JPH0643259B2 - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents
反射防止膜の形成方法Info
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- JPH0643259B2 JPH0643259B2 JP62002376A JP237687A JPH0643259B2 JP H0643259 B2 JPH0643259 B2 JP H0643259B2 JP 62002376 A JP62002376 A JP 62002376A JP 237687 A JP237687 A JP 237687A JP H0643259 B2 JPH0643259 B2 JP H0643259B2
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- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
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- C03C2218/00—Methods for coating glass
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ガラス物品をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
従来の技術 近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法
（特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されてい
る。
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法
（特公昭５４−３８１２６号公報）が有望視されてい
る。
また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し反射防止膜を形成す
ることは一般技術として知られている。
発明が解決しようとする問題点 上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。例えば、高精度カメラ
レンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アス１
本以内、面粗さは０．０２μｍ以下であることが要求さ
れる。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型
化・軽量化することが望まれており、従来の研磨法では
コンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造することは
極めて困難である。そこで、高精度な光学ガラス素子を
製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目されて
いる。ダイレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光
学ガラス素子を製造するのにリヒートプレス法が適して
いる。リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近
い面形状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を
金型で加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラ
ス素子を取り出す方法である。このリヒートプレス法で
は、ガラス素材の形状、重量、面品質が重要であり、こ
れらが成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及
ぼす。ガラス素材の製造方法としては、ガラス素材をカ
ーブジェネレータにより研削加工し、さらに研磨加工し
て表面を円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良
好な面粗度に仕上げることができるが、曲率半径の小さ
なガラス素材を量産性よく加工することが困難でありコ
スト高になる。また、ガラス素材をカーブジェネレータ
によって研削加工したままのガラス物品をプレス成形し
た場合、ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残る
ために、光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能が
低下する。そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸を
除去するため、エッチング処理として前記ガラス物品を
フッ化水素酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程
と、水分を除去する工程とからなる過程をくり返すこと
を行なっている。しかしながら、前記工程による処理を
行なったガラス物品をダイレクトプレスして製造した光
学ガラス素子上に反射防止膜を真空蒸着法によって形成
すると、反射防止膜が光学ガラス素子から剥離しやすい
という問題点があった。
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。例えば、高精度カメラ
レンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アス１
本以内、面粗さは０．０２μｍ以下であることが要求さ
れる。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小型
化・軽量化することが望まれており、従来の研磨法では
コンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造することは
極めて困難である。そこで、高精度な光学ガラス素子を
製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目されて
いる。ダイレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光
学ガラス素子を製造するのにリヒートプレス法が適して
いる。リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近
い面形状を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を
金型で加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラ
ス素子を取り出す方法である。このリヒートプレス法で
は、ガラス素材の形状、重量、面品質が重要であり、こ
れらが成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及
ぼす。ガラス素材の製造方法としては、ガラス素材をカ
ーブジェネレータにより研削加工し、さらに研磨加工し
て表面を円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良
好な面粗度に仕上げることができるが、曲率半径の小さ
なガラス素材を量産性よく加工することが困難でありコ
スト高になる。また、ガラス素材をカーブジェネレータ
によって研削加工したままのガラス物品をプレス成形し
た場合、ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残る
ために、光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能が
低下する。そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸を
除去するため、エッチング処理として前記ガラス物品を
フッ化水素酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程
と、水分を除去する工程とからなる過程をくり返すこと
を行なっている。しかしながら、前記工程による処理を
行なったガラス物品をダイレクトプレスして製造した光
学ガラス素子上に反射防止膜を真空蒸着法によって形成
すると、反射防止膜が光学ガラス素子から剥離しやすい
という問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み、前記エッチング処理を行な
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜
の形成方法を提供するものである。
ったガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス
素子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜
の形成方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 本発明は前記問題点を解決するために、光学ガラス素子
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子を真空槽内で不活性ガスイオンを照射
することによるクリーニング処理を行なった後、前記光
学ガラス素子上に誘電体物質を積層させることを特徴と
する反射防止膜の形成方法を提供するものである。
上に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する際に前
記光学ガラス素子を真空槽内で不活性ガスイオンを照射
することによるクリーニング処理を行なった後、前記光
学ガラス素子上に誘電体物質を積層させることを特徴と
する反射防止膜の形成方法を提供するものである。
作用 前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状、
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性に大きな影響を及ぼす。
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状、
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性に大きな影響を及ぼす。
そこで、ガラス物品の面粗度をよくするためにエッチン
グ処理が行なわれる。
グ処理が行なわれる。
本発明は、あらかじめエッチング処理を行なったガラス
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を、真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射することによる
クリーニング処理を行なった後、誘電体物質を積層し反
射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その結
果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得ること
ができる。
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を、真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射することによる
クリーニング処理を行なった後、誘電体物質を積層し反
射防止膜を形成する方法を提供するものであり、その結
果、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を得ること
ができる。
実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
図は反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概略図で
ある。図において、１０は真空槽、１１はプレス成形後
の光学ガラス素子、１２は基板支持ドーム、１３はイオ
ンビーム、１４は抵抗加熱ボード、１５はイオンビー
ム、１６は蒸着材料、１７はガス排気口である。
ある。図において、１０は真空槽、１１はプレス成形後
の光学ガラス素子、１２は基板支持ドーム、１３はイオ
ンビーム、１４は抵抗加熱ボード、１５はイオンビー
ム、１６は蒸着材料、１７はガス排気口である。
実施例に使用したガラスは、鉛ガラスＳＦ−８であり、
ガラス素材を曲率半径３．５mmおよび２．９mm、コバ径
が６．３mm、中心肉厚が８mmの両凸形状に研削処理し
た。このガラス素材を液温４０℃の１０％フッ化水素酸
に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗浄し、さらに
２００℃に保った乾燥機で１５分間乾燥した。このよう
な浸漬工程をくり返して得たガラス物品を、一方が１５
mm、他方が２８mmの曲率半径を有した一対の鏡面加工し
た金型を用いて前記成形ガラス素材をプレス成形した。
成形条件としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０kg
／cm2、成形時間２分間であった。前記プレス成形後の
光学ガラス素子に真空蒸着法によってフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ2）を蒸着した。
ガラス素材を曲率半径３．５mmおよび２．９mm、コバ径
が６．３mm、中心肉厚が８mmの両凸形状に研削処理し
た。このガラス素材を液温４０℃の１０％フッ化水素酸
に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３分間洗浄し、さらに
２００℃に保った乾燥機で１５分間乾燥した。このよう
な浸漬工程をくり返して得たガラス物品を、一方が１５
mm、他方が２８mmの曲率半径を有した一対の鏡面加工し
た金型を用いて前記成形ガラス素材をプレス成形した。
成形条件としては、金型温度５２０℃、成形圧力１０kg
／cm2、成形時間２分間であった。前記プレス成形後の
光学ガラス素子に真空蒸着法によってフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ2）を蒸着した。
まず、真空槽１０内を１×１０-5Torrまで排気し、基板
支持ドーム１２上の光学ガラス素子１１の温度を約３０
０℃に加熱した。そしてイオンビームガン１３内に真空
槽内が４×１０-5Torr程度になるようにアルゴン（Ａ
ｒ）ガスを導入し、イオンビームガンの電極に１kVの電
圧を加えイオンビーム１５を発生させた。
支持ドーム１２上の光学ガラス素子１１の温度を約３０
０℃に加熱した。そしてイオンビームガン１３内に真空
槽内が４×１０-5Torr程度になるようにアルゴン（Ａ
ｒ）ガスを導入し、イオンビームガンの電極に１kVの電
圧を加えイオンビーム１５を発生させた。
光学ガラス素子にイオンビームを１分間照射しクリーニ
ング処理を行なった。その後アルゴン（Ａｒ）ガスの導
入をやめ、真空槽内を２×１０-5Torr以下に排気した後
フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を蒸着材料１６とし、
抵抗加熱ボート１４でもって抵抗加熱法で光学的膜厚λ
／４（λ＝７８０nm）の厚さに形成した。
ング処理を行なった。その後アルゴン（Ａｒ）ガスの導
入をやめ、真空槽内を２×１０-5Torr以下に排気した後
フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を蒸着材料１６とし、
抵抗加熱ボート１４でもって抵抗加熱法で光学的膜厚λ
／４（λ＝７８０nm）の厚さに形成した。
比較例 上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、イオンビーム
によるクリーニング処理を行なわずにフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ2）を蒸着した従来の光学ガラス素子との反
射防止膜の密着性、耐久性を比較するためにセロテープ
剥離試験（温度８０℃、相対湿度８５％の高温・高湿雰
囲気中に３００時間放置した後、セロテープを光学ガラ
ス素子表面に密着させ引きはがす）を行なったところ、
従来例のものは剥離が発生したが本発明によるものは全
く異状がなく、本発明によるものが優れているのは明ら
かであった。
によるクリーニング処理を行なわずにフッ化マグネシウ
ム（ＭｇＦ2）を蒸着した従来の光学ガラス素子との反
射防止膜の密着性、耐久性を比較するためにセロテープ
剥離試験（温度８０℃、相対湿度８５％の高温・高湿雰
囲気中に３００時間放置した後、セロテープを光学ガラ
ス素子表面に密着させ引きはがす）を行なったところ、
従来例のものは剥離が発生したが本発明によるものは全
く異状がなく、本発明によるものが優れているのは明ら
かであった。
発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、あらかじめエッチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射することによる
クリーニング処理を行なった後、反射防止膜を形成する
ものであり、密着性、耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができ、その実用上の価値は大なるものがある。
形成方法は、あらかじめエッチング処理を行なったガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子を真
空槽内で不活性ガスイオンビームを照射することによる
クリーニング処理を行なった後、反射防止膜を形成する
ものであり、密着性、耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができ、その実用上の価値は大なるものがある。
図は本発明の一実施例の反射防止膜の形成に用いた真空
蒸着装置の概略図である。 １０……真空槽、１１……光学ガラス素子、１２……基
板支持ドーム、１３……イオンビームガン、１４……抵
抗加熱ボート、１５……イオンビーム、１６……蒸着材
料、１７……ガス排気口。
蒸着装置の概略図である。 １０……真空槽、１１……光学ガラス素子、１２……基
板支持ドーム、１３……イオンビームガン、１４……抵
抗加熱ボート、１５……イオンビーム、１６……蒸着材
料、１７……ガス排気口。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/06 Ｇ 9271−4Ｋ
Claims (3)
- 【請求項１】あらかじめエッチング処理を施こしたガラ
ス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘
電体物質を積層して反射防止膜を形成する方法であっ
て、前記光学ガラス素子を真空槽内で不活性ガスイオン
ビームを照射することによるクリーニング処理を行なっ
た後、前記光学ガラス素子上に誘電体物質を積層させる
ことを特徴とする反射防止膜の形成方法。 - 【請求項２】エッチング処理は、ガラス素材を弗化水素
酸水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除
去する工程とからなることを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の反射防止膜の形成方法。 - 【請求項３】クリーニング処理は、１×１０-4Torr以上
の真空中で行なわれることを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の反射防止膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002376A JPH0643259B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002376A JPH0643259B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63170243A JPS63170243A (ja) | 1988-07-14 |
| JPH0643259B2 true JPH0643259B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=11527528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62002376A Expired - Fee Related JPH0643259B2 (ja) | 1987-01-08 | 1987-01-08 | 反射防止膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643259B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103952670A (zh) * | 2014-02-13 | 2014-07-30 | 同济大学 | 一种基于人工缺陷的激光薄膜定量化研究方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0693042B2 (ja) * | 1988-08-24 | 1994-11-16 | 松下電器産業株式会社 | 反射防止膜 |
| JP2009120450A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Olympus Corp | 光学素子の製造装置 |
| US20100180939A1 (en) * | 2009-01-22 | 2010-07-22 | Sharma Pramod K | Heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, coated articles including heat treatable magnesium fluoride inclusive coatings, and methods of making the same |
-
1987
- 1987-01-08 JP JP62002376A patent/JPH0643259B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103952670A (zh) * | 2014-02-13 | 2014-07-30 | 同济大学 | 一种基于人工缺陷的激光薄膜定量化研究方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63170243A (ja) | 1988-07-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |