JPS6317837B2 - - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薬効を有する化合物の製造中間体とし
て有用な置換イミダゾール化合物およびその製法
に関する。さらに詳しくは、本発明は式: [式中、R1は低級アルキル、好ましくはメチ
ル;R3はS−低級アルキル;R5はフエニル;X
はハロゲン、好ましくは塩素または臭素を意味
し、好ましいR3はメチルチオである] で示される4−(トリフエニルホスホニウム)メ
チルイミダゾール化合物およびそれを製造する方
法に関する。
て有用な置換イミダゾール化合物およびその製法
に関する。さらに詳しくは、本発明は式: [式中、R1は低級アルキル、好ましくはメチ
ル;R3はS−低級アルキル;R5はフエニル;X
はハロゲン、好ましくは塩素または臭素を意味
し、好ましいR3はメチルチオである] で示される4−(トリフエニルホスホニウム)メ
チルイミダゾール化合物およびそれを製造する方
法に関する。
本明細書で用いる「低級アルキル」なる語は炭
素数1〜4の基を意味する。
素数1〜4の基を意味する。
式[]の4−(トリフエニルホスホニウム)
メチルイミダゾールは、ズビラール[Zbiral、
Synthesis、11巻、775頁(1974年)]およびズビ
ラールおよびヒユーグル[ZbiralおよびHugl、
Phosphorus、2巻、29号(1972年)] 記載の方法に従つて、式: [式中、R1、R5およびXは前記と同じである] で示されるハロゲン化トリフエニルβ−アシルビ
ニルホスホニウム、好ましくは臭化物または塩化
物を式: [式中、R3は前記と同じである] で示される置換アミジンと反応させて得られる。
メチルイミダゾールは、ズビラール[Zbiral、
Synthesis、11巻、775頁(1974年)]およびズビ
ラールおよびヒユーグル[ZbiralおよびHugl、
Phosphorus、2巻、29号(1972年)] 記載の方法に従つて、式: [式中、R1、R5およびXは前記と同じである] で示されるハロゲン化トリフエニルβ−アシルビ
ニルホスホニウム、好ましくは臭化物または塩化
物を式: [式中、R3は前記と同じである] で示される置換アミジンと反応させて得られる。
該ハロゲン化トリフエニルβ−アシルビニルホ
スホニウムを製造することは公知ではなく、クロ
ロビニルメチルケトンのようなハロビニルアルキ
ルケトンをトリフエニルホスフインで処理する。
スホニウムを製造することは公知ではなく、クロ
ロビニルメチルケトンのようなハロビニルアルキ
ルケトンをトリフエニルホスフインで処理する。
本発明の式[]の化合物は反応式:
[式中、R1、R3およびR5は前記と同じ;R2はメ
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキ
シ、i−ブトキシ、t−ブトキシまたは−
SCH2CH2−NH2、好ましくはメトキシまたは−
SCH2CH2−NH2を意味する] で示されるごとく、式[]の化合物のトリフエ
ニルホスホニウム基の置換を経て式[]の4−
(アルコキシまたはアミノエチルチオ)メチルイ
ミダゾールに変えることができる。
トキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキ
シ、i−ブトキシ、t−ブトキシまたは−
SCH2CH2−NH2、好ましくはメトキシまたは−
SCH2CH2−NH2を意味する] で示されるごとく、式[]の化合物のトリフエ
ニルホスホニウム基の置換を経て式[]の4−
(アルコキシまたはアミノエチルチオ)メチルイ
ミダゾールに変えることができる。
式[]の化合物のトリフエニルホスホニウム
基[−P(R5)3]の置換は式[]の化合物と、
反応系内において式R2Hで示される化合物と強
塩基の反応により生ずるわずかに過剰の求核基
R2との反応により行なわれる。この反応は有
機溶媒中で行ない、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール、アセトン、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスル
ホキシドのような溶媒が好ましい。好ましくは、
この反応は約室温〜反応に用いる溶媒の還流温度
で、約20分〜約24時間行なう。用いる塩基は式
R2Hの化合物からアニオンR2(R2は前記と同
じ)を離脱できるものである。かかる塩基はpKa
が12より大きいもので、例えば、ナトリウムメト
キシドもしくはエトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシドまたは水素化ナトリウムのような水
素化アルカリ金属が好ましい。
基[−P(R5)3]の置換は式[]の化合物と、
反応系内において式R2Hで示される化合物と強
塩基の反応により生ずるわずかに過剰の求核基
R2との反応により行なわれる。この反応は有
機溶媒中で行ない、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、ブタノール、アセトン、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスル
ホキシドのような溶媒が好ましい。好ましくは、
この反応は約室温〜反応に用いる溶媒の還流温度
で、約20分〜約24時間行なう。用いる塩基は式
R2Hの化合物からアニオンR2(R2は前記と同
じ)を離脱できるものである。かかる塩基はpKa
が12より大きいもので、例えば、ナトリウムメト
キシドもしくはエトキシドのようなアルカリ金属
アルコキシドまたは水素化ナトリウムのような水
素化アルカリ金属が好ましい。
好ましくは、反応混合液を水で希釈してトリフ
エニルホスフイン副生物を濾去する。必要により
濾液を抽出し、ついで蒸発させて式[]の化合
物を得る。しばしば式[]の化合物を対応する
塩、好ましくは塩酸塩に変えることが望ましい。
かかる塩は式[]のイミダゾールの溶液を酸ま
たは酸溶液、例えば、塩酸のエーテル性もしくは
エタノール性溶液で処理し、得られた塩を適当な
溶媒から結晶させる。
エニルホスフイン副生物を濾去する。必要により
濾液を抽出し、ついで蒸発させて式[]の化合
物を得る。しばしば式[]の化合物を対応する
塩、好ましくは塩酸塩に変えることが望ましい。
かかる塩は式[]のイミダゾールの溶液を酸ま
たは酸溶液、例えば、塩酸のエーテル性もしくは
エタノール性溶液で処理し、得られた塩を適当な
溶媒から結晶させる。
式[]の化合物を式[]の化合物に変える
方法の利点は、反応の過程で生じたトリフエニル
ホスフイン、[P(R5)3]を反応混合液から容易
に除くことができ、再循環、換言すれば再使用で
きることである。
方法の利点は、反応の過程で生じたトリフエニル
ホスフイン、[P(R5)3]を反応混合液から容易
に除くことができ、再循環、換言すれば再使用で
きることである。
式[]のイミダゾール化合物は薬効を有する
化合物、ことにヒスタミンH2−拮抗剤、例えば、
N−シアノ−N′−メチル−N″−[2−(5−R1−
イミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンお
よびN−メチル−N′−[2−(5−R1−イミダゾ
リルメチルチオ)エチル]チオウレア化合物の製
造中間体として有用である。ヒスタミンH2−拮
抗剤は、ブラツクら[Black et al.、Nature、
236巻、385頁(1972年)]が記載する、メピラミ
ンのような抗ヒスタミン剤では遮断されないが、
ブリムアミドで遮断されるヒスタミン受容体とし
て定義できるヒスタミンH2−受容体で作用する。
ヒスタミンH2−受容体の遮断は抗ヒスタミン剤
で抑制されないヒスタミンの生物学的作用を抑制
するのに有用である。ヒスタミンH2−拮抗剤は、
例えば、胃酸分泌の抑制に有用である。
化合物、ことにヒスタミンH2−拮抗剤、例えば、
N−シアノ−N′−メチル−N″−[2−(5−R1−
イミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンお
よびN−メチル−N′−[2−(5−R1−イミダゾ
リルメチルチオ)エチル]チオウレア化合物の製
造中間体として有用である。ヒスタミンH2−拮
抗剤は、ブラツクら[Black et al.、Nature、
236巻、385頁(1972年)]が記載する、メピラミ
ンのような抗ヒスタミン剤では遮断されないが、
ブリムアミドで遮断されるヒスタミン受容体とし
て定義できるヒスタミンH2−受容体で作用する。
ヒスタミンH2−受容体の遮断は抗ヒスタミン剤
で抑制されないヒスタミンの生物学的作用を抑制
するのに有用である。ヒスタミンH2−拮抗剤は、
例えば、胃酸分泌の抑制に有用である。
式[]の化合物を該薬効を有するグアニジン
およびチオウレア化合物に変えるには種々の方法
で行なえる。N′−[2−(5−R1−イミダゾリル
メチルチオ)エチル]チオウレアを得る。同じ4
−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾール
化合物をN−シアノ−N′,S−ジメチルイソチ
オウレアと反応させて対応するN′−シアノ−
N′−メチル−N″−[2−(5−R1−イミダゾリル
メチルチオ)エチル]グアニジンを得る。該グア
ニジン化合物はまた、該4−(2−アミノエチル)
チオメチルイミダゾールをN−シアノイミドジチ
オ炭酸ジメチルと反応させ、ついで得られたN−
シアノ−N′−[2−(5−R1−イミダゾリルメチ
ルチオ)エチル]−S−メチルイソチオウレアを
メチルアミンと反応させても得られる。
およびチオウレア化合物に変えるには種々の方法
で行なえる。N′−[2−(5−R1−イミダゾリル
メチルチオ)エチル]チオウレアを得る。同じ4
−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾール
化合物をN−シアノ−N′,S−ジメチルイソチ
オウレアと反応させて対応するN′−シアノ−
N′−メチル−N″−[2−(5−R1−イミダゾリル
メチルチオ)エチル]グアニジンを得る。該グア
ニジン化合物はまた、該4−(2−アミノエチル)
チオメチルイミダゾールをN−シアノイミドジチ
オ炭酸ジメチルと反応させ、ついで得られたN−
シアノ−N′−[2−(5−R1−イミダゾリルメチ
ルチオ)エチル]−S−メチルイソチオウレアを
メチルアミンと反応させても得られる。
R2が−SCH2CH2NH2でR3が−S−低級アルキ
ルの場合、式[]の化合物を還元剤、例えば、
ラネーニツケルで処理して対応するR3が水素の
4−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾー
ルを得、ついでこれを前記と同様にグアニジンお
よびチオウレア化合物に変える。
ルの場合、式[]の化合物を還元剤、例えば、
ラネーニツケルで処理して対応するR3が水素の
4−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾー
ルを得、ついでこれを前記と同様にグアニジンお
よびチオウレア化合物に変える。
R2がメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
n−ブトキシ、i−ブトキシまたはt−ブトキシ
でR3が−S−低級アルキルの場合、式[]の
化合物の−S−低級アルキル基を前記と同様に離
脱させ、ついで得られた生成物をシステアミンで
処理してR3が水素の4−(2−アミノエチル)チ
オメチルイミダゾール化合物を得、これを前記と
同様にグアニジンおよびチオウレア化合物に変え
る。
n−ブトキシ、i−ブトキシまたはt−ブトキシ
でR3が−S−低級アルキルの場合、式[]の
化合物の−S−低級アルキル基を前記と同様に離
脱させ、ついで得られた生成物をシステアミンで
処理してR3が水素の4−(2−アミノエチル)チ
オメチルイミダゾール化合物を得、これを前記と
同様にグアニジンおよびチオウレア化合物に変え
る。
式[]の化合物から得られるこれらのチオウ
レアおよびシアノグアニジン化合物は英国特許第
1338169号に記載されている。
レアおよびシアノグアニジン化合物は英国特許第
1338169号に記載されている。
つぎに実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説
明するが、これらに限定されるものではない。
明するが、これらに限定されるものではない。
実施例 1
金属ナトリウム25.3g(1.1モル)をエタノー
ル2に溶解する。2−メチルシウドチオウレア
硫酸塩278.3g(1.0モル)を加え、この混合液を
0.5時間攪拌する。ついで臭化トリフエニルβ−
アセチルビニルホスホニウム411g(1.0モル)を
加え、この混合液を18時間加熱還流させ、冷却
し、濾過する。フイルターケーキをエタノール
200mlで洗浄する。濾液およびエタノール洗液を
合し、減圧下で蒸発させて褐色の残渣を得る。残
渣にクロロホルム500mlを加え、この混合液を数
分間攪拌し、ついで濾過する。フイルターケーキ
をクロロホルムで150mlづつ3回洗浄し、乾燥し、
臭化[(2−メチルチオ−5−メチルイミダゾリ
ル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウム364
g(75%)を得る。融点223〜225℃。
ル2に溶解する。2−メチルシウドチオウレア
硫酸塩278.3g(1.0モル)を加え、この混合液を
0.5時間攪拌する。ついで臭化トリフエニルβ−
アセチルビニルホスホニウム411g(1.0モル)を
加え、この混合液を18時間加熱還流させ、冷却
し、濾過する。フイルターケーキをエタノール
200mlで洗浄する。濾液およびエタノール洗液を
合し、減圧下で蒸発させて褐色の残渣を得る。残
渣にクロロホルム500mlを加え、この混合液を数
分間攪拌し、ついで濾過する。フイルターケーキ
をクロロホルムで150mlづつ3回洗浄し、乾燥し、
臭化[(2−メチルチオ−5−メチルイミダゾリ
ル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウム364
g(75%)を得る。融点223〜225℃。
システアミン12.23g(0.13モル)をメタノー
ル100mlに溶解し、25%(W/V)ナトリウムメ
トキシド溶液46.5mlを加える。室温で10分間攪拌
した後、固体の該ホスホニウム塩を加え、混合液
を20分間還流させる。この溶液を2倍容の氷水で
希釈し、攪拌する。沈澱したトリフエニルホスフ
インを濾過する。濾液をクロロホルム100mlづつ
で3回抽出し、このクロロホルム抽出液を乾燥
し、蒸発乾固して粘稠油状の4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチル−2−メチルチオ
イミダゾール19g(86%)を得る。
ル100mlに溶解し、25%(W/V)ナトリウムメ
トキシド溶液46.5mlを加える。室温で10分間攪拌
した後、固体の該ホスホニウム塩を加え、混合液
を20分間還流させる。この溶液を2倍容の氷水で
希釈し、攪拌する。沈澱したトリフエニルホスフ
インを濾過する。濾液をクロロホルム100mlづつ
で3回抽出し、このクロロホルム抽出液を乾燥
し、蒸発乾固して粘稠油状の4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチル−2−メチルチオ
イミダゾール19g(86%)を得る。
4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メ
チル−2−メチルチオイミダゾールをエタノール
性塩酸で処理して対応するジ塩酸塩を得る。融点
165℃(エタノール−酢酸エチル)。
チル−2−メチルチオイミダゾールをエタノール
性塩酸で処理して対応するジ塩酸塩を得る。融点
165℃(エタノール−酢酸エチル)。
参考例 1
臭化[(5−メチル−2−メチルチオイミダゾ
リル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウム
48.3g(0.1モル)のメタノール250ml中溶液を、
室温でナトリウムメトキシドの25%メタノール溶
液35mlのメタノール250ml中攪拌溶液に速やかに
加える。この混合液を20分間還流させ、ついで半
量に濃縮する。水900mlで希釈した後、トリフエ
ニルホスフインを濾過する。この水性溶液をベン
ゼン150mlづつで2回、ついでクロロホルム250ml
づつで3回抽出する。クロロホルム抽出液を硫酸
マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固し、4−メト
キシメチル−5−メチル−2−メチルチオイミダ
ゾール13g(76%)を得る。ピクリン酸塩の融点
110〜111℃。
リル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウム
48.3g(0.1モル)のメタノール250ml中溶液を、
室温でナトリウムメトキシドの25%メタノール溶
液35mlのメタノール250ml中攪拌溶液に速やかに
加える。この混合液を20分間還流させ、ついで半
量に濃縮する。水900mlで希釈した後、トリフエ
ニルホスフインを濾過する。この水性溶液をベン
ゼン150mlづつで2回、ついでクロロホルム250ml
づつで3回抽出する。クロロホルム抽出液を硫酸
マグネシウム上で乾燥し、蒸発乾固し、4−メト
キシメチル−5−メチル−2−メチルチオイミダ
ゾール13g(76%)を得る。ピクリン酸塩の融点
110〜111℃。
参考例 2
臭化トリフエニル−β−アセチルビニルホスホ
ニウム4.11g(0.01モル)を、ホルムアミジンス
ルフイン酸1.1g(0.01モル)の水素化ナトリウ
ム0.25gを含むジメチルスルホキシド20ml中攪拌
懸濁液に一度に加える。この混合液を室温で1時
間、ついで80℃でさらに1時間攪拌するシステア
ミン・ジ塩酸塩に2当量のナトリウムメトキシド
を加えて得られるシステアミンのナトリウム塩
0.99g(0.01モル)のメタノール10ml中溶液を加
え、得られた混合液を70〜80℃で4時間加熱す
る。この混合液を2倍量の水で希釈し、トリフエ
ニルホスフインを濾去する。濾液をトルエン100
ml、ついでクロロホルム100mlづつで2回抽出す
る。クロロホルム抽出液を合し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、蒸発乾固させて4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチルイミダゾール(45
%)を得る。ジ塩酸塩の融点185〜191℃。
ニウム4.11g(0.01モル)を、ホルムアミジンス
ルフイン酸1.1g(0.01モル)の水素化ナトリウ
ム0.25gを含むジメチルスルホキシド20ml中攪拌
懸濁液に一度に加える。この混合液を室温で1時
間、ついで80℃でさらに1時間攪拌するシステア
ミン・ジ塩酸塩に2当量のナトリウムメトキシド
を加えて得られるシステアミンのナトリウム塩
0.99g(0.01モル)のメタノール10ml中溶液を加
え、得られた混合液を70〜80℃で4時間加熱す
る。この混合液を2倍量の水で希釈し、トリフエ
ニルホスフインを濾去する。濾液をトルエン100
ml、ついでクロロホルム100mlづつで2回抽出す
る。クロロホルム抽出液を合し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、蒸発乾固させて4−(2−アミノエ
チル)チオメチル−5−メチルイミダゾール(45
%)を得る。ジ塩酸塩の融点185〜191℃。
参考例 3
臭化[(5−メチルイミダゾリル)−4−メチ
ル]トリフエニルホスホニウムのエタノール中溶
液にナトリウムエトキシドのエタノール中溶液を
加え、1時間還流させる。冷却後、この溶液を3
倍容の水で希釈し、トリフエニルホスフインを濾
去する。濾液をクロロホルムで4回抽出し、抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固させて
4−エトキシメチル−5−メチルイミダゾールを
得る。
ル]トリフエニルホスホニウムのエタノール中溶
液にナトリウムエトキシドのエタノール中溶液を
加え、1時間還流させる。冷却後、この溶液を3
倍容の水で希釈し、トリフエニルホスフインを濾
去する。濾液をクロロホルムで4回抽出し、抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発乾固させて
4−エトキシメチル−5−メチルイミダゾールを
得る。
前記と同様に、臭化[(5−メチルイミダゾリ
ル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウムを
n−プロパノール中でナトリウムn−プロポキシ
ドと、あるいは、t−ブタノール中でナトリウム
t−ブトキシドと反応させて、つぎのイミダゾー
ル化合物;5−メチル−4−n−プロポキシメチ
ルイミダゾール、4−t−ブトキシメチル−5−
メチルイミダゾールを得る。
ル)−4−メチル]トリフエニルホスホニウムを
n−プロパノール中でナトリウムn−プロポキシ
ドと、あるいは、t−ブタノール中でナトリウム
t−ブトキシドと反応させて、つぎのイミダゾー
ル化合物;5−メチル−4−n−プロポキシメチ
ルイミダゾール、4−t−ブトキシメチル−5−
メチルイミダゾールを得る。
参考例 4
4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−メ
チル−2−メチルチオイミダゾール6.6g(0.03
モル)およびニツケル−アルミナ(50:50)合金
のギ酸50ml中混合液を3時間還流させる。この金
属を濾去し、濾液を蒸発乾固させる。残渣をエタ
ノールに溶解し、このエタノール性溶液を硫化水
素で飽和させ、ついで濾過する。この濾液を塩化
水素で飽和させる。酢酸エチルを添加して4−
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイ
ミダゾールをジ塩酸塩として沈澱させる。
チル−2−メチルチオイミダゾール6.6g(0.03
モル)およびニツケル−アルミナ(50:50)合金
のギ酸50ml中混合液を3時間還流させる。この金
属を濾去し、濾液を蒸発乾固させる。残渣をエタ
ノールに溶解し、このエタノール性溶液を硫化水
素で飽和させ、ついで濾過する。この濾液を塩化
水素で飽和させる。酢酸エチルを添加して4−
(2−アミノエチル)チオメチル−5−メチルイ
ミダゾールをジ塩酸塩として沈澱させる。
同様に、前記で得られたR3が置換チオ基の他
のイミダゾール化合物から2−置換チオ基を離脱
させる。
のイミダゾール化合物から2−置換チオ基を離脱
させる。
炭酸カリウム7.75gを4−(2−アミノエチル)
チオメチル−5−メチルイミダゾールジ塩酸塩
14.6gの水120ml中溶液に加える。この溶液を室
温で15分間保持し、イソチオシアン酸メチル5.15
gを加える。0.5時間加熱還流させ、この溶液を
ゆつくりと5℃に冷却する。生成物を集め、水か
ら再結晶させてN−メチル−N′−[2−(5−メ
チル−4−イミダゾリルメチルチオ)エチル]チ
オウレアを得る。融点150〜152℃ 参考例 5 4−メトキシメチル−5−メチル−2−メチル
チオイミダゾール13.46g(0.078モル)およびラ
ネーニツケル約25gをエタノール400mlに加え、
3時間還流させる。この混合液を濾過し、フイル
ターケーキをエタノール25mlで洗浄する。濾液お
よび洗液を合し、硫化水素ガスを10分間通気させ
る。この混合液を濾過し、濾液を蒸発乾固して4
−メトキシメチル−5−メチルイミダゾール8.63
g(88%)を得る。
チオメチル−5−メチルイミダゾールジ塩酸塩
14.6gの水120ml中溶液に加える。この溶液を室
温で15分間保持し、イソチオシアン酸メチル5.15
gを加える。0.5時間加熱還流させ、この溶液を
ゆつくりと5℃に冷却する。生成物を集め、水か
ら再結晶させてN−メチル−N′−[2−(5−メ
チル−4−イミダゾリルメチルチオ)エチル]チ
オウレアを得る。融点150〜152℃ 参考例 5 4−メトキシメチル−5−メチル−2−メチル
チオイミダゾール13.46g(0.078モル)およびラ
ネーニツケル約25gをエタノール400mlに加え、
3時間還流させる。この混合液を濾過し、フイル
ターケーキをエタノール25mlで洗浄する。濾液お
よび洗液を合し、硫化水素ガスを10分間通気させ
る。この混合液を濾過し、濾液を蒸発乾固して4
−メトキシメチル−5−メチルイミダゾール8.63
g(88%)を得る。
前記と同様に、4−メトキシメチル−5−メチ
ルイミダゾールを対応する塩酸塩に変える。
ルイミダゾールを対応する塩酸塩に変える。
4−メトキシメチル−5−メチルイミダゾール
塩酸塩4.9g(0.03モル)およびシステアミン塩
酸塩3.4g(0.03モル)を最少量の酢酸に溶解し、
18時間還流させる。氷浴中で冷却後、この混合液
を濾過して4−(2−アミノエチル)チオメチル
−5−メチルイミダゾール・ジ塩酸塩5.8g(80
%)を得る。
塩酸塩4.9g(0.03モル)およびシステアミン塩
酸塩3.4g(0.03モル)を最少量の酢酸に溶解し、
18時間還流させる。氷浴中で冷却後、この混合液
を濾過して4−(2−アミノエチル)チオメチル
−5−メチルイミダゾール・ジ塩酸塩5.8g(80
%)を得る。
同様に、前記で得られたR2がアルコキシ基で
R3が置換チオ基の他のイミダゾール化合物をラ
ネーニツケルと反応させ、ついで得られた生成物
を酢酸中でシステアミンと反応させて対応する4
−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾール
を得る。
R3が置換チオ基の他のイミダゾール化合物をラ
ネーニツケルと反応させ、ついで得られた生成物
を酢酸中でシステアミンと反応させて対応する4
−(2−アミノエチル)チオメチルイミダゾール
を得る。
(a) 4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−
メチルイミダゾール17.0gおよびN−シアノ−
N′,S−ジメチルイソチオウレア11.2gのアセ
トニトリル500ml中溶液を24時間還流させる。
この混合液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
上でクロマトグラフイーに付し、アセトニトリ
ルで溶出させる。得られた生成物をアセトニト
リル−エーテルから再結晶させてN−シアノ−
N′−メチル−N″−[2−(5−メチル−4−イ
ミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンを
得る。融点141〜142℃。
メチルイミダゾール17.0gおよびN−シアノ−
N′,S−ジメチルイソチオウレア11.2gのアセ
トニトリル500ml中溶液を24時間還流させる。
この混合液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラム
上でクロマトグラフイーに付し、アセトニトリ
ルで溶出させる。得られた生成物をアセトニト
リル−エーテルから再結晶させてN−シアノ−
N′−メチル−N″−[2−(5−メチル−4−イ
ミダゾリルメチルチオ)エチル]グアニジンを
得る。融点141〜142℃。
(b) 4−(2−アミノエチル)チオメチル−5−
メチルイミダゾール23.4gのエタノール中溶液
を、室温で攪拌しながら、N−シアノイミドジ
チオ炭酸ジメチル20.0gのエタノール中溶液に
ゆつくりと加える。この混合液を濾過し、濾液
を減圧下で濃縮し、冷水でトリチユレートして
固体を得る。これを濾取し、イソプロパノール
−エーテルから2回再結晶させてN−シアノ−
N′−[2−(5−メチル−4−イミダゾリルメ
チルチオ)エチル]−S−メチルイソチオウレ
アを得る。融点148〜150℃。
メチルイミダゾール23.4gのエタノール中溶液
を、室温で攪拌しながら、N−シアノイミドジ
チオ炭酸ジメチル20.0gのエタノール中溶液に
ゆつくりと加える。この混合液を濾過し、濾液
を減圧下で濃縮し、冷水でトリチユレートして
固体を得る。これを濾取し、イソプロパノール
−エーテルから2回再結晶させてN−シアノ−
N′−[2−(5−メチル−4−イミダゾリルメ
チルチオ)エチル]−S−メチルイソチオウレ
アを得る。融点148〜150℃。
メチルアミンのエタノール中33%溶液75mlを
N−シアノ−N′−[2−(5−メチル−4−イ
ミダゾリルメチルチオ)エチル]−S−メチル
イソチオウレア10.1gのエタノール30ml中溶液
に加える。この反応混合液を室温で2.5時間放
置する。減圧下で濃縮した後、残渣をイソプロ
パノール−石油エーテルから2回再結晶させて
N−シアノ−N′−メチル−N″−[2−(5−メ
チル−4−イミダゾリルメチルチオ)エチル]
グアニジンを得る。融点141〜143℃。
N−シアノ−N′−[2−(5−メチル−4−イ
ミダゾリルメチルチオ)エチル]−S−メチル
イソチオウレア10.1gのエタノール30ml中溶液
に加える。この反応混合液を室温で2.5時間放
置する。減圧下で濃縮した後、残渣をイソプロ
パノール−石油エーテルから2回再結晶させて
N−シアノ−N′−メチル−N″−[2−(5−メ
チル−4−イミダゾリルメチルチオ)エチル]
グアニジンを得る。融点141〜143℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式: [式中、R1は低級アルキル;R3はS−低級アル
キル;R5はフエニル;Xはハロゲンを意味する] で示される化合物。 2 R1がメチルである特許請求の範囲第1項記
載の化合物。 3 式: [式中、R1、R5およびXは後記と同じである] で示されるハロゲン化トリ置換β−アシルビニル
ホスホニウムを、式: [式中、R3は後記と同じである] で示される化合物と反応させることを特徴とする
式; [式中、R1は低級アルキル;R3はS−低級アル
キル;R5フエニル;Xはハロゲンを意味する] で示される化合物の製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US62694875A | 1975-10-29 | 1975-10-29 | |
| US626948 | 1975-10-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60185794A JPS60185794A (ja) | 1985-09-21 |
| JPS6317837B2 true JPS6317837B2 (ja) | 1988-04-15 |
Family
ID=24512533
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51129275A Expired JPS6030310B2 (ja) | 1975-10-29 | 1976-10-27 | イミダゾールの製法 |
| JP60029216A Granted JPS60185794A (ja) | 1975-10-29 | 1985-02-15 | イミダゾール化合物およびその製法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51129275A Expired JPS6030310B2 (ja) | 1975-10-29 | 1976-10-27 | イミダゾールの製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4119781A (ja) |
| JP (2) | JPS6030310B2 (ja) |
| BE (1) | BE847738A (ja) |
| DE (1) | DE2649059A1 (ja) |
| FR (2) | FR2329658A1 (ja) |
| GB (2) | GB1570212A (ja) |
| IE (1) | IE44396B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4104472A (en) * | 1977-02-09 | 1978-08-01 | Smithkline Corporation | Imidazolemethylphosphonium salts |
| DE2800148A1 (de) | 1978-01-03 | 1979-07-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 4-methyl-5-chlormethyl-imidazol |
| US4247705A (en) * | 1979-02-06 | 1981-01-27 | A. H. Robins Company, Inc. | 4-Substituted 2-iminoimidazolidine compounds |
| IT1168008B (it) * | 1981-07-31 | 1987-05-20 | Zambon Spa | Imidazol-eteri ed ester, procedimenti per prepararli e composizioni farmaceutiche che li contengono |
| NL8800998A (nl) * | 1988-04-18 | 1989-11-16 | Cedona Pharm Bv | Werkwijze voor het bereiden van een al of niet gesubstitueerd 4(5)-(omega-aminoalkyl) imidazool. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1050506A (ja) * | 1963-12-09 | |||
| GB1338169A (en) * | 1971-03-09 | 1973-11-21 | Smith Kline French Lab | Ureas thioureas and guanidines |
-
1976
- 1976-10-26 GB GB44439/76A patent/GB1570212A/en not_active Expired
- 1976-10-26 GB GB19944/79A patent/GB1570213A/en not_active Expired
- 1976-10-27 JP JP51129275A patent/JPS6030310B2/ja not_active Expired
- 1976-10-27 IE IE2379/76A patent/IE44396B1/en unknown
- 1976-10-28 DE DE19762649059 patent/DE2649059A1/de not_active Withdrawn
- 1976-10-28 BE BE171872A patent/BE847738A/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-10-29 FR FR7632909A patent/FR2329658A1/fr active Granted
-
1977
- 1977-02-22 US US05/771,044 patent/US4119781A/en not_active Expired - Lifetime
-
1978
- 1978-12-14 FR FR7835182A patent/FR2401932A1/fr active Granted
-
1985
- 1985-02-15 JP JP60029216A patent/JPS60185794A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| FR2329658B1 (ja) | 1982-06-18 |
| JPS6030310B2 (ja) | 1985-07-16 |
| US4119781A (en) | 1978-10-10 |
| GB1570213A (en) | 1980-06-25 |
| IE44396L (en) | 1977-04-29 |
| IE44396B1 (en) | 1981-11-18 |
| JPS5257175A (en) | 1977-05-11 |
| GB1570212A (en) | 1980-06-25 |
| DE2649059A1 (de) | 1977-05-12 |
| FR2401932A1 (fr) | 1979-03-30 |
| FR2401932B1 (ja) | 1982-05-07 |
| BE847738A (fr) | 1977-04-28 |
| JPS60185794A (ja) | 1985-09-21 |
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