JPH0237301A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH0237301A JPH0237301A JP63187202A JP18720288A JPH0237301A JP H0237301 A JPH0237301 A JP H0237301A JP 63187202 A JP63187202 A JP 63187202A JP 18720288 A JP18720288 A JP 18720288A JP H0237301 A JPH0237301 A JP H0237301A
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- Japan
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- optical glass
- optical
- glass element
- antireflection film
- reflection film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ガラス物品をプレス成形してつくられた光学
プレスガラス素子の表面に誘電体物質を積層して構成す
る反射防止膜に関するものである。
プレスガラス素子の表面に誘電体物質を積層して構成す
る反射防止膜に関するものである。
従来の技術
近年、光学ガラスレンズ等の光学ガラス素子は、光学機
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法（
特公昭５４３８１２６号公報）が有望視されている。
器のレンズ構成の簡略化、軽量化および光学特性の高性
能化を同時に達成するために非球面化の方向にある。こ
の非球面ガラス素子の製造にあたっては、従来の製造方
法である研磨法では加工および量産化が困難であり、コ
ダック社から提案されているダイレクトプレス成形法（
特公昭５４３８１２６号公報）が有望視されている。
また、いずれの製造法でつくられた光学ガラス素子であ
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し、反射防止膜を構成
することは一般技術として知られている。（例えば、久
保田氏他「光学技術ハンドブック」） 以下図面を参照しながら従来の光学ガラス素子の反射防
止膜について説明する。第３図は光学ガラス素子の表面
にフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成した構
造を示す図であり、第４図の（Ｃ）は反射防止膜を光学
的膜厚λｏ／４（λｏ＝ ７８０ｎｍ）の厚さに形成し
た時の分光反射特性を示す図である。第３図においてｌ
は光学ガラス素子、５はフッ化マグネシウムよりなる反
射防止膜である。前記反射防止膜５は一般には真空蒸着
法によって形成される。
っても、光学特性の向上のため、光学ガラス素子表面に
誘電体物質を真空蒸着法等で積層し、反射防止膜を構成
することは一般技術として知られている。（例えば、久
保田氏他「光学技術ハンドブック」） 以下図面を参照しながら従来の光学ガラス素子の反射防
止膜について説明する。第３図は光学ガラス素子の表面
にフッ化マグネシウムからなる反射防止膜を形成した構
造を示す図であり、第４図の（Ｃ）は反射防止膜を光学
的膜厚λｏ／４（λｏ＝ ７８０ｎｍ）の厚さに形成し
た時の分光反射特性を示す図である。第３図においてｌ
は光学ガラス素子、５はフッ化マグネシウムよりなる反
射防止膜である。前記反射防止膜５は一般には真空蒸着
法によって形成される。
発明が解決しようとする課題
上記の光学ガラス素子の製造において、光学ガラス素子
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。たとえば、高精度カメ
ラレンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アメ
１本以内、面粗さは０．０２μｍ以下であることが要求
される。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小
型化・軽量化することが望まれており、従来の研磨法で
はコンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造すること
はできない。
の像形成性能は従来の研磨法による光学ガラス素子のそ
れにくらべてより優れている必要があり、非常に高い面
精度および面粗度が要求される。たとえば、高精度カメ
ラレンズの場合、面精度はニュートンリング５本、アメ
１本以内、面粗さは０．０２μｍ以下であることが要求
される。また光学機器の小型化に伴なって光学部品を小
型化・軽量化することが望まれており、従来の研磨法で
はコンパクトな光学部品を多量かつ安価に製造すること
はできない。
高精度な光学ガラス素子を製造する方法として、ダイレ
クトプレス法が注目されている。ダイレクトプレス法の
中でとりわけ高精度な光学ガラス素子を製造するのにリ
ヒートプレス法が適している。
クトプレス法が注目されている。ダイレクトプレス法の
中でとりわけ高精度な光学ガラス素子を製造するのにリ
ヒートプレス法が適している。
リヒートプレス法とは所望の光学ガラス素子に近い面形
状を有したガラス物品を作り、前記ガラス物品を金型で
加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子
を取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガ
ラス物品の形状、重量、面品質が重要であり、これらが
成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす。
状を有したガラス物品を作り、前記ガラス物品を金型で
加熱、加圧した後、冷却して、成形した光学ガラス素子
を取り出す方法である。このリヒートプレス法では、ガ
ラス物品の形状、重量、面品質が重要であり、これらが
成形した光学ガラス素子の特性に大きな影響を及ぼす。
ガラス物品の製造方法として、ガラス素材をカーブジェ
ネレータにより研削加工し、さらに研磨加工して表面を
円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良好な面精
度に仕上げることができるが、曲率半径の小さなガラス
物品を量産性よく加工することが困難でありコスト高に
なる。また、ガラス素材をカーブジェネレータによって
研削加工したままのガラス物品をプレス成形した場合、
ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残るために、
光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能が低下する
。
ネレータにより研削加工し、さらに研磨加工して表面を
円滑にする方法が一般的である。研磨加工は良好な面精
度に仕上げることができるが、曲率半径の小さなガラス
物品を量産性よく加工することが困難でありコスト高に
なる。また、ガラス素材をカーブジェネレータによって
研削加工したままのガラス物品をプレス成形した場合、
ガラス物品表面の微細な凹凸が消滅せずに残るために、
光学ガラス素子の透過率が悪くなり光学性能が低下する
。
そのために、ガラス物品表面の微細な凹凸を除去するた
め、エツチング処理として前記ガラス物品をフッ化水素
水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去
する工程とからなる過程をくり返すことを行っている。
め、エツチング処理として前記ガラス物品をフッ化水素
水溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去
する工程とからなる過程をくり返すことを行っている。
しかしながら、前記工程による処理を施したガラス物品
をダイレクトプレスして製造した光学ガラス素子上に前
記従来例の反射防止膜を形成すると、この反射防止膜は
光学ガラス素子との密着性が悪く、耐久性も低いという
課題を有していた。
をダイレクトプレスして製造した光学ガラス素子上に前
記従来例の反射防止膜を形成すると、この反射防止膜は
光学ガラス素子との密着性が悪く、耐久性も低いという
課題を有していた。
本発明は上記課題に鑑み、前記エツチング処理を施こし
たガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素
子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を
提供するものである。
たガラス物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素
子に対して、密着性および耐久性に優れた反射防止膜を
提供するものである。
課題を解決するための手段
本発明は前記課題を解決するために、光学ガラス素子上
に誘電体物質を積層して構成する反射防止膜であって、
前記反射防止膜は光学ガラス素子の表面側から第１層目
が二酸化ケイ素からなる層であることを特徴とする反射
防止膜を提供するものである。
に誘電体物質を積層して構成する反射防止膜であって、
前記反射防止膜は光学ガラス素子の表面側から第１層目
が二酸化ケイ素からなる層であることを特徴とする反射
防止膜を提供するものである。
作用
前述したように、高精度な光学ガラス素子を多量かつ安
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
価に製造する方法として、ダイレクトプレス法が注目さ
れている。さらに高精度な光学ガラス素子を製造するた
めにはリヒートプレス法が適していると言われている。
リヒートプレス法で重要なことは、ガラス物品の形状、
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性に大きな影響を及ぼす。
重量および面品質の管理であり、これらが成形した光学
ガラス素子の特性および量産性に大きな影響を及ぼす。
ガラス物品の面粗度をよくするためにエツチング処理が
行なわれる。
行なわれる。
本発明は、あらかじめエンチング処理を施こしたガラス
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘電
体物質を積層して構成する反射防止膜であって、前記反
射防止膜の光学ガラス素子表面側から第１層目が二酸化
ケイ素からなる層である反射防止膜を提供するものであ
り、その結果、密着性および耐久性にすぐれた反射防止
膜を得ることができる。
物品をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘電
体物質を積層して構成する反射防止膜であって、前記反
射防止膜の光学ガラス素子表面側から第１層目が二酸化
ケイ素からなる層である反射防止膜を提供するものであ
り、その結果、密着性および耐久性にすぐれた反射防止
膜を得ることができる。
実施例
以下本発明の反射防止膜の一実施例について図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
使用したガラスは、鉛ガラスＳＦ８であり、ガラス素材
を曲率半径３．５ｍｍおよび２．９ｍｍ、コバ径が６．
３ｍｍ、４心肉厚が８ｆｆｌＩ１１の両凸形状に研削処
理した。こうして得られたガラス物品を液温４０°Ｃの
１０％フン化水素酸に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３
分間洗浄し、さらに２００″Ｃに保った乾燥機で１５分
間乾燥した。このような浸漬工程を（り返して得たガラ
ス物品を、一方が１５ｍｍ、他方が２８ｍｍの曲率半径
を有した一対の鏡面加工した金型を用いて前記ガラス物
品をプレス成形した。成形条件としては、金型温度５２
０’Ｃ１成形圧力１０ ｋｇ ／ ｃ＋ａ 、 成形時
間２分間であった。前記プレス成形後の光学ガラス素子
に真空蒸着法によって二酸化ケイ素を光学的膜圧λｏ／
４（λｏ＝ ７８０ｎ ｍ）の厚さに形成した。第１図
は本発明の第１の実施例における反射防止膜の構成を示
す図であり、第４図の（ａ）はその分光反射特性を示す
ものである。第１図において２は二酸化ケイ素からなる
第１層である。
を曲率半径３．５ｍｍおよび２．９ｍｍ、コバ径が６．
３ｍｍ、４心肉厚が８ｆｆｌＩ１１の両凸形状に研削処
理した。こうして得られたガラス物品を液温４０°Ｃの
１０％フン化水素酸に１０秒間浸漬した後、蒸留水で３
分間洗浄し、さらに２００″Ｃに保った乾燥機で１５分
間乾燥した。このような浸漬工程を（り返して得たガラ
ス物品を、一方が１５ｍｍ、他方が２８ｍｍの曲率半径
を有した一対の鏡面加工した金型を用いて前記ガラス物
品をプレス成形した。成形条件としては、金型温度５２
０’Ｃ１成形圧力１０ ｋｇ ／ ｃ＋ａ 、 成形時
間２分間であった。前記プレス成形後の光学ガラス素子
に真空蒸着法によって二酸化ケイ素を光学的膜圧λｏ／
４（λｏ＝ ７８０ｎ ｍ）の厚さに形成した。第１図
は本発明の第１の実施例における反射防止膜の構成を示
す図であり、第４図の（ａ）はその分光反射特性を示す
ものである。第１図において２は二酸化ケイ素からなる
第１層である。
上記本発明の実施例の反射防止膜と従来の反射防止膜と
の密着性、耐久性を比較するために行なった試験は、（
１）粘着テープ剥離試験（温度４０″Ｃ１相対湿度８５
％の高温・高温雰囲気中に３００時間放置した後、粘着
テープを光学ガラス素子表面に密着し、引きはがす）（
２）耐湿試験（温度６０°Ｃ１相対湿度８５％の高温・
高温雰囲気中に１ｏｏｏ時間放置）であり、比較のため
の従来の反射防止膜は、前記従来例の１つである光学ガ
ラス素子にフッ化マグネシウムの反射防止膜を真空蒸着
法によって光学的膜厚λｏ／４（λｏ＝７８０ｎｍ）の
厚さに形成したものであり、第３図に示す構造のもので
ある。密着性、耐久性試験の結果は第１表に示すとおり
である。
の密着性、耐久性を比較するために行なった試験は、（
１）粘着テープ剥離試験（温度４０″Ｃ１相対湿度８５
％の高温・高温雰囲気中に３００時間放置した後、粘着
テープを光学ガラス素子表面に密着し、引きはがす）（
２）耐湿試験（温度６０°Ｃ１相対湿度８５％の高温・
高温雰囲気中に１ｏｏｏ時間放置）であり、比較のため
の従来の反射防止膜は、前記従来例の１つである光学ガ
ラス素子にフッ化マグネシウムの反射防止膜を真空蒸着
法によって光学的膜厚λｏ／４（λｏ＝７８０ｎｍ）の
厚さに形成したものであり、第３図に示す構造のもので
ある。密着性、耐久性試験の結果は第１表に示すとおり
である。
表１
第１表かられかるように本発明の反射防止膜は、光学ガ
ラス素子表面側から第１層目が二酸化ケイ素からなる反
射防止膜であって、従来の反射防止膜より密着性、耐久
性の点ですぐれている。
ラス素子表面側から第１層目が二酸化ケイ素からなる反
射防止膜であって、従来の反射防止膜より密着性、耐久
性の点ですぐれている。
以下本発明の第２の実施例について図面を参照しながら
説明する。本実施例で使用した光学ガラス素子は前述の
鉛ガラスＳＦ８からなるものであり、前述の同工程によ
って成形された光学ガラス素子である。
説明する。本実施例で使用した光学ガラス素子は前述の
鉛ガラスＳＦ８からなるものであり、前述の同工程によ
って成形された光学ガラス素子である。
第２図は本発明の第２の実施例における反射防止膜の構
成を示す図であり、第４図の（ｂ）はその分光反射特性
を示すものである。第２図において２は二酸化ケイ素か
らなる第１層、３は酸化アルミニウムからなる第２層、
４は二酸化チタンからなる第３層、５はフン化マグネシ
ウムからなる第４層であり、各層の光学的膜厚はそれぞ
れ、λｏ／４゜λｏ／４．λｏ／２．λｏ／４（λｏ＝
７８０ｎｍ）である。
成を示す図であり、第４図の（ｂ）はその分光反射特性
を示すものである。第２図において２は二酸化ケイ素か
らなる第１層、３は酸化アルミニウムからなる第２層、
４は二酸化チタンからなる第３層、５はフン化マグネシ
ウムからなる第４層であり、各層の光学的膜厚はそれぞ
れ、λｏ／４゜λｏ／４．λｏ／２．λｏ／４（λｏ＝
７８０ｎｍ）である。
前記本発明の第２の実施例の反射防止膜に対しても前記
の粘着テープ剥離試験と耐湿試験を行なったが、第１の
実施例と同様、全く異常なかった。
の粘着テープ剥離試験と耐湿試験を行なったが、第１の
実施例と同様、全く異常なかった。
また第４図かられかるように本実施例の分光反射特性は
約６００ｎｍから１ｌ１００ｎにわたって従来例よりす
ぐれている。
約６００ｎｍから１ｌ１００ｎにわたって従来例よりす
ぐれている。
なお、前記第１、第２の実施例の反射防止膜の膜厚は特
に上記の値に限定されるものではなく、設計波長に応じ
て変化させればよく、反射防止膜の層枚も所望の特性に
よって適当な値にすればよく、光学ガラス素子表面側か
ら１層目が二酸化ケイ素から形成されておれば何でもよ
い。
に上記の値に限定されるものではなく、設計波長に応じ
て変化させればよく、反射防止膜の層枚も所望の特性に
よって適当な値にすればよく、光学ガラス素子表面側か
ら１層目が二酸化ケイ素から形成されておれば何でもよ
い。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の反射防止膜は
、あらかじめエツチング処理を施こしたガラス物品をプ
レス成形してつくられていた光学ガラス素子に誘電体物
質を積層して構成する反射防止膜であって、光学ガラス
素子の表面側から第１層目を二酸化ケイ素から構成する
ことにより、密着性、耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができ、その実用上の価値は大なるものがある。
、あらかじめエツチング処理を施こしたガラス物品をプ
レス成形してつくられていた光学ガラス素子に誘電体物
質を積層して構成する反射防止膜であって、光学ガラス
素子の表面側から第１層目を二酸化ケイ素から構成する
ことにより、密着性、耐久性に優れた反射防止膜を得る
ことができ、その実用上の価値は大なるものがある。
第１図は本発明の第１の実施例における反射防止膜の構
成図、第２図は本発明の第２の実施例における反射防止
膜の構成図、第３図は、従来の反る。 １・・・・・・光学ガラス素子、２・・・・・・二酸化
ケイ素からなる層、３・・・・・・酸化アルミニウムか
らなる層、４・・・・・・二酸化チタンからなる層、５
・・・・・・フッ化マグネシウムからなる層。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名１−光学ガ
ラス素子 ２−・ 二隊ブとケイ素わ１らｒよる珊フヅ化マク不シ
ウムからする１
成図、第２図は本発明の第２の実施例における反射防止
膜の構成図、第３図は、従来の反る。 １・・・・・・光学ガラス素子、２・・・・・・二酸化
ケイ素からなる層、３・・・・・・酸化アルミニウムか
らなる層、４・・・・・・二酸化チタンからなる層、５
・・・・・・フッ化マグネシウムからなる層。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか１名１−光学ガ
ラス素子 ２−・ 二隊ブとケイ素わ１らｒよる珊フヅ化マク不シ
ウムからする１
Claims (2)
- （１）あらかじめエッチング処理を施こしたガラス物品
をプレス成形してつくられた光学ガラス素子に誘電体物
質を積層して構成する反射防止膜であって、前記反射防
止膜は光学ガラス素子の表面側から第１層目が二酸化ケ
イ素からなる層であることを特徴とする反射防止膜。 - （２）エッチング処理は、ガラス素材をフッ化水素酸水
溶液に浸漬する工程と、水洗する工程と、水分を除去す
る工程とからなることを特徴とする請求項（１）記載の
反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63187202A JPH0237301A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63187202A JPH0237301A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0237301A true JPH0237301A (ja) | 1990-02-07 |
Family
ID=16201880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63187202A Pending JPH0237301A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0237301A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003088210A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-25 | Akihiro Ito | 作業位置出し具 |
| CN103553361A (zh) * | 2013-11-21 | 2014-02-05 | 南通博凯新能源科技有限公司 | 一种Al2O3-SiO2-TiO2无机增透膜的制备方法 |
| KR20170012353A (ko) | 2014-05-26 | 2017-02-02 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 위조 방지 구조체 및 위조 방지 물품 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
-
1988
- 1988-07-27 JP JP63187202A patent/JPH0237301A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6273203A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-03 | Hitachi Ltd | 無反射処理基板およびその製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003088210A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-25 | Akihiro Ito | 作業位置出し具 |
| CN103553361A (zh) * | 2013-11-21 | 2014-02-05 | 南通博凯新能源科技有限公司 | 一种Al2O3-SiO2-TiO2无机增透膜的制备方法 |
| KR20170012353A (ko) | 2014-05-26 | 2017-02-02 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 위조 방지 구조체 및 위조 방지 물품 |
| KR20180097787A (ko) | 2014-05-26 | 2018-08-31 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 위조 방지 구조체 및 위조 방지 물품 |
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