JPH0637478B2 - 置換イミダゾ−ル化合物の製法 - Google Patents

置換イミダゾ−ル化合物の製法

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JPH0637478B2
JPH0637478B2 JP60176797A JP17679785A JPH0637478B2 JP H0637478 B2 JPH0637478 B2 JP H0637478B2 JP 60176797 A JP60176797 A JP 60176797A JP 17679785 A JP17679785 A JP 17679785A JP H0637478 B2 JPH0637478 B2 JP H0637478B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、薬効を有する化合物およびその製造に有用な
中間体である置換イミダゾール化合物の製法に関する。
本発明の製法によれば式: [式中、R1は低級アルキル;R3は離脱しうる基;Rは
低級アルコキシ、−SCH2CH2NH2または−P (R3 ;R5はアリール;Xはアニ
オンを意味する] で示される化合物から離脱しうる基(R3)を常法に従
って離脱させることにより式: [式中、R1およびRは前記と同じである] で示される置換イミダソール化合物が得られる。
好ましいRは、 である。
本明細書で用いる「離脱しうる基」とは、トリハロゲン
化メチル(たとえば、トリフルオロメチル、トリクロロ
メチル、トリブロモメチル)、スルフィン酸基(−SO
2H)またはそのアルカリ金属塩、−SR4[R4は低級
アルキル(好ましくはメチル)、置換または非置換アリ
ール(好ましくはフェニル)、または置換または非置換
アラルキル(好ましくはベンジル、クロロベンジ
ル)]、−COOR″(R″は低級アルキル)または−
COOHから選ばれる、反応の途中または反応後に常法
により容易に離脱しうる基を意味する。「アニオン」と
しては、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲンのほか、ト
シレート、メシレートなどの有機アニオン、スルフェー
ト、ホスフェート、カーボネート、ヒドロキシ、低級ア
ルコキシド(メトキシド、エトキシド)などがあるる。
また、「低級アルキル」「低級アルコキシ」とは炭素数
1〜6のアルキルまたはアルコキシが含まれる。
3基の離脱は、たとえば、R3が−SR4の場合、これ
をラネー・ニッケルのような還元剤で処理して行なわ
れ、2位が水素の化合物を得る。またR3が−SO2H、
−COOR″または−COOHの化合物は、ガス、SO
2、CO2の発生が完了するまで加熱または放置すれば2
位が水素の化合物をうる。この場合、温度−10〜25
0℃で行なわれる。例えば、−SO2Hの場合、−10
〜120℃にてすばやく分解され、−COOR″、−C
OOHの場合は150〜250℃、好ましくは170〜
200℃に加熱して分解される。一般に−COOHの化
合物は、その分解温度はその化合物の融点もしくはそれ
以上の温度である。より低温を用いる場合は銅粉、酸化
銅などの金属または金属塩粉末を添加して行なう。R3
が−SO2Hの場合は、分解時にSO2を発生するため、
環境衛生の観点から、R3が−COOR″または−CO
OHのものを用いることが、有害ガスの発生がないこと
に加えて高収率であるため有利に用いられる。
Rが−P (R3 の式[I]の4−(トリ置換ホス
ホニウム)メチルイミダゾールは、式: [式中、R1、R5およびXは後記と同じである] で示されるトリ置換β−アシルビニルホスホニウム・ハ
ロゲン化物、好ましくは、臭化物または塩化物を、ズビ
ラール[Zbiral.Synthesia,11巻、775頁(197
4年)]およびズビラールおよびヒューグル[Zbiralお
よびHugl.Phosphorus,2巻、29頁(1972年)]の
記載する方法に従って、式: [式中、R3′は−COOR″および−COOH以外の
前記R3基を意味する] で示される化合物と反応させて製造される。
3が−COOR″または−COOHの該4−(トリ置
換ホスホニウム)メチルイミダゾールは、対応する2−
トリハロメチル−4−トリフェニルホスホニウムイミダ
ゾールを過剰のアルコール(好ましくはメタノール、エ
タノール)と反応させてエステル体(−COOR″)
に、または不活性有機溶媒中、水と反応させてカルボン
酸(−COOH)とする方法で高収率、高純度で製造さ
れる。その反応は室温もしくはその反応混合物の還流温
度で行なわれる。不活性有機溶媒としてはアセトニトリ
ル、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、テトラヒドロ
フランなどがあげられる。
好ましい態様においては、中間体のトリハロメチル化合
物は単離する必要はなく、たとえば、トリクロロアセト
アミジンをトリフエニルβ−アセチルビニルホスホニウ
ムブロマイドまたはクロライドとメタノール溶液として
室温ないし還流温度にて反応させ、生成した2−トリハ
ロメチル化合物を直ちにメタノールとの反応に供して2
−カルボメトキシ中間体を生成させる。他のカルボアル
コキシ誘導体も同様にして生成される。
Rが−P (R3 以外の式[I]の化合物はRが−
(R3 の式[I]の化合物を式R′H(R′は
−P (R3 以外の前記Rで示される基)と反
応させ、トリ置換ホスホニウム基をR′基で置換させる
ことにより得られる。この反応は塩基性条件下で行な
う。すなわち、式R′Hの化合物をR′ の形で反応さ
せることにより行なわれる。このアニオンは式R′Hの
化合物と強塩基から反応系内で形成させることができ
る。塩基としては式R′Hの化合物からプロトンを離脱
させ、アニオンR′ を形成させる能力を有するものを
用いることができる。かかる塩基としてはpKaが12以
上のもので、例えば、好ましくは、ナトリウムメトキシ
ドもしくはエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシ
ドまたは水素化ナトリウムのようなアルカリ金属の水素
化物が挙げられる。式R′Hの化合物が、ピペリジンの
ようなそれ自体充分塩基性のものであれば、さらに塩基
を用いる必要はない。
この反応はメタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルム
アミドあるいは、好ましくはジメチルスルホキシドのよ
うな有機溶媒中で行なう。好ましくは、この反応は、室
温から溶媒の還流温度、すなわち、約25〜約200
℃、好ましくは約65〜約100℃の温度で約20分〜
約24時間、好ましくは約20分〜約3時間行なう。
好ましくは反応混合液を水で希釈し、トリフェニルホス
フィン副生物を濾去する。要すれば、濾液を抽出し、蒸
発させて所望の式[I]の化合物を得る。しばしば、得ら
れた式[I]の化合物をその対応する塩、好ましくは、塩
酸塩に変えることが望まれる。これらの塩は、酸または
酸溶液、たとえば塩酸のエーテル性もしくはエタノール
性溶液で式[I]の化合物を処理して製造され、得られた
塩は適当な溶媒から結晶させる。
得られた式[II]のイミダゾール化合物のあるものは薬効
を有する化合物、ことにN−シアノ−N′−メチル−
N″−[2−(5−R1−イミダゾリルメチルチオ)エ
チル]グアニジンおよびN−メチル−N′−[2−(5
−R1−イミダゾリルメチルチオ)エチル]チオウレア
化合物のようにヒスタミンH2−拮抗剤として有用なも
のであり、また他のものはその薬効を有する化合物の製
造中間体として有用である。ヒスタミンH2−拮抗剤
は、ブラックら[Black et al.,Nature,236巻、38
5頁(1972年)]によって記載されるように、メピ
ラミンのような抗ヒスタミン剤で遮断されないが、ブリ
ムアミドで遮断されるヒスタミン受容体と定義できるヒ
スタミンH2−受容体で作用する。ヒスタミンH2−受容
体の遮断は抗ヒスタミン剤で抑制できないヒスタミンの
生物学的作用を抑制するのに有用である。例えば、ヒス
タミンH2−拮抗剤は胃酸分泌の抑制に有用である。
式[II]の化合物をこれらの薬効を有するグアニジンおよ
びチオウレア化合物に変えるには種々の方法が採用でき
る。R2の場合、該グアニジン化合物は本発明の方法により直接
製造できる。
さらに式[II]のRがアルコキシのものに、システアミン
(HSCH2CH2NH2)や などを反応させれば。それぞれR2が−SCH2CH2
2または の化合物が得られる。
式[II]の化合物から得られるこれらのチオウレアおよび
シアノグアニジン化合物は米国特許第3950333号
および第3950353号に記載されている。
つぎに実施例および参考例を挙げて本発明をさらに詳し
く説明するがこれらに限定されるものではない。
参考例1 トリフェニルβ−アセチルビニルホスホニウム・臭化物
8.0g(0.019モル)を最小量の乾燥アセトニトリル(約
100ml)に溶解し、トリクロロアセトアミジン4.0g
(0.25モル)を一度に加える。得られた混合液を室温で
撹拌し、析出した物質を濾取して[(2−トリクロロメ
チル−5−メチルイミダゾリル)−4−メチル]トリフ
ェニルホスホニウム・臭化物を得る。融点155〜15
7℃ このホスホニウム塩15.0g(0.027モル)をメタノール
150mlに加え、得られた混合液を3時間還流させる。
この混合液を約15mlに濃縮し、固体を濾去して[(2
−メトキシカルボニル−5−メチルイミダゾリル)−4
−メチル]トリフェニルホスホニウム・臭化物を得る。
融点168〜170℃ 実施例1 [(2−メトキシカルボニル−5−メチルイミダゾリ
ル)−4−メチル]トリフェニルホスホニウム・臭化物
をその融点(約170℃)に加熱し、ガスの発生がやむ
までこの温度を保持する。冷却し、この固体生成物をク
ロロホルムでトリチュレートして[(5−メチルイミダ
ゾリル)−4−メチル]トリフェニルホスホニウム・臭
化物を得る。融点238〜239℃ 参考例2 トリフェニルβ−アセチルビニルホスホニウム・塩化物
36g(0.01モル)およびトリクロロアセトアミジン1
6.1g(0.1モル)をメタノール200ml中で1時間撹拌
する。この溶液を加熱還流させ、冷却し、メタノールを
蒸発させて[(2−メトキシカルボニル−5−メチルイ
ミダゾリル)−4−メチル]トリフェニルホスホニウム
・塩化物50gを得る(融点170℃(分解))。
実施例2 [(2−メトキシカルボニル−5−メチルイミダゾリ
ル)−4−メチル]トリフェニルホスホニウム・塩化物
を170℃でガスの発生がやむまで加熱し、ついで冷却
し、クロロホルムでトリチュレートして[(5−メチル
イミダゾリル)−4−メチル]トリフェニルホスホニウ
ム・塩化物を得る。融点223〜225℃ 実施例3 4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチル−2
−メチルチオイミダゾール6.6g(0.03モル、塩酸塩の
融点165℃)およびニッケル・アルミニウム(50:
50)合金6.6gのギ酸50ml中混合液を3時間還流さ
せる。この金属を濾去し、濾液を蒸発乾固させる。残渣
をエタノールに溶解し、このエタノール性溶液を硫化水
素で飽和し、濾過する。濾液を塩化水素で飽和させる。
酢酸エチルを加えて、4−(2−アミノエチル)チオメ
チル−5−メチルイミダゾールのジ塩酸塩を沈澱させ
る。融点185〜191℃ 参考例3 炭酸カリウム7.75gを4−(2−アミノエチル)チオメ
チル−5−メチルイミダゾール・ジ塩酸塩14.6gの水1
20ml中溶液を加える。この溶液を室温で15分間保持
し、メチルイソチオシアネート5.15gを加える。0.5時
間加熱還流させた後、この溶液を5℃に徐冷する。生成
物を集め、水から再結晶させてN−メチル−N′−[2
−(5−メチル−4−イミダゾリルメチルチオ)エチ
ル]チオウレアを得る。融点150〜152℃ 参考例4 [(2−メチルチオ−5−メチルイミダゾリル)−4−
メチル]トリフェニルホスホニウム臭化物(融点223
〜225℃)とN−シアノ−N′−メチル−N″−メル
カプトエチルグアニジンをメタノール中、ナトリウムメ
トキシドの存在下で反応させてN−シアノ−N′−メチ
ル−N″−[2−(2−メチルチオ−5−メチル−4−
イミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンを得る。
実施例4 前記と同様に、N−シアノ−N′−メチル−N″−[2
−(2−メチルチオ−5−メチル−4−イミダゾリルメ
チルチオ)エチル]グアニジンをニッケルーアルミニウ
ム合金で処理し、2−メチルチオ基を離脱させて、N−
シアノ−N′−メチル−N″−[2−(5−メチル−4
−イミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンを得
る。融点141〜143℃ 参考例5 β−ピバロイルビニルクロライド7.3g(0.05モル)お
よびトリフェニルホスフィン8.1g(0.05モル)をベン
ゼン100mlに溶かし、30分間加熱還流する。この混
合物を冷却し、濾過し、ベンゼンで洗浄し、ついで乾燥
させて白色粉末のトリフェニルβ−ピバロイルビニルホ
スホニウムクロライド12gを得る。融点193〜19
5℃ トリフェニルβ−ピバロイルビニルホスホニウムクロラ
イド8.16g(0.02モル)のメタノール50ml中溶液に、
撹拌下、トリクロロアセトアミジン3.22g(0.02モル)
を加え、この混合物を室温にて一夜撹拌する。メタノー
ルを減圧留去して白色固体11.32gを得る。この固体を
クロロホルムに溶かし、不溶物を濾去する。濾液を減圧
蒸発させ、えられた残渣を高減圧下に乾燥して白色固体
の[(4−t−ブチル−2−カルボメトキシイミダゾリ
ル)−5−メチル]トリフェニルホスホニウムクロライ
ド9.6g(91%)を得る。融点120℃(分解) 実施例5 [(4−t−ブチル−2−カルボメトキシイミダゾリ
ル)−5−メチル]トリフェニルホスホニウムクロライ
ド9gを180〜190℃で15分間加熱し、冷却し、
生成物をアセトニトリルから再結晶させて[(5−t−
ブチルイミダゾリル)−4−メチル]トリフェニルホス
ホニウムクロライドを得る。融点134〜137℃(分
解) 参考例6 金属ナトリウム25.3g(1.1モル)をエタノール2に
溶解する。2−メチルシウドチオウレア硫酸塩278.3g
(1.0モル)を加え、この混合液を0.5時間撹拌する。つ
いで臭化トリフェニルβ−アセチルビニルホスホニウム
411g(1.0モル)を加え、この混合液を18時間加
熱還流させ、冷却し、濾過する。フィルターケーキをエ
タノール200mlで洗浄する。濾液およびエタノール洗
液を合し、減圧下で蒸発させて褐色の残渣を得る。残渣
にクロロホルム500mlを加え、この混合液を数分間撹
拌し、ついで濾過する。フィルターケーキをクロロホル
ム150mlずつで3回洗浄し、乾燥し、臭化[(2−メ
チルチオ−5−メチルイミダゾリル)−4−メチル]ト
リフェニルホスホニウム364g(75%)を得る。融
点223〜225℃ システアミン12.23g(0.13モル)をメタノール100m
lに溶解し、25%(W/V)ナトリウムメトキシド溶
液46.5mlを加える。室温で10分間撹拌した後、固体の
該ホスホニウム塩を加え、混合液を20分間還流させ
る。この溶液を2倍容の氷水で希釈し、撹拌する。沈澱
したトリフェニルホスフィンを濾去する。濾液をクロロ
ホルム100mlずつで3回抽出し、このクロロホルム抽
出液を乾燥し、蒸発乾固して粘稠油状の4−(2−アミ
ノエチル)チオメチル−5−メチル−2−メチルチオイ
ミダゾール19g(86%)を得る。
4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチル−2
−メチルチオイミダゾールをエタノール性塩酸で処理し
て対応するジ塩酸塩を得る。融点165℃(エタノール
−酢酸エチル) 参考例7 臭化[(5−メチル−2−メチルチオイミダゾリル)−
4−メチル]トリフェニルホスホニウム48.3g(0.1モ
ル)のメタノール250ml中溶液を室温でナトリウムメ
トキシドの25%メタノール溶液35mlのメタノール2
50ml中撹拌溶液に速やかに加える。この混合液を20
分間還流させ、ついで半量に濃縮する。水900mlで希
釈した後、トリフェニルホスフィンを濾過する。この水
性溶液をベンゼン150mlずつで2回、ついでクロロホ
ルム250mlずつで3回抽出する。クロロホルム抽出液
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固し、4−メト
キシメチル−5−メチル−2−メチルチオイミダゾール
13g(76%)を得る。ピクリン酸塩の融点110〜
111℃ 実施例6 4−メトキシメチル−5−メチル−2−メチルチオイミ
ダゾール13.46g(0.078モル)およびラネーニッケル約
25gをエタノール400mlにくわえ、3時間還流させ
る。この混合液を濾過し、フィルターケーキをエタノー
ル25mlで洗浄する。濾液および洗浄を合し、硫化水素
ガスを10分間通気させるこの混合液を濾過し、濾液を
蒸発乾固して4−メトキシメチル−5−メチルイミダゾ
ール8.63g(88%)を得る。融点69〜70℃、塩酸
の融点150℃ 参考例8 4−メトキシメチル−5−メチルチミダゾール塩酸塩4.
9g(0.03モル)およびシステアミン塩酸塩3.4g(0.03
モル)を最少量の酢酸に溶解し、18時間還流させる。
氷浴中で冷却後、この混合液を濾過して4−(2−アミ
ノエチル)チオメチル−5−メチルイミダゾール・ジ塩
酸塩5.8g(80%)を得る。融点185〜191℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロバート・リー・ウエブ アメリカ合衆国ペンシルベニア州19380、 ウエスト・チエスター、ノース・ベロニ カ・ロード512番 (72)発明者 ジヨージ・ロバート・ウエルマン アメリカ合衆国ペンシルベニア州18974、 ワーミンスター、スピーズ・レイン1376番 (72)発明者 ジヨセフ・ジエイムズ・ルイス アメリカ合衆国ペンシルベニア州19380、 ウエスト・チエスター、リンダ・ドライブ 1623番

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式: [式中、R1は低級アルキル;R3はトリハロゲン化メチ
    ル、スルフィン酸基またはそのアルカリ金属塩、−SR
    4(R4は低級アルキル、置換または非置換アリールまた
    は置換または非置換アラルキル)、−COOR″(R″
    は低級アルキル)または−COOH;Rは低級アルコキ
    シ、 −SCH2CH2NH2または−P (R5 ;R5はアリール;Xはアニ
    オンを意味する] で示される化合物からR3で示される基を離脱させるこ
    とを特徴とする、式: [式中、R1およびRは前記と同じである] で示される置換イミダゾール化合物またはその塩の製
    法。
  2. 【請求項2】Rが である前記第(1)項の製法。
JP60176797A 1977-02-09 1985-08-09 置換イミダゾ−ル化合物の製法 Expired - Lifetime JPH0637478B2 (ja)

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US05/771,044 US4119781A (en) 1975-10-29 1977-02-22 Process for preparing 4-substituted imidazole compounds
US767083 1977-02-22
US771044 1991-10-02

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