JPH0636199U - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空容器内に気体導入口から気体を導入する
際に、気体の乱流が発生しにくくしてパーティクルの巻
き上げを抑えることができるようにした真空処理装置を
提供する。 【構成】 真空容器２内であって気体導入口１４の部分
に、容器２１に多数の小孔２２を分散して設けて成る分
散器２０を設け、気体導入口１４から導入される気体１
８をこの分散器２０を通して真空容器２内に導入するよ
うにした。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、例えばイオン注入装置、イオンビームエッチング装置、薄膜形成 装置等として用いられるものであって、被処理体が収納される真空容器に気体を 導入して当該真空容器内を大気圧状態に戻す（いわゆるベントする）ようにした 真空処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

この種の真空処理装置の従来例を図３に示す。真空バルブ４を介して真空ポン プ６によって真空排気される真空容器２内に、何本かの支持脚８によって支えら れたホルダ１０が設けられており、その上に被処理体１２が載置される。被処理 体１２は例えばウェーハ等の基板である。

【０００３】 この真空容器２は、この例では、被処理体１２を大気圧側と当該被処理体１２ を処理（例えばイオン注入、イオンビームエッチング、薄膜形成等）する処理室 （図示省略）との間で出し入れするためのエアロック室を形成している。

【０００４】 この真空容器２の側壁部には、外部から開閉バルブ１６を介して気体１８を導 入して真空容器２内を大気圧状態に戻すための気体導入口１４が設けられている 。気体１８には通常は窒素ガスが使われる。

【０００５】 この真空処理装置の動作の一例を説明すると、大気圧状態にある真空容器２内 のホルダ１０上に未処理の被処理体１２を載せた後、真空バルブ４を開いて真空 ポンプ６で真空容器２内を真空排気する。被処理体１２の搬送は、例えば図示し ない基板搬送手段によって行う。真空容器２内が所望の真空度に達したら、上記 被処理体１２を図示しない隣接する処理室内へ搬送する。それと併せて、処理室 から処理済の被処理体１２を取り出してホルダ１０上に載せる場合もある。その 後、開閉バルブ１６を開いて、真空容器２内に気体導入口１４から気体１８を導 入して、真空容器２内を大気圧状態に戻す。これにより、上記の元の状態に戻る 。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

ところが、上記真空処理装置においては、上記のような単なる気体導入口１４ から真空容器２内へ気体１８を導入する際に、真空容器２内で気体１８が乱流の ように回り、真空容器２内の底部に溜まっているパーティクル（微小粒子）を巻 き上げるという問題がある。これは、気体導入口１４から噴出する気体１８の各 部分間で大きな速度差が生じて乱流が発生するからであると考えられる。パーテ ィクルが巻き上げられると、それが被処理体１２に付着してコンタミネーション （汚染）の原因になる。しかもこのような問題は、真空容器２内の大気圧化の高 速化を狙って気体１８の圧力および流量を大きくすると一層大きくなる。

【０００７】 そこでこの考案は、真空容器内に気体導入口から気体を導入する際に、気体の 乱流が発生しにくくしてパーティクルの巻き上げを抑えることができるようにし た真空処理装置を提供することを主たる目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するため、この考案の真空処理装置は、前記真空容器内であっ て前記気体導入口の部分に、容器に多数の小孔を分散して設けて成る分散器を設 け、前記気体導入口から導入される気体をこの分散器を通して前記真空容器内に 導入するようにしたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】

上記構成によれば、気体導入口から分散器内に気体を導入すると、この分散器 の容器内は正圧になり、そのガス圧が容器内で均等にかかるようになるので、気 体は多数の小孔からほぼ等しい圧力で真空容器内に噴出するようになる。このと き、各小孔についてみれば、そこから噴出する気体によって乱流が生じるとして も、一つ一つの小孔から噴出する気体の量は少ないので、この乱流も小さく、従 って分散器全体としてみれば、従来例のように大きな乱流が生じることはなく、 この分散器の広い範囲からほぼ一様に気体が噴出するようになる。従って、真空 容器内のパーティクルの巻き上げを抑えることができる。

【００１０】

【実施例】

図１は、この考案の一実施例に係る真空処理装置を示す断面図である。図２は 、図１中の分散器周りを拡大して示す断面図である。図３の従来例と同一または 相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に 説明する。

【００１１】 この実施例においては、前述したような真空容器２内であって気体導入口１４ の部分を覆うように、容器２１に多数の小孔２２を分散して設けて成る分散器２ ０を設けている。

【００１２】 この分散器２０を構成する容器２１の形状は、図示例のように筒状でも良いし 、あるいは箱状、球状等でも良い。また、図示例では概略図のために小孔２２の 配置は均等でないように見えるが、実際上は小孔２２は均等に（即ち万遍なく） 配置するのが好ましい。

【００１３】 上記のように構成して、開閉バルブ１６を開いて気体導入口１４から分散器２ ０内に気体１８を導入すると、この分散器２０の容器２１内は正圧になり、その ガス圧が容器２１内で均等にかかるようになるので、気体１８は多数の小孔２２ からほぼ等しい圧力で真空容器２内に噴出するようになる。このとき、各小孔２ ２についてみれば、そこから噴出する気体１８によって乱流が生じるとしても、 一つ一つの小孔２２から噴出する気体１８の量は少ないので、この乱流も小さく 、従って分散器２０全体としてみれば、従来例のように大きな乱流が生じること なく、この分散器２０のほぼ全体からほぼ一様に気体１８が噴出するようになる 。従って、真空容器２内のパーティクルの巻き上げを抑えることができる。

【００１４】 その結果、被処理体１２に対するコンタミネーションを低減することができる 。また、真空容器２内に導入する気体１８の圧力および流量を大きくして真空容 器２内の大気圧化の高速化（スループットの向上）を図ることもできる。

【００１５】 なお、気体１８は、清浄な気体であれば窒素ガス以外のものでも良い。

【００１６】 また、装置によっては、エアロック室を設けずに、被処理体を処理する処理室 と大気圧側との間で被処理体を直接出し入れする場合もあり、その場合は処理室 に気体を導入してベントすることになるが、このような場合にもこの考案を適用 することができるのは勿論である。その場合、上記真空容器２をこの処理室を形 成するものと考えれば良い。

【００１７】

【考案の効果】

以上のようにこの考案によれば、真空容器内の気体導入口の部分に上記のよう な分散器を設けたので、真空容器内に気体を導入する際に、この分散器の広い範 囲からほぼ一様に気体が噴出するようになり、従って真空容器内のパーティクル の巻き上げを抑えることができる。

【００１８】 その結果、被処理体に対するコンタミネーションを低減することができる。ま た、真空容器内に導入する気体の圧力および流量を大きくして真空容器内の大気 圧化の高速化（スループットの向上）を図ることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この考案の一実施例に係る真空処理装置を示す
断面図である。

【図２】図１中の分散器周りを拡大して示す断面図であ
る

【図３】従来の真空処理装置の一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

２ 真空容器 ６ 真空ポンプ １２ 被処理体 １４ 気体導入口 １８ 気体 ２０ 分散器 ２１ 容器 ２２ 小孔

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ 9277−4Ｍ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空に排気される真空容器であってその
   中に被処理体が収納されるものの内部に、気体導入口か
   ら気体を導入して当該真空容器内を大気圧状態に戻すよ
   うにした真空処理装置において、前記真空容器内であっ
   て前記気体導入口の部分に、容器に多数の小孔を分散し
   て設けて成る分散器を設け、前記気体導入口から導入さ
   れる気体をこの分散器を通して前記真空容器内に導入す
   るようにしたことを特徴とする真空処理装置。