JPH0644117B2

JPH0644117B2 - 液晶表示パネル用電極基板

Info

Publication number: JPH0644117B2
Application number: JP59203784A
Authority: JP
Inventors: 林次郎市川; 忠司犬飼; 愛之藤田
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1984-09-27
Filing date: 1984-09-27
Publication date: 1994-06-08
Anticipated expiration: 2009-06-08
Also published as: JPS6180122A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は平滑性、平面性が良好で、かつ酸素、窒素など
の耐透気性に優れた結晶表示パネル用電極基板に関する
ものであり、液晶表示装置は勿論のこと、その他、光導
電性感光体用電極、面発熱体、また建築物の窓貼りから
各種デイスプレイのフイルターや化粧板としても利用で
きる。

〔従来の技術〕

近年液晶パネルは(1)薄膜化、(2)軽量化、(3)大型化、
(4)任意の形状化、(5)曲面化、(6)低コスト化などの要
求があり、これに応えるものとしてプラスチツク基板を
用いた液晶パネルが検討、実用化されはじめた。この液
晶パネル用プラスチツク基板には次のような特性が要求
される。

(1) 光学的に可視光領域で透明。

(2) 光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない。

(3) 表面が平滑で硬い。

(4) 液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性、耐熱
性（１００℃以上）があること。

(5) シール材との密着力が良く、長期に亘つて気密性
があること。

(6) 耐透湿性があること。

(7) 耐透気性があること。

(8) 耐液晶性があり、長期に亘つて安定なこと。

これらの特性を全て満すことは、困難であるが、本発明
者らはすでに、これらの特性を有する液晶表示用の透明
電極付プラスチツク基板を提案した（特開昭56-130010
号公報参照）。

しかし、長期にわたる信頼性や自動車などの苛酷な条件
下で使用する際、さらに優れた耐透湿性特に耐透気性が
要求される。例えば、耐透湿性が不充分の場合は消費電
力が増加すると共に液晶及び配向膜の劣化を生じること
が判つた。一方、耐透気性が不充分の場合には、気泡が
混入し表示部に黒点を生じるなどの欠点を生じることが
判つた。

前記欠点のうち耐透湿性を向上させることを目的とし
て、プラスチツク基板の少なくとも片面に、該基板より
低透湿率であるプラスチツク層を形成した表示素子用プ
ラスチツク基板が知られ（特開昭55-135817号公報）、
プラスチツク層の材質として、フツ素樹脂、無極性樹
脂、極性樹脂がそれぞれ例示されているが、これらはプ
ラスチツク基板との密着性が悪かつたり、また熱処理な
どの後工程処理により変色するなどの欠点を有していて
実用的ではなかつた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明者らは前記従来の技術における欠点、つまり液晶
表示パネル用電極基板において耐透気性が不充分なため
気泡が混入して表示部に黒点を生じるなどの欠点、さら
に耐透気性を向上させるために生じる種々の欠点、たと
えば耐透気層とプラスチツク基板との密着性、耐透気層
の着色などの問題を解決するため鋭意研究、努力した結
果、遂に本発明を完成させるに到つたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

すなわち本発明は、一方向のみに延伸されたポリエステ
ルフィルムまたはシートの片面または両面に、ビニルア
ルコールー成分含有線状重合体、ビニルアルコール成分
含有グラフト共重合体およびハロゲン化ビニリデン成分
６０〜９０モル％含有した共重合体より選ばれた一種ま
たは二種以上であり、かつ、酸素透過率３０cc／２４
ｈ．m²・atm 以下の高分子樹脂を塗布または積層し、前
記ポリエステルフィルムまたはシートと高分子樹脂層と
の剥離強度が５０ｇ／２５mm以上で、かつ可視光線透過
率が６０％以上である複合基板の少なくとも片面に透明
電極を設けてなる液晶表示パネル用電極基板である。

本発明に用いられるポリエステルフイルムとしては、二
塩基性酸とグリコールとから合成される線状ポリエステ
ル樹脂から成型されるものが用いられ、二塩基性酸とし
ては、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸やアジピン酸、セバシン
酸等の脂肪族ジカルボン酸の１種又は２種以上が用いら
れ、またグリコールとしては、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、１，４ブタンジオール等の１種又
は２種以上が用いられるが、テレフタル酸とエチレング
リコールとから合成される繰返し単位の９０モル％がエ
チレンテレフタレートであるポリエステルが特に好まし
い。

上記ポリエステル樹脂は、通常の湿式製膜法、乾式製膜
法、溶融製膜法によつてフイルム状またはシート状に成
形されるが、成形の容易さ、製造コストなどの点から溶
融押出法が最適である。フイルムまたはシートの厚みは
通常５〜1000μ、好ましくは２０〜２００μである。

溶融押出し法で成形する場合、通常ポリエステル樹脂を
該ポリエステル樹脂の融点以上に加熱されたシリンダー
に供給しつつスクリユーで混練、溶融させ、Ｔ型又はサ
ーキユラ型口金から押し出し、冷却ロールまたは水等の
冷媒に接触させて急冷することにより透明で無配向のフ
イルムまたはシートが得られる。該無配向のフイルム又
はシートはその後一方向のみに延伸される。延伸は自由
幅又は一定幅の下で、該ポリエステル樹脂の二次転移点
（以下Ｔｇ）以上の温度にフイルムを加熱せしめて、速
度の異るロール間又はＴＭLong等バツチ式延伸機を用
い、２〜７倍に延伸される。延伸倍率が２以下では延伸
斑が生じたり、配向効果が不充分であつたりして好まし
くなく、７倍以上では破断しやすく製造の歩留りが低下
して好ましくない。

本発明において、前記ポリエステルフイルムまたはシー
トとの複合基板を構成する高分子樹脂層（以下耐透気層
という）はその酸素透過率（ASTM・D-1434-75に準じて測
定）が３０cc／２４hr.m²・atm以下、好ましくは２０cc
／２４hr.m²・atm以下、かつポリエステルフイルムまた
はシートとの剥離強度（ASTM.D1876に準じて測定）５０
ｇ／２５mm以上、好ましくは１５０ｇ／２５mm以上であ
る。酸素透過率が３０cc／２４hr・m²・atmを越えると、
厚さをいくら厚くしても温度変化の厳しい苛酷な条件や
長期間の使用により表示部に黒点が生じるので好ましく
ない。また剥離強度が５０ｇ未満では、次工程の透明電
極処理や液晶パネル製造のパターン出し酸、アルカリ水
溶液処理、有機薬品処理、組立工程などの際に剥離して
しまうので好ましくない。

なお前記ポリエステルフイルムまたはシートと耐透気層
との複合基板の可視光線透過率は６０％以上必要であ
る。６０％未満では表示部のコントラストが悪くなるの
で好ましくない。

以上の条件を満たす耐透気層を形成する耐透気製高分子
樹脂としては、ビニルアルコール（以下ＶＡという）成
分含有線状重合体、ＶＡ成分含有グラスト共重合体、ハ
ロゲン化ビニリデン成分６０〜９０モル％含有した共重
合体などが挙げられる。

ＶＡ成分含有重合体は、ＶＡ含有量が50〜95モル％の含
ＶＡの線状及びグラフト共重合体で必要に応じてこれに
架橋剤を添加する。線状の含ＶＡ共重合体としては、オ
レフイン−ビニルアルコール（以下ＯＶＡという）共重
合体及び酢酸ビニル−ビニルアルコール（以下Ｖａ・Ｖ
Ａという）共重合体を含むもので、ＯＶＡ共重合体は、
キ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビ
ニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ステアリ
ン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニ
ル、安息香酸ビニル、ｐ−メチル安息香酸ビニル等の置
換若しくは非置換脂肪族又は芳香族カルボン酸のビニル
エステルを所定量のオレフイン（例えばエチレン、プロ
ピレン或はこれらの混合物やエチレン−プロピレン共重
合体等）と共重合させてビニルエステルを５０〜９０モ
ル％含むオレフイン−ビニルエステル共重合体を得、こ
れをケン化することにより得られる。尚このケン化は完
全ケン化であつてもよいが、一部未ケン化のエステル結
合を残していてもよい。またＶａ．ＶＡ共重合体は酢酸
ビニル重合体を部分ケン化することによつて得られる。

オレフイン−ビニルエステル共重合体及び酢酸ビニル重
合体のケン化法としては、該重合体をメタノール、エタ
ノール、ブタノール等の溶媒に溶解し、少量の酸或はア
ルカリの存在下でエステル交換反応させ、或は過剰量の
アルカリの存在下で加水分解反応させる方法が採用され
る。ここでＯＶＡ共重合体又はＶａ・ＶＡ共重合体中の
ＶＡ含有率が５０モル％未満であるとガス透過性が高く
なり、充分な耐透気性が得られない。一方９５モル％を
越えると、耐湿性が低下し、吸湿によりガス透過性が高
くなる。

ＶＡ成分含有グラフト共重合体とは、ポリ酢酸ビニルの
５０〜１００％ケン化のポリビニルアルコール（以下Ｐ
ＶＡという）に付加重合性単量体をグラフト共重合した
ものである。ケン化度が５０％未満のものでは後述のグ
ラフト化物を得ても安定なエマルジヨンラテツクスとす
ることができない。従つて塗工しても十分な密着性が得
られず、又十分な耐透気性が得られない。

前記付加重合単量体としては、付加重合性の２重結合を
有し、且つ水不溶性の化合物が用いられる。尚水不溶性
とは、ＰＶＡを不溶化させる為の要求特性で、一般的に
は２０℃の水に対する溶解度が１０重量％以下であるこ
とが推奨される。１０％を越える単量体を用いると、得
られたグラフト共重合物を利用するに当つて安定したエ
マルジヨンドープが得られず、耐湿性が低下してガスの
バリヤーも十分なものではない。上記条件に適うもので
あれば全て本発明における好適モノマーとして利用でき
るが、より具体的な例をもつて説明すると、オレフイン
系モノマー（例えばエチレン、プロピレン等）、ジエン
系モノマー（例えばブタジエン等）、スチレン系モノマ
ー（例えばビニルベンゼン、ジビニルベンゼン等）、ハ
ロゲン化ビニル（例えば塩化ビニル、臭化ビニル、クロ
ロプレン等）、酢酸ビニル系モノマー（例えば酢酸ビニ
ル等）、アクリロニトリル系モノマー（例えばアクリロ
ニトリル等）、シアン化ビニリデン、ビニルエーテル系
（例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテ
ル、ｎ−ブチルビニルエーテル等）、アクリル酸エステ
ル系モノマー〔例えばメチルアクリレート、エチルアク
リレート、ｎ−アルミアクリレート、ｎ−プロピルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、モノ
（２−アクリロイロキシエチル）アシツドホスフエート
等〕、メタクリル酸エステル系モノマー〔例えばエチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピル
メタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、iso −プ
ロピルメタクリレート、sec −ブチルメタクリレート、
ｎ−アミルメタクリレート、メトキシエチルメタクリレ
ート、ｎ−ブトキシエチルメタクリレート、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート、グリジルメタクリレー
ト、１，３−ブタンジオールメタクリレート、モノ（２
−メタクリロイロキシエチル）アシツドホスフエート
等〕等が挙げられ、これらは必要に応じて他の置換分、
例えば低級アルキル基（メチル、エチル、プロピル、ブ
チル等）、低級アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、ブトキシ基）、ハロゲン等を有していても良
い。

ＰＶＡ及び重合性単量体からグラフト重合体を製造する
為の反応条件については特段の制限を設けないが、通常
は硝酸第２セリウムアンモニウム、硫酸セリウムアンモ
ニウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸
ナトリウム、過酸化水素等の水溶性重合開始剤を共存さ
せ、水媒体中で反応を行なう。反応系におけるＰＶＡの
濃度は、一般に２〜５０％が好ましい。これは反応終了
後の混合物をそのまま成膜用ドープとして利用すること
を考慮した為であり、２％未満では均一厚さのフイルム
を得ることができない。又５０％を超えると成膜にドー
プのゲル化が起こり、均質な塗膜を得ることができなく
なる。他方重合性単量体の濃度は、ＰＶＡ１００重量部
に対して１〜７０重量部使用するのが良い。１重量部未
満では耐湿性がなく、他方７０重量部を超えるとＰＶＡ
の特性が低下して、いずれも耐透気性が不十分である。
又水溶性重合開始剤としては、ＰＶＡ１００重量部に対
して０．０５〜１０重量部配合するのが良い。０．０５
重量部未満では重合反応の開始が困難であり、他方１０
重量部を越えると開始剤の為にPVAが劣化することがあ
り、グラフト重合率が却つて低下するからである。但
し、更に好ましい添加量は、上記基準に対して０．５〜
５重量部である。尚グラフト重合反応は通常冷却乃至加
熱下に行なわれ、一般的には０〜１００℃、好ましくは
５〜８０℃が推奨される。０℃未満では重合速度が遅
く、１００℃超では重合開始剤の分解を招き、重合系の
安定性が低下してグル化等を生じるからである。

こうして得られる反応物中にはグラフト共重合物の他
に、ＰＶＡや重合性単量体同士のホモポリマー等が混在
するが、これらは分離せずにそのままフイルム基材とす
ることができる。

前記ＶＡ成分含有重合体の耐湿性，耐薬品性向上のため
添加する架橋剤としては、例えばホルマリン系の架橋
剤，ホルマリン、グリオキザール、パラホルム、アルデ
ヒド、Ｎ−メチロール樹脂系の架橋剤としてはジメチロ
ール尿素、ジメチロールエチレン尿素、トリメチロール
メラミン。水溶性ウレタン系架橋剤としてはブロツクイ
ソシアナートや水溶性のエポキシ樹脂などが挙げられ
る。これらの架橋剤の添加量は前記のＶＡ含有重合体１
重量部に対して０．０５〜０．５重量部、特に０．１〜
０．３重量部添加するのが好ましい。ＶＡ含有重合体１
重量部に対して０．０５重量部以下では添加効果が得ら
れず、０．５重量部を越えると溶液がゲル化し易く、均
質の塗膜を得ることができなくなる。

以上の他、ハロゲン化ビニリデン成分を６０〜９０モル
％含有した共重合体が挙げられ、たとえば、塩化ビニリ
デン、臭化ビニリデン、フツ化ビニリデンなどのハロゲ
ン化ビニリデンと酢酸ビニル、アクリロニトリル、エチ
レン塩化ビニル、臭化ビニル、フツ化ビニル、スチレ
ン、ビニルアクリレート等との共重合体が挙げられる。
ハロゲン化ビニリデン成分が６０モル％未満では耐透気
性が向上せず、一方９０モル％を越えると高温に加熱し
たときに着色したりするので好ましくない。

本発明において、前記高分子樹脂で形成される耐透気層
の厚さは１〜５０μ、好ましくは２〜２０μである。こ
れは１μ未満では耐透気性向上が不充分であり、５０μ
を越えると複合基板を形成する際、カールしたりするの
で好ましくない。

次に本発明において、ポリエステルフイルムまたはシー
トと耐透気層とで複合基板を形成する方法としては、通
常、前記耐透気性高分子樹脂をその溶剤の１種または２
種以上に溶解させて、ポリエステルフイルムまたはシー
ト面上に塗布、乾燥し、熱処理して耐透気層を形成させ
て複合基板が得られる。

前記耐透気性高分子樹脂のうち、ＶＡ成分含有の線状共
重合体の場合は水とアルコールの混合液、特に水とイソ
プロパノール（混合比１：１）、水とｎ−ブタノール
（混合比１：１）などの混合液が挙げられる。ＶＡ成分
含有のグラフト共重合体の場合はそのまゝ塗布する。一
方ハロゲン化ビニリデン成分含有重合体を用いる場合の
溶剤としてはジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサノン、ジメチルアセトアミド、ジオキ
サン、トリクロルエタン、エチレンクロリド、モノクロ
ルベンゼン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

耐透気性高分子樹脂を前記溶剤に溶解させた溶液を塗布
する方法としては、ロールコーター、グラビヤロールコ
ーター、ロツドコーター、エヤナイフコーター、スプレ
ーコーターなどの通常の方法が採用される。このように
して耐透気性高分子樹脂を塗布し、通常の方法で乾燥し
て溶剤を除去してのち剥離強度（ASTM・D1876）５０ｇ以
上の密着性を得るためには、熱処理を行うことが必要で
ある。熱処理条件は被塗布フイルムまたはシートや塗布
する耐透気性高分子樹脂により適宜選択して行うことが
できるが、通常１００℃〜１８０℃、望ましくは１２０
℃〜１５０℃、数秒〜数十分行うが必要に応じて被塗布
フイルムをコロナ処理してのち塗布・乾燥後熱処理する
と密着性が向上し熱処理効果が顕著となる。特に硬化タ
イプのフイルムやシートの場合はコロナ処理による密着
性効果がよい。使用する耐透気性高分子樹脂による通常
の熱処理条件としては、ＶＡ成分含有線状共重合体の場
合は120℃〜１５０℃、数秒〜数十分、ＶＡ成分含有の
グラフト共重合体及びハロゲン化ビニリデン成分含有の
樹脂の場合は１００℃〜１６０℃、数秒〜数十分で行う
のが好ましい。いずれの場合も熱処理条件が不十分な場
合は十分な密着性が得られず、しかも緻密な高分子樹脂
膜とならず、耐透気性が得られない。また、熱処理を苛
酷に行うとポリエステルフイルムまたはシートの配向が
乱れたり、着色を生じて得られた複合膜の可視光線透過
率は６０％未満となるので好ましくない。

本発明において、該ポリエステルフイルムまたはシート
と耐透気性高分子樹脂層間の接着力を向上させるため
に、ポリエステルフイルムまたはシートに予じめコロナ
放電処理を行うことや、接着剤を塗布する事もできる。
この場合、接着剤としては、ポリエステル系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等が用いられるが、耐
熱性や耐薬品性等の点から硬化性樹脂の方が好ましい。
接着剤層の厚さは特に制限されないが透明性等の点から
薄い方が好ましく約５０μ以下がよい。

次に本発明液晶表示パネル用電極基板を作製するため、
前記方法で得られた複合基板の片面または両面に透明導
電層を形成して透明導電性を付与する。上記形成方法
は、公知方法及び今後開発される新規方法の如何を問わ
ないが、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパツタ
リング法、イオンプレーテイング法、金属溶射法、金属
メツキ法等が採用される。これらのうち、薄層が形成で
きること、及び均一層が形成できることの２点を満足す
るものとしては、真空蒸着法とスパツタリング法が推奨
される。導電層を形成する為の素材としては、Sn、In、
Ti、Pb等の金属又はそれらの酸化物が汎用され、金属単
体を上記の方法で基板上に形成したときは、希望に応じ
てその後酸化する場合もある。尚当初から酸化物層とし
て付着形成させる方法もあるが、最初は金属単体又は低
級酸化物の形態で被膜を形成し、しかる後加熱酸化、陽
極酸化或は液相酸化等の酸化処理を施して透明化する手
段を採用することもできる。尚上記以外にAu、Pt、Ag等
の貴金属を用いる場合もある。又これら金属或はそれら
の酸化物からなる導電層は透明性や導電性等の要求特性
に応じた層厚とするが、通常は１００Å以上、安定な導
電性を与る為には、３００Å以上とすることが望まれ
る。

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や耐
薬品性を考慮して２以上の複数層として形成することも
できる。又被膜の均一性や密着性等、更には耐摩耗性等
を向上する目的で、アンダーコートやオーバーコートを
施こす場合もある。前者の例としては、シリコン系やエ
ポキシ系の樹脂が利用され、後者の例としてはゼラチ
ン、シリコン、コロージヨン等が利用される。又更に必
要であればこれらのうえに、更に光電導性物質の層やエ
レクトロ・ルミネツセンス材料の層を形成する場合もあ
る。

次に図面を用いて本発明を説明する。

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図である。１は液晶、２は透明導電膜、３はポ
リエステルフイルム、４は耐透気層、５は偏光板を示
し、偏光板５と耐透気層４との間に粘着層があつてもよ
い。第２〜４図はそれぞれ本発明液晶表示パネル溶電極
基板の種々の実施態様例の断面図である。第２図は耐透
気層４が透明導電膜２側に形成されており、第３図はそ
れがポリエステルフイルム３の両面に形成されている。
第４図は透明導電膜２と複合基板（ポリエステルフイル
ム３＋耐透気層４）との間に、接着性を強固にするため
シランカツプリング剤などのアンカー剤層を有している
例を示す。

〔実施例〕

以下実施例を用いて本発明を具体的に説明する。なお、
剥離強度はASTM・D1876により、テンシロンＵＴＭ−３Ｌ
（東洋ポールドウイン社製）を使用、２０℃、６５％Ｒ
Ｈ、サンプル巾２５mmでＴ型剥離強度を測定した。

酸素透過率はASTM・D1434・75により産工試式気体透過率
測定装置（理工精機工学製）を使用２５℃、０％ＲＨで
測定した。なお、実施例中部とあるのは重量部を意味す
る。

実施例１．ポリエチレンテレフタレート（IV０．６２）をシリンダ
温度（C₁：280℃、C₂：290℃、C₃：295℃、アダプタ295
℃）及びＴダイ温度２９０℃に設定された４０mmφ押出
機に供給して溶融押出し、直ちに３０℃に設定されたチ
ルロールに接触させて、厚み２８０μの透明で無配向の
フイルムを得た。

該フイルムを雰囲気温度９３℃に設定されたＴＭLong S
tretcher（ＴＭLong社製）に取り付け、変形速度10,000
％／min で一定幅で一方向に５倍延伸し、該延伸フイル
ムを金枠に固定し定長下２００℃で１分間熱固定処理を
行つた。得られたフイルムの厚みは６２μであつた。得
られた一軸配向ポリエステルフイルムの片面に印加電１
６０Ｖでコロナ処理を行い、コロナ処理面に下記Ａ溶液
をドクターナイフを用い、ギヤツプ１５０μで塗布した
後７０℃で１０分間乾燥、更に金属枠に固定して１３０
℃で２０分間熱処理した。得られた複合基板の厚みは７
７μ（耐透気層の厚み：１５μ）、可視光線透過率４０
０ｎｍで８７％で耐熱性、耐薬品性、耐液晶性も良好で
あり、ポリエステルフイルムと耐透気層間の剥離強度は
127ｇであつた。また、ガス透過度は１．８cc.／m²・da
y.atmであつた。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ａ溶液）エチレン／ビニルアルコール共重合体（モル比３０／７０：日本合成化学ソアノールＡ）２０部水４８部イソプロピルアルコール３２部スミテツクスレジンＭ−３（住友化学工業：メチロール化メラミン）４部塩化マグネシウム溶液（住友化学工業：スミテツクスアクセレレーヌＭＸ）１部得られた複合基板の耐透気性の反対面にテトラオクチル
チタネートの０．０８％、ｎ−ヘキサン溶液を塗布し、
１００℃、１０分間加熱してプライマー処理をし、低温
スパツタリング装置で下記条件で透明導電膜処理した。
導電膜層の厚さは280Å、抵抗値は６１０Ω／cm²であつ
た。

（透明導電膜処理条件）タ -ゲツト：1n₂O₃98wt%、SnO₂7wt% ガス：Br85%、O₂15% 圧力：５×１０^-13Torr 出力：４００Ｗ析出速度：１２Å／sec 得られた電極基板は可視光線透過率４００ｍμ、７８
％、５００ｍμ、８４％と良好で、耐液晶性、耐薬品性
もよく、耐透気性は透明電極処理前と同じ２cc.／２４h
・m²・atm であつた。該電極基板を用いて液晶表示パネル
を作製して、信頼性試験を実施したところ、試験前と同
様の良好な表示能力が得られた。

比較例１．実施例１で用いた１軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムの酸素ガス透過度は４５cc.／m²・day・atmであ
つた。次いで、該フイルムの片面に耐透気層を設けず、
実施例１と同様の処理条件で透明導電膜を形成した。導
電層の膜厚３６０Å、抵抗値５００Ω／cm²、可視光線
透過率４００ｍμ、７９％、５００ｍμ、８５％、耐液
晶性、耐薬品性、耐熱性など良好な電極基板を得たが、
該基板の酸素ガス透過性は、やはり４５cc.／２４h・m²・
atmであつた。該電極基板を用いて実施例１と同様に液
晶表示パネルを作製した。該パネルを-20〜１００℃の
サイクル試験を実施したところ、空気透過による黒点が
表示部に発生し、試験前に比べ表示能力が低下し、該電
極基板の耐透気性が不充分であることが判つた。

〔発明の効果〕

以上、かかる構成よりなる本発明液晶表示パネル用電極
基板は、 (1) 光学的に可視光領域で透明。

(2) 光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない。

(3) 表面が平滑で硬い。

(6) 耐透湿性があること。

(7) 耐透気性があること。

(8) 耐液晶性があり、長期に亘つて安定なこと。

などの特長を有しているため、本発明基板を用いた液晶
表示パネルは、屋内外の苛酷な条件や長期間の使用に耐
えることができ、特に耐透気性に優れているため、空気
の混入による黒点の発生がなく、そのことによつて初め
て、プラスチツク基板を用いた液晶表示パネルとして市
場に供し得ることができたのである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図、第２〜４図は本発明電極基板の種々の実施
態様例の断面図である。１：液晶２：透明導電膜３：一軸配向ポリエステルフイルム４：耐透気層５：偏光板６：アンカー剤層７：強化層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一方向のみに延伸されたポリエステルフィ
ルムまたはシートの片面または両面に、ビニルアルコー
ル成分含有線状重合体、ビニルアルコール成分含有グラ
フト共重合体およびハロゲン化ビニリデン成分６０〜９
０モル％含有した共重合体より選ばれた一種または二種
以上であり、かつ酸素透過率３０cc／２４ｈ．m²・atm
以下の高分子樹脂を塗布または積層し、前記ポリエステ
ルフィルムまたはシートと高分子樹脂層との剥離強度が
５０ｇ／２５mm以上で、かつ可視光線透過率が６０％以
上である複合基板の少なくとも片面に透明電極を設けて
なる液晶表示パネル用電極基板。
【請求項２】一方向のみに延伸されたポリエステルフィ
ルムまたはシートあるいは高分子樹脂層と透明電極との
間にアンカー剤が存在している特許請求の範囲第(1)項
記載の液晶表示パネル用電極基板。