JPH01166002A - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents
反射防止膜の形成方法Info
- Publication number
- JPH01166002A JPH01166002A JP62324629A JP32462987A JPH01166002A JP H01166002 A JPH01166002 A JP H01166002A JP 62324629 A JP62324629 A JP 62324629A JP 32462987 A JP32462987 A JP 32462987A JP H01166002 A JPH01166002 A JP H01166002A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical glass
- glass element
- optical
- antireflection film
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガラス素材をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
ガラス素子の表面に誘電体物質を積層してなる反射防止
膜の形成方法に関するものである。
従来の技術
近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は光学機器
のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性能
化を同時に達成するために非球面化の方向にある。この
非球面光学ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造
方法である研磨法では加工および量産化が困難であり、
イーストマン・コダソク・カンパニーから提案されてい
るダイレクトプレス成形法（例えば特公昭５４−３８１
２６号公報等）が有望視されている。このダイレクトプ
レス成形法は必ずしも非球面光学ガラス素子の製造だけ
に限られるものではなく球面光学ガラス素子の製造にも
当然適用することができる。
のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性能
化を同時に達成するために非球面化の方向にある。この
非球面光学ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造
方法である研磨法では加工および量産化が困難であり、
イーストマン・コダソク・カンパニーから提案されてい
るダイレクトプレス成形法（例えば特公昭５４−３８１
２６号公報等）が有望視されている。このダイレクトプ
レス成形法は必ずしも非球面光学ガラス素子の製造だけ
に限られるものではなく球面光学ガラス素子の製造にも
当然適用することができる。
また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性すなわち光の透過率の向上のため、光
学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層し
反射防止膜を形成することは一般技術として知られてい
る。（例えば、久保田他「光学技術ハンドブック」）。
っても、光学特性すなわち光の透過率の向上のため、光
学ガラス素子表面に誘電体物質を真空蒸着法等で積層し
反射防止膜を形成することは一般技術として知られてい
る。（例えば、久保田他「光学技術ハンドブック」）。
発明が解決しようとする問題点
上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそれにく
らべて優れている必要があり、非常に高い面精度および
面粗度が要求される。例えば、高精度カメラレンズの場
合、面精度はニュートンリング５本、デス１本以内、面
粗度は０．０２μｍ以下であることが要求される。また
光学機器の小型化に伴って光学部品を小形化・軽量化す
ることが望まれており、従来の研磨法ではコンパクトな
光学部品を多量かつ安価に製造することは極めて困難で
ある。そこで、高精度な光学ガラス素子を製造する方法
として、ダイレクトプレス法が注目されている。そのダ
イレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学ガラス
素子を製造するのにリヒートプレス法が適している。リ
ヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形状
を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で加
熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子を
取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガラ
ス素材の形状、面品質が重要であり、これらが、成形し
た光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす。ガラス
素材の製造方法としては、ガラス材をカーブジェネレー
タ等により研削加工し、さらに研磨加工して表面を円滑
にする方法が一般的である。ところが、研磨加工は良好
な面精度に仕上げることができるが、曲率半径の小さな
ガラス素材を量産性よく加工することが困難であり、コ
スト高にもなる。そこでガラス材をカーブジェネレータ
等によって研削加工したままのガラス素材をプレスして
光学ガラス素子を成形している。しかしながらこのよう
な方法で成形された光学ガラス素子の表面には、研削加
工時の微細な表面欠陥が消滅せずに残るために、その光
学ガラス素子表面に反射防止膜を真空蒸着法等によって
形成しても反射防止膜は光学ガラス素子から剥離しやす
く、また光学特性すなわち光の透過率が低いという問題
点があった。
の性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそれにく
らべて優れている必要があり、非常に高い面精度および
面粗度が要求される。例えば、高精度カメラレンズの場
合、面精度はニュートンリング５本、デス１本以内、面
粗度は０．０２μｍ以下であることが要求される。また
光学機器の小型化に伴って光学部品を小形化・軽量化す
ることが望まれており、従来の研磨法ではコンパクトな
光学部品を多量かつ安価に製造することは極めて困難で
ある。そこで、高精度な光学ガラス素子を製造する方法
として、ダイレクトプレス法が注目されている。そのダ
イレクトプレス法の中でもとりわけ高精度な光学ガラス
素子を製造するのにリヒートプレス法が適している。リ
ヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形状
を有したガラス素材を作り、前記ガラス素材を金型で加
熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子を
取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガラ
ス素材の形状、面品質が重要であり、これらが、成形し
た光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす。ガラス
素材の製造方法としては、ガラス材をカーブジェネレー
タ等により研削加工し、さらに研磨加工して表面を円滑
にする方法が一般的である。ところが、研磨加工は良好
な面精度に仕上げることができるが、曲率半径の小さな
ガラス素材を量産性よく加工することが困難であり、コ
スト高にもなる。そこでガラス材をカーブジェネレータ
等によって研削加工したままのガラス素材をプレスして
光学ガラス素子を成形している。しかしながらこのよう
な方法で成形された光学ガラス素子の表面には、研削加
工時の微細な表面欠陥が消滅せずに残るために、その光
学ガラス素子表面に反射防止膜を真空蒸着法等によって
形成しても反射防止膜は光学ガラス素子から剥離しやす
く、また光学特性すなわち光の透過率が低いという問題
点があった。
本発明は上記問題点に鑑み、ガラス材をカーブジェネレ
ータ等によって研削加工したままのガラス素材をプレス
して成形された光学ガラス素子に対して、密着性、耐久
性および光学特性すなわち光の透過率に優れた反射防止
膜の形成方法を提供するものである。
ータ等によって研削加工したままのガラス素材をプレス
して成形された光学ガラス素子に対して、密着性、耐久
性および光学特性すなわち光の透過率に優れた反射防止
膜の形成方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために、本発明の反射防止膜の形
成方法は、ガラス素材をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子にあらかじめ熱処理を施した後、前記光学ガ
ラス素子の表面に誘電体物質を積層して反射防止膜を形
成するものである。
成方法は、ガラス素材をプレス成形してつくられた光学
ガラス素子にあらかじめ熱処理を施した後、前記光学ガ
ラス素子の表面に誘電体物質を積層して反射防止膜を形
成するものである。
作用
前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス素材の形状、
重量および面品質の管理であり、特に面品質は光学ガラ
ス素子上の反射防止膜の性能に大きな影響を及ぼす。
重量および面品質の管理であり、特に面品質は光学ガラ
ス素子上の反射防止膜の性能に大きな影響を及ぼす。
本発明は研削加工したままのガラス素材をプレスしてつ
くられた光学ガラス素子に熱処理を施した後、前記光学
ガラス素子に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成す
る方法を提供するものであり、その結果、密着性、耐久
性および光学特性すなわち光の透過率に優れた反射防止
膜を得ることができる。
くられた光学ガラス素子に熱処理を施した後、前記光学
ガラス素子に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成す
る方法を提供するものであり、その結果、密着性、耐久
性および光学特性すなわち光の透過率に優れた反射防止
膜を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例の反射防止膜の形成方法について
、図面を参照しながら説明する。
、図面を参照しながら説明する。
第１図は実施例に使用したガラス素材を示す図でありガ
ラス材質は鉛ガラス５Ｆ−８である。第１図において１
０．１１はプレスされるガラス素材面を示し、ｒ、 、
ｒｚはそれぞれの面の曲率半径であり、ｅｌはガラス素
材の全長、ｄ、はガラス素材の直径である。本実施例で
は、ｒ ＋ ＝ ２．６ｍｍ、ｒｚ ” ３．４ｍ、、
ｅ、＝ ５．１ｆｉ、ｄ＋ ＝４．９５＋ｍである。こ
のガラス素材を、一方が３．４鶴、他方が６．０８ｍｍ
の曲率半径を有した一対の鏡面加工した金型を用いてプ
レス成形した。成形条件としては、金型温度摂氏５２０
度、成形圧力１０ｋｇ／ａｆｌ、成形時間５分間であっ
た。
ラス材質は鉛ガラス５Ｆ−８である。第１図において１
０．１１はプレスされるガラス素材面を示し、ｒ、 、
ｒｚはそれぞれの面の曲率半径であり、ｅｌはガラス素
材の全長、ｄ、はガラス素材の直径である。本実施例で
は、ｒ ＋ ＝ ２．６ｍｍ、ｒｚ ” ３．４ｍ、、
ｅ、＝ ５．１ｆｉ、ｄ＋ ＝４．９５＋ｍである。こ
のガラス素材を、一方が３．４鶴、他方が６．０８ｍｍ
の曲率半径を有した一対の鏡面加工した金型を用いてプ
レス成形した。成形条件としては、金型温度摂氏５２０
度、成形圧力１０ｋｇ／ａｆｌ、成形時間５分間であっ
た。
前記工程によって成形された光学ガラス素子を材質５Ｆ
−８のガラス軟化点（摂氏約５７０度）以上の温度であ
る摂氏７５０度の電気炉中に１０秒間保持して熱処理を
行った。
−８のガラス軟化点（摂氏約５７０度）以上の温度であ
る摂氏７５０度の電気炉中に１０秒間保持して熱処理を
行った。
第２図は前記熱処理後の光学ガラス素子示す。
第２図において、２０．２１は反射防止膜が形成される
光学ガラス素子の面を示し、ｒ３、ｒ４はそれぞれの面
の曲率半径であり、ｅ２は光学ガラス素子の全長、ｄ２
は光学ガラス素子の直径である。
光学ガラス素子の面を示し、ｒ３、ｒ４はそれぞれの面
の曲率半径であり、ｅ２は光学ガラス素子の全長、ｄ２
は光学ガラス素子の直径である。
本実施例では、ｒ３＝３．４部、ｒ４＝６．０８離、ｅ
２−４部ｍｍ、ｄｚ ＝ ５．０ｍ＋ａである。
２−４部ｍｍ、ｄｚ ＝ ５．０ｍ＋ａである。
次に、前記熱処理を施した光学ガラス素子の両面に真空
蒸着法によって沸化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着し
た。第３図は反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の
概略図である。第３図において、３０は真、空槽、３１
は熱処理を施した光学ガラス素子、３２は基板支持ドー
ム、３３はリング状のイオンボンバード電極、３４は抵
抗加熱ボート、３５は沸化マグネシウム（Ｍｇ Ｆｚ
） 、３６はガス導入口、３７はガス排気口である。
蒸着法によって沸化マグネシウム（ＭｇＦ２）を蒸着し
た。第３図は反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の
概略図である。第３図において、３０は真、空槽、３１
は熱処理を施した光学ガラス素子、３２は基板支持ドー
ム、３３はリング状のイオンボンバード電極、３４は抵
抗加熱ボート、３５は沸化マグネシウム（Ｍｇ Ｆｚ
） 、３６はガス導入口、３７はガス排気口である。
まず、真空槽３０内をＩ Ｘ １０−’Ｔｏｒｒまで排
気し同時に基板支持ドーム３２に支持された光学ガラス
素子を摂氏約３００度に加熱した。そしてガス導入口３
６を通して真空槽３０内にアルゴンガスを導入し、約１
０−１〜１０−２Ｔｏｒｒの真空度において約１０分間
イオンボンバードを行った。イオンボンバードは電極３
３に約ＩＫｖの電圧を印加して行った。その後アルゴン
ガスの導入をやめ、真空槽３０内を２Ｘ１０−５Ｔｏｒ
ｒ以下に排気した後、抵抗加熱ボード３４でもって沸化
マグネシウム（ＭｇＦｚ）３５を抵抗加熱法で光学ガラ
ス素子上に光学的膜厚λ１４ （ａ ＝ ７８０ｎｍ）
の厚さに形成した。
気し同時に基板支持ドーム３２に支持された光学ガラス
素子を摂氏約３００度に加熱した。そしてガス導入口３
６を通して真空槽３０内にアルゴンガスを導入し、約１
０−１〜１０−２Ｔｏｒｒの真空度において約１０分間
イオンボンバードを行った。イオンボンバードは電極３
３に約ＩＫｖの電圧を印加して行った。その後アルゴン
ガスの導入をやめ、真空槽３０内を２Ｘ１０−５Ｔｏｒ
ｒ以下に排気した後、抵抗加熱ボード３４でもって沸化
マグネシウム（ＭｇＦｚ）３５を抵抗加熱法で光学ガラ
ス素子上に光学的膜厚λ１４ （ａ ＝ ７８０ｎｍ）
の厚さに形成した。
比較例
上記本発明の実施例の光学ガラス素子と、光学ガラス素
子に熱処理を施さずに前記光学ガラス素子に沸化マグネ
シウム（Ｍ ｇ Ｆ ２ ）を蒸着した従来の光学ガラ
ス素子との反射防止膜の密着性、耐久性を比較するため
に、粘着テープ剥離試験（温度摂氏８０度、相対湿度９
０％の高温・高湿度雰囲気中に３００時間放置した後、
粘着テープを光学ガラス素子表面に密着させ引きはがす
）を行ったところ、従来例のものは剥離が発生したが本
発明によるものは全く異常がなかった。
子に熱処理を施さずに前記光学ガラス素子に沸化マグネ
シウム（Ｍ ｇ Ｆ ２ ）を蒸着した従来の光学ガラ
ス素子との反射防止膜の密着性、耐久性を比較するため
に、粘着テープ剥離試験（温度摂氏８０度、相対湿度９
０％の高温・高湿度雰囲気中に３００時間放置した後、
粘着テープを光学ガラス素子表面に密着させ引きはがす
）を行ったところ、従来例のものは剥離が発生したが本
発明によるものは全く異常がなかった。
また、中心波長７８０ ｎ ｍにおける光の透過率は、
従来例のものは平均９２％であったが本発明によるもの
は平均９８％以上あった。（各２０個測定）以上のよう
に、従来例のものに比べて本発明によるものが密着性、
耐久性および光学特性すなわち光の透過率において優れ
ているのは明らかであった。
従来例のものは平均９２％であったが本発明によるもの
は平均９８％以上あった。（各２０個測定）以上のよう
に、従来例のものに比べて本発明によるものが密着性、
耐久性および光学特性すなわち光の透過率において優れ
ているのは明らかであった。
なお、実施例において反射防止膜は沸化マグネシウム（
Ｍ ｇ Ｆ ｚ ）単層膜であるが、反射防止膜の構成
は必ずしもこれに限るものではなく、沸化マグネシウム
（Ｍ ｇ Ｆ ２ ）も含めて他の誘電体材料、例えば
二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、沸化セ
リウムなどを使用した単層膜あるいは多層の反射防止膜
も良好に形成することができる。
Ｍ ｇ Ｆ ｚ ）単層膜であるが、反射防止膜の構成
は必ずしもこれに限るものではなく、沸化マグネシウム
（Ｍ ｇ Ｆ ２ ）も含めて他の誘電体材料、例えば
二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、沸化セ
リウムなどを使用した単層膜あるいは多層の反射防止膜
も良好に形成することができる。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜の
形成方法は、ガラス素材をプレスしてつくられた光学ガ
ラス素子に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する
方法であって、前記光学ガラス素子にあらかじめ熱処理
を施すことによって、密着性、耐久性および光学特性す
なわち光の透過率に優れた反射防止膜を得ることができ
、その実用上の価値は大きなものがある。
形成方法は、ガラス素材をプレスしてつくられた光学ガ
ラス素子に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する
方法であって、前記光学ガラス素子にあらかじめ熱処理
を施すことによって、密着性、耐久性および光学特性す
なわち光の透過率に優れた反射防止膜を得ることができ
、その実用上の価値は大きなものがある。
第１図は本発明の一実施例に用いた研削処理したガラス
素材を示す断面図、第２図はガラス素材を成形してつく
られた光学ガラス素子を示す断面図、第３図は本発明の
一実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概
略図である。 ｔｏ、 ｉｉ・・・・・・プレスされるガラス素材面、
２０．２１・・・・・・反射防止膜が形成される光学ガ
ラス素子面、３０・・・・・・真空槽、３１・・・・・
・光学ガラス素子、３２・・・・・・基板支持ドーム、
３３・・・・・・イオンボンバード電極、３４・・・・
・・抵抗加熱ボード、３５・・・・・・沸化マグネシウ
ム（Ｍｇ Ｆｚ ） 、３６・・・・・・ガス導入口、
３７・・・・・・ガス排気口。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名冶砧刈８疎
袷梠社 区 区 ０ く 警へ 計 ぐ） 区 Ｎ
素材を示す断面図、第２図はガラス素材を成形してつく
られた光学ガラス素子を示す断面図、第３図は本発明の
一実施例の反射防止膜の形成に用いた真空蒸着装置の概
略図である。 ｔｏ、 ｉｉ・・・・・・プレスされるガラス素材面、
２０．２１・・・・・・反射防止膜が形成される光学ガ
ラス素子面、３０・・・・・・真空槽、３１・・・・・
・光学ガラス素子、３２・・・・・・基板支持ドーム、
３３・・・・・・イオンボンバード電極、３４・・・・
・・抵抗加熱ボード、３５・・・・・・沸化マグネシウ
ム（Ｍｇ Ｆｚ ） 、３６・・・・・・ガス導入口、
３７・・・・・・ガス排気口。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名冶砧刈８疎
袷梠社 区 区 ０ く 警へ 計 ぐ） 区 Ｎ
Claims (2)
- （１）ガラス素子をプレス成形してつくられた光学ガラ
ス素子に誘電体物質を積層して反射防止膜を形成する方
法であって、前記光学ガラス素子にあらかじめ熱処理を
施すことを特徴とする反射防止膜の形成方法。 - （２）熱処理は、光学ガラス素子をガラス軟化点以上の
温度に保持して行うことを特徴とする特許請求の範囲第
（１）項記載の反射防止膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324629A JPH01166002A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 反射防止膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324629A JPH01166002A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 反射防止膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01166002A true JPH01166002A (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=18167957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62324629A Pending JPH01166002A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 反射防止膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01166002A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0448501U (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-24 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6228090A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-06 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ムのビ−ム整列装置 |
| JPS62128934A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-11 | Canon Inc | 光学素子の製造装置 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP62324629A patent/JPH01166002A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6228090A (ja) * | 1985-07-29 | 1987-02-06 | Hitachi Ltd | 電子ビ−ムのビ−ム整列装置 |
| JPS62128934A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-11 | Canon Inc | 光学素子の製造装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0448501U (ja) * | 1990-08-29 | 1992-04-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5867794B2 (ja) | 眼鏡レンズの製造方法および光学物品の製造方法 | |
| JPH0483724A (ja) | 光学素子製造用ガラスブランク及びその製造方法 | |
| JPH07111484B2 (ja) | プラスチック製光学部品の反射防止膜とその形成方法 | |
| CN100468081C (zh) | 光学元件 | |
| JPH01166002A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH01102401A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| US5474851A (en) | Thin film of gallium oxide and method of producing the film | |
| JPH01102402A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| US7033855B2 (en) | Optical component and method of manufacturing the same | |
| JPH0421606B2 (ja) | ||
| JPH0643259B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| US20070048454A1 (en) | Method for manufacturing a mold core | |
| JP2007156321A (ja) | 光学多層膜フィルタの製造方法 | |
| JPH0643260B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH10115711A (ja) | 光学薄膜の製造方法 | |
| JPS6361201A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
| JPH0237301A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPS60156001A (ja) | プラスチツク製光学部品の反射防止膜 | |
| JP3987169B2 (ja) | 光学薄膜の製造方法 | |
| JPH0258003A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH01252542A (ja) | 光学ガラス素子の成形方法 | |
| JPS62207727A (ja) | ガラス物品の製造方法 | |
| JPH01287501A (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2005241740A (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
| JPH0248601A (ja) | 合成樹脂製光学部品の反射防止膜製造方法 |