JPH0641013A - α−メチレン−6−スチリルアクリル酸の新誘導体、それらの製造法及びそれらの有害生物駆除剤としての使用 - Google Patents
α−メチレン−6−スチリルアクリル酸の新誘導体、それらの製造法及びそれらの有害生物駆除剤としての使用Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 α−メチレン−6−スチリルアクリル酸の新
誘導体、それらの製造法及びそれら含有する有害生物駆
除剤を提供する。 【構成】 本発明の化合物は、次式(I) 【化1】 (ここで、Xはハロゲンを表わし、R2 及びR3 はハロ
ゲンで置換されていてもよいアルキル基を表わし、R1
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル又はアル
キニル基を表わすか、或いはR1 は置換されていてもよ
いアリール又はヘテロアリール基を表わす)を有する。
式(I)の化合物は、有用な有害生物駆除性を有する。
誘導体、それらの製造法及びそれら含有する有害生物駆
除剤を提供する。 【構成】 本発明の化合物は、次式(I) 【化1】 (ここで、Xはハロゲンを表わし、R2 及びR3 はハロ
ゲンで置換されていてもよいアルキル基を表わし、R1
は置換されていてもよいアルキル、アルケニル又はアル
キニル基を表わすか、或いはR1 は置換されていてもよ
いアリール又はヘテロアリール基を表わす)を有する。
式(I)の化合物は、有用な有害生物駆除性を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、α−メチレン−6−
スチリルアクリル酸の新誘導体、それらの製造法及びそ
れらの有害生物駆除剤(ペスチサイド)としての使用に
関する。
スチリルアクリル酸の新誘導体、それらの製造法及びそ
れらの有害生物駆除剤(ペスチサイド)としての使用に
関する。
【0002】
【発明の概要】しかして、本発明の主題は、全ての可能
な立体異性体の形態又はこれらの異性体の混合物の形態
にある次式(I)
な立体異性体の形態又はこれらの異性体の混合物の形態
にある次式(I)
【化4】 [ここで、Xはハロゲン原子を表わし、R2 及びR3
は、同一であっても異なっていてもよく、8個までの炭
素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基
(これらは1個以上のハロゲン原子により置換されてい
てもよい)を表わし、R1 は12個までの炭素原子を含
有する直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル、アルケニル又
はアルキニル基(これらは1個以上のハロゲン原子によ
り置換されていてもよい)を表わし、或いはR1 は5又
は6員のアリール又はヘテロアリール基{これらは下記
の基 ・ハロゲン原子、 ・8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状
のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらはそ
れ自体1個以上のハロゲン原子により置換されていても
よい)、 ・次の基:NO2 、NH2 、CN、OR' 、SR" 、S
OR" 、SO2 R" 及びNR"'2 (R' 、R" 及びR"'
は12個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環
状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらは
1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよ
い))、 ・Ar、OAr1 及びSAr2 基(ここで、Ar、Ar
1 及びAr2 基は14個までの炭素原子を含有するアリ
ール又はヘテロアリール基を表わし、そしてこれらはハ
ロゲン原子、8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐
鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基
(これらはそれ自体1個以上のハロゲン原子により置換
されていてもよい)、次の基:NO2 、NH2 、CN、
OR' 、SR" 、SOR" 、SO2 R" 及びNR"'2
(R' 、R" 及びR"'は12個までの炭素原子を含有す
る直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はア
ルキニル基(これらは1個以上のハロゲン原子により置
換されていてもよい))より成る群から選択される1個
以上の置換基により置換されていてもよい)より成る群
から選択される1個以上の置換基により置換されていて
もよい}を表わす]の化合物にある。
は、同一であっても異なっていてもよく、8個までの炭
素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル基
(これらは1個以上のハロゲン原子により置換されてい
てもよい)を表わし、R1 は12個までの炭素原子を含
有する直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル、アルケニル又
はアルキニル基(これらは1個以上のハロゲン原子によ
り置換されていてもよい)を表わし、或いはR1 は5又
は6員のアリール又はヘテロアリール基{これらは下記
の基 ・ハロゲン原子、 ・8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状
のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらはそ
れ自体1個以上のハロゲン原子により置換されていても
よい)、 ・次の基:NO2 、NH2 、CN、OR' 、SR" 、S
OR" 、SO2 R" 及びNR"'2 (R' 、R" 及びR"'
は12個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環
状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらは
1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよ
い))、 ・Ar、OAr1 及びSAr2 基(ここで、Ar、Ar
1 及びAr2 基は14個までの炭素原子を含有するアリ
ール又はヘテロアリール基を表わし、そしてこれらはハ
ロゲン原子、8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐
鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基
(これらはそれ自体1個以上のハロゲン原子により置換
されていてもよい)、次の基:NO2 、NH2 、CN、
OR' 、SR" 、SOR" 、SO2 R" 及びNR"'2
(R' 、R" 及びR"'は12個までの炭素原子を含有す
る直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はア
ルキニル基(これらは1個以上のハロゲン原子により置
換されていてもよい))より成る群から選択される1個
以上の置換基により置換されていてもよい)より成る群
から選択される1個以上の置換基により置換されていて
もよい}を表わす]の化合物にある。
【0003】
【発明の具体的な説明】二重結合Δ1 及びΔ2 の配置は
E又はZ配置又はE及びZ配置の混合物である。ハロゲ
ン原子は、好ましくは弗素、塩素又は臭素原子である。
上記の置換基の定義において、 ・アルキルは、好ましくは、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル又はt−ブチル基を表わす。 ・アルケニルは、好ましくは、ビニル、アリル又は1,
1−ジメチルアリル基を表わす。 ・アルキニルは、好ましくは、エチニル又はプロピニル
基を表わす。 ・アリールは、好ましくは、フェニル又はナフチル基を
表わす。 ・ヘテロアリールは、好ましくは、ピリジル、ピリミジ
ニル、ピリダジニル、オキサゾリル、チアゾリル、イソ
オキサゾリル、イソチアゾリル、1,3,4−オキサジ
アゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、チアジアゾ
リル又はトリアゾリル基を表わす。 ・1個以上のハロゲン原子により置換されたアルキル
は、好ましくは、CF3 基を表わす。
E又はZ配置又はE及びZ配置の混合物である。ハロゲ
ン原子は、好ましくは弗素、塩素又は臭素原子である。
上記の置換基の定義において、 ・アルキルは、好ましくは、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル又はt−ブチル基を表わす。 ・アルケニルは、好ましくは、ビニル、アリル又は1,
1−ジメチルアリル基を表わす。 ・アルキニルは、好ましくは、エチニル又はプロピニル
基を表わす。 ・アリールは、好ましくは、フェニル又はナフチル基を
表わす。 ・ヘテロアリールは、好ましくは、ピリジル、ピリミジ
ニル、ピリダジニル、オキサゾリル、チアゾリル、イソ
オキサゾリル、イソチアゾリル、1,3,4−オキサジ
アゾリル、1,2,4−オキサジアゾリル、チアジアゾ
リル又はトリアゾリル基を表わす。 ・1個以上のハロゲン原子により置換されたアルキル
は、好ましくは、CF3 基を表わす。
【0004】本発明のさらに特定の主題は、下記の化合
物にある。 ・二重結合Δ2 がE配置である式(I)の化合物。 ・R2 がメチル基を表わす式(I)の化合物。 ・R3 がメチル基を表わす式(I)の化合物。 ・Xが弗素原子を表わす式(I)の化合物。 ・R1 がフェニル基(ハロゲン原子又はCF3 基より成
る群から選択される1個以上の基により置換されていて
もよい)を表わす式(I)の化合物。 ・R1 が上で記載のような基の1個以上により置換され
ていてもよいチアゾリル基を表わす式(I)の化合物、
例えば、R1 がハロゲン原子及びフェニル基(ハロゲン
原子又はCF3 及びOCF3 基より成る群から選択され
る1個以上の基により置換されていてもよい)より成る
群から選択される1個以上の基により置換されたチアゾ
リル基である式(I)の化合物。 ・R1 がオキサジアゾリル基(上で記載のような基の1
個以上により置換されていてもよい)を表わす式(I)
の化合物、R1 がフェニル基(ハロゲン原子又はCF3
及びOCF3 基より成る群から選択される1個以上の基
により置換されていてもよい)により置換されたオキサ
ジアゾリル基である式(I)の化合物。
物にある。 ・二重結合Δ2 がE配置である式(I)の化合物。 ・R2 がメチル基を表わす式(I)の化合物。 ・R3 がメチル基を表わす式(I)の化合物。 ・Xが弗素原子を表わす式(I)の化合物。 ・R1 がフェニル基(ハロゲン原子又はCF3 基より成
る群から選択される1個以上の基により置換されていて
もよい)を表わす式(I)の化合物。 ・R1 が上で記載のような基の1個以上により置換され
ていてもよいチアゾリル基を表わす式(I)の化合物、
例えば、R1 がハロゲン原子及びフェニル基(ハロゲン
原子又はCF3 及びOCF3 基より成る群から選択され
る1個以上の基により置換されていてもよい)より成る
群から選択される1個以上の基により置換されたチアゾ
リル基である式(I)の化合物。 ・R1 がオキサジアゾリル基(上で記載のような基の1
個以上により置換されていてもよい)を表わす式(I)
の化合物、R1 がフェニル基(ハロゲン原子又はCF3
及びOCF3 基より成る群から選択される1個以上の基
により置換されていてもよい)により置換されたオキサ
ジアゾリル基である式(I)の化合物。
【0005】特に、本発明の主題は、その製造を後記の
実験の部に示す化合物、特に例1、4、5、7、18、
20、25、26及び30の化合物である。
実験の部に示す化合物、特に例1、4、5、7、18、
20、25、26及び30の化合物である。
【0006】また、本発明に主題は、上で記載の式
(I)の化合物を製造するにあたり、次式(II)
(I)の化合物を製造するにあたり、次式(II)
【化5】 (ここで、R1 及びXは前記の意味を有し、alk1 及
びalk2 は8個までの炭素原子を含有するアルキル基
を表わす)の化合物に塩基性試薬の存在下に次式(III)
びalk2 は8個までの炭素原子を含有するアルキル基
を表わす)の化合物に塩基性試薬の存在下に次式(III)
【化6】 (ここで、R2 及びR3 は前記の意味を有する)の化合
物を作用させて相当する式(I)の化合物を得、所望な
らばこの化合物をその異性体のそれぞれに分離し、適当
ならば異性体の一つを他の異性体に転化することを特徴
とする式(I)の化合物の製造法にある。
物を作用させて相当する式(I)の化合物を得、所望な
らばこの化合物をその異性体のそれぞれに分離し、適当
ならば異性体の一つを他の異性体に転化することを特徴
とする式(I)の化合物の製造法にある。
【0007】本発明の製造法の好ましい実施態様におい
ては、塩基性試薬は水素化ナトリウム、アルカリ若しく
はアルカリ土金属アルコラート、例えばカリウムt−ブ
チラート若しくはナトリウムt−ブチラート、アルカリ
アミド又は有機リチウム化合物誘導体のような強塩基で
ある。R1 が一置換アリール又はヘテロアリール基を表
わす式(I)の化合物には、所望により別の置換基を導
入できる薬剤を作用させることができる。それは、例え
ば、四塩化炭素のような有機溶媒中で行われる臭素化の
如きハロゲン化である。R1 がハロゲン原子により置換
されたアリール又はヘテロアリール基を表わす式(I)
の化合物には、所望により、接触される有機金属又はパ
ラジウムカップリング反応を行うことによりアルケニル
化、アルキニル化、アリール化又はヘテロアリール化反
応に付すことができる。異性体の分離は、当業者に知ら
れた標準的な方法に従って行われる。弗素化された二重
結合の異性化は、光照射の下に触媒量の臭素によって達
成される。
ては、塩基性試薬は水素化ナトリウム、アルカリ若しく
はアルカリ土金属アルコラート、例えばカリウムt−ブ
チラート若しくはナトリウムt−ブチラート、アルカリ
アミド又は有機リチウム化合物誘導体のような強塩基で
ある。R1 が一置換アリール又はヘテロアリール基を表
わす式(I)の化合物には、所望により別の置換基を導
入できる薬剤を作用させることができる。それは、例え
ば、四塩化炭素のような有機溶媒中で行われる臭素化の
如きハロゲン化である。R1 がハロゲン原子により置換
されたアリール又はヘテロアリール基を表わす式(I)
の化合物には、所望により、接触される有機金属又はパ
ラジウムカップリング反応を行うことによりアルケニル
化、アルキニル化、アリール化又はヘテロアリール化反
応に付すことができる。異性体の分離は、当業者に知ら
れた標準的な方法に従って行われる。弗素化された二重
結合の異性化は、光照射の下に触媒量の臭素によって達
成される。
【0008】式(II)の化合物は、新規な化合物であっ
て、それ自体本発明の主題をなす。式(II)の化合物の
詳細な製造例は後記の実験の部に示す。式(II)の化合
物は、下記の反応式に従って製造することができる。
て、それ自体本発明の主題をなす。式(II)の化合物の
詳細な製造例は後記の実験の部に示す。式(II)の化合
物は、下記の反応式に従って製造することができる。
【化7】 *ハロゲン化剤はSOCl2 、PCl3 、POCl3 、
P(C6 H5 )3 −CCl4 又は三弗化ジエチルアミノ
スルフィド(DAST)である。
P(C6 H5 )3 −CCl4 又は三弗化ジエチルアミノ
スルフィド(DAST)である。
【0009】式(III) の化合物は、新規な化合物であっ
て、それ自体本発明の主題をなす。式(III) の化合物の
詳細な製造例は後記の実験の部に示す。式(III) の化合
物は、下記の反応式に従って製造することができる。 第一の方法
て、それ自体本発明の主題をなす。式(III) の化合物の
詳細な製造例は後記の実験の部に示す。式(III) の化合
物は、下記の反応式に従って製造することができる。 第一の方法
【化8】 第二の方法
【化9】
【0010】式(I)の化合物は、有用な有害生物駆除
性、特に殺虫性、殺だに性及び殺線虫性を持っている。
従って、本発明の主題は、前記のような式(I)の化合
物を活性成分として含有する有害生物駆除剤組成物、特
に例1、4、5、7、18、20、25、26又は30
の化合物を活性成分として含有する有害生物駆除剤組成
物にある。従って、式(I)の化合物は、特に農業の領
域における害虫を駆除するのに、またノミ目、鱗翅類及
び鞘翅類の幼虫を駆除するのに使用することができる。
それらは、1ヘクタール当り10g〜1000gの間の
活性物質量で用いられる。また、式(I)の化合物は、
家屋に巣くう害虫、特にはえ、蚊及びごきぶりを駆除す
るのに用いることができる。また、式(I)の化合物
は、植物の寄生だに類(acaridae)の駆除に使用するこ
とができる。さらに、式(I)の化合物は、植物の寄生
線虫類の駆除に使用することができる。また、式(I)
の化合物は、動物の寄生虫であるだに類の駆除、例えば
まだに類(tick)、特にブーフィルス(Boophilus )種
のだに類、ヒアロムニア(Hyalomnia )種のだに類、ア
ンブリオムニア(Amblyomnia)種のだに類、リピセファ
ルス(Phipicephalus )のだに類の駆除、或るいは全て
の種類の疥癬虫(mites)、特にサルコプチック・マイ
ト(sarcoptic mites )、プソロプチック・マイト(ps
oroptic mites )及びコリオプチック・マイト(chorio
ptic mites)の駆除に用いることができる。
性、特に殺虫性、殺だに性及び殺線虫性を持っている。
従って、本発明の主題は、前記のような式(I)の化合
物を活性成分として含有する有害生物駆除剤組成物、特
に例1、4、5、7、18、20、25、26又は30
の化合物を活性成分として含有する有害生物駆除剤組成
物にある。従って、式(I)の化合物は、特に農業の領
域における害虫を駆除するのに、またノミ目、鱗翅類及
び鞘翅類の幼虫を駆除するのに使用することができる。
それらは、1ヘクタール当り10g〜1000gの間の
活性物質量で用いられる。また、式(I)の化合物は、
家屋に巣くう害虫、特にはえ、蚊及びごきぶりを駆除す
るのに用いることができる。また、式(I)の化合物
は、植物の寄生だに類(acaridae)の駆除に使用するこ
とができる。さらに、式(I)の化合物は、植物の寄生
線虫類の駆除に使用することができる。また、式(I)
の化合物は、動物の寄生虫であるだに類の駆除、例えば
まだに類(tick)、特にブーフィルス(Boophilus )種
のだに類、ヒアロムニア(Hyalomnia )種のだに類、ア
ンブリオムニア(Amblyomnia)種のだに類、リピセファ
ルス(Phipicephalus )のだに類の駆除、或るいは全て
の種類の疥癬虫(mites)、特にサルコプチック・マイ
ト(sarcoptic mites )、プソロプチック・マイト(ps
oroptic mites )及びコリオプチック・マイト(chorio
ptic mites)の駆除に用いることができる。
【0011】したがって、本発明の主題は、前記の式
(I)の化合物の少なくとも1種の化合物を含有するこ
とを特徴とする、植物の寄生生物、家屋に巣くう寄生生
物及び温血動物の寄生生物を駆除するための組成物にあ
る。特に、本発明の主題は、前記の式(I)の化合物の
少なくとも1種の化合物を含有する殺虫剤組成物にあ
る。本発明に従うこれらの組成物は、農薬工業、獣医薬
工業又は動物肥育用製品工業の通常の方法によって製造
される。これらの組成物は、粉剤、顆粒剤、懸濁液、乳
剤、溶液、エーロゾル溶液、燃焼性ストリップ、毒餌又
はこの種の化合物の用途に通常使用されるその他の調合
物の形で提供できる。これらの組成物は、活性成分の他
に、一般に、中でも、混合物を構成する成分の均一な分
散を可能ならしめるビヒクル及び(又は)非イオン性界
面活性剤を含有する。用いられるビヒクルは、水、アル
コール、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱物、動物又
は植物油のような液体、タルク、クレー、けい酸塩又は
けいそう土のような粉末、或るいは燃焼性固形物であっ
てよい。本発明の特定の主題は、前記の式(I)の化合
物の少なくとも1種を活性成分として含有する殺虫剤組
成物にある。本発明に従う殺虫剤組成物は、好ましくは
0.005〜10重量%の活性成分を含有する。
(I)の化合物の少なくとも1種の化合物を含有するこ
とを特徴とする、植物の寄生生物、家屋に巣くう寄生生
物及び温血動物の寄生生物を駆除するための組成物にあ
る。特に、本発明の主題は、前記の式(I)の化合物の
少なくとも1種の化合物を含有する殺虫剤組成物にあ
る。本発明に従うこれらの組成物は、農薬工業、獣医薬
工業又は動物肥育用製品工業の通常の方法によって製造
される。これらの組成物は、粉剤、顆粒剤、懸濁液、乳
剤、溶液、エーロゾル溶液、燃焼性ストリップ、毒餌又
はこの種の化合物の用途に通常使用されるその他の調合
物の形で提供できる。これらの組成物は、活性成分の他
に、一般に、中でも、混合物を構成する成分の均一な分
散を可能ならしめるビヒクル及び(又は)非イオン性界
面活性剤を含有する。用いられるビヒクルは、水、アル
コール、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱物、動物又
は植物油のような液体、タルク、クレー、けい酸塩又は
けいそう土のような粉末、或るいは燃焼性固形物であっ
てよい。本発明の特定の主題は、前記の式(I)の化合
物の少なくとも1種を活性成分として含有する殺虫剤組
成物にある。本発明に従う殺虫剤組成物は、好ましくは
0.005〜10重量%の活性成分を含有する。
【0012】家屋用に対しては、有用な態様では、本発
明の殺虫剤組成物は燻煙性組成物の形で用いられる。し
かして、本発明による組成物は、非活性部分については
燃焼性の殺虫剤コイル或るいは不燃性の繊維質基材より
なっていてよい。後者の場合には、活性物質を配合した
後に得られる燻煙剤は、電気蚊取器のような加熱装置に
入れられる。殺虫剤コイルが用いられる場合には、不活
性担体は、例えば、除虫菊絞粕、タブ粉末(Machilus t
humbergil の葉の粉末)、除虫菊の幹の粉末、ヒマラヤ
スギの針葉粉末、木粉(マツのおがくず)、でん粉及び
やしの殻の粉末よりなっていてよい。その場合に、活性
成分の薬量は、例えば0.03〜1重量%である。不燃
性の繊維質担体が用いられる場合には、活性成分の薬量
は、例えば、0.03〜95重量%であってよい。ま
た、家屋用の本発明の組成物は、活性成分を主体とした
噴霧可能油状物を作り、この油状物をランプの芯に含浸
させることにより得ることができ、これは次いで燃焼せ
しめられる。この油状物に配合される活性成分の濃度
は、好ましくは0.03〜95重量%である。また、本
発明の主題は、前記の式(I)の化合物の少なくとも1
種を活性成分として含有する殺だに剤組成物にある。さ
らに、本発明の主題は、前記の式(I)の化合物の少な
くとも1種を活性成分として含有する殺線虫剤組成物に
ある。
明の殺虫剤組成物は燻煙性組成物の形で用いられる。し
かして、本発明による組成物は、非活性部分については
燃焼性の殺虫剤コイル或るいは不燃性の繊維質基材より
なっていてよい。後者の場合には、活性物質を配合した
後に得られる燻煙剤は、電気蚊取器のような加熱装置に
入れられる。殺虫剤コイルが用いられる場合には、不活
性担体は、例えば、除虫菊絞粕、タブ粉末(Machilus t
humbergil の葉の粉末)、除虫菊の幹の粉末、ヒマラヤ
スギの針葉粉末、木粉(マツのおがくず)、でん粉及び
やしの殻の粉末よりなっていてよい。その場合に、活性
成分の薬量は、例えば0.03〜1重量%である。不燃
性の繊維質担体が用いられる場合には、活性成分の薬量
は、例えば、0.03〜95重量%であってよい。ま
た、家屋用の本発明の組成物は、活性成分を主体とした
噴霧可能油状物を作り、この油状物をランプの芯に含浸
させることにより得ることができ、これは次いで燃焼せ
しめられる。この油状物に配合される活性成分の濃度
は、好ましくは0.03〜95重量%である。また、本
発明の主題は、前記の式(I)の化合物の少なくとも1
種を活性成分として含有する殺だに剤組成物にある。さ
らに、本発明の主題は、前記の式(I)の化合物の少な
くとも1種を活性成分として含有する殺線虫剤組成物に
ある。
【0013】本発明による殺虫剤組成物には、殺だに剤
及び殺線虫剤組成物と同じように、必要ならば1種又は
それ以上の他の有害生物駆除剤を添加することができ
る。殺だに剤及び殺線虫剤組成物は、特に、粉剤、顆粒
剤、懸濁液、乳剤又は溶液の形で提供される。殺だに剤
用途に対しては、好ましくは、1〜80%の活性成分を
含有する葉噴霧用水和剤、或るいは1〜500g/lの
活性成分を含有する葉噴霧用液剤が用いられる。0.0
5〜3%の活性物質を含有する葉散布用粉剤も用いるこ
とができる。殺線虫剤用としては、300〜500g/
lの活性成分を含有する土壌処理用液剤が用いられる。
本発明による殺だに性及び殺線虫性化合物は、好ましく
は、1ヘクタール当り1〜100gの活性成分の薬量で
用いられる。また、本発明の主題は、式(I)の化合物
の少なくとも1種を活性成分として含有することを特徴
とする、温血動物の寄生だに類(acaridae)、特にまだ
に類(ticks )やだに類(mites )を防除するための殺
だに剤組成物にある。
及び殺線虫剤組成物と同じように、必要ならば1種又は
それ以上の他の有害生物駆除剤を添加することができ
る。殺だに剤及び殺線虫剤組成物は、特に、粉剤、顆粒
剤、懸濁液、乳剤又は溶液の形で提供される。殺だに剤
用途に対しては、好ましくは、1〜80%の活性成分を
含有する葉噴霧用水和剤、或るいは1〜500g/lの
活性成分を含有する葉噴霧用液剤が用いられる。0.0
5〜3%の活性物質を含有する葉散布用粉剤も用いるこ
とができる。殺線虫剤用としては、300〜500g/
lの活性成分を含有する土壌処理用液剤が用いられる。
本発明による殺だに性及び殺線虫性化合物は、好ましく
は、1ヘクタール当り1〜100gの活性成分の薬量で
用いられる。また、本発明の主題は、式(I)の化合物
の少なくとも1種を活性成分として含有することを特徴
とする、温血動物の寄生だに類(acaridae)、特にまだ
に類(ticks )やだに類(mites )を防除するための殺
だに剤組成物にある。
【0014】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、これを何ら制限しない。
て、これを何ら制限しない。
【0015】例1:2−[2−[4−ブロム−3−(ト
リフルオルメチル)フェニル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 1.3gのカリウムt−ブチラート及び10mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、4.3gの[[4−
ブロム−3−(トリフルオルメチル)フェニル]フルオ
ルメチル]ホスホン酸ジエチル(この製造は後記する。
製造例2を参照)及び20mlのテトラヒドロフランを
含有する溶液中に−60℃で導入する。反応混合物を−
60℃で15分間撹拌し、2.4gの2−ホルミル−α
−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(製造例
1)及び15mlのテトラヒドロフランを含有する溶液
を温度を−50℃を越えないようにして導入する。反応
混合物の温度を約20〜25℃に上昇させ、20〜25
℃で1時間撹拌し、混合物全体を水+1N塩酸(100
ml)とイソプロピルエーテル(200ml)との混合
物中に注ぐ。デカンテーションし、イソプロピルエーテ
ルで抽出した後、抽出物を乾燥し、シリカでクロマトグ
ラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル(8−2)混合物で
溶離する。このようにして、所望化合物を得た。(Z,
E)異性体Mp=115.2℃。(E,E)異性体Mp
=103.1℃。
リフルオルメチル)フェニル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 1.3gのカリウムt−ブチラート及び10mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、4.3gの[[4−
ブロム−3−(トリフルオルメチル)フェニル]フルオ
ルメチル]ホスホン酸ジエチル(この製造は後記する。
製造例2を参照)及び20mlのテトラヒドロフランを
含有する溶液中に−60℃で導入する。反応混合物を−
60℃で15分間撹拌し、2.4gの2−ホルミル−α
−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(製造例
1)及び15mlのテトラヒドロフランを含有する溶液
を温度を−50℃を越えないようにして導入する。反応
混合物の温度を約20〜25℃に上昇させ、20〜25
℃で1時間撹拌し、混合物全体を水+1N塩酸(100
ml)とイソプロピルエーテル(200ml)との混合
物中に注ぐ。デカンテーションし、イソプロピルエーテ
ルで抽出した後、抽出物を乾燥し、シリカでクロマトグ
ラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル(8−2)混合物で
溶離する。このようにして、所望化合物を得た。(Z,
E)異性体Mp=115.2℃。(E,E)異性体Mp
=103.1℃。
【0016】例2:2−[2−[2−(3,4−ジクロ
ルフェニル)−4−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.7gのカリウムt−ブチラート及び6mlのテトラ
ヒドロフランを含有する溶液を、1.33gの製造例1
の化合物、2.4gの製造例3の化合物(即ち2−
(3,4−ジクロルフェニル)−4−チアゾリル)フル
オルメチルホスホン酸ジエチル)及び10mlのテトラ
ヒドロフランを含有する混合物中に0℃で導入する。反
応混合物を0〜+5℃に保持し、100mlの1N塩酸
と100mlの塩化メチレンとの混合物中に注ぐ。デカ
ンテーションした後、水性相を100mlの塩化メチレ
ンで2回抽出し、次いで乾燥し、乾固させる。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−イソプロピ
ルエーテル(7−3)混合物で溶離する。このようにし
て、0.6gの(Z,E)異性体Mp=153.2℃及
び0.6gの(E,E)異性体Mp=112.1℃を得
た。
ルフェニル)−4−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.7gのカリウムt−ブチラート及び6mlのテトラ
ヒドロフランを含有する溶液を、1.33gの製造例1
の化合物、2.4gの製造例3の化合物(即ち2−
(3,4−ジクロルフェニル)−4−チアゾリル)フル
オルメチルホスホン酸ジエチル)及び10mlのテトラ
ヒドロフランを含有する混合物中に0℃で導入する。反
応混合物を0〜+5℃に保持し、100mlの1N塩酸
と100mlの塩化メチレンとの混合物中に注ぐ。デカ
ンテーションした後、水性相を100mlの塩化メチレ
ンで2回抽出し、次いで乾燥し、乾固させる。残留物を
シリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−イソプロピ
ルエーテル(7−3)混合物で溶離する。このようにし
て、0.6gの(Z,E)異性体Mp=153.2℃及
び0.6gの(E,E)異性体Mp=112.1℃を得
た。
【0017】例3:2−[2−[2−(2,4−ジクロ
ルフェニル)−4−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.57gのカリウムt−ブチラート及び5mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、1.06gの製造例
1の化合物、1.9gの[2−(2,4−ジクロルフェ
ニル)−4−チアゾリル]フルオルメチルホスホン酸ジ
エチル(これは2−[2,4−ジクロルフェニル)−4
−ホルミルチアゾールから出発して製造例3におけるよ
うに製造)及び10mlのテトラヒドロフランを含有す
る溶液中に0〜+5℃で導入する。反応混合物を0〜+
5℃に3時間撹拌し続ける。反応混合物を100mlの
1N塩酸と100mlのイソプロピルエーテルとの混合
物中に注ぐ。デカンテーションし、イソプロピルエーテ
ルで抽出した後、抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾
固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘ
キサン−イソプロピルエーテル(7−3)混合物で溶離
する。このようにして、0.9gの生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−イソプロ
ピルエーテル(8−2)混合物で溶離する。このように
して、0.11gの所望の(Z,E)化合物及び0.,
57gの(E,E)−(Z,E)混合物(75−25)
を得た。Mp=123.8℃。
ルフェニル)−4−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.57gのカリウムt−ブチラート及び5mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、1.06gの製造例
1の化合物、1.9gの[2−(2,4−ジクロルフェ
ニル)−4−チアゾリル]フルオルメチルホスホン酸ジ
エチル(これは2−[2,4−ジクロルフェニル)−4
−ホルミルチアゾールから出発して製造例3におけるよ
うに製造)及び10mlのテトラヒドロフランを含有す
る溶液中に0〜+5℃で導入する。反応混合物を0〜+
5℃に3時間撹拌し続ける。反応混合物を100mlの
1N塩酸と100mlのイソプロピルエーテルとの混合
物中に注ぐ。デカンテーションし、イソプロピルエーテ
ルで抽出した後、抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、乾
固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘ
キサン−イソプロピルエーテル(7−3)混合物で溶離
する。このようにして、0.9gの生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−イソプロ
ピルエーテル(8−2)混合物で溶離する。このように
して、0.11gの所望の(Z,E)化合物及び0.,
57gの(E,E)−(Z,E)混合物(75−25)
を得た。Mp=123.8℃。
【0018】例4:2−[2−フルオル−2−[4−チ
アゾリル−2−(4−トリフルオルメトキシ)フェニ
ル]エテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢
酸メチル(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.53gのカリウムt−ブチラート及び2.4mlの
テトラヒドロフランを含有する溶液を、0.92mgの
2−ホルミル−α−メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メ
チル(製造例1)、1.8gの[フルオル[4−[4−
トリフルオルメトキシフェニル]−2−チアゾリル]メ
チル]ホスホン酸ジエチル(製造例4)及び3mlのテ
トラヒドロフランを含有する溶液中に0〜+5℃で導入
する。反応混合物を16時間撹拌し続ける。1N塩酸を
添加することによりpH4まで酸性化し、次いで塩化メ
チレンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥する。溶媒を
除去し、2.3gの生成物を得た。これをシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル(85−1
5)混合物で溶離する。このようにして、0.2gの
(Z,E)化合物Mp=137.9℃及び0.44gの
(E,E)化合物Mp=99.5℃を得た。
アゾリル−2−(4−トリフルオルメトキシ)フェニ
ル]エテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢
酸メチル(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 0.53gのカリウムt−ブチラート及び2.4mlの
テトラヒドロフランを含有する溶液を、0.92mgの
2−ホルミル−α−メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メ
チル(製造例1)、1.8gの[フルオル[4−[4−
トリフルオルメトキシフェニル]−2−チアゾリル]メ
チル]ホスホン酸ジエチル(製造例4)及び3mlのテ
トラヒドロフランを含有する溶液中に0〜+5℃で導入
する。反応混合物を16時間撹拌し続ける。1N塩酸を
添加することによりpH4まで酸性化し、次いで塩化メ
チレンで抽出する。抽出物を水洗し、乾燥する。溶媒を
除去し、2.3gの生成物を得た。これをシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル(85−1
5)混合物で溶離する。このようにして、0.2gの
(Z,E)化合物Mp=137.9℃及び0.44gの
(E,E)化合物Mp=99.5℃を得た。
【0019】例5:2−[2−フルオル−2−(4−フ
ェニル−2−チアゾリル)エテニル]−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)−E異性体混
合物 233mgの50%水素化ナトリウム油中懸濁液を、
1.07gの2−ホルミル−α−(メトキシメチレン)
ベンゼン酢酸メチル(製造例1)、1.6gの[フルオ
ル[4−フェニル−2−チアゾリル]メチル]ホスホン
酸ジエチル(製造例5)及び10mlのテトラヒドロフ
ランを含有する溶液に添加する。反応混合物を16時間
撹拌し続ける。これを塩酸水溶液中に注ぐ。塩化メチレ
ンで抽出し、乾燥した後、溶媒を除去する。2.27g
の生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー
し、ヘキサン−酢酸エチル(80−20)混合物で溶離
し、1.46gの油状物を得た。これをペンタンで処理
し、1.07gの所望化合物を得た。Mp=94℃。
ェニル−2−チアゾリル)エテニル]−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)−E異性体混
合物 233mgの50%水素化ナトリウム油中懸濁液を、
1.07gの2−ホルミル−α−(メトキシメチレン)
ベンゼン酢酸メチル(製造例1)、1.6gの[フルオ
ル[4−フェニル−2−チアゾリル]メチル]ホスホン
酸ジエチル(製造例5)及び10mlのテトラヒドロフ
ランを含有する溶液に添加する。反応混合物を16時間
撹拌し続ける。これを塩酸水溶液中に注ぐ。塩化メチレ
ンで抽出し、乾燥した後、溶媒を除去する。2.27g
の生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー
し、ヘキサン−酢酸エチル(80−20)混合物で溶離
し、1.46gの油状物を得た。これをペンタンで処理
し、1.07gの所望化合物を得た。Mp=94℃。
【0020】例6:α−(メトキシメチレン)2−[2
−フルオル−2−[4−(1−メチルエチル)−2−チ
アゾリル]エテニル]ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体及び(E,E)異性体 1.45gのカリウムt−ブチラート及び6mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、2.83gの2−ホ
ルミル−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチ
ル、3.8gの[フルオル[4−(1−メチルエチル)
−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル(製造
例6)及び15mlのテトラヒドロフランを含有する混
合物中に滴下する。反応混合物を一夜撹拌する。pHを
4とし、次いで塩化メチレンで抽出し、洗浄し、乾燥す
る。溶媒を除去し、5.23gの生成物を得た。これを
シリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル
(85−15)混合物で溶離する。0.34gの(Z,
E)異性体Mp=104.3℃及び1gの(E,E)異
性体を得た。
−フルオル−2−[4−(1−メチルエチル)−2−チ
アゾリル]エテニル]ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体及び(E,E)異性体 1.45gのカリウムt−ブチラート及び6mlのテト
ラヒドロフランを含有する溶液を、2.83gの2−ホ
ルミル−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチ
ル、3.8gの[フルオル[4−(1−メチルエチル)
−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル(製造
例6)及び15mlのテトラヒドロフランを含有する混
合物中に滴下する。反応混合物を一夜撹拌する。pHを
4とし、次いで塩化メチレンで抽出し、洗浄し、乾燥す
る。溶媒を除去し、5.23gの生成物を得た。これを
シリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル
(85−15)混合物で溶離する。0.34gの(Z,
E)異性体Mp=104.3℃及び1gの(E,E)異
性体を得た。
【0021】例7:2−[2−[4−(3,4−ジクロ
ルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 326mgの50%水素化ナトリウム油中懸濁液を、
1.5gの2−ホルミル−α−(メトキシメチレン)ベ
ンゼン酢酸メチル(製造例1)、2.7gの[[4−
(3,4−ジクロルフェニル)−2−チアゾリル]フル
オルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例7)及び10
mlのテトラヒドロフランを含有する溶液に添加する。
反応混合物を一夜撹拌し続ける。これを水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出する。有機相を乾燥し、溶媒を除去す
る。このようにして、3.66gの生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチ
ル(85−15)混合物で溶離する。このようにして、
0.22gの(Z,E)異性体Mp=192.3℃及び
1.52グラムの(E,E)異性体Mp=115.6
℃)を得た。
ルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 326mgの50%水素化ナトリウム油中懸濁液を、
1.5gの2−ホルミル−α−(メトキシメチレン)ベ
ンゼン酢酸メチル(製造例1)、2.7gの[[4−
(3,4−ジクロルフェニル)−2−チアゾリル]フル
オルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例7)及び10
mlのテトラヒドロフランを含有する溶液に添加する。
反応混合物を一夜撹拌し続ける。これを水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出する。有機相を乾燥し、溶媒を除去す
る。このようにして、3.66gの生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチ
ル(85−15)混合物で溶離する。このようにして、
0.22gの(Z,E)異性体Mp=192.3℃及び
1.52グラムの(E,E)異性体Mp=115.6
℃)を得た。
【0022】2−ホルミル−α−(メトキシメチレン)
ベンゼン酢酸メチル及び適当なホスホン酸エステルから
出発して、前記の例に記載のように操作して、下記の化
合物を製造した。例8 :2−[2−フルオル−2−[2−(トリフルオル
メチル)−4−チアゾリル]エテニル]−α−(メトキ
シメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及び
(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=143℃。例9 :2−[2−[4−[[1,1' −ビフェニル]−
4−イル]−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=121.6℃。 (E,E)異性体:Mp=139.5℃。例10 :2−[2−[4−(4−クロルフェニル)−2
−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及
び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=137.2℃。 (E,E)異性体:Mp=116.5℃。例11 :2−[2−[4−(4−ブロムフェニル)−2
−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及
び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=145.8℃。 (E,E)異性体:Mp=132.5℃。
ベンゼン酢酸メチル及び適当なホスホン酸エステルから
出発して、前記の例に記載のように操作して、下記の化
合物を製造した。例8 :2−[2−フルオル−2−[2−(トリフルオル
メチル)−4−チアゾリル]エテニル]−α−(メトキ
シメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及び
(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=143℃。例9 :2−[2−[4−[[1,1' −ビフェニル]−
4−イル]−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=121.6℃。 (E,E)異性体:Mp=139.5℃。例10 :2−[2−[4−(4−クロルフェニル)−2
−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及
び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=137.2℃。 (E,E)異性体:Mp=116.5℃。例11 :2−[2−[4−(4−ブロムフェニル)−2
−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及
び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=145.8℃。 (E,E)異性体:Mp=132.5℃。
【0023】例12:2−[2−フルオル−2−[4−
(トリフルオルメチル)−2−チアゾリル]エテニル]
−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,
E)異性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=109℃。例13 :2−[[2' −エチル(2,4' −ビチアゾー
ル)−4−イル]−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
の混合物 (Z,E)異性体(80−20)の混合物:Mp=8
3.5℃。例14 :2−[2−フルオル−2−[2−ピリジニル−
4−チアゾリル]エテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及び(E,
E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=146℃。 (E,E)異性体:Mp=101℃。例15 :2−[2−フルオル−2−[3−[4−(トリ
フルオルメトキシ)フェニル]−1,2,4−オキサジ
アゾール−5−イル]]エテニル]−α−(メトキシメ
チレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 (E,E)異性体:Mp=103.6℃。
(トリフルオルメチル)−2−チアゾリル]エテニル]
−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,
E)異性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=109℃。例13 :2−[[2' −エチル(2,4' −ビチアゾー
ル)−4−イル]−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
の混合物 (Z,E)異性体(80−20)の混合物:Mp=8
3.5℃。例14 :2−[2−フルオル−2−[2−ピリジニル−
4−チアゾリル]エテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体及び(E,
E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=146℃。 (E,E)異性体:Mp=101℃。例15 :2−[2−フルオル−2−[3−[4−(トリ
フルオルメトキシ)フェニル]−1,2,4−オキサジ
アゾール−5−イル]]エテニル]−α−(メトキシメ
チレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 (E,E)異性体:Mp=103.6℃。
【0024】例16:2−[2−フルオル−2−[3−
(トリフルオルメチル)フェニル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=90℃。 (E,E)異性体:Mp=61.5℃。例17 :2−[2−フルオル−2−[4−(4−ニトロ
フェニル)−2−チアゾリル]エテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E),E異性
体混合物 Mp=79℃。例18 :2−[2−[4−(4−フルオルフェニル)−
2−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=135.8℃。 (E,E)異性体:Mp=99.8℃。例19 :α−(メトキシメチレン)−2−[2−(3−
ブロムフェニル)−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=129℃。 (E,E)異性体:Mp=94℃。
(トリフルオルメチル)フェニル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=90℃。 (E,E)異性体:Mp=61.5℃。例17 :2−[2−フルオル−2−[4−(4−ニトロ
フェニル)−2−チアゾリル]エテニル]−α−(メト
キシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E),E異性
体混合物 Mp=79℃。例18 :2−[2−[4−(4−フルオルフェニル)−
2−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=135.8℃。 (E,E)異性体:Mp=99.8℃。例19 :α−(メトキシメチレン)−2−[2−(3−
ブロムフェニル)−2−フルオルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 (Z,E)異性体:Mp=129℃。 (E,E)異性体:Mp=94℃。
【0025】例20:2−[2−[5−ブロム−4−
(3,4−ジクロルフェニル)−2−チアゾリル]−2
−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベン
ゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 930mgの例7で得た化合物を不活性雰囲気下に5c
cの四塩化炭素と混合し、480mgの臭素を2ccの
四塩化炭素に溶解してなる溶液を添加し、60℃で4時
間加熱する。混合物を50ccの水中に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−イソプ
ロピルエーテル7−3)し、330mgの所期化合物を
得た。Mp=154.2℃。
(3,4−ジクロルフェニル)−2−チアゾリル]−2
−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベン
ゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 930mgの例7で得た化合物を不活性雰囲気下に5c
cの四塩化炭素と混合し、480mgの臭素を2ccの
四塩化炭素に溶解してなる溶液を添加し、60℃で4時
間加熱する。混合物を50ccの水中に注ぎ、塩化メチ
レンで抽出し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−イソプ
ロピルエーテル7−3)し、330mgの所期化合物を
得た。Mp=154.2℃。
【0026】例21:2−[2−(3−エチニルフェニ
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体工程A :2−[2−フルオル−2−[3−[2−(トリ
メチルシリル)エチニル]フェニル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 1.96gの例19で製造した化合物、14ccのアセ
トニトリル、20ccのトリエチルアミン、0.54g
の10%パラジウム担持活性炭、48mgの沃化銅及び
0.22gのトリフェニルホスフィンを含有する混合物
中に2.3ccのトリメチルシリルアセチレンを添加す
る。混合物を密閉容器内で80℃で20時間加熱し、次
いで5℃に冷却し、ろ過し、ろ液を水中に注ぎ、塩化メ
チレンで抽出し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。
シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸
エチル8−2)した後、0.95gの所期化合物を得
た。Mp=119℃。工程B :2−[2−(3−エチニルフェニル)−2−フ
ルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン
酢酸メチル(Z,E)異性体 1.6ccの弗化t−ブチルアンモニウムをテトラヒド
ロフランに溶解してなる1M溶液を、0.63gの工程
Aで得た化合物及び20ccのテトラヒドロフランを含
有する溶液に−70℃で導入する。反応混合物を−70
℃で3時間撹拌し続ける。混合物を、0〜+5℃に冷却
した燐酸二水素カリウム水溶液中に注ぎ、次いで15分
間撹拌し、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、溶
媒を蒸発させる。シリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:ヘキサン−酢酸エチル8−2)し、ペンタンから再
結晶した後、0.35gの所期化合物を得た。Mp=1
0.3℃。
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体工程A :2−[2−フルオル−2−[3−[2−(トリ
メチルシリル)エチニル]フェニル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 1.96gの例19で製造した化合物、14ccのアセ
トニトリル、20ccのトリエチルアミン、0.54g
の10%パラジウム担持活性炭、48mgの沃化銅及び
0.22gのトリフェニルホスフィンを含有する混合物
中に2.3ccのトリメチルシリルアセチレンを添加す
る。混合物を密閉容器内で80℃で20時間加熱し、次
いで5℃に冷却し、ろ過し、ろ液を水中に注ぎ、塩化メ
チレンで抽出し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。
シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸
エチル8−2)した後、0.95gの所期化合物を得
た。Mp=119℃。工程B :2−[2−(3−エチニルフェニル)−2−フ
ルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン
酢酸メチル(Z,E)異性体 1.6ccの弗化t−ブチルアンモニウムをテトラヒド
ロフランに溶解してなる1M溶液を、0.63gの工程
Aで得た化合物及び20ccのテトラヒドロフランを含
有する溶液に−70℃で導入する。反応混合物を−70
℃で3時間撹拌し続ける。混合物を、0〜+5℃に冷却
した燐酸二水素カリウム水溶液中に注ぎ、次いで15分
間撹拌し、塩化メチレンで抽出し、水洗し、乾燥し、溶
媒を蒸発させる。シリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:ヘキサン−酢酸エチル8−2)し、ペンタンから再
結晶した後、0.35gの所期化合物を得た。Mp=1
0.3℃。
【0027】例22:[4−(3,3−ジメチル−1−
ブチニル)−3−(トリフルオルメチル)フェニル]−
2−フルオルエテニル−α−(メトキシメチレン)ベン
ゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 0.92gの例1で得た化合物(Z,E)異性体、7c
cのアセトニトリル、9ccのトリエチルアミン、0.
2gのパラジウム担持活性炭、0.1gのトリフェニル
ホスフィン、0.02gの沃化銅及び1ccのt−ブチ
ルアセチレンを密閉容器内で80℃に48時間加熱す
る。冷却した後、ろ過し、溶媒を蒸発させ、残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン)
し、0.5gの所期化合物(Z,E)異性体を得た。M
p=124℃。
ブチニル)−3−(トリフルオルメチル)フェニル]−
2−フルオルエテニル−α−(メトキシメチレン)ベン
ゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 0.92gの例1で得た化合物(Z,E)異性体、7c
cのアセトニトリル、9ccのトリエチルアミン、0.
2gのパラジウム担持活性炭、0.1gのトリフェニル
ホスフィン、0.02gの沃化銅及び1ccのt−ブチ
ルアセチレンを密閉容器内で80℃に48時間加熱す
る。冷却した後、ろ過し、溶媒を蒸発させ、残留物をシ
リカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン)
し、0.5gの所期化合物(Z,E)異性体を得た。M
p=124℃。
【0028】例23:2−[2−(3−エテニルフェニ
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 2.35gの例19で得た化合物、30ccのトルエ
ン、0.28gのパラジウムトリフェニルホスフィン及
び2ccのビニルトリブチル錫を110℃で加熱還流
し、この温度で16時間撹拌する。20〜25℃に冷却
した後、溶媒を蒸発させ、5gの粗生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:イソプロピル
エーテル−ヘキサン65−35)する。1.29gの所
期化合物を得た。Mp=86℃。
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 2.35gの例19で得た化合物、30ccのトルエ
ン、0.28gのパラジウムトリフェニルホスフィン及
び2ccのビニルトリブチル錫を110℃で加熱還流
し、この温度で16時間撹拌する。20〜25℃に冷却
した後、溶媒を蒸発させ、5gの粗生成物を得た。これ
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:イソプロピル
エーテル−ヘキサン65−35)する。1.29gの所
期化合物を得た。Mp=86℃。
【0029】例24:2−[2−[3−(3−トリフル
オルメチルフェニル)フェニル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体工程A :2−[2−(3−トリブチルスタンナンフェニ
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル 出発時に5.9gの例19で得た化合物、90ccのト
ルエン、9.8ccのヘキサブチルスタンナン及び0.
86gのパラジウムトリフェニルホスフィンを使用し、
110℃で48時間加熱することによって例21におけ
るように操作を行う。シリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:塩化メチレン−ヘキサン6−4)した後、9gの
所期化合物を得た。工程B :2−[2−[3−(3−トリフルオルメチルフ
ェニル)フェニル]−2−フルオルエテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 3.5gの工程Aで得た化合物、35ccのトルエン、
1.3ccの3−(トリフルオルメチル)ヨードベンゼ
ン及び0.2gの塩化パラジウムビス(トリフェニルホ
スフィン)を110℃に16時間加熱する。反応混合物
を周囲温度に冷却し、ろ過し、溶媒を蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン
−ヘキサン65−35)し、1.4gの所期化合物を得
た。Mp=119.5℃。
オルメチルフェニル)フェニル]−2−フルオルエテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル
(Z,E)異性体工程A :2−[2−(3−トリブチルスタンナンフェニ
ル)−2−フルオルエテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル 出発時に5.9gの例19で得た化合物、90ccのト
ルエン、9.8ccのヘキサブチルスタンナン及び0.
86gのパラジウムトリフェニルホスフィンを使用し、
110℃で48時間加熱することによって例21におけ
るように操作を行う。シリカでクロマトグラフィー(溶
離剤:塩化メチレン−ヘキサン6−4)した後、9gの
所期化合物を得た。工程B :2−[2−[3−(3−トリフルオルメチルフ
ェニル)フェニル]−2−フルオルエテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 3.5gの工程Aで得た化合物、35ccのトルエン、
1.3ccの3−(トリフルオルメチル)ヨードベンゼ
ン及び0.2gの塩化パラジウムビス(トリフェニルホ
スフィン)を110℃に16時間加熱する。反応混合物
を周囲温度に冷却し、ろ過し、溶媒を蒸発させ、残留物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン
−ヘキサン65−35)し、1.4gの所期化合物を得
た。Mp=119.5℃。
【0030】例25:2−[2−[5−ブロム−4−
(4−フルオルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フ
ルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン
酢酸メチル(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 出発時に11.36gの2−ホルミル−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル、22gの[[5−ブロ
ム−4−(4−フルオルフェニル)−2−チアゾリル]
フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例19)及
び6.5gのカリウムt−ブチラートを使用して例1に
おけるように操作を行う。26.6gの生成物を得た。
これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン
−イソプロピルエーテル)する。920mgの(Z,
E)異性体Mp=189℃及び20mgの(E,E)異
性体Mp=133℃を得た。
(4−フルオルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フ
ルオルエテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン
酢酸メチル(Z,E)異性体及び(E,E)異性体 出発時に11.36gの2−ホルミル−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル、22gの[[5−ブロ
ム−4−(4−フルオルフェニル)−2−チアゾリル]
フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例19)及
び6.5gのカリウムt−ブチラートを使用して例1に
おけるように操作を行う。26.6gの生成物を得た。
これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン
−イソプロピルエーテル)する。920mgの(Z,
E)異性体Mp=189℃及び20mgの(E,E)異
性体Mp=133℃を得た。
【0031】例26:2−[2−フルオル−2−[3−
[4−(トリフルオルメトキシ)フェニル]−1,2,
4−オキサジアゾール−5−イル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 465mgの例15の化合物(E,E)異性体を5cc
の四塩化炭素に溶解してなる溶液を光り照射(250ワ
ット)下に置き、次いで0.1ccの臭素の5%四塩化
炭素溶液を添加する。反応終了後、溶媒を蒸発させる。
残留物をペンタンで処理し、400mgの所期化合物
(Z,E)異性体を得た。Mp=137℃。
[4−(トリフルオルメトキシ)フェニル]−1,2,
4−オキサジアゾール−5−イル]エテニル]−α−
(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異
性体 465mgの例15の化合物(E,E)異性体を5cc
の四塩化炭素に溶解してなる溶液を光り照射(250ワ
ット)下に置き、次いで0.1ccの臭素の5%四塩化
炭素溶液を添加する。反応終了後、溶媒を蒸発させる。
残留物をペンタンで処理し、400mgの所期化合物
(Z,E)異性体を得た。Mp=137℃。
【0032】例27:2−[2−[3−(トリフルオル
メチル)フェニル]−2−クロルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 2.48gの[[3−(トリフルオルメチル)フェニ
ル]クロルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例2
0)、1.65gの2−ホルミル−α−(メトキシメチ
レン)ベンゼン酢酸メチル(製造例1)を20ccのテ
トラヒドロフラン中に含有する溶液を−70℃〜−75
℃に冷却し、次いで0.95gのカリウムt−ブチラー
トを10ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液
を45分間で添加する。−65℃〜−70℃で1時間撹
拌し、次いで混合物を0℃〜+5℃に冷却した水+2N
塩酸混合物中に注ぎ、pH4で15分間撹拌する。塩化
メチレンで抽出し、抽出物を中性になるまで水洗し、乾
燥し、溶媒を蒸発させる。残留物をシリカでクロマトグ
ラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸エチル85−15)
し、ペンタンから結晶化し、ペンタンで洗浄した後、
1.48gの(E,E)異性体及び0.92gの(Z,
E)異性体を得た。
メチル)フェニル]−2−クロルエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体
及び(E,E)異性体 2.48gの[[3−(トリフルオルメチル)フェニ
ル]クロルメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例2
0)、1.65gの2−ホルミル−α−(メトキシメチ
レン)ベンゼン酢酸メチル(製造例1)を20ccのテ
トラヒドロフラン中に含有する溶液を−70℃〜−75
℃に冷却し、次いで0.95gのカリウムt−ブチラー
トを10ccのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液
を45分間で添加する。−65℃〜−70℃で1時間撹
拌し、次いで混合物を0℃〜+5℃に冷却した水+2N
塩酸混合物中に注ぎ、pH4で15分間撹拌する。塩化
メチレンで抽出し、抽出物を中性になるまで水洗し、乾
燥し、溶媒を蒸発させる。残留物をシリカでクロマトグ
ラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸エチル85−15)
し、ペンタンから結晶化し、ペンタンで洗浄した後、
1.48gの(E,E)異性体及び0.92gの(Z,
E)異性体を得た。
【0033】例28:2−[2−[3−(トリフルオル
メチル)フェニル]−2−ブロムエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(E,E)異性体 出発時に2.81gの[[3−(トリフルオルメチル)
フェニル]ブロムメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例
21)及び1.65gの2−ホルミル−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル(製造例1)を使用して
例27におけるように操作を行なう。1.35gの所期
化合物を得た。
メチル)フェニル]−2−ブロムエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(E,E)異性体 出発時に2.81gの[[3−(トリフルオルメチル)
フェニル]ブロムメチル]ホスホン酸ジエチル(製造例
21)及び1.65gの2−ホルミル−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル(製造例1)を使用して
例27におけるように操作を行なう。1.35gの所期
化合物を得た。
【0034】例29:2−[2−[3−(トリフルオル
メチル)フェニル]−2−ブロムエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 1gの例28で得た化合物(E,E)異性体を15cc
の四塩化炭素に溶解してなる溶液に、0.23ccの臭
素の5%四塩化炭素溶液を添加する。反応媒体を光照射
(300ワット)下に2時間置く。溶媒を蒸発させた
後、1.2gの粗生成物を集めた。これをシリカでクロ
マトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸エチル8−
2)することにより精製する。0.42gの所期化合物
を得た。Mp=94℃。
メチル)フェニル]−2−ブロムエテニル]−α−(メ
トキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,E)異性体 1gの例28で得た化合物(E,E)異性体を15cc
の四塩化炭素に溶解してなる溶液に、0.23ccの臭
素の5%四塩化炭素溶液を添加する。反応媒体を光照射
(300ワット)下に2時間置く。溶媒を蒸発させた
後、1.2gの粗生成物を集めた。これをシリカでクロ
マトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢酸エチル8−
2)することにより精製する。0.42gの所期化合物
を得た。Mp=94℃。
【0035】前記の例におけるようにして操作を行な
い、下記の化合物を製造した。例30 :2−[2−フルオル−2−[3−フェニル−
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル]エテニル]
−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,
E)異性体 Mp=121℃。
い、下記の化合物を製造した。例30 :2−[2−フルオル−2−[3−フェニル−
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル]エテニル]
−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル(Z,
E)異性体 Mp=121℃。
【0036】製造例1:2−ホルミル−α−(メトキシ
メチレン)ベンゼン酢酸メチル 50.7gの2−ブロムエチル−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル溶液(ヨーロッパ特許第203
606号に記載の方法に従って製造)及び100ccの
塩化メチレンを、55gの無水トリメチルアミンN−オ
キシド、350gのジメチルスルホキシド及び160c
cの塩化メチレンの混合物中に0℃で導入する。反応混
合物を約20〜25℃で4時間撹拌し続け、次いで水と
氷との混合物中に注ぐ。デカンテーションし、塩化メチ
レンで抽出し、乾燥し、乾固させた後、得られた生成物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢
酸エチル8−2)する。17.5gの所望化合物を得
た。Mp=81℃。
メチレン)ベンゼン酢酸メチル 50.7gの2−ブロムエチル−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル溶液(ヨーロッパ特許第203
606号に記載の方法に従って製造)及び100ccの
塩化メチレンを、55gの無水トリメチルアミンN−オ
キシド、350gのジメチルスルホキシド及び160c
cの塩化メチレンの混合物中に0℃で導入する。反応混
合物を約20〜25℃で4時間撹拌し続け、次いで水と
氷との混合物中に注ぐ。デカンテーションし、塩化メチ
レンで抽出し、乾燥し、乾固させた後、得られた生成物
をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサン−酢
酸エチル8−2)する。17.5gの所望化合物を得
た。Mp=81℃。
【0037】製造例2:[[4−ブロム−3−(トリフ
ルオルメチル)フェニル]フルオルメチル]ホスホン酸
ジエチル工程A :4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)ベン
ズアルデヒド (a)塩化4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)ベ
ンゼンジアゾニウムの製造 60gの4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)アニ
リンを60ccの水に導入する。次いで57ccの濃塩
酸を導入する。得らた懸濁液を20℃に戻す。氷を添加
し、17.5gの亜硝酸ナトリウムと25ccの水を含
有する溶液を0℃〜±5℃で添加する。混合物を0℃〜
±5℃で15分間撹拌し続ける。次いで25gの酢酸ナ
トリウム水和物及び35ccの水を含有する溶液を添加
する。この溶液に下記の態様で製造したホルムアルデヒ
ドオキシムの10%水溶液を添加する。 (b)ホルムアルデヒドオキシムの10%水溶液の製造 26.3gのヒドロキシルアミン塩酸塩を170ccの
蒸留水に導入する。28.75gの40%ホルムアルデ
ヒドを添加し、混合物を40℃に加熱する。次いで51
gの酢酸ナトリウム水和物を添加する。全体を15分間
還流させ、次いで16時間放置する。6.5gの硫酸銅
及び1gの硫酸ナトリウムを添加する。15℃に冷却し
た後、160gの酢酸ナトリウムと300ccの蒸留水
との溶液を導入する。上記(a)で得たジアゾニウム塩
溶液を上記B)で得た溶液に10〜15℃で添加し、次
いで15℃で1時間撹拌する。230ccの濃塩酸を添
加し、全体を2時間加熱還流する。冷却し、400cc
のエチルエーテルで6回抽出した後、有機相を重炭酸ナ
トリウム飽和溶液及び塩化ナトリウム飽和水で洗浄し、
次いで乾燥し、ろ過し、濃縮乾固する。66.3gの生
成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:ヘキサン−酢酸エチル95−5)する。11.15
gの所望化合物を得た。IRスペクトル (CHCl3 ) C=O:1707cm-1 CHO:2735cm-1 芳香族:1600−1580−1570−1470cm
-1 工程B :[[4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)
フェニル]ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチル 工程で得た12.65gの4−ブロム−3−トリフルオ
ルメチルベンズアルデヒドを、6.5ccの亜燐酸ジエ
チル及び0.5ccのトリエチルアミンを含有する混合
物中に約60℃で導入する。70℃で1時間撹拌し、次
いで40℃に冷却し、次いで100ccのトルエンを添
加する。1N塩酸水溶液で洗浄し、次いで水洗し、乾燥
し、蒸発乾固させた後、17.5gの所期化合物を得
た。工程C :[[4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)
フェニル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 7.82gの上記工程で製造した化合物を50ccの塩
化メチレンに溶解してなる溶液に2.5ccの三弗化ジ
エチルアミノスルフィドを0℃で添加する。反応混合物
を約20〜25℃に1時間保持する。次いでこれを重炭
酸ナトリウム飽和水溶液中に注ぎ、次いでデカンテーシ
ョンし、塩化メチレンで抽出し、乾燥し、乾固させる。
得られた生成物をクロマトグラフィーし、塩化メチレン
−テトラヒドロフラン(98−2)混合物で溶離する。
Rf=0.2。
ルオルメチル)フェニル]フルオルメチル]ホスホン酸
ジエチル工程A :4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)ベン
ズアルデヒド (a)塩化4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)ベ
ンゼンジアゾニウムの製造 60gの4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)アニ
リンを60ccの水に導入する。次いで57ccの濃塩
酸を導入する。得らた懸濁液を20℃に戻す。氷を添加
し、17.5gの亜硝酸ナトリウムと25ccの水を含
有する溶液を0℃〜±5℃で添加する。混合物を0℃〜
±5℃で15分間撹拌し続ける。次いで25gの酢酸ナ
トリウム水和物及び35ccの水を含有する溶液を添加
する。この溶液に下記の態様で製造したホルムアルデヒ
ドオキシムの10%水溶液を添加する。 (b)ホルムアルデヒドオキシムの10%水溶液の製造 26.3gのヒドロキシルアミン塩酸塩を170ccの
蒸留水に導入する。28.75gの40%ホルムアルデ
ヒドを添加し、混合物を40℃に加熱する。次いで51
gの酢酸ナトリウム水和物を添加する。全体を15分間
還流させ、次いで16時間放置する。6.5gの硫酸銅
及び1gの硫酸ナトリウムを添加する。15℃に冷却し
た後、160gの酢酸ナトリウムと300ccの蒸留水
との溶液を導入する。上記(a)で得たジアゾニウム塩
溶液を上記B)で得た溶液に10〜15℃で添加し、次
いで15℃で1時間撹拌する。230ccの濃塩酸を添
加し、全体を2時間加熱還流する。冷却し、400cc
のエチルエーテルで6回抽出した後、有機相を重炭酸ナ
トリウム飽和溶液及び塩化ナトリウム飽和水で洗浄し、
次いで乾燥し、ろ過し、濃縮乾固する。66.3gの生
成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:ヘキサン−酢酸エチル95−5)する。11.15
gの所望化合物を得た。IRスペクトル (CHCl3 ) C=O:1707cm-1 CHO:2735cm-1 芳香族:1600−1580−1570−1470cm
-1 工程B :[[4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)
フェニル]ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチル 工程で得た12.65gの4−ブロム−3−トリフルオ
ルメチルベンズアルデヒドを、6.5ccの亜燐酸ジエ
チル及び0.5ccのトリエチルアミンを含有する混合
物中に約60℃で導入する。70℃で1時間撹拌し、次
いで40℃に冷却し、次いで100ccのトルエンを添
加する。1N塩酸水溶液で洗浄し、次いで水洗し、乾燥
し、蒸発乾固させた後、17.5gの所期化合物を得
た。工程C :[[4−ブロム−3−(トリフルオルメチル)
フェニル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 7.82gの上記工程で製造した化合物を50ccの塩
化メチレンに溶解してなる溶液に2.5ccの三弗化ジ
エチルアミノスルフィドを0℃で添加する。反応混合物
を約20〜25℃に1時間保持する。次いでこれを重炭
酸ナトリウム飽和水溶液中に注ぎ、次いでデカンテーシ
ョンし、塩化メチレンで抽出し、乾燥し、乾固させる。
得られた生成物をクロマトグラフィーし、塩化メチレン
−テトラヒドロフラン(98−2)混合物で溶離する。
Rf=0.2。
【0038】製造例3:[[2−(3,4−ジクロルフ
ェニル)−4−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン
酸ジエチル工程A :[[2−(3,4−ジクロルフェニル)−4−
チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチル 3.9ccの亜燐酸ジエチルと0.3ccのトリエチル
アミンとの混合物を60℃に加熱する。ヨーロッパ特許
第402246号に従って得た12.65gの化合物2
−(3,4−ジクロルフェニル)−4−ホルミルチアゾ
ールを導入する。160℃に加熱した後、温度を110
℃に戻す。次いで混合物を110℃に4時間加熱し、次
いで温度を20〜25℃に戻す。得られた生成物を1リ
ットルの塩化メチレンに溶解する。反応媒体を100c
cの1N塩酸溶液中に注ぐ。塩化メチレン相をデカンテ
ーションし、乾燥し、乾固させる。得られた生成物をイ
ソプロピルエーテルで洗浄し、減圧乾燥する。5.9g
の所望化合物を得た。Mp=155℃。工程B :[[2−(3,4−ジクロルフェニル)−4−
チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 工程Aで得た化合物より出発して、前記の製造例におけ
るように操作して、2.4gの所望化合物を得た。Rf
=0.25(溶離剤:塩化メチレン−イソプロピルエー
テル30−10)。
ェニル)−4−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン
酸ジエチル工程A :[[2−(3,4−ジクロルフェニル)−4−
チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチル 3.9ccの亜燐酸ジエチルと0.3ccのトリエチル
アミンとの混合物を60℃に加熱する。ヨーロッパ特許
第402246号に従って得た12.65gの化合物2
−(3,4−ジクロルフェニル)−4−ホルミルチアゾ
ールを導入する。160℃に加熱した後、温度を110
℃に戻す。次いで混合物を110℃に4時間加熱し、次
いで温度を20〜25℃に戻す。得られた生成物を1リ
ットルの塩化メチレンに溶解する。反応媒体を100c
cの1N塩酸溶液中に注ぐ。塩化メチレン相をデカンテ
ーションし、乾燥し、乾固させる。得られた生成物をイ
ソプロピルエーテルで洗浄し、減圧乾燥する。5.9g
の所望化合物を得た。Mp=155℃。工程B :[[2−(3,4−ジクロルフェニル)−4−
チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 工程Aで得た化合物より出発して、前記の製造例におけ
るように操作して、2.4gの所望化合物を得た。Rf
=0.25(溶離剤:塩化メチレン−イソプロピルエー
テル30−10)。
【0039】製造例4:[[2−[4−(トリフルオル
メトキシ)フェニル]−4−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル工程A :[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェ
ニル]−4−チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホン
酸ジエチル ヨーロッパ特許第402246号に従って得た2.74
gの化合物2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェニ
ル])−4−ホルミルチアゾールを、1.3ccの亜燐
酸ジエチル及び0.1ccのトリエチルアミンを含有す
る溶液に70℃で添加する。混合物を40℃に冷却し、
15ccのトルエンを添加する。1N塩酸、次いで水で
洗浄した後、水性相を塩化メチレンで抽出する。有機相
を一緒にし、乾燥する。ろ過し、洗浄した後、溶媒を除
去する。2.87gの所望化合物を得た(ペンタンから
単離)。 Rf=0.08(塩化メチレン−テトラヒドロフラン9
−1)。工程B :[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェ
ニル]−4−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸
ジエチル 6.1gの[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フ
ェニル]−4−チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホ
ン酸ジエチルを含有する溶液に−5℃で2ccの95%
三弗化ジエチルアミノスルフィドを添加する。反応混合
物を重炭酸ナトリウム飽和水溶液中に注ぐ。有機相を一
緒にし、乾燥し、溶媒を蒸発させる。6.42gの生成
物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーし、塩化
メチレン−イソプロピルエーテル(9−1)混合物で溶
離する。このようにして、2.3gの所望化合物を得
た。
メトキシ)フェニル]−4−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル工程A :[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェ
ニル]−4−チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホン
酸ジエチル ヨーロッパ特許第402246号に従って得た2.74
gの化合物2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェニ
ル])−4−ホルミルチアゾールを、1.3ccの亜燐
酸ジエチル及び0.1ccのトリエチルアミンを含有す
る溶液に70℃で添加する。混合物を40℃に冷却し、
15ccのトルエンを添加する。1N塩酸、次いで水で
洗浄した後、水性相を塩化メチレンで抽出する。有機相
を一緒にし、乾燥する。ろ過し、洗浄した後、溶媒を除
去する。2.87gの所望化合物を得た(ペンタンから
単離)。 Rf=0.08(塩化メチレン−テトラヒドロフラン9
−1)。工程B :[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フェ
ニル]−4−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸
ジエチル 6.1gの[[2−[4−(トリフルオルメトキシ)フ
ェニル]−4−チアゾリル]ヒドロキシメチル]ホスホ
ン酸ジエチルを含有する溶液に−5℃で2ccの95%
三弗化ジエチルアミノスルフィドを添加する。反応混合
物を重炭酸ナトリウム飽和水溶液中に注ぐ。有機相を一
緒にし、乾燥し、溶媒を蒸発させる。6.42gの生成
物を得た。これをシリカでクロマトグラフィーし、塩化
メチレン−イソプロピルエーテル(9−1)混合物で溶
離する。このようにして、2.3gの所望化合物を得
た。
【0040】製造例5:[フルオル[4−フェニル−2
−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル工程A :[(アミノカルボニル)フルオルメチル]ホス
ホン酸のジエチルエステル 700ccの22度ボーメ水酸化アンモニウムを664
gの(ジエトキシホスフィニル)フルオル酢酸メチルに
窒素気流中で撹拌しながら5〜10℃で導入する。反応
混合物を3時間撹拌する。過剰の水酸化アンモニウムを
減圧下に蒸留する。反応媒体に塩化ナトリウムを飽和さ
せ、塩化メチレンで抽出し、次いで塩化ナトリウム飽和
溶液で洗浄する。塩化メチレン相を乾燥し、次いでろ過
し、減圧下に乾固させる。646gの所望の粗生成物を
得た。これを1リットルの塩化メチレンに溶解する。減
圧下に塩化メチレンをイソプロピルエーテルで置換する
ことにより一定容積に蒸留し、次いで分離し、洗浄し、
乾燥する。551.4gの所望化合物を得た。工程B :[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル 工程Aで得た57.9gの[(2−アミノ−1−フルオ
ル−2−オキソ)エチル]ホスホン酸ジエチル、580
ccのテトラヒドロフラン及び16gの五流化燐の懸濁
液を周囲温度で5時間撹拌する。ろ過した後、溶媒を蒸
発させる。84.55gの生成物を得た。これをクロマ
トグラフィー(溶離剤:アセトン−シクロヘキサン1−
1)する。26.6gの所望化合物を得た。工程C :[フルオル[4−フェニル−2−チアゾリル]
メチル]ホスホン酸ジエチル 工程Bで製造した2.3gの化合物、30ccのメタノ
ール及び2gのα−ブロムアセトフェノンの混合物を1
時間30分還流する。混合物を冷却し、水−酢酸エチル
(100cc−50cc)混合物中に注ぐ。反応媒体を
中和し、デカンテーションし、酢酸エチルで抽出する。
水洗し、乾燥し、蒸発させた後、3.18gの生成物を
得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩
化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)する。この
ようにして、2.47gの所望化合物を得た。
−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル工程A :[(アミノカルボニル)フルオルメチル]ホス
ホン酸のジエチルエステル 700ccの22度ボーメ水酸化アンモニウムを664
gの(ジエトキシホスフィニル)フルオル酢酸メチルに
窒素気流中で撹拌しながら5〜10℃で導入する。反応
混合物を3時間撹拌する。過剰の水酸化アンモニウムを
減圧下に蒸留する。反応媒体に塩化ナトリウムを飽和さ
せ、塩化メチレンで抽出し、次いで塩化ナトリウム飽和
溶液で洗浄する。塩化メチレン相を乾燥し、次いでろ過
し、減圧下に乾固させる。646gの所望の粗生成物を
得た。これを1リットルの塩化メチレンに溶解する。減
圧下に塩化メチレンをイソプロピルエーテルで置換する
ことにより一定容積に蒸留し、次いで分離し、洗浄し、
乾燥する。551.4gの所望化合物を得た。工程B :[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル 工程Aで得た57.9gの[(2−アミノ−1−フルオ
ル−2−オキソ)エチル]ホスホン酸ジエチル、580
ccのテトラヒドロフラン及び16gの五流化燐の懸濁
液を周囲温度で5時間撹拌する。ろ過した後、溶媒を蒸
発させる。84.55gの生成物を得た。これをクロマ
トグラフィー(溶離剤:アセトン−シクロヘキサン1−
1)する。26.6gの所望化合物を得た。工程C :[フルオル[4−フェニル−2−チアゾリル]
メチル]ホスホン酸ジエチル 工程Bで製造した2.3gの化合物、30ccのメタノ
ール及び2gのα−ブロムアセトフェノンの混合物を1
時間30分還流する。混合物を冷却し、水−酢酸エチル
(100cc−50cc)混合物中に注ぐ。反応媒体を
中和し、デカンテーションし、酢酸エチルで抽出する。
水洗し、乾燥し、蒸発させた後、3.18gの生成物を
得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩
化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)する。この
ようにして、2.47gの所望化合物を得た。
【0041】製造例6:[フルオル[4−(1−メチル
エチル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチ
ル 1−ブロム−3−メチル−2−ブタノンから出発して、
製造例5の工程Cにおけるように操作を行って、4.1
3gの所望化合物を得た。Rf=0.23(塩化メチレ
ン−テトラヒドロフラン95−5)。
エチル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチ
ル 1−ブロム−3−メチル−2−ブタノンから出発して、
製造例5の工程Cにおけるように操作を行って、4.1
3gの所望化合物を得た。Rf=0.23(塩化メチレ
ン−テトラヒドロフラン95−5)。
【0042】製造例7:[[4−(3,4−ジクロルフ
ェニル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン
酸ジエチル工程A :3' ,4' −ジクロルブロムアセトフェノン 55.85gの臭化第二銅を23.75gの3' ,4'
−ジクロルアセトフェノンと共に125ccのクロロホ
ルム及び125ccの酢酸エチル(微量の臭化水素酸を
含む)中で3時間還流撹拌する。ろ過した後、ろ液を3
0gの活性炭で処理し、再度ろ過し、減圧下に濃縮乾固
し、40ccのエチルエーテルに溶解する。21.3g
の所望化合物を得た。Mp=52℃。これは次の工程に
そのまま使用する。工程B :[[4−(3,4−ジクロルフェニル)−2−
チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 製造例5の工程Aで製造した2.3gの化合物又は
[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキソ)エチ
ル]ホスホン酸ジエチル、30ccのメタノール及び
3.4gのgのジクロル−α−ブロムアセトフェノン
(上記の工程Aで得た)の混合物を2時間45分還流す
る。激しく撹拌し、中和を行い、次いでデカンテーショ
ンし、酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸
発させる。3.64gの粗生成物を得た。これをクロマ
トグラフィーし、塩化メチレン−テトラヒドロフラン
(98−2)混合物で溶離する。2.8gの所望化合物
を得た。Rf=0.3。
ェニル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン
酸ジエチル工程A :3' ,4' −ジクロルブロムアセトフェノン 55.85gの臭化第二銅を23.75gの3' ,4'
−ジクロルアセトフェノンと共に125ccのクロロホ
ルム及び125ccの酢酸エチル(微量の臭化水素酸を
含む)中で3時間還流撹拌する。ろ過した後、ろ液を3
0gの活性炭で処理し、再度ろ過し、減圧下に濃縮乾固
し、40ccのエチルエーテルに溶解する。21.3g
の所望化合物を得た。Mp=52℃。これは次の工程に
そのまま使用する。工程B :[[4−(3,4−ジクロルフェニル)−2−
チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジエチル 製造例5の工程Aで製造した2.3gの化合物又は
[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキソ)エチ
ル]ホスホン酸ジエチル、30ccのメタノール及び
3.4gのgのジクロル−α−ブロムアセトフェノン
(上記の工程Aで得た)の混合物を2時間45分還流す
る。激しく撹拌し、中和を行い、次いでデカンテーショ
ンし、酢酸エチルで抽出し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸
発させる。3.64gの粗生成物を得た。これをクロマ
トグラフィーし、塩化メチレン−テトラヒドロフラン
(98−2)混合物で溶離する。2.8gの所望化合物
を得た。Rf=0.3。
【0043】製造例8:[フルオル[2−(トリフルオ
ルメチル)−4−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエ
チル 出発時に適当なアルデヒドを使用して製造例2の工程B
及びCに記載のように操作を行う。所期化合物を得た。
Rf=0.2(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98
−2)。
ルメチル)−4−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエ
チル 出発時に適当なアルデヒドを使用して製造例2の工程B
及びCに記載のように操作を行う。所期化合物を得た。
Rf=0.2(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98
−2)。
【0044】製造例9:[[4−[(1,1' −ビフェ
ニル)−4−イル]−2−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル 3.4gの製造例5の化合物、45ccのメタノール及
び4.1gの1−[(1,1' −ビフェニル)−4−イ
ル]−2−ブロムエタノンの混合物を7時間還流させ
る。冷却した後、全体を水−酢酸エチル(200cc−
100cc)混合物中に注ぐ。反応媒体を中和し、デカ
ンテーションし、酢酸エチルで抽出する。水洗し、乾燥
し、蒸発させた後、6.1gの粗生成物を得た。これを
ペンタンから再結晶し、5gの所期化合物を回収した。
Mp=91.2℃。
ニル)−4−イル]−2−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル 3.4gの製造例5の化合物、45ccのメタノール及
び4.1gの1−[(1,1' −ビフェニル)−4−イ
ル]−2−ブロムエタノンの混合物を7時間還流させ
る。冷却した後、全体を水−酢酸エチル(200cc−
100cc)混合物中に注ぐ。反応媒体を中和し、デカ
ンテーションし、酢酸エチルで抽出する。水洗し、乾燥
し、蒸発させた後、6.1gの粗生成物を得た。これを
ペンタンから再結晶し、5gの所期化合物を回収した。
Mp=91.2℃。
【0045】製造例10:[[4−(4−クロルフェニ
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 出発時に3.44gの工程Bで製造したホスホン酸エス
テル及び3.5gの2−ブロム−4' −クロルアセトフ
ェノンを使用して、製造例5の工程Cにおけるように操
作を行う。2.83gの所期化合物を得た。Rf=0.
17(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)。
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 出発時に3.44gの工程Bで製造したホスホン酸エス
テル及び3.5gの2−ブロム−4' −クロルアセトフ
ェノンを使用して、製造例5の工程Cにおけるように操
作を行う。2.83gの所期化合物を得た。Rf=0.
17(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)。
【0046】製造例11:[[4−(4−ブロムフェニ
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 出発時に3.44gの工程Bで製造したホスホン酸エス
テル及び4.17gの2−ブロム−4' −ブロムアセト
フェノンを使用して、製造例5の工程Cにおけるように
操作を行う。4.6gの所期化合物を得た。Rf=0.
22(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)。
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 出発時に3.44gの工程Bで製造したホスホン酸エス
テル及び4.17gの2−ブロム−4' −ブロムアセト
フェノンを使用して、製造例5の工程Cにおけるように
操作を行う。4.6gの所期化合物を得た。Rf=0.
22(塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−2)。
【0047】製造例12:[フルオル[4−(トリフル
オルメチル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジ
エチル 製造例5の工程Bで得た6.9gの化合物と5.8gの
1−ブロム−3,3,3−トリフルオルアセトフェノン
を混合する。混合物を20ccの塩化メチレンで希釈
し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させ、残留物をシリカ
でクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−テトラ
ヒドロフラン98−2)し、2.2gの所期化合物を得
た。Rf=0.05(ヘキサン−酢酸エチル7−3)。
オルメチル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジ
エチル 製造例5の工程Bで得た6.9gの化合物と5.8gの
1−ブロム−3,3,3−トリフルオルアセトフェノン
を混合する。混合物を20ccの塩化メチレンで希釈
し、水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させ、残留物をシリカ
でクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−テトラ
ヒドロフラン98−2)し、2.2gの所期化合物を得
た。Rf=0.05(ヘキサン−酢酸エチル7−3)。
【0048】製造例13:[2' −エチル(2,4' −
ビチアゾール)−4−イル]フルオルメチルホスホン酸
ジエチル 出発時に適当なアルデヒドを使用して、製造例2の工程
B及びCにおけるように操作を行う。所期化合物を得
た。Rf=0.05(ヘキサン−酢酸エチル7−3)。
ビチアゾール)−4−イル]フルオルメチルホスホン酸
ジエチル 出発時に適当なアルデヒドを使用して、製造例2の工程
B及びCにおけるように操作を行う。所期化合物を得
た。Rf=0.05(ヘキサン−酢酸エチル7−3)。
【0049】製造例14:[フルオル[2−(2−ピリ
ジニル)−4−アゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル 出発時に適当なアルデヒドを使用して、製造例2の工程
B及びCにおけるように操作を行う。所期化合物を得
た。Rf=0.47(塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン85−15)。
ジニル)−4−アゾリル]メチル]ホスホン酸ジエチル 出発時に適当なアルデヒドを使用して、製造例2の工程
B及びCにおけるように操作を行う。所期化合物を得
た。Rf=0.47(塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン85−15)。
【0050】製造例15:[フルオル[3−[4−(ト
リフルオルメトキシ)フェニル]−1,2,4−オキサ
ジアゾール−5−イル]メチル]ホスホン酸ジエチル工程A :N−ヒドロキシ−4−(トリフルオルメトキ
シ)ベンゼンカルボキシミドアミン 2.05gのヒドロキシルアミン塩酸塩を30ccのメ
タノールに溶解してなる溶液に3.8ccのトリエチル
アミンを5分間で添加し、周囲温度で30分間撹拌す
る。次いで5gの4−トリフルオルメトキシベンゾニト
リルを10ccのメタノールに溶解してなる溶液を添加
し、50分間加熱還流する。冷却した後、溶媒を蒸発さ
せ、残留物を塩化メチレンで溶解し、水洗し、乾燥し、
溶媒を減圧下に除去する。5gの所期化合物を得た。M
p=111℃。工程B :[フルオル[3−[4−(トリフルオルメトキ
シ)フェニル]−1,2,4−オキサジアゾール−5−
イル]メチル]ホスホン酸ジエチル 4.93gの工程Aで製造したオキシムと4.8gの
(ジエトキシホスホリル)フルオル酢酸を90ccの塩
化メチレン中で周囲温度で混合する。5.8gのジシク
ロヘキシルカルボジイミドと140mgのジメチルアミ
ノピリジンを20ccの塩化メチレンに溶解したもの滴
下する。生成した尿素をろ過し、溶媒を蒸発させ、1
1.45gの化合物を得た。これに30ccのトルエン
を添加し、全体を1時間還流する。冷却後、溶媒を蒸発
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
ヘキサン−テトラヒドロフラン7−3)し、6.45g
の所期のホスホン酸エステルを得た。
リフルオルメトキシ)フェニル]−1,2,4−オキサ
ジアゾール−5−イル]メチル]ホスホン酸ジエチル工程A :N−ヒドロキシ−4−(トリフルオルメトキ
シ)ベンゼンカルボキシミドアミン 2.05gのヒドロキシルアミン塩酸塩を30ccのメ
タノールに溶解してなる溶液に3.8ccのトリエチル
アミンを5分間で添加し、周囲温度で30分間撹拌す
る。次いで5gの4−トリフルオルメトキシベンゾニト
リルを10ccのメタノールに溶解してなる溶液を添加
し、50分間加熱還流する。冷却した後、溶媒を蒸発さ
せ、残留物を塩化メチレンで溶解し、水洗し、乾燥し、
溶媒を減圧下に除去する。5gの所期化合物を得た。M
p=111℃。工程B :[フルオル[3−[4−(トリフルオルメトキ
シ)フェニル]−1,2,4−オキサジアゾール−5−
イル]メチル]ホスホン酸ジエチル 4.93gの工程Aで製造したオキシムと4.8gの
(ジエトキシホスホリル)フルオル酢酸を90ccの塩
化メチレン中で周囲温度で混合する。5.8gのジシク
ロヘキシルカルボジイミドと140mgのジメチルアミ
ノピリジンを20ccの塩化メチレンに溶解したもの滴
下する。生成した尿素をろ過し、溶媒を蒸発させ、1
1.45gの化合物を得た。これに30ccのトルエン
を添加し、全体を1時間還流する。冷却後、溶媒を蒸発
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
ヘキサン−テトラヒドロフラン7−3)し、6.45g
の所期のホスホン酸エステルを得た。
【0051】製造例16:[フルオル[3−(トリフル
オルメチル)フェニル]メチル]ホスホン酸ジエチル 3−トリフルオルメチルベンズアルデヒドから出発し
て、製造例2の工程B及びCにおけるように操作を行
う。Rf=0.17(塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン98−2)。
オルメチル)フェニル]メチル]ホスホン酸ジエチル 3−トリフルオルメチルベンズアルデヒドから出発し
て、製造例2の工程B及びCにおけるように操作を行
う。Rf=0.17(塩化メチレン−テトラヒドロフラ
ン98−2)。
【0052】製造例17:[フルオル[4−(4−ニト
ロフェニル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジ
エチル 5.5gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル及び4.93gの2−
ブロム−3' −ニトロアセトフェノンから出発して、製
造例9におけるように操作を行う。9.46gの粗生成
物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:塩化メチレン−イソプロピルエーテル85−15)
し、4.22gの所期化合物を得た。Mp=100℃。
ロフェニル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジ
エチル 5.5gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル及び4.93gの2−
ブロム−3' −ニトロアセトフェノンから出発して、製
造例9におけるように操作を行う。9.46gの粗生成
物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー(溶離
剤:塩化メチレン−イソプロピルエーテル85−15)
し、4.22gの所期化合物を得た。Mp=100℃。
【0053】製造例18:[フルオル[4−(フルオル
フェニル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエ
チル 36.6gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオ
キソ)エチル]ホスホン酸ジエチル及び31.8gの2
−ブロム−4' −フルオルアセトフェノンから出発し
て、製造例9におけるように操作を行う。56.8gの
粗生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤:塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−
2)し、28.58gの所期化合物を得た。Mp=10
0℃。
フェニル)−2−チアゾリル]メチル]ホスホン酸ジエ
チル 36.6gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオ
キソ)エチル]ホスホン酸ジエチル及び31.8gの2
−ブロム−4' −フルオルアセトフェノンから出発し
て、製造例9におけるように操作を行う。56.8gの
粗生成物を得た。これをシリカでクロマトグラフィー
(溶離剤:塩化メチレン−テトラヒドロフラン98−
2)し、28.58gの所期化合物を得た。Mp=10
0℃。
【0054】製造例19:[[5−ブロム−4−(4−
フルオルフェニル)−2−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル工程A :[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル 57.9gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−オキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチルを500ccのテトラ
ヒドロフランに溶解してなる溶液に16gの五硫化燐を
添加し、次いで周囲温度で5時間撹拌する。ろ過した
後、溶媒を蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤:クロロホルム−アセトン−シクロヘキサ
ン1−1−1)し、26.6gの所期化合物を得た。M
p=52.6℃。工程B :[4−(4−フルオルフェニル)−2−チアゾ
リル]フルオルメチルホスホン酸ジエチル 33.6gの工程Aで得たホスホン酸エステル、500
ccのエタノール及び31.8gの2−ブロム−4' −
フルオルアセトフェノンを30分間加熱還流する。周囲
温度に冷却した後、反応混合物を500ccの水中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。溶媒を蒸発させ、残留物を
シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−
テトラヒドロフラン98−2)し、28.58gの所期
化合物を回収した。工程C :[[5−ブロム−4−(4−フルオルフェニ
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 工程Bで得た21.7gのホスホン酸エステル、250
ccのアセトニトリル及び14.5gのN−ブロムスク
シンイミドを1時間加熱還流する。冷却した後、溶媒を
蒸発させ、シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化
メチレン−テトラヒドロフラン98−2)し、24gの
所期化合物を回収した。
フルオルフェニル)−2−チアゾリル]フルオルメチ
ル]ホスホン酸ジエチル工程A :[(2−アミノ−1−フルオル−2−チオキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチル 57.9gの[(2−アミノ−1−フルオル−2−オキ
ソ)エチル]ホスホン酸ジエチルを500ccのテトラ
ヒドロフランに溶解してなる溶液に16gの五硫化燐を
添加し、次いで周囲温度で5時間撹拌する。ろ過した
後、溶媒を蒸発させ、残留物をシリカでクロマトグラフ
ィー(溶離剤:クロロホルム−アセトン−シクロヘキサ
ン1−1−1)し、26.6gの所期化合物を得た。M
p=52.6℃。工程B :[4−(4−フルオルフェニル)−2−チアゾ
リル]フルオルメチルホスホン酸ジエチル 33.6gの工程Aで得たホスホン酸エステル、500
ccのエタノール及び31.8gの2−ブロム−4' −
フルオルアセトフェノンを30分間加熱還流する。周囲
温度に冷却した後、反応混合物を500ccの水中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出する。溶媒を蒸発させ、残留物を
シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化メチレン−
テトラヒドロフラン98−2)し、28.58gの所期
化合物を回収した。工程C :[[5−ブロム−4−(4−フルオルフェニ
ル)−2−チアゾリル]フルオルメチル]ホスホン酸ジ
エチル 工程Bで得た21.7gのホスホン酸エステル、250
ccのアセトニトリル及び14.5gのN−ブロムスク
シンイミドを1時間加熱還流する。冷却した後、溶媒を
蒸発させ、シリカでクロマトグラフィー(溶離剤:塩化
メチレン−テトラヒドロフラン98−2)し、24gの
所期化合物を回収した。
【0055】製造例20:[3−(トリフルオルメチ
ル)フェニル−クロルメチル]ホスホン酸ジエチル 3−トリフルオルメチルベンズアルデヒドから出発して
製造例2の工程Bにおけるようにして操作を行い、[3
−(トリフルオルメチル)フェニル−ヒドロキシメチ
ル]ホスホン酸ジエチルを得た。6.26gのこのホス
ホン酸エステルを60ccの塩化メチレンに溶解してな
る溶液に1.6ccのピリジン、次いで1.6ccの塩
化チオニルを20分間で添加し、周囲温度で1時間撹拌
し、次いで40℃に28時間加熱し、20〜25℃に冷
却し、重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水洗
し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。6.4gの粗生成物を
回収し、これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
ヘキサン−酢酸エチル5−5)することにより精製す
る。5.15gの所期化合物を得た。
ル)フェニル−クロルメチル]ホスホン酸ジエチル 3−トリフルオルメチルベンズアルデヒドから出発して
製造例2の工程Bにおけるようにして操作を行い、[3
−(トリフルオルメチル)フェニル−ヒドロキシメチ
ル]ホスホン酸ジエチルを得た。6.26gのこのホス
ホン酸エステルを60ccの塩化メチレンに溶解してな
る溶液に1.6ccのピリジン、次いで1.6ccの塩
化チオニルを20分間で添加し、周囲温度で1時間撹拌
し、次いで40℃に28時間加熱し、20〜25℃に冷
却し、重炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、次いで水洗
し、乾燥し、溶媒を蒸発させる。6.4gの粗生成物を
回収し、これをシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:
ヘキサン−酢酸エチル5−5)することにより精製す
る。5.15gの所期化合物を得た。
【0056】製造例21:[3−(トリフルオルメチ
ル)フェニル−ブロムメチル]ホスホン酸ジエチル 6.26gの[3−(トリフルオルメチル)フェニル−
ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチルを60ccの塩
化メチレンに溶解してなる溶液を0〜+5℃に冷却し、
9.95gの四臭化炭素を10分間で添加し、温度を+
7〜10℃に上昇させ、7.9gのトリフェニルホスフ
ィンを添加し、温度を周囲温度に戻し、48時間撹拌す
る。ろ過した後、ろ液を重炭酸ナトリウム飽和水溶液中
に注ぎ、20分間撹拌し、次いで塩化メチレンで抽出す
る。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させ、18g
の粗生成物を回収し、これをヘキサン−酢酸エチル(5
−5)混合物で溶解し、ろ過し、溶媒を再度蒸発させ、
残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサ
ン−酢酸エチル5−5)し、5.55グラムの所期化合
物を集めた。
ル)フェニル−ブロムメチル]ホスホン酸ジエチル 6.26gの[3−(トリフルオルメチル)フェニル−
ヒドロキシメチル]ホスホン酸ジエチルを60ccの塩
化メチレンに溶解してなる溶液を0〜+5℃に冷却し、
9.95gの四臭化炭素を10分間で添加し、温度を+
7〜10℃に上昇させ、7.9gのトリフェニルホスフ
ィンを添加し、温度を周囲温度に戻し、48時間撹拌す
る。ろ過した後、ろ液を重炭酸ナトリウム飽和水溶液中
に注ぎ、20分間撹拌し、次いで塩化メチレンで抽出す
る。有機相を水洗し、乾燥し、溶媒を蒸発させ、18g
の粗生成物を回収し、これをヘキサン−酢酸エチル(5
−5)混合物で溶解し、ろ過し、溶媒を再度蒸発させ、
残留物をシリカでクロマトグラフィー(溶離剤:ヘキサ
ン−酢酸エチル5−5)し、5.55グラムの所期化合
物を集めた。
【0057】殺虫剤組成物の例 例31 :可溶性濃厚液の製造 下記の成分の均質混合物を製造する。 ・例1の化合物(Z,E)異性体 0.25g ・ツイーン80 0.25g ・トパノールA 0.1g ・水 98.4g例32 :乳化性濃厚液の製造 下記の成分を緊密に混合する。 ・例7の化合物(Z,E)異性体 0.015g ・トパノールA 0.1g ・ツイーン80 3.5g ・キシレン 95.885g
【0058】本発明の化合物の活性の研究 (a)アフィス・クラシボラ(Aphis craccivora)に対
する活性の研究 豆の木の葉を活性成分の含水アセトン溶液(50%アセ
トン、50%水)中に浸漬して豆の木を処理し、次いで
換気フードの下に乾燥する。次いで幼虫をたからせる。
葉1枚に付き20匹の成虫のアフィス・クラシボラの雌
を使用し、照明付天井の下に置く。48時間後に死亡率
の検査を行う。結果は、10ppmの薬量で、例2、
3、4、7、8、10、11、12、14、16、1
7、18、20、21、22、24、25、26及び3
0の化合物が≧75%の有効性を示した。 (b)スポドプテラ・リトラリス(Spodoptera littora
lis )に対する接触摂取による効果の研究 スポドプテラ・リトラリスのL3段階の幼虫を使用す
る。操作は22℃で50%相対湿度において行う。湿っ
た円形のろ紙を入れたぺトリ皿を使用し、被検化合物を
含有する含水アセトン溶液(50−50)で処理した2
枚の豆の葉を各皿に入れる。7日後に死んだ幼虫の数を
数える。結果は、10ppmの薬量で、例2、4、7、
8、9、10、11、15、16、17、18、20、
25、26及び30の化合物が≧75%の有効性を有し
た。 (c)ファエドン・コクレアリアエ(Phaedon cochlear
iae )に対する効果の研究 操作は22℃で50%相対湿度において行う。湿った円
形のろ紙を入れたぺトリ皿を使用し、被検化合物を含有
する含水アセトン溶液(50−50)で処理した2枚の
キャベツの葉の円形試料を各皿に入れる。1週間後に死
んだ虫の数を数える。結果は、10ppmの薬量で、例
10、18、25及び26の化合物が≧75%の有効性
を有した。 (d)テトラニチュース・ウルチカエ(Tetranycyus ur
ticae )に対する効果の研究 2枚の葉を有するインゲンマメの若木を使用し、1枚の
葉に付き30匹のテトラニチュース・ウルチカエの雌を
たからせ、一定の照明付天井の下に換気フォードの下に
置く。植物をフィッシャーガンを使用して1本当たり4
mlの水とアセトンとの当容積混合物の毒溶液により処
理する。葉を30分間乾燥させ、次いでダニを蔓延させ
る。3日後に死亡率の検査を行う。結果は、10ppm
の薬量で、例1、2、3、4、6、8、10、11、1
2、13、15、16、18、20、22、25、26
及び30の化合物が≧75%の有効性を有した。
する活性の研究 豆の木の葉を活性成分の含水アセトン溶液(50%アセ
トン、50%水)中に浸漬して豆の木を処理し、次いで
換気フードの下に乾燥する。次いで幼虫をたからせる。
葉1枚に付き20匹の成虫のアフィス・クラシボラの雌
を使用し、照明付天井の下に置く。48時間後に死亡率
の検査を行う。結果は、10ppmの薬量で、例2、
3、4、7、8、10、11、12、14、16、1
7、18、20、21、22、24、25、26及び3
0の化合物が≧75%の有効性を示した。 (b)スポドプテラ・リトラリス(Spodoptera littora
lis )に対する接触摂取による効果の研究 スポドプテラ・リトラリスのL3段階の幼虫を使用す
る。操作は22℃で50%相対湿度において行う。湿っ
た円形のろ紙を入れたぺトリ皿を使用し、被検化合物を
含有する含水アセトン溶液(50−50)で処理した2
枚の豆の葉を各皿に入れる。7日後に死んだ幼虫の数を
数える。結果は、10ppmの薬量で、例2、4、7、
8、9、10、11、15、16、17、18、20、
25、26及び30の化合物が≧75%の有効性を有し
た。 (c)ファエドン・コクレアリアエ(Phaedon cochlear
iae )に対する効果の研究 操作は22℃で50%相対湿度において行う。湿った円
形のろ紙を入れたぺトリ皿を使用し、被検化合物を含有
する含水アセトン溶液(50−50)で処理した2枚の
キャベツの葉の円形試料を各皿に入れる。1週間後に死
んだ虫の数を数える。結果は、10ppmの薬量で、例
10、18、25及び26の化合物が≧75%の有効性
を有した。 (d)テトラニチュース・ウルチカエ(Tetranycyus ur
ticae )に対する効果の研究 2枚の葉を有するインゲンマメの若木を使用し、1枚の
葉に付き30匹のテトラニチュース・ウルチカエの雌を
たからせ、一定の照明付天井の下に換気フォードの下に
置く。植物をフィッシャーガンを使用して1本当たり4
mlの水とアセトンとの当容積混合物の毒溶液により処
理する。葉を30分間乾燥させ、次いでダニを蔓延させ
る。3日後に死亡率の検査を行う。結果は、10ppm
の薬量で、例1、2、3、4、6、8、10、11、1
2、13、15、16、18、20、22、25、26
及び30の化合物が≧75%の有効性を有した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300 (72)発明者 ヤニク・ル・スタン フランス国ポントゥ・コンボー、リュ・オ シュ2 (72)発明者 ニコル・レイニエ フランス国マルセイユ、シュマン・ジュ・ バロン・デ・トゥルーズ30
Claims (20)
- 【請求項1】 全ての可能な立体異性体の形態又はこれ
らの異性体の混合物の形態にある次式(I) 【化1】 [ここで、 Xはハロゲン原子を表わし、 R2 及びR3 は、同一であっても異なっていてもよく、
8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状の
アルキル基(これらは1個以上のハロゲン原子により置
換されていてもよい)を表わし、 R1 は12個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又
は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これ
らは1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよ
い)を表わし、或いはR1 は5又は6員のアリール又は
ヘテロアリール基{これらは下記の基 ・ハロゲン原子、 ・8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環状
のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらはそ
れ自体1個以上のハロゲン原子により置換されていても
よい)、 ・次の基:NO2 、NH2 、CN、OR' 、SR" 、S
OR" 、SO2 R" 及びNR"'2 (R' 、R" 及びR"'
は12個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐鎖又は環
状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基(これらは
1個以上のハロゲン原子により置換されていてもよ
い))、 ・Ar、OAr1 及びSAr2 基(ここで、Ar、Ar
1 及びAr2 基は14個までの炭素原子を含有するアリ
ール又はヘテロアリール基を表わし、そしてこれらはハ
ロゲン原子、8個までの炭素原子を含有する直鎖、分岐
鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はアルキニル基
(これらはそれ自体1個以上のハロゲン原子により置換
されていてもよい)、次の基:NO2 、NH2 、CN、
OR' 、SR" 、SOR" 、SO2 R" 及びNR"'2
(R' 、R" 及びR"'は12個までの炭素原子を含有す
る直鎖、分岐鎖又は環状のアルキル、アルケニル又はア
ルキニル基(これらは1個以上のハロゲン原子により置
換されていてもよい))より成る群から選択される1個
以上の置換基により置換されていてもよい)より成る群
から選択される1個以上の置換基により置換されていて
もよい}を表わす]の化合物。 - 【請求項2】 二重結合Δ2 がE配置である請求項1記
載の式(I)の化合物。 - 【請求項3】 R2 がメチル基を表わす請求項1又は2
記載の式(I)の化合物。 - 【請求項4】 R3 がメチル基を表わす請求項1〜3の
いずれかに記載の式(I)の化合物。 - 【請求項5】 Xが弗素原子を表わす請求項1〜4のい
ずれかに記載の式(I)の化合物。 - 【請求項6】 R1 がフェニル基(ハロゲン原子又はC
F3 基より成る群から選択される1個以上の基により置
換されていてもよい)を表わす請求項1〜5のいずれか
に記載の式(I)の化合物。 - 【請求項7】 R1 が請求項1に記載の基の1個以上に
より置換されていてもよいチアゾリル基を表わす請求項
1〜5のいずれかに記載の式(I)の化合物。 - 【請求項8】 R1 がハロゲン原子及びフェニル基(ハ
ロゲン原子又はCF 3 及びOCF3 基より成る群から選
択される1個以上の基により置換されていてもよい)よ
り成る群から選択される1個以上の基により置換された
チアゾリル基である請求項7記載の式(I)の化合物。 - 【請求項9】 R1 がオキサジアゾリル基(請求項1記
載の基の1個以上により置換されていてもよい)を表わ
す請求項1〜5のいずれかに記載の式(I)の化合物。 - 【請求項10】 R1 がフェニル基(ハロゲン原子又は
CF3 及びOCF3基より成る群から選択される1個以
上の基により置換されていてもよい)により置換された
オキサジアゾリル基である請求項9記載の式(I)の化
合物。 - 【請求項11】 化合物名が下記の通りの請求項1記載
の式(I)の化合物。 ・(E,E)2−[2−[4−(3,4−ジクロルフェ
ニル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−
α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−フルオル−2−(4−フェニル
−2−チアゾリル)エテニル]−α−(メトキシメチレ
ン)ベンゼン酢酸メチル ・(E,E)2−[2−[4−ブロム−3−(トリフル
オルメチル)フェニル]−2−フルオルエテニル]−α
−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(E,Z)2−[2−[4−ブロム−3−(トリフル
オルメチル)フェニル]−2−フルオルエテニル]−α
−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−[4−(3,4−ジクロルフェ
ニル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−
α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−フルオル−2−[4−チアゾリ
ル−2−(4−トリフルオルメトキシ)フェニル]エテ
ニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−[4−(4−フルオルフェニ
ル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテニル]−α
−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−[5−ブロム−4−(3,4−
ジクロルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フルオル
エテニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メ
チル ・(Z,E)2−[2−[5−ブロム−4−(4−フル
オルフェニル)−2−チアゾリル]−2−フルオルエテ
ニル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−フルオル−2−[3−[4−
(トリフルオルメトキシ)フェニル]−1,2,4−オ
キサジアゾール−5−イル]エテニル]−α−(メトキ
シメチレン)ベンゼン酢酸メチル ・(Z,E)2−[2−フルオル−2−[3−フェニル
−1,2,4−オキサジアゾール−5−イル]エテニ
ル]−α−(メトキシメチレン)ベンゼン酢酸メチル - 【請求項12】 請求項1〜9のいずれかに記載の式
(I)の化合物を製造するにあたり、次式(II) 【化2】 (ここで、R1 及びXは前記の意味を有し、alk1 及
びalk2 は8個までの炭素原子を含有するアルキル基
を表わす)の化合物に塩基性試薬の存在下に次式(III) 【化3】 (ここで、R2 及びR3 は前記の意味を有する)の化合
物を作用させて相当する式(I)の化合物を得、所望な
らばこの化合物をその異性体のそれぞれに分離し、適当
ならば異性体の一つを他の異性体に転化することを特徴
とする式(I)の化合物の製造法。 - 【請求項13】 弗素化された二重結合の異性化を光照
射下に触媒量の臭素により行うことを特徴とする請求項
12記載の製造法。 - 【請求項14】 新規化合物としての請求項13記載の
式(II)の化合物。 - 【請求項15】 新規化合物としての請求項13記載の
式(III) の化合物。 - 【請求項16】 請求項1〜10のいずれかに記載の式
(I)の化合物の少なくとも1種を活性成分として含有
する有害生物駆除剤組成物。 - 【請求項17】 請求項11記載の化合物の少なくとも
1種を活性成分として含有する有害生物駆除剤組成物。 - 【請求項18】 請求項1〜11のいずれかに記載の化
合物の少なくとも1種を活性成分として含有する殺虫剤
組成物。 - 【請求項19】 請求項1〜11のいずれかに記載の化
合物の少なくとも1種を活性成分として含有する殺だに
剤組成物。 - 【請求項20】 請求項1〜11のいずれかに記載の化
合物の少なくとも1種を活性成分として含有する殺線虫
剤組成物。
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-
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