JPH0643565A

JPH0643565A - Ｐｓｌ放射線写真カセット用走査器

Info

Publication number: JPH0643565A
Application number: JP5107760A
Authority: JP
Inventors: Gentil Verbeke; ジェンティル・ヴァルベーク; Gerard Boeve; ジェラール・ボーヴ
Original assignee: Agfa Gevaert NV
Current assignee: Agfa Gevaert NV
Priority date: 1992-04-21
Filing date: 1993-04-09
Publication date: 1994-02-18
Anticipated expiration: 2017-08-12
Also published as: JP3313814B2; DE69311433D1; EP0567171A1; EP0567171B1; US5340995A; DE69311433T2

Abstract

(57)【要約】【目的】光刺激発光（ＰＳＬ）放射線写真で使用され
るタイプでＰＳＬ基板（１４）とそのキャップ（１５）
とから成るカセット（１３）を走査するための走査装置
を提供する。【構成】この走査装置は、装置の中へカセットを受け
取るための受取ステーション（３０）と、カセット（１
３）を分離ステーション（４０）へ輸送するための移送
手段（１０１，１０２）とから成り、前記分離ステーシ
ョンは前記基板（１４）とそのキャップ（１４）とを互
いに分離するための手段を含み、走査装置はさらに、前
記基板（１４）を走査する走査ステーションを通り、消
去ステーション（６０）を経て、基板とキャップとを再
び結合させる組立ステーション（７０）へと続く経路
（１１４，１１４ａ）に沿って、その間ずっと基板を平
らな状態に維持しながら基板（１４）をそれ自体の平面
内で移送するための手段（１０３ないし１１２）から成
る。このような配列によって、基板（１４）上のＰＳＬ
材料の層（１６）のたわみが回避され、かつ小型の構造
が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光刺激発光（ＰＳＬ）
放射線写真に使用されるタイプでＰＳＬ基板とそのキャ
ップとから成るカセットを走査するための走査装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来の放射線写真（Ｘ線写真）では、光
密カセット内に支持される可撓性フィルムベース上に１
層以上のハロゲン化銀乳剤層を形成することによって基
板を作成する。カセットの内部は、１層以上のＸ線感知
発光層が塗布される。未露出Ｘ線フィルム板をＸ線装置
に装填し、露出後、カセットと露出したＸ線フィルム板
とを取り出し、形成された潜像を現像し定着させる。こ
れは通常、カセットを光密な装置内に送り込み、この中
でカセットを開け、露出したフィルム板を抜き取り、必
要な様々な化学処理溶液が入った一連の水槽内を通過さ
せることによって、自動的に行われる。処理されたフィ
ルム板は、装置内で乾燥させることもできる。一方、新
しい未露出のフィルム板をカセット内に装填しておき、
これを再び閉じた後、再装填されたこのカセットと現像
されたフィルム板を処理装置のそれぞれの出口スロット
に送る。

【０００３】ＰＳＬシステムでは、ＰＳＬＸ線板に例
えばユウロピウム活性化された弗塩化バリウムなどの蛍
光体と結合剤から成る１層の光刺激発光材料を塗布す
る。蛍光体は、Ｘ線によってエネルギーを受けて励起状
態となり、この状態で可視光または赤外光で刺激される
と（刺激光からの様々な波長の）可視光を放出して基底
状態に戻ることができるという特徴を持つ。励起状態
は、刺激光が無ければ少なくとも数時間ないし数日の半
減期を持つ。ＰＳＬ板は潜在的に何回でも再使用可能で
ある。この技法は「ラジオグラフィー」誌第１４８巻
(１９８３年９月号）の８３３頁ないし８３８頁の園田
らの論文に記載されており、患者へのＸ線照射線量を低
くして高い画像解像度が得られるという潜在的な利点を
備えた技法である。

【０００４】蛍光体は可撓性ベース上に層として施与さ
れ、ベースもまた光密カセット内に囲う必要がある。

【０００５】ＰＳＬ放射線写真の現在の慣行では、露出
後のＰＳＬ板をそのカセットに入れたまま自動処理装置
に渡し、その中でＰＳＬ板をカセットから取り出し、走
査し、全体を光に露出させてＰＳＬ材料をその基底状態
に戻し、その後再使用のために同じカセットに再装填す
る。走査のために、露出したＰＳＬ板はレーザ、一般に
６３３nmの波長で発振するヘリウムネオンレーザを通過
して移送される。レーザは、１束の光ファイバーから成
る光導波路の前でＰＳＬ板を線走査する。光ファイバー
の入力端は、ＰＳＬ材料がレーザによって刺激されたと
きに一般に４００nmに近い波長で放出される光を受容す
るために、レーザ走査線の近接位置でＰＳＬ板の経路を
横切るように一直線に配列する。光導波路は、放出され
た光を光電子増倍管またはその他の受容器に渡すように
配列する。その結果、保存可能な電子ラスター像が得ら
れる。この電子像はコンピュータによる所望の像強化技
術を受けることができ、また画像表示装置に表示した
り、電子写真コピーを作成するためにレーザプリンタに
送ったり、従来の外見のＸ線板を作成するために写真フ
ィルム板に書き込むように配列されたレーザを制御する
ために使用することができる。

【０００６】ＰＳＬシステムの組織および動作が写真乳
剤システムのそれに類似することは評価されるだろう。
写真乳剤システムでは、露光したフィルム板を処理装置
に移送し、装置内でフィルム板上の潜像を化学的に現像
し、現像された像を走査する。ＰＳＬシステムでは、写
真乳剤システムのフィルム板をＰＳＬ板に置換する。こ
のＰＳＬ板は、Ｘ線装置内で露出され、次に走査装置に
移送され、この中で走査ビームによって潜像が走査さ
れ、走査のプロセスで像が「現像」される。

【０００７】したがって、ＰＳＬシステムの構成部品は
従来、写真乳剤システムで蓄積されてきた設計および現
像の投資および経験を利用するために、実行可能な限り
写真乳剤システムのそれと一致するように設計されてき
た。特に、ＰＳＬシステムで使用されるＰＳＬ材料の板
およびその取扱いは一般に、写真乳剤システムのそれと
一致するように設計されてきた。したがって、このよう
なＰＳＬシステムでは、ＰＳＬ材料はカセットから取出
し可能な可撓性フィルムのコーティングの形を取り、化
学処理段階を物理光学的段階に置換したことと、新しい
未感光の写真板を再装填するのとは対照的に同じＰＳＬ
板を消去した後で再装填するようにカセットを調整した
ことを除けば、ＰＳＬ走査装置の設計にはほとんど注意
が払われなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】周知のＰＳＬシステム
のカセットは従来のＸ線カセットであり、基板とそれに
蝶番で取り付けた蓋とから成り、これらの部品は両方と
も、収容されたＰＳＬシートの保護のために内部に柔ら
かい内張をしている。このようなカセットを使用したシ
ステムは、吸盤を内部にアクセスしてフィルムを捕捉し
てそれをカセットから取り出すために、カセットを特定
の最低角度以上に開かねばならないので、かさばるもの
になる。また、カセットのロック、蝶番式の蓋のロッ
ク、および精巧な把持部の操作、ならびに露光したＰＳ
Ｌシートの移送には、かなりの量の精度が要求され、ま
た機械的把持手段および協働サーボモータはシステムの
制御を複雑にし、かつ追加空間を必要とする。以上に述
べたような種類のシステムは、欧州特許出願ＥＰ−Ａ−
０３０９８７４に記載されている。

【０００９】分離した蓋から成る写真用カセットの例
は、欧州特許出願ＥＰ−Ａ−０３４７６４７に記載され
ている。このカセットは、スクリーンの支持体つまり蓋
が可撓性であり、そのためにその操作はいっそう難しく
なる。

【００１０】この配列は本明細書で後述するように様々
な短所を持っている。本発明の目的は、小型の構造を持
ち、露出後のＰＳＬ板をやさしく取り扱うことのでき
る、ＰＳＬ放射線カセットを走査するときに使用される
新規の形態の走査装置を提供することである。

【００１１】本発明に従って、光刺激発光（ＰＳＬ）放
射線写真に使用されるタイプのカセットを走査するため
の走査装置を提供する。このカセットは平らで実質的に
剛性の基板とその蓋から成り、蓋は基板の面に塗布され
たＰＳＬ材料の層を光密的に覆うために、基板に解放可
能に固定することができる。前記走査装置は、カセット
をこの装置内に受け取る受取ステーションと、基板とそ
の蓋を相互に分離するための手段を含む分離ステーショ
ンへカセットを輸送する移送手段と、基板を走査するこ
とのできる走査ステーションを通り、消去ステーション
を経て、基板とその蓋を再び組合わせる組立ステーショ
ンに続く経路に沿って基板を輸送するための手段とから
成り、蓋と基板がその分離中は実質的に平行な関係を維
持するように装置を構成することが、この装置の特徴で
ある。

【００１２】本発明によるＰＳＬカセット走査装置は、
従来のＰＳＬカセット走査装置を使用した場合に比べ
て、多数の非常に重要な利点を持つ。従来のＰＳＬ走査
装置は、ＰＳＬカセット内に分離した可撓性ＰＳＬ板が
包含されることを考慮に入れ、周知の走査装置は前記Ｐ
ＳＬ板を曲線経路に沿って案内する。その結果、ＰＳＬ
カセットの可撓性板は、使用中に必然的にたわんでしま
う。その結果、ＰＳＬ材料の層に応力が掛かる。これは
必然的にＰＳＬ材料の破壊につながる。蛍光体の結合剤
の適切な選択や、ＰＳＬ材料における結合剤の割合の増
加によって、ＰＳＬ材料の寿命を延長することは可能で
あるが、結合剤の割合を増加すると、蛍光体の割合が減
るので、解像度も低下する。ＰＳＬ材料を厚くすること
によって、解像度をある程度高めることはできるが、Ｐ
ＳＬ層の厚さを増加すると散乱の増加につながり、解像
度はさらに低下する結果となる。これらの問題は、本発
明による走査装置で使用されるＰＳＬカセットでは起き
る必要が無い。ＰＳＬ材料は走査装置内にある間中ずっ
と平らな状態に維持されるので、前記のような応力を受
けない。したがって、ＰＳＬ板はより長い有用寿命を持
つ。また、控え目に言っても重要なことであるが、ＰＳ
Ｌ材料の層は走査装置内を移送中に前記のような応力を
受けないので、もっと薄くすることができ、したがっ
て、結合剤に対する蛍光体の割合を高めることにより、
その寿命に実質的な悪影響を及ぼすことなく、解像度を
潜在的にかなり高めることができる。

【００１３】本発明による走査装置に使用するのに特に
適したＰＳＬカセットは、１９９２年４月４日に出願し
た「ＰＳＬ放射線写真用カセット」と題する、本願と同
一出願人の同時係属出願第９２２０１１０９．３号に記
載されている。

【００１４】本発明による走査装置のこのようなＰＳＬ
カセットを使用すると、さらに利点が得られる。従来の
ＰＳＬ板は可撓性であるので、カセットから取り出した
後で走査器内を移送するために平らに保持する必要があ
る。これは、このようなＰＳＬ板の両面を例えば移送ロ
ーラによって接触させる必要があることを意味してお
り、ＰＳＬ板のコーティング面をこのように、あるいは
別のいかなる方法でも接触させることは、おそらくＰＳ
Ｌ板の辺縁に沿った部分だけとはいえ、ＰＳＬ層に引っ
掻き傷ができる危険性をはらんでいる。この欠点は、本
発明の好適な特徴の採用によって緩和される。この新規
のカセットのＰＳＬ板は平らでしかも剛性であるので、
走査器の移送システムの部品とＰＳＬ層とを接触させる
ことなく、容易に走査器内を移送させることができる。
このような移送は例えば、ＰＳＬ板の縁面に触れるころ
軸受またはコンベアベルトに取り付けられたブラケット
によって達成することができる。平らで剛性のＰＳＬ板
を使用することのもう一つの利点は、走査装置の光導波
路を、板と光導波路が接触することなく板が通過できる
ように信頼できる隙間を設けながら、板の経路に近接さ
せて配置できることである。板と光導波路との間に小さ
いながらも信頼できる隙間を設けることにより、ＰＳＬ
材料から放出される光を集める効率および分解能が向上
する。

【００１５】本発明の幾つかの実施例では、走査装置を
一度に一つカセットを収容するように設計する。これ
は、装置の構造を簡単にするという利点があるが、オペ
レータによる実質的な常時監視が必要であり、オペレー
タが次の連続カセットを導入するために各カセットを取
り出すために待機していなければならないという不便さ
がある。しかし、このような装置は、低スループットの
カセットを実現するような設備には抜群に適している。
このような実施例では、前記分離ステーションと前記組
立てステーションを一つのものとすることが望ましい。
これにより、走査装置内の移送システムを非常に単純に
することができる。例えば、蓋を分離ステーション内で
基板から分離し、蓋をそこにそのまま保持しながら、そ
の間に基板を走査ステーションおよび消去ステーション
内に移送させ、その後同じ経路を逆に辿って分離ステー
ションに戻るようにすることができる。分離ステーショ
ンは今度は組立ステーションとなり、基板はここでその
蓋に再び組み合わされる。蓋を組立ステーションに送る
経路のための空間を見つける必要が無くなるので、装置
のフレームおよびそのフレームの被覆加工に使用される
重量および材料を節約することができ、装置の小型化の
促進にもなる。また、このような装置は、据付けのため
に広い床面積を必要としない。

【００１６】しかし、装置は常時監視することなく処理
できる１束のカセットを装填できることが望ましい。こ
の目的のために、前記受取ステーションは、入力するカ
セットの積重ねを保持するための棚と、この積重ねの構
成要素を装置内に連続的に取り込むための手段から成る
ことが望ましい。前記装置は、さらに、装置から排出さ
れた再組立後のカセットの積重ねを保持するための出力
棚から成る。これにより、オペレータは入力棚にカセッ
トの束を装填し、これらのカセット内の基板が処理され
た後、最終的に排出されて出力棚の積重ねが形成された
ときに、装置に戻すだけでよいので、走査装置の使用が
非常に簡単になる。

【００１７】このような装置の小型化およびそれに伴う
重量および材料の節約は、こうした装置が望ましい形態
としてさらに、前記走査ステーションと消去ステーショ
ンを迂回する経路に沿って前記蓋を前記組立ステーショ
ンに移送する手段を備えるようにした場合に、促進され
る。これにより、蓋は、蓋と基板との間に光学装置が置
かれるので蓋と基板との間をかなり、例えば６０cm以
上、分離する必要のある走査ステーションを通過しない
ので、移送システムの構造は単純化され、小型化が促進
される。実際にこのような装置は、１メートル×２メー
トル以下の足跡を持つキャビネット内に容易に収容で
き、アクセスはカセットの挿入および取り出しのために
それより短い側辺があればよい。これは、約１．５〜２
メートル×３〜４メートルの足跡を持つ一般的な周知の
ＰＳＬカセット走査装置とは非常に対照的である。さら
に、走査装置は非常に小さい（かつ重量的にも軽い）の
で、容易にキャスタに取り付けることができる。したが
って、保守技術員がアクセスのために容易に移動するこ
とができ、また通気のためにその周囲にわずかな隙間さ
えあれば、普通の場合、例えば室内の片隅にでも配置す
ることができる。また、部屋から部屋へ容易に移動する
こともでき、これを単体として製造し、丸ごと据付場所
に輸送することができる。一方、これよりずっと大型の
従来の装置は移動が困難で不便であり、したがって保守
技術員がアクセスするためにその周囲に充分な空間の余
裕が得られる部屋に据え付けなければならない。さら
に、従来の装置は通常モジュールとして製造し、それを
据付現場で組み立てなければならない。

【００１８】前記の移送手段は、前記基板が前記分離ス
テーションから前記組立ステーションまでの前記経路に
沿って実質的に基板自体の平面内で移送されるように、
配列することが望ましい。

【００１９】

【実施例】次に、添付の図面に示す本発明の好適実施例
について説明する。まず、図１に示すＰＳＬシステム
は、Ｘ線装置１０、走査装置４０、およびディスプレイ
装置９１を備えたコンピューター９０から成る。走査装
置は、カセット受取ステーション３０、分離ステーショ
ン４０、走査ステーション５０、消去ステーション６
０、組立ステーション７０、および出力ステーション８
０から成る。Ｘ線装置１０はＸ線管１１から成り、Ｘ線
管の前に患者１２を配置し、患者を通過したＸ線をＰＳ
Ｌカセット１３で受け取るように配置する。各カセット
１３はＰＳＬ剤の層が施与された基板１４と蓋１５から
成る。

【００２０】このように露出されたカセットのＸ線装置
から走査装置への移送は、トロリ２１に装填されたカセ
ット群１３として符号２０に示される。走査装置に到着
すると、カセット１３は受取ステーション３０に積重ね
状態３１に置かれる。連続カセット１３が受取ステーシ
ョン３０から分離ステーション４０に移送され、そこで
基板１４から蓋１５が分離される。

【００２１】次に基板１４は、走査ステーション５０お
よび消去ステーション６０を通る経路１１４に沿って移
動する。この経路１１４は、基板１４がずっと平らに維
持されるようになっており、実際、基板自体の平面内で
移送される。走査ステーション５０では、基板１４の頂
面上のＰＳＬ材料の層（図１では示されていないが、図
３および図４の符号１６に示されている）が、走査器ミ
ラー５２を利用してレーザ５１からのビームによって走
査される。このビームは、励起状態のＰＳＬ材料を刺激
し、光を放出して基底状態に戻す。放出されたこの光
は、１束の光ファイバーから成り光導波路５３によって
拾われる。光ファイバーの束の一端は、走査器ミラー５
２からのビームの走査路の上で平らな面状に形成し、他
端は円形またはその他の密集した束状に形成する。この
密集した束は、光電子増倍管から成る光検出器５４に接
続される。光検出器５４はコンピュータ９０に接続され
る。

【００２２】消去ステーション６０は１組の蛍光管６１
から成り、そこを基板１４を通り過ぎるようになってい
る。これは基板の頂面のＰＳＬ材料に強い光を当て、Ｐ
ＳＬ材料の残留エネルギーを放出させ、これが完全にそ
の基底状態に戻るのを保証する。その後、基板１４は組
立ステーション７０に移送される。

【００２３】その間に、走査ステーション５０および消
去ステーション６０を迂回する分離経路１１５を通っ
て、分離ステーション４０から組立ステーション７０へ
移動する。

【００２４】組立ステーション７０で蓋１５と基板１４
は再結合され、両方一緒にカセット１３として、装置の
出力ステーション８０の積重ね８１に排出される。

【００２５】実施例１図２および図３において、カセット１３は受取ステーシ
ョン３０の棚３２（図２）の積重ね３１に装填される。
連続カセット１３が積重ね３１の前から取り出され、次
に経路１１３に沿って分離ステーション４０へ運ばれ、
ここでカセット１３の基板１４とキャップ１５が分離さ
れる。装置は、図２に示すように、カセットの部品およ
びこれらが辿る移動経路が傾斜するように構成すると便
利である。この方法により、カセットは走査装置内を移
送中に重力により、一つ以上のコンベア、適切にはベル
トコンベア上に立て掛けておくことができる。使用でき
る様々なコンベアの一つの構造を、図３に示す。カセッ
トの基板１４は、経路１１４に沿って上方向に分離ステ
ーション４０を去り、走査ステーション５０を通り、そ
の後、基板１４は消去ステーション６０を通り抜けるま
で上昇移動を続け、その後下降移動できる位置まで水平
方向に逆戻りし、組立ステーション７０まで下降する。
一方、カセットの蓋１５は、カセット部品の初期共通経
路１１３に平行に始まる経路１１５に沿って、分離ステ
ーションから移動する。カセットの蓋１５は、受取ステ
ーション３０の前で逆戻りし、次に上昇して組立ステー
ション７０へ移動し、そこで処理されたばかりの基板１
４の正面位置に配置される。基板１４は前方に移動して
蓋１５と係合し、このようにして再結合されたカセット
１３は装置から出力ステーション８０の出力棚８２のカ
セットの積重ね８１の後部に排出される。分離ステーシ
ョン４０および組立ステーション７０に位置していると
き、および排出時を除き、移動中はずっとカセット１３
の各部品１４，１５が実質的にそれ自体の平面内で移動
するように構成されている。

【００２６】次に、図２についてさらに詳しく説明す
る。この装置用のキャビネットが純粋に図を明確にする
ために、二つの部分９２ａおよび９２ｂに分解されてい
ることがお分かりいただけよう。実際には、キャビネッ
トのこれらの二つの部分は連続しており、実際には単体
であり、カセット１３、基板１４、および蓋１５がそれ
ぞれに辿る経路１１３，１１４および１１５の水平部分
は、図に示すほど長くない。また、これらの経路の参照
符号１１３，１１４および１１５はこれらの経路の方向
を表わす矢印に適用されている。これらのそれぞれの経
路の輪郭を示すために、参照符号１１３ａ，１１４ａお
よび１１５ａが割り当てられている。

【００２７】分離ステーション４０には、基板を蓋１５
から分離するときに基板を保持するために、基板１４用
のホルダー４１がある。このホルダー４１の実施例につ
いては、図５の（ａ）ないし（ｃ）に関連してさらに詳
しく説明する。

【００２８】走査ステーション５０では、レーザ５１が
実質的に基板経路１１４の上限に平行に配列され、レー
ザから放射されるビームは、ミラー５５によって偏向さ
れて振動（または回転、例えば多面回転）ミラー５６に
送られ、このミラーによって走査ビームは収束レンズ５
７を通過して走査ミラー５２に送られ、この走査ミラー
はビームを基板１４のＰＳＬ層に送って発光を刺激し、
放出された光は光導波路５３によって集められる。収束
レンズ５７は非球面レンズが適切であり、ＰＳＬ層にお
けるレーザビームの衝突位置が、走査中一定の速度で移
動し、またこのビームがこうした走査中の光路の長さの
相違に関わらず、ＰＳＬ層に焦点を維持するように設計
される。

【００２９】次に、図３についてさらに詳しく説明す
る。基板１４の経路１１４を示す矢印は実線であり、蓋
１５の経路１１５を示す矢印は破線であり、組み立てら
れたカセット１３の経路は破線と実線が対になった矢印
１１３で示される。入力積重ね３１の手前のカセット１
３が、コンベアベルト１０１に取り付けられたブラケッ
ト１０２によって取り出され、このカセットが傾斜状態
で（図２と比較のこと）水平に分離ステーション４０ま
で輸送され、そこで蓋１５が基板１４から分離される。
分離後、基板１４は同じ傾斜配向のまま、１対のコンベ
アベルト１０３に取り付けられたブラケット１０４に支
持された状態でこれらのコンベアに載せられる。

【００３０】基板はコンベア１０３によって経路１１４
に沿って上昇移動し、さらに１対のコンベア１０５まで
移送され、ここで基板１４は、これらのコンベアに取り
付けられたブラケット１０６に支持された状態でこれら
のコンベアに載せられる。コンベア１０５は基板１４を
走査ステーション５０に通過させる。希望によっては、
走査ステーション５０および走査コンベア１０５の様々
な部品５１ないし５７（図２）を別個の副フレーム（図
示せず）に取り付け、その副フレームを、実際の走査期
間中の基板１４の振動の伝達を最小限にするような方法
で装置の主フレーム（図示せず）に取り付けてもよい。

【００３１】ＰＳＬ層１６の走査後、基板１４は、３番
目の上昇移動する１対のコンベア１０７およびさらにコ
ンベア１０７の延長として配列された４番目の上昇移動
する１対のコンベア１０７ａによって拾われ、ブラケッ
ト１０８に支えられる。コンベア１０７，１０７ａによ
って支持されながら、基板１４のＰＳＬ層１６は、ＰＳ
Ｌ材料をその基底状態に戻すために、消去ステーション
６０で蛍光管６１に暴露される。充分な時間をかけてこ
のような消去を達成した後、基板は、３番目と４番目の
上昇移動コンベア１０６，１０８の間を水平移動するコ
ンベア１１０に取り付けられたブラケット１０９によっ
て拾われる。消去されたＰＳＬ基板１４はこうして、棚
（図示せず）に沿ったその経路１１４の水平部（ここで
は１１４ａとして輪郭を示す）に沿って、１対の下降移
動するコンベア１１２に取り付けられたブラケット１１
１に運ばれる。基板１４はコンベア１１２によって下降
移動して組立ステーション７０に運ばれ、ここで前方に
移され、その間に分離ステーション４０から経路１１
５，１１５ａに沿って移送された蓋１５と再結合され
る。再び組み立てられたカセット１３は出力装置８１に
挿入する。

【００３２】実施例２図４は、図３に示した装置よりもっと簡単な実施例を示
すものであり、同様の部品を示すには同一符号を使用し
た。図４の実施例は、一度に一つのカセットを処理する
ように設計されている。露出後のカセット１３は入力ス
テーション３０から、コンベア１０１に取り付けられた
ブラケット１０２に載せられ、分離ステーション４０に
移送される。ここで、蓋１５はＰＳＬ層１６を施与され
た基板１４から分離され、ＰＳＬ材料１６の処理中、吊
下げ状態に維持される。基板１４はブラケット１０４に
支持された状態でコンベア１０３によって上昇移動し、
次に走査コンベア１０５および対応ブラケット１０６に
よって走査ステーション５０内に送られる。基板は次に
コンベア１０７に拾われ、消去ステーション６０内で消
去が行なわれる間、ブラケット１０８によって支持され
る。消去の後、基板１４は同じコンベアによって下降移
送して分離ステーション４０に戻る。これは今度は組立
ステーション７０となる。基板１４と蓋１５はここで再
結合され、コンベア１０１によって逆方向に入力ステー
ションまで移送される。これは今度は出力ステーション
８０となる。

【００３３】次に図５の（ａ）、（ｂ）および（ｃ）に
ついて説明する。カセット１３は、基板１４と蓋１５か
ら成る。基板はその上面にＰＳＬ材料のコーティング１
６が塗布されており、基板の縁部は、蓋１５の側部に適
合するようにわずかに傾斜している。これにより、カセ
ットの再組立中にある程度の自己センタリングができ
る。基板と蓋の縁部の周囲の適切な位置に、ラッチ機構
が配置されている。これらのラッチ位置をカセットの１
対の対置する両端部から同じ距離の位置に配置すれば、
異なるサイズのカセットをより容易に収容できるように
なる。各ラッチ機構は、基板の係留ピン１７と蓋の穴１
９から成り、ピンがばね１８によって荷重を受けると穴
に係合される。基板と蓋の縁部の傾斜は、再組立時に、
ピン１７が蓋の縁部によって押し込まれ、その対応する
穴１９にぱちんと嵌って係合するように形成されてい
る。

【００３４】走査装置は、分離ステーション４０に基板
１４を保持する手段４１と、蓋を外す手段４２とを有す
る。提示する実施例では、蓋取り外し手段はスタッド４
２ａ付きの把持アーム４２から成り、各スタッドはそれ
ぞれ蓋１５の穴１９に貫通するように移動可能であり、
それによってばね荷重ピン１７をその穴から外れさせ、
蓋が把持アームによってしっかりと保持されると共に、
それを基板１４に固定している手段の係合を外すことが
できる。

【００３５】基板１４を保持する手段４１は、チャンバ
４５を形成するためにフレーム４４に取り付けられた薄
膜４３から成る。薄膜４３は吸盤４７を装備したプレー
ト４６に取り付けられ、ばね４８によってフレームに対
しバイアスされる。特に図５の（ｂ）に示す構成では、
把持アーム４２が蓋１５にロックされると、チャンバ４
５の内部に正圧が働き、ばね４８のバイアスを克服し、
吸盤４７が基板１４の底面に押し付けられ、蓋１５が取
り外されるときに基板１４が保持される。変化例とし
て、チャンバ４５の内部に負圧が働き、ばね４８の圧力
に対抗して薄膜４５が図５の（ａ）および（ｂ）に示す
位置に保持され、解放されると吸盤４７がばね４８によ
って基板１４に押し付けられるようにすることもでき
る。

【００３６】基板ホルダー４１は、図３および図４に示
す最下位置の上昇移動コンベア１０３の間に設ける。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を組み込んだＰＳＬ放射線写真システム
の組織を示したブロック図である。

【図２】本発明による走査装置の第１実施例を示す概略
図である。

【図３】本発明による走査装置の第１実施例を示す概略
図である。

【図４】本発明による装置の第２実施例を示す概略図で
ある。

【図５】図２ないし図４の装置の分離ステーションを示
す図である。

【符号の説明】

１０Ｘ線装置１１Ｘ線管１２患者１３ＰＳＬカセット１４基板１５蓋１７ピン１８ばね１９穴２０カセット群２１トロリ３０カセット受取ステーション３１カセット積重ね４０分離ステーション４３薄膜４４フレーム４５チャンバ４６プレート４７吸盤４８ばね５０走査ステーション５１レーザ５２ミラー５３光導波路５４光検出器５５，５６ミラー５７レンズ６０消去ステーション６１蛍光管７０組立ステーション８０出力ステーション８１積重ね９０コンピュータ９１ディスプレイ１１３，１１４，１１５経路１０１，１０３，１０５，１０７，１１０コンベヤ１０２，１０９ブラケット

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ジェラール・ボーヴベルギー国モートゼール、セプテストラート 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロゼ・ベンノートチャップ内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光刺激発光（ＰＳＬ）放射線写真に使用
されるタイプのカセット（１３）を走査するための走査
装置であって、カセットは平らで実質的に剛性である基
板（１４）とこの基板（１４）のためのキャップ（１
５）とから成り、キャップ（１５）は前記基板（１４）
に対して解放可能（１７，１８，１９）に固定できて基
板（１４）の面に施与されたＰＳＬ材料（１６）の層を
光密的に覆っている、カセットを走査するための走査装
置において、装置の中へカセット（１３）を受け取るための受取ステ
ーション（３０）、カセット（１３）を分離ステーショ
ン（４０）へ輸送するための移送手段（１０１，１０
２）を備え、前記分離ステーションは前記基板（１４）
とそのキャップ（１５）とを互いに分離するための手段
(（４１ないし４８）を含み、前記基板（１４）が走査
される走査ステーションを通り、消去ステーション（６
０）を経て、基板とキャップとが再び組み合わされる組
立ステーション（７０）へと続く経路（１１４，１１４
ａ）に沿って基板（１４）を移送するための手段（１０
３ないし１１２）を備え、前記キャップと基板がそれら
の分離中に実質的に平行な関係を維持するように前記装
置が配列されていることを特徴とする、カセットを走査
するための走査装置。
【請求項２】前記受取ステーション（３０）が入力さ
れたカセット（１３）の積重ね（３１）を保持する棚
（３２）と前記積重ねの構成要素（１３）を装置へ連続
的に取り込むための手段（１０１，１０２）とから成
り、前記走査装置がさらに、装置から排出された再組立
後のカセット（１３）の積重ね（８１）を保持するため
の出力棚（８２）から成ることを特徴とする、請求項１
記載の走査装置。
【請求項３】前記走査装置がさらに、前記走査ステー
ション（５０）と消去ステーション（６０）を迂回する
経路（１１５，１１５ａ）に沿って、前記キャップ（１
５）を前記組立ステーション（７０）へ移送するための
手段から成ることを特徴とする、請求項１または２記載
の走査装置。
【請求項４】前記分離ステーション（４０）と前記組
立ステーション（７０）が一つのものであることを特徴
とする、請求項１、２または３記載の走査装置。
【請求項５】前記基板が前記分離ステーション（４
０）から前記組立ステーション（７０）まで前記経路
（１１４，１１４ａ）に沿って実質的にそれ自体の平面
内で移送されるように、前記移送手段（１０３ないし１
１２）を配列したことを特徴とする、請求項１ないし４
のいずれかに記載の走査装置。