JPS6180122A - 液晶表示パネル用電極基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分計〕 本発明は平滑性、平面性が良好で、かつ酸素、窒素など
の耐透気性に優れた液晶表示パネル用゛成極基板に関す
るものであり、液晶表示装置は勿論のこと、その他、光
導°成性感光体用電極１面発熱体、また建築物の窓貼り
から各種ディースプレィのフィルターや化粧板として利
用できる。

〔従来の技術〕

近年液晶パネルは（１）薄膜化、（２）軽量化、（３）
大型化、（４）任試の形状化、（５）曲面化、（６）低
コスト化などの要求があり、これに応えるものとしてプ
ラスチック基板を用いた液晶パネルが検討、実用化され
はじめ念。この液晶パネル用プッスチック基板には次の
ような特性が要求される。

（１）　　光学的に可視光領域で透明。

（２）　　光学的に等方性で１着色干渉縞が発生しない
。

（３）　　表面が平滑で陳い。

（４）液晶組立などの製造工程に酎える耐薬品性。

耐熱性（１００℃以上）があること。

（５）　　クール材とのｇ着力が良く、長期に亘って気
密性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐通気性があること。

（８）　　耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。

これらの特性を全て満すことは、困錐であるが。

本発明者らはすでに、これらの特性を有する液晶表示用
の透明ｗｔ、極付プラスチック基板ｔ−提案した（特開
昭５６−１３００１０号公ｆ！Ｊ、参照）。

しかし、長期にわたる信頼性や自動車などの苛酷な条件
下で使用する際、さらに優れた耐透湿性特に耐透気性が
要求される。例えば、耐透湿性が不充分の場合は消費電
力が増加すると共に液晶及び配向膜の劣化を生じること
が判った。一方、耐透気性が不充分の場合には、気泡が
混入し表示部に黒点を生じるなどの欠点を生じることが
判った。

前記欠点のうち耐透湿性を向上させることを目的として
、プラスチック基板の少なくとも片面に。

該基板より低透湿率であるプラスチック層を形成した表
示素子用プラスチック基板が知られ（特開昭５５−１３
５８１７’号公報ン、プラスチック層の材質として、フ
ッ素樹脂、無極性樹脂、極性樹脂がそれぞれ例示されて
いるが、これらはプラスチック基板との密ＷＩ性が悪か
つたり、また熱処理などの後工程処理により変色するな
どの欠点を有していて実用的ではなかった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明者らは前記従来の技術における欠点、つまり液晶
表示パネル用電極基板において％耐通気性が不充分なた
め気泡が混入して表示部に黒点音生じるなどの欠点、さ
らに耐透気性を向上させるために生じる種々の欠点、た
とえば耐透気層とプラスチック基板との密着性、耐透気
層の着色などの問題を解決するため鋭意研究、努力した
結果、遂に本発明を完成させるに到ったものである、Ｃ
問題点を解決する九めの手段〕 すなわち本発明は、一方向のみに延伸されたポリエステ
ルフィルムまたはシートの片面または両面に、酸素透過
率３０（ｎ／２４ｈ−イ・ａｔｍ以下の高分子樹脂を塗
布または積層し、前記ポリエステルフィルムまたはシー
トと高分子樹脂層との剥離強度が５０　ｔ７２５ｙ以上
で、かつ可視光線透過率が６０チ以上である複合基板の
少くとも片面に透明電極を設けてなる液晶表示パネル用
電極基板である。

本発明に用いられるポリエステルフィルムとしては、二
塩基注酸とグリコールとから合成される線状ポリエステ
ル樹脂から成型されるものが用いられ、二塩基性酸とし
ては、テレフタル酸、イソフタル酸、す７タレンジカｐ
ボン酸等の芳香族ジカルボン酸やアジピン酸、セパシン
酸等の脂肪族ジカルボン酸の１＠又は２種以上が用いら
れ、またグリコ−ｐとしては、エチレングリコ−／Ｌ／
＊’ｆロピレングリコーｙ、Ｌ４ブタンジオール等の１
種又は２種以上が用いられるが、テレフタル酸とエチレ
ングリコールとから合成される繰返し単位の９０モルチ
以上がエチレンテレフタレートであるポリエステルが特
に好ましい。

上記ポリエステル樹脂は１通常の湿式製膜法。

乾式製膜法、溶融製膜法によってフィルム伏またはシー
ト状に成形されるが、成形の容易さ、　Ｉｇｉ！ａコス
トなどの点から溶融押出法が最適である。フィルムま之
はシートの厚みは通常５〜１０００μ。

好ましくは２０〜２００μである。

溶融押出し法で成形する場合、通常ポリエステル樹脂を
該ポリエステル樹脂の融点以上に加熱されたシリンダー
に供給しつつスクリューで混練、溶融させ、Ｔ型又はサ
ーキュラ型口金から押し出し、冷却ロー１ｖ’ｌたは水
等の冷媒に接触させて急冷することにより透明で無配向
のフィルムま之はシートが得られる。該無配向のフィル
ム又はノートはその後一方向のみに延伸される。延伸は
自由幅又は一定幅の下で、該ポリエステル樹脂の二次転
移点（以下Ｔｔ　）以上の温度にライルムを加熱せしめ
て、速度の異るロール間又はＴ　Ｍ　Ｌｏｎｇ　等パッ
チ式延伸機を用い、２〜７倍に延伸される。

延伸倍率が２以下では延伸後が生じたり、配向効果が不
充分であつ念りして好ましくなく、７倍以上では破断し
やすく製造の歩留りが低下して好ましくない。

本発明において、前記ポリエステルフィルムまたはシー
トとの複合基板を構成する高分子樹脂層（以下耐透気層
という）はその酸素透過率（ＡＳＴＭ−Ｄ−１４３４−
７５に準じて測定）が３０ｃｃ／２４ｈｒ−ｍ’−ａｔ
ｍ以下、好ましくは２０　ｃｒ、／　２４　ｈｒ−ｉ・
ａ　ｔｍ　ＩＪ、　下＊かつポリエステルフィルムまた
はシートとの剥離強度（ＡＳＴＭ−Ｄ１８７６に準じて
測定）　５０　ｆ　／　２５　ｔｔｒｘ以上、好マシく
は１５０Ｐ／２５ｒＲＨ以上である。酸素透過率が３０
ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ−Ｈｌｍを越えると、厚さをいくら
厚くしても温度変化の厳しい苛酷な条件や長期間の使用
により表示部に黒点が生じるので好ましくない。また剥
離強度が５０２未満では１次工程の透明電極処理や液晶
バネ／Ｌ’製造のパターン出し酸、アルカリ水溶液処理
、有機薬品処理１組立工程などの際に剥離してしまうの
で好ましくない。

なお前記ポリエステルフィルムまたはシートと耐透気層
との複合基板の可視光線透過率は６０チ以上必要である
。６０％未満では表示部のコントツストが悪くなるので
好ましくない。

以上の条件ｔ”満たす耐透気層ｔ−形成する耐透気性高
分子樹脂としては、アクリロニ）　ＩＪ　／ｌ’　Ｃ以
下ＡＮという）成分含有重合体、ビニルアルコール（以
下ＶＡという）成分含有線状重合体、ＶＡ成分含有グヲ
フト共重合体、ハロゲン化ビニリデン成分６０〜９０モ
ｉｖ％含有した共重合体などが挙げられる。

ＡＮ成分含有重合体としてはＡＮの他メタクリロニ）　
＋７　／Ｌ’　（以下ＭＡＮという）等のＡＮ誘導体を
含むコポリマー及びホモポリマーがあり、まずコポリマ
ーとしてはＡＮ／メタクリレート共重合体、ＡＮ／Ｎ／
メチルアクリレート合体、ＡＮ／エチルアクリレート共
重合体、ＡＮ／ブチルアクリレート共重合体、ＡＮ／メ
チルメタクリレート（以下Ｍ　Ｍ　Ａという）共重合体
、ＡＮ／エチルメタクリレート共重合体、ＡＮ／スチレ
ン（以ＴＳＴという）共重合体、ＡＮ／酢酸ビニル共重
合体。

Ｍ　Ａ　Ｎ　／メチルアクリレート共重合体、ＭＡＮ／
エチルアクリレート共重合体、ＭＡＮ／ブチ〜アクリレ
ート共重合体、ＭＡＮ／ＳＴ共重合体１共重合体１酸Ａ
Ｎ／酢酸ビニＩ、ＡＮ／ＭＡＮ共重合体、ＡＮ／塩化ビ
ニリデン等の２元共重合体の他。

ＡＮ／ＭＡＮ／メチルアクリＶ−ト共重合体、ＡＮ／Ｍ
ＡＮ／エチルアクリレート共重合体、　ＡＮ／ＭＡＮ／
ブチルアクリレート共重合体、ＡＮ／ＭＡＮ／メチルメ
タクリレート共重合体、ＡＮ／Ｍ　Ａ　Ｎ　／エチルメ
タクリレート共重合体、ＡＮ／ＭＡＮ／ＳＴ共重合体、
ＡＮ／ＭＭＡ／ヒドロキシメチルメタクリレート共重合
体％ＡＮ／ＭＭＡ／アクリルアミド共重合体、ＡＮ／Ｍ
ＭＡ／アクリｌＶｔ！Ｉ共重合体＊　　Ａ　Ｎ　／　Ｍ
　Ｍ　Ａ　／　ｋ：”　二ｔＶ　７１Ｖ　＝ｙ　−ル共
ｍ　合体−Ｓ　Ｔ　／　Ｍ　Ｍ　Ａ　／グリシジルメタ
クリレート共重合体等の３元或はそれ以上の共重合体が
例示される。又ホモポリマーとしてはＡＮホモポリマー
、ＭＡＮホモポリマー等が例示される。

尚コポリマーにおいては、ランダム及びブロックの如何
を問わない。特に前記ＡＮ成分含有重合体において１本
発明ではＡＮ／メタクリレート（ミ５０〜９Ｂ１５０〜
２）共重合体が好ましい。

ＶＡ成分含有重合体は、ＶＡ含有量が５０〜９５モ／Ｌ
／％の含ＶＡの線状及びグラフト共重合体で必要に応じ
てこれに架橋剤を添加する。線状の含ＶＡ共重合体とし
ては、オレフィン−ビニルアルコ−Ａ／（以下ＯＶＡと
いう）共重合体及び酢酸ビニル−ビニルアルコ−Ａ／（
以下ｖａ−ｖＡという）共重合体ヲ含むもので、ＯＶＡ
共重合体は、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニ
ル。

ステアリン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、クロロ酢
酸ビニル、安息香酸ビニ〜、ｐ−メチμ安息香酸ビニル
等の置換若しくは非置換脂肪族又は芳香族カルボン酸の
ビニルエステ／ｌ／ｌ−所定量のオレフイン（例えばエ
チレン、プロピレン或はこれらの混合物やエチレン−プ
ロピレン共重合体等）とＪ［＆させてビニルエステルｔ
−５０〜９５モル％含むオレフィン−ビニルエステル共
重合体を得、これをケン化することにより得られる。尚
このケン化は完全ケン化であってもよいが、一部未ケン
化のエステル結合を残していてもよい。ま＆Ｖａ・ＶＡ
共重合体は酢酸ビニル重合体を部分ケン化することによ
って得られる。

オレフィン−ビニルエステル共重合体及ヒ酢酸ビニル重
合体のケン化法としては、該重合体をメタノ−Ａ／、エ
タノール、エタノール等の溶媒に溶解し、少量の酸或は
アルカリの存在下でエステル交換反応させ、或は過剰量
のアルカリの存在下で加水分解反応させる方法が採用さ
れる。ここでＯＶＡ共重合体又はｖａ−ｖＡ共重合体中
のｖＡ含有率が５０モ／Ｉ／チ未満であるとガス透過性
が高くなり、充分な耐透＠性が得られない。一方９５モ
ル％を越えると、耐湿性が低下し、吸湿によりガス透過
性が高くなる。

ＭＡ成分含有グラフト共重合体とは、ポリ酢酸ビニルの
５０〜１００％ケン化のポリビニルアルコ−１ｖ（以下
ＰＶＡという）に付加重合性単量体をグラフト重合体た
ものである。ケン化度が５０チ未満のものでは後述のグ
ラフト化物を得ても安定なエマルジョンラテックスとす
ることができない。従って塗工しても十分な密着性が得
られず、又十分な耐通気性が得られない。

前記付加重合性単量体としては、付加重合性の２重結合
を有し、且り水不溶性の化合物が用いられる。尚水不溶
性とは、ＰＶＡｔ−不溶化させる為の要求特性で、一般
的には２０℃の水に対する溶解度が１０重量−以下であ
ることが推奨される。

ｌＯチを越える単量体を用いると、得られたグラフト共
重合物を利用するに当って安定したエマルジョンドープ
が得られず、耐湿性が低下してガスのバリヤーも十分な
ものではない。上記条件に適うものであれば全て本発明
における好適モノマーとして利用できるが、より具体的
な例をもって説明すると、オレフィン糸上ツマ−（例え
ばエチレン、プロピレン等ン、ジエン系モノマー（例え
ばブタジェン等）、スチレン糸上ツマ−（例えばビニル
ベンゼン、ジビニルベンゼン等）、ハロゲン化Ｐ：　＝
　ル（ＨｎＩえば塩化ビニル、臭化ビニル、クロロプレ
ン等）、酢酸ビニル糸上ツマ−（例えハ酢酸ビニル等）
、アクリロニトル系七ツマ−（例えばアクリレートル等
）、シアン化ビニリデン、ビニｌ：ｃ　−７’／ｌ／系
（例えばメチルビニルニー７−Ａ／。

エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニフレエーテル等
）、アクリル酸エステル系モノマーＣ例、ｔばメチルア
クリレート、エチルアクリレ−）、ｎ−アミ／レアクリ
レート、ｎ−プロピルアクリレート。

テトフヒドロフルフリルアクリレート、モノ（２−アク
リロイロキンエチｔＶ　）アシッドホスフェート等）、
メタクリｌし酸エステル系モノマーＣＶＡＪ、ｔばメチ
ルメタクリレート、エチルメタクリレート。

ｎ−プロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレー
ト、　　１ｓｏ−プロピルメタクリレート、ｓｅｅ　−
ブチルメタクリレート、ｎ−アミルメタクリレート、メ
トキシエチルメタクリレート、ｎ−ブトキシエチルメタ
クリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
グリジルメタクリレート。

１．３−ブタンジオールメタクリレート、モノ（２−メ
タクリロイロキシエチ／ｖ）アシッドホスフェート等゛
〕等が挙げられ、これらは必要に応じて他の置換分、例
えば低級アルキμ基（メチル、エチル、プロピル、グチ
ル等）、低級アルコキシ基（メトキシ、エトキク、プロ
ポキシ、ブトキシ等）。

ハロゲン等金有していても良い。

ＰＶＡ及び重合性単量体からグラフト重合体を製造する
為の反応条件については特段の制限を設けないが％通常
は硝酸第２セリウムアンモニウム。

硫酸セリウムアンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ア
ンモニウム、過硫酸すｈｖワム、過酸化水素等の水溶性
重合ＲＭ始剤金共存させ、水媒体中で反応を行なう。反
応系におけるＰＶＡの直皮は、一般に２〜５０チが好ま
しい。これは反応終了後の混合物をそのまま成膜用ドー
プとして利用すること全考慮した為であり、２チ未満で
は均一厚さのフィルムを得ることができない。又５０チ
を超えると成膜にドープのゲル化が起こり、均質な塗Ｘ
ｔ−得ることができなくなる。他方重合性単量体の濃度
は、ＰＶＡ１００重量部に対して１〜７０重量部使用す
るのが良い。１重量部未満では耐湿性がなく、他方７０
重量部を超えるとＰＶＡの特性が低下して、いずれも耐
透気注が不十分である。

又水溶性重合開始剤としては、ＰＶＡ１００重量部に対
して０．０５〜１０重量部配合するのが良い。

０．０５重量部未満では重合反応の開始が困難であり、
他方１０重量部金全天ると開始剤の為にＰＶＡが劣化す
ることがあり、グラフト重合率が却って低下するからで
ある。但し、更に好ましい添加量は、上記基準に対して
０．５〜５重量部である。尚グラフト重合反応は通常冷
却乃至加熱下に行なわれ、一般的には０〜１００℃、好
ましくは５〜８０℃が推奨される。０℃未満では重合速
度が遅＜、１００℃超では重合開始剤の分解を招き１重
合系の安定性が低Ｆしてゲル化等を生じるからである。

こうして得られる反応物中にはグラフト共重合物の他に
、ＰＶＡや重合性単量体同士のホモポリマー等が混在す
るが、これらは分離せずにそのままフィルム基材とする
ことができる。

前記ＶＡＡ分含有重合体の耐湿性、耐薬品注向上のため
添加する架橋剤としては、例えばホルマリン系の架橋剤
、ホルマリン、グリオキザ−１ｖ１パラホルム、アルデ
ヒド、Ｎ−メチロール樹脂系の架橋剤としてはジメチロ
ール尿素、ジメチロールエチレン尿素、トリメチロール
メラミン。水溶性ウレタン系架橋剤としてはプロックイ
ソンアナートや水溶性のエポキシ樹脂などが挙げられる
。

これらの架橋剤の添加量は前記のＶＡｉ有重有体合体１
重量部して０．０５〜０．５重量部、特に０．１〜０．
３重量部添加するのが好ましい。ＶＡ含含有重合体１員
員に対して０．０５重量部以丁では添加効果が得られず
、０．５重量部を越えると溶液がゲ／Ｖ化し易く、均″
にの塗膜を得ることができなくなる。

以上の他、ハロゲン化ビニリデン成分を６０〜９０モＡ
／％含有し之共重合体が挙げられ、たとえば、塩化ビニ
リデン、臭化ビニリデン、フッ化ビニリデンなどのハロ
ゲン化ビニリデンと酢酸ビニル、アクリロニトリル、エ
チレンＷ　化？’二Ａｚ、　臭化ビニル、フッ化ビニル
、スチレン、ビニｌレアクリレート等との共重合体が挙
げられる。ハロゲン化ビニリデン成分が６０モルチ未満
では相通気性が向上せず、一方９０モ）Ｖ％を越えると
？ｉＥ温に加熱したときに着色したりするので好ましく
ない。

本発明において、前記局分子樹脂で形成される耐透気層
の厚さは１〜５０μ、好ましくは２〜２０μである。こ
れは１μ未満では耐透気性向上が不充分であり、５０μ
金越えると複合基板を形成する１祭、カールし之りする
ので好ましくない。

次に本発明において、ポリエステルフィルムまたはシー
トと耐透気層とで複合基板を形成する方法としては１通
常、前記耐透気性高分子樹脂をその溶剤の１種または２
種以上に溶解させて、ポリエステルフィルムまたはシー
ト面上に塗布、乾燥し、熱処理して１耐透気層を形成さ
せて複合基板が得られる。

前記耐通気性５公子樹脂のうち、ＡＮ成分含有重合体を
用いる場合の溶剤としてはジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホオキシド等が適当であり、ＶＡＡ分含有の線
状共重合体の場合は水とア）Ｖコールの混合液、特に水
とインプロパツール（混合比１　：　１　）、水とｎ−
ゲタノーＡ／（混合比１：１）などの混合液が挙げられ
る。ＶＡＡ分含有のグラフト共重合物の場合はそのま一
塗布する。

一方ハロゲン化ビニリデン成分含有重合体を用いる場合
の溶剤としてはジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、シクロヘキサノン、ジメチルアセトアミド、ジオ
キサン、トリクロルエタン、エチレンクロリド、モノク
ロルベンゼン、メチフレエチルケトン等が挙げられる。

耐透気性高分子樹脂を前記溶剤に溶解させた溶液を塗布
する方法としては、ロー７レコーター、グラビヤローフ
レコーター、ロッドコーター、エヤナイフコーター、ス
プレーコーターなどの通常の方法が採用される。このよ
うにして耐透気性高分子樹脂を塗布し１通常の方法で乾
燥して溶剤を除去してのち剥離強度（ＡＳＴＭ−Ｄ１８
７６　）５０　ｙ以上の′？！ｊ着性を得るためには、
熱処理を行うことが必要である。熱処理条件は被塗布フ
ィルムまたはシートや塗布する耐透気性高分子樹脂によ
り適宜〜数十分行うが必要に応じて被塗布フィルムをコ
ロナ処理してのち塗布・乾燥後熱処理すると密着性が向
上し熱処理効果が顕著となる。特に硬化タイプのフィル
ムやシートの場合はコロナ処理による密着性効果がよい
。使用する耐透気性高分子樹脂による通常の熱処理条件
としては、ＡＮ成分含有高分子樹脂の場合１２０℃〜１
８０℃、数秒〜ラット共重合体及びハロゲン化ビニリデ
ン成分含有の樹脂の場合は１００℃〜１６０℃、数秒〜
数十分で行うのが好ましい。いずれの場合も熱処理条件
が不十分な場合は十分なぞ着性が得られず。

しかも緻密なイ分子樹脂膜とならず、耐通気性が得られ
ない。また、熱処理を苛酷に行うとポリエステルフィル
ムまたはシートの配向が乱れたり。

着色を生じて得られた複合膜の可視光線透過率は６０％
未満となるので好ましくない。

本発明において、該ポリエステルフィルムまたはシート
と耐通気性高分子樹脂層間の接着力を向上させるために
、ポリエステルフィルムまたはシートに予じめコロナ放
電処理を行うことや、接着剤を塗布する事もできる。こ
の場合、接着剤としては、ポリエステル系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂。

アクリル系樹脂等が用いられるが、耐熱性や耐薬品性等
の点から硬化性樹脂の方が好ましい。接着剤層の厚さは
特に制限されないが透明性等の点から薄い方が好ましく
約５０μ以下がよい。

次に本発明液晶表示パネル用電極基板金作製するため、
ｎ１１記方法で得られた複合基板の片面または両面に透
明導′ｒＩ層を形成して透明導電膜を付与する。上記形
成方法は、公知方法及び今後開発される新規方法のＨ１
何を問わないが１代表的な方法としては、真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンブレーティング法、金属溶射
法、金属メッキ法等が採用される。これらのうち、薄層
が形成できること、及び均一層が形成できることの２点
を満足するものとしては、真空蒸着法とスパッタリング
法が推奨される。導電層１に形成する為の素材としては
、Ｓｎ、　Ｉｎ、　Ｔｉ、　Ｐｂ等の金属又はそれらの
酸化物が汎用され、金属単体を上記の方法で基板上に形
成したときは、希望に応じてその後酸化する場合もある
。尚当初から酸化物層として付着形成させる方法もある
が、最初は金属単体又は低級酸化物の彫金で波膜を形成
し、しかる後加熱酸化。

陽極酸化或は液相酸化等の酸化処理を施して透明化する
手段を採用することもできる。尚上記以外にＡｕ　＊　
Ｐ　ｔ　ｉ　Ａｇ等の貴金属ヲ用いる場合もある。

又これら金属或はそれらの酸化物からなる導電層は透明
性や導電性等の要求特注に応じた層厚とするが１通常は
１００Ａ以上、安定な導電性を与る為には、３０ＯＡ以
上とすることが望まれる。

上記導電層は１通常単一層でもよいが１機械的強度や１
＃薬品性全考慮して２以上の複数層とじて形成すること
もできる。又波膜の均一性や′ａｖ着性等、更には１耐
摩耗注等を、向上する目的で、アンダーコートやオーバ
ーコートｔ−ｍこす場合もある。

前者の例としては、シリコン系やエポキン系の樹脂が利
用され、後者の例としてはゼラチン、シリコン、コロ−
ジョン等が利用される。支更に必要であればこれ、らの
うえに、更に光電導注物貿の層やエレクトロ−７レミネ
ツセンス材料のＮＪ金影形成る場合もある。

次に図面を用いて本発明全説明する。

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図である。１は液晶；　２は透明導電膜、３は
ポリエステルフィルム、４は耐透気層、５は偏光板を示
し、偏光板５と耐透気層４との間にれ１１１Ｒ層があっ
てもよい。第２〜４図はそれぞれ本発明液晶表示パネル
用電極基板の種々の実施咀様例の断面図である。第２図
は耐透気層４が透明導電膜２側に形成されており、第３
図はそれがポリエステルフィルム３の両面に１杉成され
ている。第４図は透明導電膜２と複合基板（ポリエステ
ｌレフイルム３＋耐透気層４）との間に、接着性を強固
にするためシランカップリング剤などのアンカー剤層を
有している例を示す。

〔実施例〕

以下実施例を用いて本発明を具体的に説明する。

なお、剥離強度はＡＳＴＭ−Ｄ１８７６により、テンシ
ロンＵＴＭ−３Ｌ（東洋ボールドワイン社製）を使用、
２０℃、６５％ＲＨ、サンプル巾２５ｍ／ｍでＴ型剥離
強度を測定した。

酸素透過率はＡＳＴＭ−Ｄ１４３４・７５により産工試
式気体透過率測定装置（理化精機工学製）を使用２５℃
、Ｏ％ＲＨで測定した。なお、実施例中部とあるのは重
量部を意味する。

実施例１゜ ポリエチレンテレフタレート（ＩＶ　０．６２　）ｔ−
シリンダ温度（Ｃ１二２８０℃、Ｃ２：２９０℃、Ｃ３
：２９５’Ｃ，アダプタ２９５℃）及びＴダイ温度２９
０℃に設定された４０ｆｉφ押出機に供給して溶融押畠
し、直ちに３０℃に設定されたチルロールに接触させて
、厚み２８０μの透明で無配向のフイＩレムを得た。

該フィルムを雰囲気温度９３℃に設定されたＴ　Ｍ　Ｌ
ｏｎｇ　５ｔｒｅｔｃｈｅｒ　（Ｔ　Ｍ　Ｌｏｎｇ社製
）に取り付け、変１ヒ速度１０，０００チ／ｉで一定幅
で一方向に５倍延伸し、該延伸フィルム金金枠に固定し
定長下２００℃で１分間熱固定処理を行った。得られた
フィルムの厚みは６２μであった。得られた一軸配向ポ
リエステ／Ｉ／フイ〃ムの片面に印加に１６０Ｖでコロ
ナ処理を行い、コロナ処理面に下記Ａ溶液をドクターナ
イフを用い、ギャップ１５０μで塗布した後７０℃で１
０分間乾燥、更に金属枠に固定して１３０℃で２０分間
熱処理した。得られた複合基板の厚みは７７μ（耐透気
層の厚み＝１５μ）、可視光線透過率４００　ｎｍで８
７％で耐熱性、耐薬品性、耐液晶性も良好であり、ポリ
エステルフィルムと耐透気層間の剥離強度は１２７１で
あった。また、ガス透過度は１．８ＣＣ／’・ｄａｙ・
ａｔｍでありた。

耐透気性高分子樹脂溶液（Ａ溶液） エチレン／ビニルアルコ−ｐ共ｌｌ　合体（モル比３０
／７０：日本合成化学ソアノーＡ／Ａ）２０部 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　４８部イソプロピルアルコール　　　　　　　　　
　　　３２部スミテックスレジンＭ−３（生麦化学工業
；メチロール化メラミン）　　　　　　　　　　　４部
塩化マグネシウム溶液（生麦化学工業：スミテツクスア
クセレレーヌＭＸ）　　　　　　　１部得られた複合基
板の耐透気層の反対面にテトフォクチルチタネートの０
．０８％、ｎ−へキサン溶液を塗布し、１００℃、１０
分間加熱してプライマー処理をし、低温スパッタリング
装置で下記条件で透明導電膜処理し友。導電膜層の厚さ
は２８０Ａ、抵抗値は６１０Ω／ｌｒＡであった。

（透明導電膜処理条件） ターゲット　’　　ｌｎ２０３９８ｗｔ％、Ｓｎ０２７
ｗｔ％ガ　　　　ス　：　　Ｂｒ８５％、０２１５％圧
　　　力　：　　５　Ｘ　１０−”　Ｔｏｒｒ出　　　
　力　：　　４００Ｗ 析出速度：１２＾／ｓｅｃ 得られ九に極基板は可視光線透過率４００ｍμ。

７８％＊　５００　ｍμｍ　８４　％と良好で、Ｉ？ｌ
ｉｔ液晶性。

耐薬品性もよく、相通気性は透明電極処理前と同じ２０
Ｃ／２４ｈ−イ・ａｉｍ　であった。該電極基板を用い
て液晶表示パネルを作製して、信頼性試験を実施したと
ころ、試験前と同様の良好な表示能力が得られ友。

実施例２４ 実施例１で成膜、延伸、熱固定されたものと同じポリエ
チレンテレフタレートの１軸記向フイルムの片面にパイ
ロン２０Ｓ　（東洋紡績：ポリエステル系接ｊ１剤〕１
００部にコロネートしく日本ポリウレタン社：３官能イ
ンンアナート）３部を混合した均−溶液全アプリケータ
を用いギャップ５０μで塗布し、７０℃で５分間乾燥し
た後、該塗布面にド記Ｂ溶液をドクターナイフを用いて
ギ−Ｙ７７’２００μで塗布したのち、８０℃で１０分
間乾燥し、更に１３０℃で３０分間熱処理した。

得られ几褒合基板の厚みは８３μ（耐透気注層の厚み１
７μ）、透明性良好（４００ｎｍ透過率８６％）で耐熱
性、耐液晶性にも優れていた。この複合基板のポリエス
テルフィルムと耐透気性層との接着力は良好で凝集破壊
が生じた。ま九、該複合基板の酸素ガス透過度は１．Ｏ
ａｃ／ｎｌ−ｄａｙ−ａｔｍと極めて良好であった。

耐通気性高分子樹脂溶液（Ｂ溶液） アクリロニトリ／し／メタクリレイト共重合体（モル比
　９０／１０）　　　　　　　　　　４２部ジメチルホ
ルムアミド　　　　　　　　　　　２００１１Ｓこの複
合基板の耐透気層の反対面に以下の処理条件で透明導電
嘆ｔ−ｊｇ成した。導電層の膜厚３５０＾、抵抗値５２
０Ω／−１可視光線透過率４００ｍμ　二８０チ、５０
０ｍμ　：８６チ、耐液晶性、耐薬品性の良好な耐通気
性透明導電膜基板であったＯ （導間膜層処理条件） 低温スパッタリング装置使用 ターゲット：　　１ｎｚＯ３９５ｗｔ％、ＳｎＳｎ０ｚ
５％圧　カニ　４　ｘ　１０−３Ｔｏｒｒ 出　　　　力　：　　４５０Ｗ 析出速度；８人／ｓ１！ｌｃ 得られた電極基板を用いて第１図に示した液晶表示パネ
ルを作製し九。該パネルを一２０℃から１００℃のサイ
クル試験を実施したが、空気透過による黒点の発生がな
く、試験前と同様な表示能力が得られ１本発明電極基板
の耐透気性が認められた。

比較例１゜ 実施例１で用いた１軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムの酸素ガス透過度は４５ＣＣ／ｍ・ｄａｙ　−
ａｔｍであった。次いで、該フィルムの片面に耐透気層
を設けず、実施例１と同様の処理条件で透明導電膜を形
成した。導電層の膜厚３６０Ａ、抵抗値５０００／ｄ、
可視光線透過率４００ｍｔｔｓ７９％ｓ　５０Ｑｍμ、
８５チ、耐液晶性、耐薬品性、耐熱性など良好な電極基
板を得たが、該基板の酸素ガス透過性は、やはり４５Ｃ
Ｃ／２４ｈ−ゴ・ａｔｍであった。該電極基板を用いて
実施例１と同様に液晶表示バネ／Ｌ／ｌ″作製した。該
パネルｔ−２０〜１００℃のサイクル試験を実施したと
ころ、空気透過による黒点が表示部に発生し、試験前に
比べ表示能力が低下し、該電極基板の耐透気性が不充分
であることが１１つた。

比較例２゜ 実施例１と同じ条件で成膜延伸及び熱固定したー）軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に実施例
２と同じ方法で耐透気性樹脂溶液（Ｂｉ２）１ｆｒ：ド
クターナイフ金円いギャップ２００μで塗布後６０℃で
３０分間乾燥後、更に減圧下５０℃で２０時間乾・＃、
を行った。得られた複合基板（噴透気性層の厚み１７μ
）の剥離強度は１０ｆｒ／・２５朋以丁で、酸素ガス透
過度は７．５　ｃｃ　／ｒｒｌ−ｄａｙ−ａｔｍであっ
た。この償金基板の耐透気層の反対面に実施例２と同じ
方法で透明導電膜を形成した。得られ九電極基板金用い
て第１図に示した液晶表示バネ／Ｉ／全作製し、−２０
℃から１００℃のサイクル試験を実施したところ空気透
過による黒点が表示部に発生し、該電極基板の耐透気性
が不十分であることが判った。

〔発明の効果〕

以上、かかる溝成よりなる本発明液晶表示パネル用′Ｆ
ＩＬ極基板は。

（１）　　光学的に可視光領域で透明。

（２）　　光学的に等方法で、着色干渉稿が発生しない
。

（３）　　表面が下階で硬い。

（４）　　液晶組立などの製造工程に酎える耐薬品性。

耐熱性（１００℃以上）があること。

（５）　　シール材との密着力が良く、長期に亘って気
密性があること。

（６）耐透湿性があること。

（７）耐通気性があること。

（８）耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。

などの特長を有している几め１本発明基板を用いた液晶
表示パネルは、屋内外の苛酷な条件や長期間の使用に１
酎えることができ、特に耐透気性に優れている友め、空
気の混入による黒点の発生がなく、そのことによって初
めて、プラスチック基板を用いた液晶表示パネルとして
市場に供し得ることができ比のである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図、第２〜４図は本発明電極基板の種々の実施
感様例の断面図である。 １：液晶 ２：透明導電膜 ３ニー軸配向ポリエステルフイ〜ム ４：耐透気層 ５：偏光板 ６：アンカー剤層 ７二強化層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一方向のみに延伸されたポリエステルフィルムま
   たはシートの片面または両面に、酸素透過率３０ｃｃ／
   ２４ｈ・ｍ＾３・ａｔｍ以下の高分子樹脂を塗布または
   積層し、前記ポリエステルフィルムまたはシートと高分
   子樹脂層との剥離強度が５０ｇ／２５ｍｍ以上で、かつ
   可視光線透過率が６０％以上である複合基板の少くとも
   片面に透明電極を設けてなる液晶表示パネル用電極基板
   。
2. （２）高分子樹脂層がアクリロニトリル成分含有重合体
   、ビニルアルコール成分含有線状重合体、ビニルアルコ
   ール成分含有グラフト重合体、ハロゲン化ビニリデン成
   分６０〜９０モル％含有した共重合体より選ばれた一種
   または二種以上である特許請求の範囲第（１）項記載の
   液晶表示パネル用電極基板。
3. （３）一方向のみに延伸されたポリエステルフィルムま
   たはシートあるいは高分子樹脂層と透明電極との間にア
   ンカー剤が存在している特許請求の範囲第（１）項記載
   の液晶表示パネル用電極基板。
4. （４）高分子樹脂層がアクリロニトリル／メタクリレー
   ト（＝５０〜９８／５０〜２モル％）共重合体である特
   許請求の範囲第（１）項記載の液晶表示パネル用電極基
   板。