JPH0637313B2 - 光ファイバ紡糸装置および紡糸方法 - Google Patents
光ファイバ紡糸装置および紡糸方法Info
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- JPH0637313B2 JPH0637313B2 JP63200576A JP20057688A JPH0637313B2 JP H0637313 B2 JPH0637313 B2 JP H0637313B2 JP 63200576 A JP63200576 A JP 63200576A JP 20057688 A JP20057688 A JP 20057688A JP H0637313 B2 JPH0637313 B2 JP H0637313B2
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- JP
- Japan
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- cooling
- optical fiber
- coating
- chamber
- gas
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/027—Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
- C03B37/02718—Thermal treatment of the fibre during the drawing process, e.g. cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/50—Cooling the drawn fibre using liquid coolant prior to coating, e.g. indirect cooling via cooling jacket
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Description
【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、光ファイバの紡糸を高速で行える紡糸装置お
よび紡糸方法に関するものである。
よび紡糸方法に関するものである。
「従来の技術」 第３図は、従来の光ファイバ紡糸装置を示すものであ
る。このものは、母材１を加熱する加熱炉２と、加熱さ
れた母材１から引き伸ばされた光ファイバ３に直ちに被
覆を施す被覆装置４とを備えたもので、被覆装置４は光
ファイバ３に被覆樹脂を塗布する樹脂塗布部５と塗布さ
れた樹脂を硬化させる硬化処理部６とから構成されてい
る。
る。このものは、母材１を加熱する加熱炉２と、加熱さ
れた母材１から引き伸ばされた光ファイバ３に直ちに被
覆を施す被覆装置４とを備えたもので、被覆装置４は光
ファイバ３に被覆樹脂を塗布する樹脂塗布部５と塗布さ
れた樹脂を硬化させる硬化処理部６とから構成されてい
る。
「発明が解決しようとする課題」 加熱炉２で加熱されて引き伸ばされた光ファイバ３と被
覆樹脂との濡れ性を良好に保って、光ファイバ３に被覆
樹脂を均一に塗布するためには、被覆装置４の樹脂塗布
部５に達するまでに光ファイバ３を冷却しなければなら
ない。
覆樹脂との濡れ性を良好に保って、光ファイバ３に被覆
樹脂を均一に塗布するためには、被覆装置４の樹脂塗布
部５に達するまでに光ファイバ３を冷却しなければなら
ない。
そこで前記従来の光ファイバ紡糸装置にあっては、被覆
装置４を加熱炉２から離れた位置に設けて、引き伸ばさ
れた高温の光ファイバ３を自然冷却したのち被覆装置４
の樹脂塗布部５に導いていた。
装置４を加熱炉２から離れた位置に設けて、引き伸ばさ
れた高温の光ファイバ３を自然冷却したのち被覆装置４
の樹脂塗布部５に導いていた。
ところがこのように光ファイバ３を自然冷却する光ファ
イバ紡糸装置にあっては、紡糸速度を高速化するに伴い
加熱炉２と被覆装置４との間の冷却路長が大幅に長くな
ってしまう問題があった。
イバ紡糸装置にあっては、紡糸速度を高速化するに伴い
加熱炉２と被覆装置４との間の冷却路長が大幅に長くな
ってしまう問題があった。
「課題を解決するための手段」 本発明にあっては、ガス圧で外気から遮断されたチャン
バと冷却流通路を有する略管状の冷却室と該冷却室に冷
却ガスを供給する冷却ガス供給機構とを備えた冷却装置
を、加熱炉と被覆装置との間に設けることにより前記課
題の解決を図った。
バと冷却流通路を有する略管状の冷却室と該冷却室に冷
却ガスを供給する冷却ガス供給機構とを備えた冷却装置
を、加熱炉と被覆装置との間に設けることにより前記課
題の解決を図った。
「作用」 加熱炉で紡糸された光ファイバは冷却装置の冷却室に導
かれ、冷却ガス供給機構から供給された冷却ガスに接し
て冷却される。こののち光ファイバは被覆装置に導かれ
る。
かれ、冷却ガス供給機構から供給された冷却ガスに接し
て冷却される。こののち光ファイバは被覆装置に導かれ
る。
冷却ガス供給機構から冷却室に導入されるガスは予め冷
却ガス供給機構で一度冷却された乾燥したガスである。
従って冷却室内は常に低温で乾燥した状態に保たれる。
却ガス供給機構で一度冷却された乾燥したガスである。
従って冷却室内は常に低温で乾燥した状態に保たれる。
また、冷却装置の冷却室内はガス圧で外気から遮断され
ているので、冷却室への外気流入が防止され、冷却室内
が外気の水分で湿潤な状態になることはない。
ているので、冷却室への外気流入が防止され、冷却室内
が外気の水分で湿潤な状態になることはない。
「実施例」 以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。なお前
記従来例と同様のの構成部分には同一の符号を付して、
説明を簡略化する。
記従来例と同様のの構成部分には同一の符号を付して、
説明を簡略化する。
第１図ないし第２図は、本発明の光ファイバ紡糸装置の
第１実施例を示すもので、図中符号10は冷却装置であ
る。この冷却装置10は、被覆装置４の樹脂塗布部５と加
熱炉２との間に設けられており、冷却室11と冷却ガス供
給機構12とから構成されている。冷却室11は管状の冷却
筒13によって形成されている。この冷却筒13は銅製の内
筒14と外筒15によって形成されており、内外筒14,15 間
は冷却液の流通する冷却液通路16となっている。そして
冷却筒13の上側部と下側部には、それぞれ冷却液注入口
17と冷却液出口18が設けられている。また冷却筒13の略
中央部には、前記冷却装置10から供給された冷却ガスを
冷却室11に導く冷却ガス導入口19が形成されている。ま
た冷却筒13の上端と下端の開口部にはチャンバー20,21
が設けられており、これらチャンバ20,21 には、紡糸さ
れた光ファイバ３が通過する小孔23…が穿設されてい
る。そして、これらチャンバ20,21 には、窒素ガス等の
シールガスが外気より高圧で供給されるようになってい
る。
第１実施例を示すもので、図中符号10は冷却装置であ
る。この冷却装置10は、被覆装置４の樹脂塗布部５と加
熱炉２との間に設けられており、冷却室11と冷却ガス供
給機構12とから構成されている。冷却室11は管状の冷却
筒13によって形成されている。この冷却筒13は銅製の内
筒14と外筒15によって形成されており、内外筒14,15 間
は冷却液の流通する冷却液通路16となっている。そして
冷却筒13の上側部と下側部には、それぞれ冷却液注入口
17と冷却液出口18が設けられている。また冷却筒13の略
中央部には、前記冷却装置10から供給された冷却ガスを
冷却室11に導く冷却ガス導入口19が形成されている。ま
た冷却筒13の上端と下端の開口部にはチャンバー20,21
が設けられており、これらチャンバ20,21 には、紡糸さ
れた光ファイバ３が通過する小孔23…が穿設されてい
る。そして、これらチャンバ20,21 には、窒素ガス等の
シールガスが外気より高圧で供給されるようになってい
る。
前記冷却ガス供給機構12はガスを冷却して前記冷却室11
に供給するもので、ガス流路24と冷却器25とから構成さ
れている。この冷却装置10で用いる冷却用の冷却ガスに
は、熱伝導率が大きなヘリウムガスが好適に利用され
る。
に供給するもので、ガス流路24と冷却器25とから構成さ
れている。この冷却装置10で用いる冷却用の冷却ガスに
は、熱伝導率が大きなヘリウムガスが好適に利用され
る。
この光ファイバ紡糸装置にあっては、加熱炉２で紡糸さ
れた光ファイバ３が直ちに冷却装置10の冷却室11に導か
れる。この冷却室11には冷却ガス供給機構12の冷却器25
で冷却された冷却ガスが送り込まれており、送り込まれ
た冷却ガスは冷却筒13の冷却液流路16内を流れる冷却液
によって低温に維持されている。そしてこの冷却室11を
通過する間に光ファイバ３は、被覆樹脂を塗布するのに
好適な温度まで冷却される。そして冷やされた光ファイ
バ３は被覆装置４に導かれて、保護のための樹脂被覆が
施される。このようにこの光ファイバ紡糸装置では、冷
却装置10により紡糸された光ファイバ３を制御冷却する
ので、光ファイバ３を短時間で冷却する。よって、光フ
ァイバの紡糸速度を高速化しても冷却路長が長尺化する
ことはない。
れた光ファイバ３が直ちに冷却装置10の冷却室11に導か
れる。この冷却室11には冷却ガス供給機構12の冷却器25
で冷却された冷却ガスが送り込まれており、送り込まれ
た冷却ガスは冷却筒13の冷却液流路16内を流れる冷却液
によって低温に維持されている。そしてこの冷却室11を
通過する間に光ファイバ３は、被覆樹脂を塗布するのに
好適な温度まで冷却される。そして冷やされた光ファイ
バ３は被覆装置４に導かれて、保護のための樹脂被覆が
施される。このようにこの光ファイバ紡糸装置では、冷
却装置10により紡糸された光ファイバ３を制御冷却する
ので、光ファイバ３を短時間で冷却する。よって、光フ
ァイバの紡糸速度を高速化しても冷却路長が長尺化する
ことはない。
またこの光ファイバ紡糸装置の冷却装置10の冷却室11に
導入される冷却ガスは、冷却ガス供給機構12の冷却器25
で予め冷却されてから導入されるので、乾燥した状態と
なっている。従って、光ファイバ３の水分による強度低
下を防止できる。
導入される冷却ガスは、冷却ガス供給機構12の冷却器25
で予め冷却されてから導入されるので、乾燥した状態と
なっている。従って、光ファイバ３の水分による強度低
下を防止できる。
さらにこの光ファイバ紡糸装置の冷却装置10にあって
は、冷却室11の両端にチャンバ20,21 が設けられてお
り、チャンバ20,21 に外気より高圧の窒素ガスが注入さ
れるので、窒素ガスにより冷却室11が外気から遮断され
る。従って、光ファイバ３の紡糸を中断した時に冷却ガ
ス供給機構12から冷却室11への供給ガスの供給を停止し
ても外気が冷却室11内に流入することはなく、外気中の
水分が低温の冷却室11内で結露する事故を防止でき、光
ファイバ３の水分による強度劣化を防止できる。
は、冷却室11の両端にチャンバ20,21 が設けられてお
り、チャンバ20,21 に外気より高圧の窒素ガスが注入さ
れるので、窒素ガスにより冷却室11が外気から遮断され
る。従って、光ファイバ３の紡糸を中断した時に冷却ガ
ス供給機構12から冷却室11への供給ガスの供給を停止し
ても外気が冷却室11内に流入することはなく、外気中の
水分が低温の冷却室11内で結露する事故を防止でき、光
ファイバ３の水分による強度劣化を防止できる。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明にあっては、ガス圧で外気
から遮断されたチャンバと冷却液通路を有する略管状の
冷却室と該冷却室に冷却ガスを供給する冷却ガス供給機
構とを備えた冷却装置が加熱炉と被覆装置との間に設け
られ、紡糸された高温の光ファイバは冷却装置の冷却室
に導かれて、冷却ガス供給機構から供給された冷却ガス
により強制冷却される。
から遮断されたチャンバと冷却液通路を有する略管状の
冷却室と該冷却室に冷却ガスを供給する冷却ガス供給機
構とを備えた冷却装置が加熱炉と被覆装置との間に設け
られ、紡糸された高温の光ファイバは冷却装置の冷却室
に導かれて、冷却ガス供給機構から供給された冷却ガス
により強制冷却される。
従って本発明によれば、光ファイバの冷却を短い冷却路
長で行うことができ、紡糸速度の高速化に伴う冷却路長
の長尺化を防ぐことができる。
長で行うことができ、紡糸速度の高速化に伴う冷却路長
の長尺化を防ぐことができる。
また本発明では、冷却室内に導入される冷却ガスが冷却
ガス供給機構で予め冷却されてから冷却室内に導入され
るうえ、冷却室がガス圧により外気から遮断されている
ので、冷却室内が常に乾燥した状態に保たれる。従っ
て、本発明の光ファイバ紡糸装置および紡糸方法にあっ
ては、光ファイバの水分による強度劣化を防止できる。
ガス供給機構で予め冷却されてから冷却室内に導入され
るうえ、冷却室がガス圧により外気から遮断されている
ので、冷却室内が常に乾燥した状態に保たれる。従っ
て、本発明の光ファイバ紡糸装置および紡糸方法にあっ
ては、光ファイバの水分による強度劣化を防止できる。
第１図は本発明の光ファイバ紡糸装置の一実施例を示す
概略構成図、第２図は同実施例の要部を示す断面図、第
３図は従来の光ファイバ紡糸装置を示す概略構成図であ
る。 １……母材、２……加熱炉、３……光ファイバ、４……
被覆装置、10……冷却装置、11……冷却室、12……冷却
ガス供給機構
概略構成図、第２図は同実施例の要部を示す断面図、第
３図は従来の光ファイバ紡糸装置を示す概略構成図であ
る。 １……母材、２……加熱炉、３……光ファイバ、４……
被覆装置、10……冷却装置、11……冷却室、12……冷却
ガス供給機構
Claims (2)
- 【請求項１】母材を加熱する加熱炉と加熱された母材か
ら引き伸ばされた光ファイバに被覆を施す被覆装置とを
備えた光ファイバ紡糸装置において、 前記加熱炉と被覆装置との間に、ガス圧で外気から遮断
されたチャンバと冷却液通路を有する略管状の冷却室と
該冷却室に冷却ガスを供給する冷却ガス供給機構とを備
えた冷却装置が設けられたことを特徴とする光ファイバ
紡糸装置。 - 【請求項２】母材を加熱する加熱炉と加熱された母材か
ら引き伸ばされた光ファイバに被覆を施す被覆装置を用
いる光ファイバ紡糸方法において、 前記加熱炉と被覆装置との間に、ガス圧で外気から遮断
されたチャンバと冷却液通路を有する略管状の冷却室と
該冷却室に冷却ガスを供給する冷却ガス供給機構とが備
えられた冷却装置を設けて光ファイバを冷却したのち、
被覆を施すことを特徴とする光ファイバ紡糸方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200576A JPH0637313B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 光ファイバ紡糸装置および紡糸方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200576A JPH0637313B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 光ファイバ紡糸装置および紡糸方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0251441A JPH0251441A (ja) | 1990-02-21 |
| JPH0637313B2 true JPH0637313B2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=16426634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63200576A Expired - Lifetime JPH0637313B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | 光ファイバ紡糸装置および紡糸方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0637313B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9230826B2 (en) | 2010-08-26 | 2016-01-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Etching method using mixed gas and method for manufacturing semiconductor device |
| US9257561B2 (en) | 2010-08-26 | 2016-02-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100418347B1 (ko) * | 2001-09-25 | 2004-02-11 | 엘지전선 주식회사 | 냉각 가스 순환을 통한 광섬유 냉각장치 |
| JP7419670B2 (ja) * | 2019-05-23 | 2024-01-23 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法、および光ファイバの製造装置 |
| JP7266788B2 (ja) * | 2019-09-09 | 2023-05-01 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法および光ファイバ冷却装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6046954A (ja) * | 1983-08-26 | 1985-03-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ線引き装置 |
| JPS61151033A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-09 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバ線引装置 |
| JPS61174133A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | Hitachi Cable Ltd | 光フアイバの製造方法 |
| JPS62270434A (ja) * | 1986-12-24 | 1987-11-24 | Hitachi Ltd | 光フアイバの線引方法及び装置 |
-
1988
- 1988-08-11 JP JP63200576A patent/JPH0637313B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9230826B2 (en) | 2010-08-26 | 2016-01-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Etching method using mixed gas and method for manufacturing semiconductor device |
| US9257561B2 (en) | 2010-08-26 | 2016-02-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0251441A (ja) | 1990-02-21 |
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