JPH0636562A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH0636562A
JPH0636562A JP4192518A JP19251892A JPH0636562A JP H0636562 A JPH0636562 A JP H0636562A JP 4192518 A JP4192518 A JP 4192518A JP 19251892 A JP19251892 A JP 19251892A JP H0636562 A JPH0636562 A JP H0636562A
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JP
Japan
Prior art keywords
bar
selection signal
transfer gate
potential
bit line
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4192518A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Nagayama
宏 永山
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH0636562A publication Critical patent/JPH0636562A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は半導体記憶装置の動作速度を低下させ
ることなく誤データの読出しを確実に防止することを目
的とする。 【構成】記憶セルCからビット線BL,バーBLに読み
出されるセル情報をセンスアンプSAで増幅し、ビット
線BL,バーBLのセル情報を転送ゲートTrgを介して
データバスDB,バーDBに出力する半導体記憶装置
で、センスアンプSAによりビット線BL,バーBLの
電位差が高電位側電源Vccと低電位側電源Vssとの電位
差に拡大される過程はビット線BL,バーBL及びデー
タバスDB,バーDBのリセット電位に等しいコラム選
択信号CLsで転送ゲートTrgを駆動し、前記電位差に
拡大された後は電源Vccに等しいコラム選択信号CLs
で転送ゲートTrgを駆動する選択信号生成回路1が転送
ゲートTrgに接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はダイナミックRAM
(以下DRAMとする)の読出し動作に関するものであ
る。
【0002】近年のDRAM等の半導体記憶装置ではそ
の動作速度が益々高速化されている。そのため、装置内
部の各回路の動作タイミングを調整することが困難にな
りつつあるため、その動作タイミングの調整を容易に行
って動作速度を益々高速化することが要請されている。
【0003】
【従来の技術】従来のDRAMの一例を図5に従って説
明すると、ビット線BLとワード線WLとの間には記憶
セルCが接続され、同ビット線BL及び同ビット線BL
と対をなすビット線バーBLはセンスアンプSA及び転
送ゲートTrg1 ,Trg2 を介してデータバスDB,バー
DBに接続されている。
【0004】そして、図6に示すようにワード線WLが
選択されてその電位がHレベルに引き上げられると、記
憶セルCが選択され、同記憶セルCに格納されているH
レベル若しくはLレベルのセル情報がビット線BLに読
み出されて、それまで電源Vccの1/2のレベルにリセ
ットされていたビット線BL,バーBL間に僅かな電位
差が生じる。
【0005】前記センスアンプSAはビット線BL,バ
ーBL間の電位差を増幅し、この状態でコラム線選択信
号CLをHレベルとして転送ゲートTrg1 ,Trg2 をオ
ンさせると、ビット線BL,バーBLに読み出されたセ
ル情報がデータバスDB,バーDBに伝達され、そのセ
ル情報は同データバスDB,バーDBに接続されるメイ
ンアンプ(図示しない)でさらに増幅されて出力され
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なDRAMの読出し動作においては、ワード線WLの電
位の立ち上がりと、センスアンプ活性化信号のタイミン
グ及びセンスアンプ活性化信号と、コラム線選択信号C
Lの立ち上がりのタイミングが近接していると、センス
アンプSAによりビット線BL,バーBLの電位差が充
分に拡大されていない状態で転送ゲートTrg1 ,Trg2
がオンされる。
【0007】すると、転送ゲートTrg1 ,Trg2 を介し
てビット線BL,バーBLに接続されるデータバスD
B,バーDBの寄生容量によりビット線BL,バーBL
に読み出されるセル情報にノイズNが発生する。
【0008】そして、このノイズNのレベルが大きくな
ってビット線BL,バーBLの電位が逆転すると、セン
スアンプSAによりセル情報が反転され、誤動作の原因
となることがある。
【0009】また、上記のような誤動作を防止するため
に遅延回路を用いてコラム線選択信号CLの立ち上がり
のタイミングを遅らせることにより、ビット線BL,バ
ーBLに読み出されたセル情報をセンスアンプSAによ
り確実に増幅した後にコラム線選択信号CLをHレベル
に立ち上げる構成が従来から提案されている。
【0010】しかし、トランジスタや容量により遅延時
間を設定する遅延回路では、そのトランジスタや容量の
特性のばらつきあるいは電源電圧の変動等によりその遅
延時間が変動するため、常時最適な遅延時間を維持し得
る遅延回路を設定することは容易ではない。
【0011】そこで、上記のような誤動作を確実に防止
するためには、遅延時間のばらつきを見込んだ長めの遅
延時間を設定した遅延回路を採用することになるため、
動作速度が低下するという問題点がある。
【0012】この発明の目的は、動作速度を低下させる
ことなく誤データの読出しを確実に防止し得る半導体記
憶装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。すなわち、記憶セルCからビット線BL,バ
ーBLに読み出されるセル情報をセンスアンプSAで増
幅し、前記ビット線BL,バーBLのセル情報を転送ゲ
ートTrgを介してデータバスDB,バーDBに出力する
半導体記憶装置で、前記センスアンプSAによりビット
線BL,バーBLの電位差が高電位側電源Vccと低電位
側電源Vssとの電位差に拡大される過程は前記ビット線
BL,バーBL及びデータバスDB,バーDBのリセッ
ト電位に等しいコラム選択信号CLsで前記転送ゲート
Trgを駆動し、前記電位差に拡大された後は前記電源V
ccに等しいコラム選択信号CLsで前記転送ゲートTrg
を駆動する選択信号生成回路1が前記転送ゲートTrgに
接続される。
【0014】また、図3に示すように前記選択信号生成
回路1はセル情報のビット線BL,バーBLへの読出し
動作に同期してLレベルからHレベルに立ち上がる通常
のコラム選択信号CLに基づいて前記転送ゲートTrgを
駆動するコラム選択信号CLsを生成する。
【0015】
【作用】ビット線BL,バーBLにセル情報が読み出さ
れてそのセル情報がセンスアンプSAで増幅され始める
と、転送ゲートTrgには選択信号生成回路1からビット
線BL,バーBL及びデータバスDB,バーDBのリセ
ット電位がCLsとして供給される。
【0016】すると、ビット線BL,バーBLのいずれ
かが前記リセット電位CLsより前記転送ゲートTrgの
しきい値以上低下した時点で、当該ビット線BL,バー
BLに接続されている一方の転送ゲートTrgがオンさ
れ、他方の転送ゲートTrgはオフ状態に維持される。
【0017】これに基づいて、データバスDB,バーD
Bの一方にビット線BL,バーBLの一方の電位が伝達
され、データバスDB,バーDBの他方の電位は前記リ
セット電位に維持される。
【0018】そして、センスアンプSAによりビット線
BL,バーBLの電位差が充分に拡大された時点で両転
送ゲートTrgにはほぼ高電位側電源Vccに等しい電位の
コラム選択信号CLsが供給されて両転送ゲートTrgが
オンされ、ビット線BL,バーBLの電位がデータバス
DB,バーDBに伝達される。
【0019】
【実施例】以下、この発明を具体化した一実施例を図2
〜図4に従って説明する。なお、前記実施例と同一構成
部分は同一符号を付して説明する。
【0020】図2に示すDRAMは選択信号生成回路1
から前記転送ゲートTrg1 ,Trg2にコラム線選択信号
CLsを供給する点において前記従来例と相違する。そ
して、選択信号生成回路1には前記従来例と同様なコラ
ム線選択信号CLが入力され、同選択信号生成回路1は
そのコラム線選択信号CLに基づいてコラム線選択信号
CLsを生成する。
【0021】前記選択信号生成回路1の構成を図3に従
って説明すると、前記コラム線選択信号CLは直列に接
続された多数段のインバータ回路2a〜2fの初段に入
力されるとともに、NAND回路3a,3dの一方の入
力端子に入力されている。前記NAND回路3aの他方
の入力端子にはNAND回路3bの出力信号が入力さ
れ、同NAND回路3bの一方の入力端子には前記NA
ND回路3aの出力信号が入力されている。また、前記
NAND回路3bの他方の入力端子には前記初段のイン
バータ回路2aから奇数段目のインバータ回路2eの出
力信号が入力されている。
【0022】前記NAND回路3dの他方の入力端子に
はNAND回路3cの出力信号が入力され、同NAND
回路3cの一方の入力端子には前記NAND回路3dの
出力信号が入力され、同NAND回路3cの他方の入力
端子には前記インバータ回路2eの次段のインバータ回
路2fの出力信号が入力されている。
【0023】前記NAND回路3aの出力信号はインバ
ータ回路2gに入力され、同インバータ回路2gの出力
信号はNチャネルMOSトランジスタTr1,Tr2のゲー
トに入力されている。
【0024】前記トランジスタTr1のドレインは高電位
側電源Vccに接続され、ソースは同一抵抗値の抵抗R
1,R2を介して前記トランジスタTr2のドレインに接
続されている。
【0025】また、前記トランジスタTr2のソースは低
電位側電源Vssに接続され、前記抵抗R1,R2間が出
力端子To に接続されている。従って、前記インバータ
回路2gの出力信号がHレベルとなると、前記トランジ
スタTr1,Tr2がオンされて前記電源Vccと電源Vssと
の中間レベル、すなわち1/2Vccのレベルの出力信号
が前記コラム選択信号CLsとして出力される。
【0026】前記出力端子To と電源Vccとの間にはP
チャネルMOSトランジスタTr3,Tr4が直列に接続さ
れ、前記出力端子To と電源Vssとの間にはNチャネル
MOSトランジスタTr5,Tr6が直列に接続されてい
る。
【0027】前記トランジスタTr3,Tr6のゲートには
前記NAND回路3cの出力信号が入力され、前記トラ
ンジスタTr4,Tr5のゲートには前記NAND回路3a
の出力信号が入力されている。
【0028】従って、NAND回路3a,3cの出力信
号がLレベルとなると、トランジスタTr3,Tr4がオン
されるとともにトランジスタTr5,Tr6がオフされて出
力端子To からHレベル、すなわちほぼ電源Vccのレベ
ルのコラム選択信号CLsが出力され、NAND回路3
a,3cの出力信号がHレベルとなると、トランジスタ
Tr3,Tr4がオフされるとともにトランジスタTr5,T
r6がオンされて出力端子To からLレベル、すなわちほ
ぼ電源Vssのレベルのコラム選択信号CLsが出力され
る。
【0029】さて、上記のように構成されたDRAMの
セル情報の読出し動作を説明する。読出し動作に先立っ
て選択信号生成回路1にLレベルのコラム選択信号CL
が入力されている状態ではNAND回路3a,3cの出
力信号はHレベルとなり、トランジスタTr1〜Tr4はオ
フされ、トランジスタTr5,Tr6はオンされる。
【0030】従って、選択信号生成回路1から出力され
るコラム線選択信号CLsはLレベルとなり、転送ゲー
トTrg1 ,Trg2 はオフされている。次いで、前記ビッ
ト線BL,バーBL及びデータバスDB,バーDBの電
位が1/2Vccにリセットされるとともにセンスアンプ
SAが活性化されている状態でワード線WLがHレベル
となると記憶セルCに格納されているセル情報がビット
線BLに読み出される。
【0031】すると、ビット線BL,バーBL間に僅か
な電位差が発生し、その電位差がセンスアンプSAで増
幅されるため、図4に示すようにビット線BL,バーB
Lの電位差が拡大される。
【0032】一方、前記ワード線WLの電位の立ち上が
りとともに、前記選択信号生成回路1にLレベルからH
レベルに立ち上がるコラム選択信号CLが入力される。
すると、NAND回路3a,3b及びインバータ回路2
a〜2eの動作によりNAND回路3aの出力信号はL
レベルとなってインバータ回路2gの出力信号はHレベ
ルとなる。また、NAND回路3cの出力信号はHレベ
ルに維持される。
【0033】従って、トランジスタTr1,Tr2はオンさ
れ、トランジスタTr3,Tr5はオフされるため、コラム
選択信号CLsは1/2Vccのレベルとなる。この状態
で前記センスアンプSAの動作によりビット線BL,バ
ーBLの電位差が拡大され、例えばビット線BLの電位
が1/2Vccから低下するとともにビット線バーBLの
電位が1/2Vccから上昇するように両ビット線BL,
バーBLの電位差が拡大されると、転送ゲートTrg1 ,
Trg2 のゲート電位は1/2Vccであるため、転送ゲー
トTrg1 はビット線BLの電位が1/2Vccより同転送
ゲートTrg1 のしきい値以上低下した時点でオンされ
る。
【0034】また、転送ゲートTrg2 はビット線バーB
Lの電位が上昇しても、そのゲート電位とデータバス・
バーDBの電位とがともに1/2Vccであるのでオフ状
態に維持される。
【0035】従って、データバスDB,バーDBの電位
はデータバスDBの電位が徐々に低下するとともに、デ
ータバス・バーDBの電位は1/2Vccに維持された状
態となる。
【0036】次いで、前記コラム選択信号CLsの立ち
上がりからインバータ回路2a〜2eの動作時間に基づ
く遅延時間後にNAND回路3a,3cの出力信号はL
レベルとなる。
【0037】すると、トランジスタTr1,Tr2,Tr5,
Tr6はオフされるとともに、トランジスタTr3,Tr4は
オンされるため、コラム選択信号CLsはほぼ電源Vcc
のレベルまで引き上げられる。
【0038】この結果、転送ゲートTrg1 ,Trg2 はと
もにオンされ、図4に示すようにセンスアンプSAの動
作によりデータバスDB,バーDBの電位差が電源Vcc
と電源Vssとの電位差まで拡大される。
【0039】以上のようにこのDRAMでは、ビット線
BL,バーBLに読み出されたセル情報のセンスアンプ
SAによる増幅に同期してまず転送ゲートTrg1 ,Trg
2 には1/2Vccのコラム選択信号CLsが供給され、
次いで電源Vccレベルのコラム選択信号CLsが供給さ
れる。
【0040】このため、まずセンスアンプSAにより電
位が引き下げられる側のビット線に接続された転送ゲー
トのみがオンされて一方のデータバスの電位が引き下げ
られ、次いで両転送ゲートがオンされてセンスアンプS
AからデータバスDB,バーDBにセル情報が出力され
る。
【0041】従って、センスアンプSAによりビット線
BL,バーBLの電位差が充分に拡大されていない状態
で両転送ゲートTrg1 ,Trg2 が同時にオンされること
はないので、データバスDB,バーDBの寄生容量によ
るセンスアンプSAの誤動作を確実に防止することがで
きる。
【0042】また、コラム選択信号CLsの立ち上がり
を遅延させる構成ではないとともに、データバスDB,
バーDBに生じた僅かな電位差を同データバスDB,バ
ーDBに接続されるメインアンプで増幅して出力するの
で、動作速度を低下させることはない。
【0043】
【発明の効果】以上詳述したように、この発明は半導体
記憶装置の動作速度を低下させることなく誤データの読
出しを確実に防止することができる優れた効果を発揮す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】本発明の一実施例を示す回路図である。
【図3】一実施例の選択信号発生回路を示す回路図であ
る。
【図4】一実施例の動作を示す波形図である。
【図5】従来例を示す回路図である。
【図6】従来例の動作を示す波形図である。
【符号の説明】
1 選択信号生成回路 C 記憶セル BL,バーBL ビット線 DB,バーDB データバス Trg 転送ゲート SA センスアンプ Vcc 高電位側電源 Vss 低電位側電源 CLs コラム選択信号

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 記憶セル(C)からビット線(BL,バ
    ーBL)に読み出されるセル情報をセンスアンプ(S
    A)で増幅し、前記ビット線(BL,バーBL)のセル
    情報をNチャネルMOSトランジスタで構成した転送ゲ
    ート(Trg)を介してデータバス(DB,バーDB)に
    出力する半導体記憶装置であって、 前記センスアンプ(SA)によりビット線(BL,バー
    BL)の電位差が高電位側電源(Vcc)と低電位側電源
    (Vss)との電位差に拡大される過程は前記ビット線
    (BL,バーBL)及びデータバス(DB,バーDB)
    のリセット電位に等しいコラム選択信号(CLs)で前
    記転送ゲート(Trg)を駆動し、前記電位差に拡大され
    た後は前記電源(Vcc)に等しいコラム選択信号(CL
    s)で前記転送ゲート(Trg)を駆動する選択信号生成
    回路(1)を前記転送ゲート(Trg)に接続したことを
    特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記選択信号生成回路(1)はセル情報
    のビット線(BL,バーBL)への読出し動作に同期し
    てLレベルからHレベルに立ち上がる通常のコラム選択
    信号(CL)に基づいて、前記転送ゲート(Trg)を駆
    動するコラム選択信号(CLs)を生成することを特徴
    とする請求項1記載の半導体記憶装置。
JP4192518A 1992-07-20 1992-07-20 半導体記憶装置 Withdrawn JPH0636562A (ja)

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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19991005