際しては、前記保護フィルムが
存在している場合には、保護フィルムを除去後、感光層
を加熱しながら基板に圧着させることにより積層する。
積層される表面は、通常、金属面であるが、特に制限は
ない。感光層の加熱、圧着は、通常、90〜130℃、
圧着圧力3kgf/cm2で行われるが、これらの条件
には特に制限はない。
【0029】本発明の感光性フィルムを用いる場合に
は、感光層を前記のように加熱すれば、予め基板を予熱
処理することは必ずしも必要でない。積層性をさらに向
上させるために、基板の予熱処理を行うこともできるの
はもちろんである。
は、感光層を前記のように加熱すれば、予め基板を予熱
処理することは必ずしも必要でない。積層性をさらに向
上させるために、基板の予熱処理を行うこともできるの
はもちろんである。
【0030】このようにして積層が完了した感光層は、
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光
に画像的に露光される。活性光は、公知の活性光源、例
えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアー
ク、その他から発生する光が用いられる。
次いで、ネガフィルム又はポジフィルムを用いて活性光
に画像的に露光される。活性光は、公知の活性光源、例
えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアー
ク、その他から発生する光が用いられる。
【0031】次いで、露光後、感光層上の重合体フィル
ムを除去した後、アルカリ水溶液を用いて、例えば、ス
プレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の
公知方法により未露光部を除去して現像する。アルカリ
性水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム等の水酸化物の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等の炭酸塩又は重炭酸塩の炭酸アルカ
リ、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金
属リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウ
ム等のアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特
に、炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。
ムを除去した後、アルカリ水溶液を用いて、例えば、ス
プレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の
公知方法により未露光部を除去して現像する。アルカリ
性水溶液の塩基としては、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム等の水酸化物の水酸化アルカリ、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等の炭酸塩又は重炭酸塩の炭酸アルカ
リ、リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金
属リン酸塩、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウ
ム等のアルカリ金属ピロリン酸塩などが用いられ、特
に、炭酸ナトリウムの水溶液が好ましい。
【0032】現像に用いるアルカリ水溶液のpHは、好
ましくは9〜11の間であり、また、現像温度は感光層
の現像性に合わせて調節される。該アルカリ水溶液中に
は、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量
の有機溶剤などを混入させてもよい。
ましくは9〜11の間であり、また、現像温度は感光層
の現像性に合わせて調節される。該アルカリ水溶液中に
は、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量
の有機溶剤などを混入させてもよい。
【0033】さらに、印刷配線板を製造するに際して
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露出
している基板の表面をエッチング、めっき等の公知方法
で処理する。次いでフォトレジスト画像は、通常、現像
に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶
液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液としては、
例えば、1〜5重量%の水酸化ナトリウム水溶液等が用
いられる。
は、現像されたフォトレジスト画像をマスクとして露出
している基板の表面をエッチング、めっき等の公知方法
で処理する。次いでフォトレジスト画像は、通常、現像
に用いたアルカリ水溶液よりさらに強アルカリ性の水溶
液で剥離される。この強アルカリ性の水溶液としては、
例えば、1〜5重量%の水酸化ナトリウム水溶液等が用
いられる。
【0034】
【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例1〜8、比較例1〜9 後記した表1及び表2に示す組成の感光性樹脂組成物を
調合し、図1に示す装置を用いて、感光性樹脂組成物4
を、支持体としての20μm厚さのポリエチレンテレフ
タレートフィルム12上に均一に塗布し、100℃の熱
風対流式乾燥機6で約5分間乾燥して、溶剤を除去し乾
燥後の感光層の厚さを50μmとした。図1において1
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出しロー
ル、2、3はフィルム送りロール、5は塗布厚調整ロー
ル、7、8はポリエチレンフィルム積層ロール、9はポ
リエチレンフィルム繰り出しロール及び10は感光性フ
ィルム巻き取りロールである。この時の塗工速度は1m
/分、熱風温度を90℃とした。次いでその感光層上に
30μm厚さのポリエチレンフィルム11を保護フィル
ムとして積層し、125mの長さに巻き取った。上記方
法により得られた感光性フィルムを保護フィルムを剥が
しながら、感光層を日立化成工業(株)製ホットロール
ラミネーター(型式HLM−1500)を用い、銅表面
をクレンザーで研磨し、水洗、乾燥した印刷配線板用基
板(日立化成工業(株)製、商品名MCL−E−61)
に積層温度110℃及び積層圧力3.0kgf/cm2
でラミネートした。
明する。 実施例1〜8、比較例1〜9 後記した表1及び表2に示す組成の感光性樹脂組成物を
調合し、図1に示す装置を用いて、感光性樹脂組成物4
を、支持体としての20μm厚さのポリエチレンテレフ
タレートフィルム12上に均一に塗布し、100℃の熱
風対流式乾燥機6で約5分間乾燥して、溶剤を除去し乾
燥後の感光層の厚さを50μmとした。図1において1
は、ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出しロー
ル、2、3はフィルム送りロール、5は塗布厚調整ロー
ル、7、8はポリエチレンフィルム積層ロール、9はポ
リエチレンフィルム繰り出しロール及び10は感光性フ
ィルム巻き取りロールである。この時の塗工速度は1m
/分、熱風温度を90℃とした。次いでその感光層上に
30μm厚さのポリエチレンフィルム11を保護フィル
ムとして積層し、125mの長さに巻き取った。上記方
法により得られた感光性フィルムを保護フィルムを剥が
しながら、感光層を日立化成工業(株)製ホットロール
ラミネーター(型式HLM−1500)を用い、銅表面
をクレンザーで研磨し、水洗、乾燥した印刷配線板用基
板(日立化成工業(株)製、商品名MCL−E−61)
に積層温度110℃及び積層圧力3.0kgf/cm2
でラミネートした。
【0035】感光性フィルムをラミネートした印刷配線
板用基板の温度が23℃になった時点でポリエチレンテ
レフタレート面にフォトツール(ストーファーの21段
ステップタブレットとライン/スペース=30/30〜
250/250(解像度)、ライン/スペース=30/
400〜250/400(密着性)の配線パターンを有
するフォトツール)を密着させ(株)オーク製作所製露
光機(型式HMW−201B、3kW超高圧水銀灯)を
用いストーファーの21段ステップタブレットの現像後
の残存ステップ段数が8.0となるエネルギー量で露光
した。
板用基板の温度が23℃になった時点でポリエチレンテ
レフタレート面にフォトツール(ストーファーの21段
ステップタブレットとライン/スペース=30/30〜
250/250(解像度)、ライン/スペース=30/
400〜250/400(密着性)の配線パターンを有
するフォトツール)を密着させ(株)オーク製作所製露
光機(型式HMW−201B、3kW超高圧水銀灯)を
用いストーファーの21段ステップタブレットの現像後
の残存ステップ段数が8.0となるエネルギー量で露光
した。
【0036】露光15分後、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムを剥がし、30℃、1.0重量%の炭酸ナト
リウム水溶液をスプレーすることにより現像を行った。
この際現像は、コンベア式現像槽内の入口より2/3の
位置で完了するように速度を設定し行った。この時の現
像後の残存ステップ段数が8.0となる露光量およびそ
の時の解像度、密着性、レジスト画像の形状のすそ長さ
及び保存安定性を表1及び表2に示した。
トフィルムを剥がし、30℃、1.0重量%の炭酸ナト
リウム水溶液をスプレーすることにより現像を行った。
この際現像は、コンベア式現像槽内の入口より2/3の
位置で完了するように速度を設定し行った。この時の現
像後の残存ステップ段数が8.0となる露光量およびそ
の時の解像度、密着性、レジスト画像の形状のすそ長さ
及び保存安定性を表1及び表2に示した。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】*1 PM−800 日立化成工業(株)
試作品 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル
=20/50/30(重量%)のメチルセルソルブ溶液
(固形分=40.0重量%) 重量平均分子量=100,000 *2 1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン
旭電化工業(株)試作品 *3 ベンジルジメチルケタール 日本チバガイギー
(株)製 *4 BPE−500:2,2−ビス[4−(メタクリ
ロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン 新中村
化学工業(株)製 *5 APG−400:ヘプタプロピレングリコールジ
アクリレート 新中村化学工業(株)製 *6 SR−454:トリメチロールプロパントリアク
リレート EO付加物 SARTOMER COMPANY製 *7 14G:ポリエチレングリコール#600ジメタ
クリレート 新中村化学工業(株)製 *8 APG−200:トリプロピレングリコールジア
クリレート 新中村化学工業(株)製 *9 未露光の感光性フィルムが現像液により完全に溶
解除去されるために要する時間 *10 現像後の残存ステップ段数が8.0(ストーフ
ァーの21段ステップタブレット)となるために必要な
露光エネルギー量 *11 現像後の残存ステップ段数が8.0の時の密着
性(ライン/スペース=n/400μm) *12 現像後の残存ステップ段数が8.0の時の解像
度(ライン/スペース=n/nμm)
試作品 メタクリル酸/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチル
=20/50/30(重量%)のメチルセルソルブ溶液
(固形分=40.0重量%) 重量平均分子量=100,000 *2 1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン
旭電化工業(株)試作品 *3 ベンジルジメチルケタール 日本チバガイギー
(株)製 *4 BPE−500:2,2−ビス[4−(メタクリ
ロキシ・ポリエトキシ)フェニル]プロパン 新中村
化学工業(株)製 *5 APG−400:ヘプタプロピレングリコールジ
アクリレート 新中村化学工業(株)製 *6 SR−454:トリメチロールプロパントリアク
リレート EO付加物 SARTOMER COMPANY製 *7 14G:ポリエチレングリコール#600ジメタ
クリレート 新中村化学工業(株)製 *8 APG−200:トリプロピレングリコールジア
クリレート 新中村化学工業(株)製 *9 未露光の感光性フィルムが現像液により完全に溶
解除去されるために要する時間 *10 現像後の残存ステップ段数が8.0(ストーフ
ァーの21段ステップタブレット)となるために必要な
露光エネルギー量 *11 現像後の残存ステップ段数が8.0の時の密着
性(ライン/スペース=n/400μm) *12 現像後の残存ステップ段数が8.0の時の解像
度(ライン/スペース=n/nμm)
【0040】
【発明の効果】前記実施例により明らかなように、本発
明の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
は、光感度が高く、解像度、保存安定性にすぐれ、これ
によって密着性にすぐれた形状のすそ長さの短いレジス
ト画像を得ることができる。
明の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム
は、光感度が高く、解像度、保存安定性にすぐれ、これ
によって密着性にすぐれた形状のすそ長さの短いレジス
ト画像を得ることができる。
【0041】
【図1】実施例で用いた感光性フィルムの製造装置図の
系統図である。
系統図である。
1 ポリエチレンテレフタレートフィルム繰り出しロー
ル 2、3 フィルム送りロール 4 感光性樹脂組成物 5 塗布厚調整ロール 6 乾燥機 7、8 ポリエチレンフィルム積層ロール 9 ポリエチレンフィルム繰り出しロール 10 感光性フィルム巻き取りロール 11 ポリエチレンフィルム 12 ポリエチレンテレフタレートフィルム
ル 2、3 フィルム送りロール 4 感光性樹脂組成物 5 塗布厚調整ロール 6 乾燥機 7、8 ポリエチレンフィルム積層ロール 9 ポリエチレンフィルム繰り出しロール 10 感光性フィルム巻き取りロール 11 ポリエチレンフィルム 12 ポリエチレンテレフタレートフィルム
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年2月12日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】(C)成分である前記一般式(I)で表わ
される光開始剤(アクリジン化合物)は、例えば、ジフ
ェニルアミンと二価カルボン酸を金属塩化物の存在下に
反応させることによって容易に製造することができる。
される光開始剤(アクリジン化合物)は、例えば、ジフ
ェニルアミンと二価カルボン酸を金属塩化物の存在下に
反応させることによって容易に製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹野 清仁 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 角丸 肇 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 久保田 直宏 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内 (72)発明者 富永 信秀 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内 (72)発明者 石崎 幸二 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)カルボキシル基含有ポリマー40
〜80重量部、(B)少なくとも1個のエチレン性不飽
和基を有する化合物20〜60重量部((A)と(B)
との総量が100重量部となるようにする)、(C)一
般式(I)で表わされる光開始剤を前記(A)と(B)
との総量100重量部に対し0.05〜1.0重量部、 【化1】 (式中、R1は炭素原子数6〜12のアルキレン基を表
わす) (D)一般式(II)で表わされる光開始剤を前記
(A)と(B)との総量100重量部に対し1.0〜1
0.0重量部 【化2】 (式中、Ar1及びAr2はそれぞれ独立して、無置換フ
ェニル基又は炭素原子1〜3のアルキル基若しくは炭素
原子数1〜3のアルコキシ基で置換されたフェニル基を
表わし、R2およびR3はそれぞれ独立して、炭素原子数
1〜9のアルキル基を表わす)及び(E)一般式(II
I)で表わされる光開始剤を前記(A)と(B)との総
量100重量部に対し0.01〜3.0重量部含有して
なるアルカリ性水溶液に対して可溶又は膨潤可能な感光
性樹脂組成物。 【化3】 (式中、R4、R5、R6及びR7はそれぞれ独立して水素
原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基を表わす) - 【請求項2】 請求項1記載の感光性樹脂組成物を支持
体上に塗布、乾燥してなる積層体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18795692A JPH0635190A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18795692A JPH0635190A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0635190A true JPH0635190A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16215111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18795692A Pending JPH0635190A (ja) | 1992-07-15 | 1992-07-15 | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0635190A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08157744A (ja) * | 1994-12-12 | 1996-06-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| JPH08240908A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法 |
| JP2002148797A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-05-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法 |
| JP2002182387A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| JP2002182385A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法 |
| JP2003091067A (ja) * | 2002-06-17 | 2003-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| DE10239558B4 (de) * | 2002-08-28 | 2005-03-17 | SCHWäBISCHE HüTTENWERKE GMBH | Außenzahnradpumpe mit Druckfluidvorladung |
| JP2010250052A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| JP2010256775A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法 |
| JP2016057612A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジストドライフィルム並びにドライフィルム積層体及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-07-15 JP JP18795692A patent/JPH0635190A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08157744A (ja) * | 1994-12-12 | 1996-06-18 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| JPH08240908A (ja) * | 1994-12-29 | 1996-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法 |
| JP2002148797A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-05-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法 |
| JP2002182387A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| JP2002182385A (ja) * | 2001-10-19 | 2002-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、感光性樹脂組成物層の積層方法、感光性樹脂組成物層積層基板及び感光性樹脂組成物層の硬化方法 |
| JP2003091067A (ja) * | 2002-06-17 | 2003-03-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント |
| DE10239558B4 (de) * | 2002-08-28 | 2005-03-17 | SCHWäBISCHE HüTTENWERKE GMBH | Außenzahnradpumpe mit Druckfluidvorladung |
| JP2010250052A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
| JP2010256775A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法 |
| JP2016057612A (ja) * | 2014-09-08 | 2016-04-21 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジストドライフィルム並びにドライフィルム積層体及びその製造方法 |
| US10007181B2 (en) | 2014-09-08 | 2018-06-26 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist dry film, dry film laminate and method of preparing laminate |
| JP2019105847A (ja) * | 2014-09-08 | 2019-06-27 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅ポジ型レジストドライフィルム並びにドライフィルム積層体及びその製造方法 |
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